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KR101831892B1 - 폴리티오우레탄계 광학 재료용 중합성 조성물 - Google Patents

폴리티오우레탄계 광학 재료용 중합성 조성물 Download PDF

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KR101831892B1
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Abstract

실시예는 폴리티오우레탄계 광학 재료용 중합성 조성물에 관한 것으로서, 상기 중합성 조성물은 특정 첨가제를 포함하여 이소시아네이트의 반응성을 적절히 조절함으로써 일정시간 점도를 낮게 유지할 수 있는 등, 복잡한 정제 과정을 포함하지 않고도 양질의 폴리티오우레탄계 광학 재료를 제조할 수 있다. 또한, 실시예의 폴리티오우레탄계 광학 재료는 균일한 굴절률을 가질 뿐만 아니라 황색 지수가 낮아 안경렌즈, 카메라 렌즈 등의 각종 플라스틱 광학 렌즈로 유용하게 사용될 수 있다.

Description

폴리티오우레탄계 광학 재료용 중합성 조성물{POLYMERIZABLE COMPOSITION USED IN THE PREPARATION OF A POLYTHIOURETHANE-BASED OPTICAL MATERIAL}
실시예는 폴리티오우레탄계 광학 재료용 중합성 조성물 및 이로부터 얻은 폴리티오우레탄계 광학 재료에 관한 것이다.
플라스틱을 이용한 광학 재료는, 유리와 같은 무기 재료로 이루어지는 광학 재료에 비해 경량이면서 쉽게 깨어지지 않고 염색성이 우수하기 때문에, 다양한 수지의 플라스틱 재료들이 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료로 널리 이용되고 있다. 최근에는 보다 높은 성능 및 편리함을 요구하는 사용자의 수요가 늘어남에 따라, 고투명성, 고굴절율, 고아베수, 저비중, 고내열성, 고내충격성 등의 특성을 갖는 광학 재료에 대한 연구가 계속되고 있다.
널리 사용되는 광학 재료의 예로는 폴리티올계 화합물과 이소시아네이트계 화합물을 중합시킨 폴리티오우레탄계 화합물을 들 수 있다. 그러나, 폴리티올계 화합물과 이소시아네이트계 화합물을 반응시켜 폴리티오우레탄계 광학 재료를 제조할 때, 흔히, 폴리티올에 존재하는 양이온 금속 물질(예: Ca, Mg, K, Na 양이온 등), 질소-함유 화합물(예: 아민 등) 등의 불순물들이 이소시아네이트의 반응성을 증가시켜 급격한 경화를 유도함으로써 목적하는 폴리티오우레탄계 광학 재료의 제조에 어려움을 발생시킨다. 또한, 이를 통해 제조된 광학 재료는 굴절률이 부분적으로 불균일하다는 문제가 있었다.
이에, 폴리티올에 존재하는 불순물 함량을 낮추거나 폴리티올과 이소시아네이트와의 반응성을 조절하기 위한 노력이 다양하게 수행되었다.
예컨대, 대한민국 등록특허 제 10-1338568 호는 칼슘 함량이 1.0 중량% 이하인 티오우레아를 사용하여 폴리티올 화합물을 제조하는 방법을 개시하고 있으나, 상기 티오우레아의 관리가 어렵고, 정제 방법에 따라 폴리티올 화합물의 품질 차이가 큰 문제가 있었다.
또한, 대한민국 등록특허 제 10-1205467 호는 폴리티올의 pH를 3.1 내지 7로 조절하여 이소시아네이트와의 반응성을 조절하는 방법을 개시하고 있으나, 폴리티올의 pH 조절을 위하여 수용액상의 산과 수용액상의 염기로 폴리티올을 여러 번 세정해야 하므로, 폐수발생, 공정 수율의 저하 및 폴리티올의 광학특성의 저하 등의 문제가 있었다.
나아가, 대한민국 등록특허 제 10-1533207 호는 질소-함유 화합물의 함량이 3 중량% 이하인 폴리티올을 사용하여 플라스틱 렌즈를 제조하는 방법을 개시하고 있으나, 동일한 방법으로 폴리티올을 제조하여도 질소-함유 화합물의 함량이 달라 품질관리가 어려운 문제가 있었다.
대한민국 등록특허 제 10-1338568 호 대한민국 등록특허 제 10-1205467 호 대한민국 등록특허 제 10-1533207 호
따라서, 실시예는 복잡한 정제 과정을 거치지 않고도 양질의 폴리티오우레탄계 광학 재료를 제조할 수 있는 중합성 조성물을 제공하고자 한다.
실시예는 (i) 폴리티올 화합물; (ⅱ) 이소시아네이트 화합물; 및 (ⅲ) 1가 내지 4가의 카르복실산, 인산 또는 이들의 혼합물을 포함하는 산 성분을 포함하는, 중합성 조성물을 제공한다.
다른 실시예는 상기 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물을 제공한다.
또 다른 실시예는 상기 폴리티오우레탄계 화합물로부터 성형된 광학 재료를 제공한다.
실시예의 중합성 조성물은 특정 첨가제를 포함하여 이소시아네이트의 반응성을 적절히 조절함으로써 일정시간 점도를 낮게 유지할 수 있는 등, 복잡한 정제 과정을 포함하지 않고도 양질의 폴리티오우레탄계 광학 재료를 제조할 수 있다. 또한, 실시예의 폴리티오우레탄계 광학 재료는 균일한 굴절률을 가질 뿐만 아니라 황색 지수가 낮아 안경렌즈, 카메라 렌즈 등의 각종 플라스틱 광학 렌즈로 유용하게 사용될 수 있다.
실시예는 (i) 폴리티올 화합물; (ⅱ) 이소시아네이트 화합물; 및 (ⅲ) 1가 내지 4가의 카르복실산, 인산 또는 이들의 혼합물을 포함하는 산 성분을 포함하는, 중합성 조성물을 제공한다.
상기 산 성분은 폴리티올 화합물에 잔존하는 불순물인 양이온 금속 물질 및 질소-함유 화합물과 염을 이루어 이소시아네이트의 반응성을 적절히 조절함으로써 급격한 경화를 방지하고 안정적인 폴리티오우레탄계 화합물의 중합을 유도한다.
상기 카르복실산은 메탄산(Methanoic acid), 에탄산(Ethanoic acid), 프로판산(Propanoic acid), 부탄산(Butanoic acid), 펜탄산(Pentanoic acid), 헥산산(Hexanoic acid), 헵탄산(Heptanoic acid), 옥탄산(Octanoic acid), 노난산(Nonanoic acid), 데칸산(Decanoic acid), 운데칸산(Undecanoic acid), 도데칸산(Dodecanoic acid), 트리데칸산(Tridecanoic acid), 테트라데칸산(Tetradecanoic acid), 펜타데칸산(Pentadecanoic acid), 헥사데칸산(Hexadecanoic acid), 헵타데칸산(Heptadecanoic acid), 옥타데칸산(올레산, Octadecanoic acid), 노난데실산(Nonadecylic acid), 이코산산(Icosanoic acid) 등의 1가 포화지방산; 운데실렌산(Undecylenic Acid), 팔미트산(Palmitoleic Acid), 올레익산(Oleic Acid), 리놀레산(Linoleic acid), 아라키돈산(Arachidonic acid), 에루크산 (Erucic acid) 등의 1가 불포화 지방산; 에탄이산(옥살산, ethanedioic acid), 프로판이산(propanedioic acid), 부탄이산(butanedioic acid), 펜탄이산(pentanedioic acid), 헥산이산(hexanedioic acid), 헵탄이산(heptanedioic acid), 옥탄이산(octanedioic acid), 노난이산(nonanedioic acid), 데칸이산(decanedioic acid), 운데칸이산(undecanedioic acid), 도데칸이산(dodecanedioic acid), 헥사데칸이산(hexadecanedioic acid), 말레산(Maleic acid), 푸마르산(Fumaric acid), 글루타콘산(Glutaconic acid), 트로마틴산(Traumatic acid), 무콘산(Muconic acid), 글루틴산(Glutinic acid), 시트라콘산(Citraconic acid), 메사콘산(Mesaconic acid), 하이드록시숙식산(Hydroxybutanedioic acid), 2-아미노부탄이산(2-Aminobutanedioic acid), 2-아미노펜탄이산(2-Aminopentanedioic acid), 2-하이드록시프로판이산(2-Hydroxypropanedioic acid), 2,3-디하이드록시부탄이산(2,3-Dihydroxybutanedioic acid), (2R,6S)-2,6-디아미노헵탄이산((2R,6S)-2,6-Diaminoheptanedioic acid), (2S,3S,4S,5R)-2,3,4,5-테트라하이드록시헥산이산((2S,3S,4S,5R)-2,3,4,5-Tetrahydroxyhexanedioic acid), 옥소프로판이산(Oxopropanedioic acid), 옥소부탄이산(Oxobutanedioic acid), 3-옥소펜탄이산(3-Oxopentanedioic acid), 2,3,4-트리하이드록시펜탄이산(2,3,4-Trihydroxypentanedioic acid) 등의 2가 카르복실산; 벤젠-1,2-디카르복실산(Benzene-1,2-dicarboxylic acid), 벤젠-1,3-디카르복실산(Benzene-1,3-dicarboxylic acid), 벤젠-1,4-디카르복실산(Benzene-1,4-dicarboxylic acid), 2-(2-카르복시페닐)벤젠산(2-(2-Carboxyphenyl)benzoic acid), 2,6-나프탈렌디카르복실산(2,6-Naphthalenedicarboxylic acid) 등 방향족 2가 카르복실산; 2-하이드록시프로판-1,2,3-트리카르복실산(2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylic acid), 1-하이드록시프로판-1,2,3-트리카르복실산(1-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylic acid), 프로프-1-엔-1,2,3-트리카르복실산(Prop-1-ene-1,2,3-tricarboxylic acid), 프로판-1,2,3-트리카르복실산(Propane-1,2,3-tricarboxylic acid), 벤젠-1,3,5-트리카르복실산(benzene-1,3,5-tricarboxylic acid) 등의 3가 카르복실산; 티오글리콜산(Thioglycolic acid), 2-하이드록시부틸산(2-hydroxybutyric acid), 티오락트산(Thiolactic acid), 3-하이드록시부틸산(3-hydroxybutyric acid), 3-메르캅토프로피온산(3-Mercaptopropionic acid) 및 4-하이드록시부틸산(4-hydroxybutyric acid)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 카르복실산은 올레산, 옥살산, 팔미트산, 리놀레산, 프로판이산 및 부탄이산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.
상기 산 성분은, 구체적으로, 올레산, 옥살산, 팔미트산, 리놀레산, 프로판이산, 부탄이산 및 인산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.
상기 중합성 조성물은 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트 화합물의 합 100 중량부에 대하여 상기 산 성분을 0.1 내지 1 중량부의 양으로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 중합성 조성물은 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트 화합물의 합 100 중량부에 대하여 상기 산 성분을 0.2 내지 0.85 중량부 또는 0.3 내지 0.7 중량부의 양으로 포함할 수 있다.
상기 중합성 조성물은 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트 화합물의 합 100 중량부에 대하여 올레산, 옥살산 또는 인산을 0.1 내지 1 중량부의 양으로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 중합성 조성물은 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트 화합물의 합 100 중량부에 대하여 올레산, 옥살산 또는 인산을 0.2 내지 0.85 중량부 또는 0.3 내지 0.7 중량부의 양으로 포함할 수 있다.
상기 폴리티올 화합물은 폴리티오우레탄의 합성에 사용되는 통상적인 것을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)설파이드, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)설파이드, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)디설파이드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올, 2,2-비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올, (4R,11S)-4,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12-테트라티아테트라데칸-1,14-디티올, (S)-3-((R-2,3-디메르캅토프로필)티오)프로판-1,2-디티올, (4R,14R)-4,14-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵탄-1,17-디티올,(S)-3-((R-3-메르캅토-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로필)티오)프로필)티오)-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로판-1-티올, 3,3'-디티오비스(프로판-1,2-디티올), (7R,11S)-7,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵타데칸-1,17-디티올, (7R,12S)-7,12-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,10,13,16-헥사티아옥타데칸-1,18-디티올, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트라이메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 및 2-(2,2-비스(메르캅토디메틸티오)에틸)-1,3-디티안으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상을 포함할 수 있다.
상기 폴리티올 화합물은 양이온 금속 불순물, 질소-함유 불순물 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.
상기 폴리티올 화합물은 100 내지 6,000 ppm의 양이온 금속 불순물을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리티올 화합물은 500 내지 5,000 ppm의 양이온 금속 불순물을 포함할 수 있다. 또한, 상기 양이온 금속 불순물은 Ca 양이온, Mg 양이온, K 양이온 및 Na 양이온으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.
상기 폴리티올 화합물은 폴리티올 화합물 총 중량을 기준으로 3 내지 10 중량%의 질소-함유 불순물을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리티올 화합물은 폴리티올 화합물 총 중량을 기준으로 5 내지 8 중량%의 질소-함유 불순물을 포함할 수 있다. 또한, 상기 질소-함유 불순물은 멜라민, 우레아, 트리아진, 아마이드, 이미드 및 이민(imine)으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.
상기 이소시아네이트 화합물은 폴리티오우레탄의 합성에 사용되는 통상적인 것을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르 등의 지방족 이소시아네이트 화합물; 이소포론디이소시아네이트, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트 화합물; 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, o-크실렌디이소시아네이트, m-크실렌디이소시아네이트, p-크실렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트 화합물; 비스(이소시아네이토에틸)설피드, 비스(이소시아네이토프로필)설피드, 비스(이소시아네이토헥실)설피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디설피드, 비스(이소시아네이토프로필)디설피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄 등의 함황 지방족 이소시아네이트 화합물; 디페닐설피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)설피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디설피드-3,3-디이소시아네이트 등의 함황 방향족 이소시아네이트 화합물; 및 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등의 함황 복소환 이소시아네이트 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.
상기 중합성 조성물은 폴리티올 화합물과 이소시아네이트 화합물을 0.5 내지 1.5 : 1 당량비로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 중합성 조성물은 폴리티올 화합물과 이소시아네이트 화합물을 0.8 내지 1.2 : 1 당량비로 포함할 수 있다.
상기 산 성분은 필요에 따라 폴리티올 화합물과 미리 혼합하여 사용할 수도 있고, 이소시아네이트 화합물과 미리 혼합하여 사용할 수도 있다.
상기 중합성 조성물은 25 ℃에서 8 시간 방치 후 1,000 cPs 이하의 점도(25 ℃)를 나타낼 수 있다. 구체적으로, 상기 중합성 조성물은 25 ℃에서 8 시간 방치 후 700 cPs 이하 또는 200 내지 700 cPs의 점도(25 ℃)를 나타낼 수 있다.
다른 실시예의 중합성 조성물은 목적에 따라 내부 이형제, 반응촉매, 열안정제, 자외선 흡수제, 블루잉제(blueing agent) 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 자외선 흡수제로는 벤조페논계, 벤조트라이아졸계, 살리실레이트계, 시아노아크릴레이트계, 옥사닐라이드계 등이 사용될 수 있다. 또한, 상기 내부 이형제로는 퍼플루오르알킬기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 지닌 불소계 비이온 계면활성제; 디메틸폴리실록산기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 가진 실리콘계 비이온 계면활성제; 트리메틸세틸 암모늄염, 트리메틸스테아릴, 디메틸에틸세틸 암모늄염, 트리에틸도데실 암모늄염, 트리옥틸메틸 암모늄염, 디에틸시클로헥사도데실 암모늄염 등과 같은 알킬계 4급 암모늄염; 및 산성 인산에스테르 중에서 선택된 성분이 단독으로 혹은 2종 이상 함께 사용될 수 있다.
상기 반응촉매는 폴리티오우레탄계 화합물의 제조에 사용할 수 있는 공지된 반응촉매일 수 있다. 구체적으로, 상기 반응촉매로는 디부틸주석디클로라이드, 디메틸주석디클로라이드 등의 디알킬주석할로겐화물류; 디메틸주석디아세테이트, 디부틸주석디옥타노에이트, 디부틸주석디라우레이트 등의 디알킬주석디카르복실레이트류; 디부틸주석디부톡사이드, 디옥틸주석디부톡사이드 등의 디알킬주석디알콕사이드류, 디부틸주석디(티오부톡사이드) 등의 디알킬주석디티오알콕사이드류; 디(2-에틸헥실)주석옥사이드, 디옥틸주석옥사이드, 비스(부톡시디부틸주석)옥사이드 등의 디알킬주석산화물류; 및 디부틸주석술피드 등의 디알킬주석황화물류를 들 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 반응촉매는 디부틸주석디클로라이드, 디메틸주석디클로라이드 등의 디알킬주석할로겐화물류가 사용될 수 있다.
상기 블루잉제는 가시광 영역 중 오렌지색으로부터 황색의 파장역에 흡수대를 가지며, 수지로 이루어지는 광학 재료의 색상을 조정하는 기능을 가진다. 상기 블루잉제는, 구체적으로, 청색으로부터 보라색을 나타내는 물질을 포함할 수 있으나, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 블루잉제는 염료, 형광증백제, 형광 안료, 무기 안료 등을 들 수 있으나, 제조되는 광학 부품에 요구되는 물성이나 수지 색상 등에 맞추어 적절히 선택될 수 있다. 상기 블루잉제는 각각 단독, 또는 2 종 이상의 조합을 사용할 수 있다. 상기 블루잉제는 중합성 조성물에 대한 용해성의 관점 및 얻어지는 광학 재료의 투명성의 관점에서, 염료가 바람직하다. 상기 염료는 흡수 파장의 관점에서, 구체적으로, 극대 흡수 파장이 520 내지 600 nm의 염료일 수 있으며, 더욱 구체적으로, 극대 흡수 파장이 540 내지 580 nm의 염료일 수 있다. 또한, 화합물의 구조의 관점에서, 상기 염료는 안트라퀴논계 염료가 바람직하다. 블루잉제의 첨가 방법은 특별히 한정되지 않으며, 미리 모노머계에 첨가할 수 있다. 구체적으로, 상기 블루잉제의 첨가 방법은 모노머에 용해시켜 두는 방법, 또는 고농도의 블루잉제를 함유하는 마스터 용액을 조제해 두고, 상기 마스터 용액을 사용하는 모노머나 다른 첨가제로 희석하여 첨가하는 방법 등, 여러 가지의 방법을 사용할 수 있다.
또 다른 실시예는 상술한 바와 같은 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물을 제공한다.
상기 폴리티오우레탄계 화합물은 폴리티올 화합물과 이소시아네이트 화합물이 중합(및 경화)되어 제조된 것으로서, 상술한 바와 같이, 중합성 조성물에 첨가된 산 성분이 중합 반응시 폴리티올 화합물에 존재하는 불순물들과 염을 형성하여 이소시아네이트 화합물의 반응성을 적절히 조절함으로써, 폴리티오우레탄계 화합물의 효율적인 합성을 돕는다.
상기 중합 반응에서 SH기/NCO기의 반응 몰비는 0.5 내지 3.0일 수 있고, 구체적으로는 0.8 내지 1.3일 수 있다.
또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리티오우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 반응 촉매가 첨가될 수 있다. 상기 반응 촉매로는 주석계 촉매를 사용할 수 있으며, 예를 들어 디부틸틴 디클로라이드, 디부틸틴 디라우레이트, 디메틸틴 디클로라이드 등을 사용할 수 있다.
또 다른 실시예는 상술한 바와 같은 폴리티오우레탄계 화합물로부터 성형된 광학 재료를 제공한다.
즉, 상기 광학 재료는 중합성 조성물(폴리티올 화합물 + 이소시아네이트 화합물 + 산 성분)이 중합 및 성형되어 제조될 수 있다.
먼저, 상기 중합성 조성물을 감압하에 탈기(degassing)한 후, 광학 재료 성형용 몰드에 주입한다. 이와 같은 탈기 및 몰드 주입은 예를 들어 20 내지 40 ℃의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 몰드에 주입한 후에는 통상 저온으로부터 고온으로 서서히 가열하여 중합을 수행한다.
상기 중합 반응의 온도는 예를 들어 30 내지 150 ℃일 수 있고, 보다 구체적으로 40 내지 130 ℃일 수 있다. 또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리티오우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 반응 촉매가 첨가될 수 있으며, 이의 구체적인 종류는 앞서 예시한 바와 같다.
이후 폴리티오우레탄계 광학 재료를 몰드로부터 분리한다.
상기 광학 재료는 제조시 사용하는 주형의 몰드를 바꾸는 것으로 여러 가지 형상일 수 있다. 구체적으로, 안경렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드(LED) 등의 형태일 수 있다.
상기 광학 재료는 색도좌표 측정시 6 이하의 황색 지수(Yellow Index)를 가질 수 있다. 황색 지수가 낮을수록 광학 재료의 색상이 좋고, 황색 지수가 높을수록 색상이 나빠지는 상관관계가 있다. 상기 황색 지수값은 평균 두께 9 mm 및 지름 75 mm의 원형 광학 재료를 대상으로 측정한 결과이며, 미놀타사의 색차계 CM-5를 사용하여 측정한 색도좌표 x 및 y를 하기 수학식 1에 적용하여 계산한 값일 수 있다.
[수학식 1]
황색 지수 = (234x + 106y + 106)/y
상기 광학 재료는 바람직하게는 광학 렌즈, 구체적으로 플라스틱 광학 렌즈일 수 있다.
이와 같이, 일실시예의 중합성 조성물은 특정 첨가제를 포함하여 이소시아네이트의 반응성을 적절히 조절함으로써 일정시간 점도를 낮게 유지할 수 있는 등, 복잡한 정제 과정을 포함하지 않고도 양질의 폴리티오우레탄계 광학 재료를 제조할 수 있다. 또한, 다른 실시예의 폴리티오우레탄계 광학 재료는 균일한 굴절률을 가질 뿐만 아니라 황색 지수가 낮아 안경렌즈, 카메라 렌즈 등의 각종 플라스틱 광학 렌즈로 유용하게 사용될 수 있다.
이하, 하기 실시예에 의하여 더욱 상세하게 설명하고자 한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
[ 실시예 ]
실시예 1
m-크실렌디이소시아네이트 50.7 중량부, 경화촉매로서 디부틸틴 디클로라이드 0.01 중량부, 내부이형제(제조사: Stepan사, 제품명: Zelec® UN, 산성 인산알킬에스테르) 0.1 중량부, 자외선 흡수제(2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 제조사: 사이텍사, 제품명: CYASORB®UV-5411) 0.05 중량부 및 인산 0.5 중량부를 25 ℃에서 혼합하고, 이 혼합물에 폴리티올 B 49.3 중량부를 첨가하고 다시 균일하게 혼합하여 중합성 조성물을 제조하였다.
상기 폴리티올 B는 하기 화학식 1로 표시되는 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)설파이드이며, 하기와 같은 측정 조건으로 HPLC 측정 결과, 질소-함유 화합물의 피크의 면적(B) / 폴리티올 화합물의 피크의 면적(A) 백분율이 7.8 %로 질소-함유 화합물의 함량이 높았다.
또한, 상기 폴리티올 B를 유도결합플라즈마(ICP) 분석한 결과, 폴리티올 B는 Ca 1.4 ppm, Mg 1.6 ppm, K 1.9 ppm 및 Na 2.1 ppm을 포함하였다.
Figure 112016063500263-pat00001
<HPLC 측정 조건>
칼럼:　YMC-Pack　ODS－A　A-312　(S5, 직경 6 mm × 높이 150 mm)
이동상:　아세토니트릴 / 0.01 mol 인산이수소칼륨 수용액 = 60/40 (v/v)
유량: 1.0 ㎖/min
검출기: UV검출기, 파장 230 nm
측정 용액 조정: 시료 160 mg을 아세토니트릴 10 ㎖로 용해 혼합
측정 용액 주입량:　2 ㎕
실시예 2 내지 4 및 비교예 1 내지 3
하기 표 1에 기재된 바와 같은 성분 및 함량(중량부)을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 중합성 조성물을 제조하였다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 비교예 1 비교예 2 비교예 3
이소시아네이트 50.7 50.7 50.7 50.7 50.7 50.7 50.7
경화촉매 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
내부이형제 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
자외선 흡수제 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05
산 성분 인산 0.7 - - - - - -
올레산 0.7 - - - - -
옥살산 - - 0.3 0.3 - - -
폴리
티올		 폴리티올 A - - 49.3 49.3 - - 49.3
폴리티올 B - 49.3 - - 49.3 - -
폴리티올 C 49.3 - - - - 49.3 -
추가 불순물 탄산나트륨 - - 0.5 - - - 0.5
염화칼슘 - - - 0.5 - - -
상기 폴리티올 A는 상기 화학식 1로 표시되는 비스(2-2(-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토-프로필)설파이드이며, 실시예 1과 같은 측정 조건으로 HPLC 측정 결과, B/A 백분율이 1.9 %로 나타났다. 또한, ICP 분석 결과, Ca 1.0 ppm, Mg 1.1 ppm, K 1.2 ppm 및 Na 1.7 ppm을 포함하였다.
상기 폴리티올 C는 상기 화학식 1로 표시되는 비스(2-2(-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토-프로필)설파이드이며, 실시예 1과 같은 측정 조건으로 HPLC 측정 결과, B/A 백분율이 2.8 %로 나타났다. 또한, ICP 분석 결과, Ca 1.3 ppm, Mg 1.7 ppm, K 1.8 ppm 및 Na 621 ppm을 포함하는 등 Na 양이온의 함량이 높았다.
실험예 : 물성 확인
상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제조한 중합성 조성물을 대상으로 하기 기재된 바에 따라 물성을 측정하였으며, 측정 결과는 하기 표 2에 나타냈다.
(1) 점도
중합성 조성물을 25 ℃에서 8 시간 방치 후 25 ℃에서 회전식 점도계를 이용하여 점도를 측정하였다.
(2) 황색 지수 및 내광성(△ YI )
실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제조한 중합성 조성물을 600 Pa에서 1 시간 동안 탈기(degassing)한 후 3 ㎛의 테프론 필터에 여과하였다. 여과된 중합성 조성물을 테이프에 의해 조립된 유리 몰드 주형에 주입하였다. 상기 몰드 주형을 25 ℃에서 120 ℃까지 5 ℃/분의 속도로 승온하고, 120 ℃에서 18 시간 중합을 진행하였다. 유리 몰드 주형에서 경화된 수지를 130 ℃에서 4 시간 동안 추가 경화한 후 유리 몰드 주형으로부터 성형체를 이형시켰다.
상기 성형체는 두께 9 mm 및 지름 75 mm의 원형 렌즈(광학 재료)이었으며, 상기 광학 재료에 대해 미놀타사의 색차계 CM-5를 사용하여 색도좌표 x 및 y를 측정한 후 측정값을 하기 수학식 1에 적용하여 황색 지수(Yellow Index, YI)를 계산하였다.
[수학식 1]
황색 지수 = (234x + 106y + 106)/y
상기 광학 재료를 Q-Pannel lad product사의 QUV/Spray 모델(5w)에 200 시간 노출시킨 후, 상술한 바와 동일한 방법으로 황색 지수를 측정하였다. 이후, 노출 전 후의 황색 지수 값의 차이를 내광성(△YI)으로 표시하였다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 비교예 1 비교예 2 비교예 3
점도 (cPS) 320 227 667 479 5,970 12,380 측정불가(겔화)
황색 지수 4.12 4.21 4.84 4.67 6.11 6.87 6.99
내광성(△YI) 1.11 1.09 1.19 1.27 2.66 2.59 2.91
상기 표 2에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 4의 중합성 조성물은 비교예 1 내지 3과 비교해볼 때, 점도가 비교적 오랫동안 낮게 유지되고, 렌즈로 성형시 황색 지수가 낮고 내광성(△YI)이 우수하여 광학 재료로 보다 적합함을 알 수 있었다. 특히, 동일한 폴리티올(불순물 함량 동일)을 사용한 실시예 1과 비교예 1, 실시예 2와 비교예 2, 및 실시예 3과 비교예 3의 결과를 서로 직접적으로 비교해 볼 수 있었다.

Claims (14)

  1. (i) 폴리티올 화합물; (ⅱ) 이소시아네이트 화합물; 및 (ⅲ) 올레산, 옥살산, 팔미트산, 리놀레산, 프로판이산, 부탄이산 및 인산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 산 성분을 포함하고,
    상기 폴리티올 화합물 및 상기 이소시아네이트 화합물의 합 100 중량부에 대하여 상기 산 성분을 0.1 내지 1 중량부의 양으로 포함하는, 중합성 조성물.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 중합성 조성물이 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트 화합물의 합 100 중량부에 대하여 올레산, 옥살산 또는 인산을 0.1 내지 1 중량부의 양으로 포함하는, 중합성 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 중합성 조성물이 25 ℃에서 8 시간 방치 후 1,000 cPs 이하의 점도(25 ℃)를 나타내는, 중합성 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 폴리티올 화합물이 양이온 금속 불순물, 질소-함유 불순물 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 중합성 조성물.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 폴리티올 화합물이 100 내지 6,000 ppm의 양이온 금속 불순물을 포함하는, 중합성 조성물.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 양이온 금속 불순물이 Ca 양이온, Mg 양이온, K 양이온 및 Na 양이온으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인, 중합성 조성물.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 폴리티올 화합물이 폴리티올 화합물 총 중량을 기준으로 3 내지 10 중량%의 질소-함유 불순물을 포함하는, 중합성 조성물.
  10. 제6항에 있어서,
    상기 질소-함유 불순물이 멜라민, 우레아, 트리아진, 아마이드, 이미드 및 이민으로부터 선택된 1종 이상인, 중합성 조성물.
  11. 제1항 및 제4항 내지 제10항 중 어느 한 항의 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물.
  12. 제11항의 폴리티오우레탄계 화합물로부터 성형된 광학 재료.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 광학 재료가 플라스틱 광학 렌즈인, 광학 재료.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 광학 재료가 색도좌표 측정시 6 이하의 황색 지수(Yellow Index)를 갖는, 광학 재료.
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