KR101537029B1

KR101537029B1 - 이산화염소가스 처리구조, 이산화염소가스 처리장치, 멸균장치 및 환경정화장치

Info

Publication number: KR101537029B1
Application number: KR1020147025816A
Authority: KR
Inventors: 토시히로 마츠나가; 히데키 야마모토; 켄죠 이시이
Original assignee: 가부시키가이샤 에프엠아이
Priority date: 2013-06-18
Filing date: 2013-06-18
Publication date: 2015-07-15
Also published as: TW201500102A; JPWO2014203319A1; WO2014203319A1; KR20150028763A; JP5409978B1; TWI603775B

Abstract

주위환경의 정화에 작용한 이산화염소가스를 사람에게 안전한 저농도로 만들기까지 장기간을 요하는 것이다.
이산화염소가스를 포함한 피처리 공기중의 이산화염소가스를 저감시키는 이산화염소가스 처리구조(20)이며, 피처리 공기가 순환되는 공간과 팬(23)과 접촉층과 자외선 조사수단을 갖추고, 접촉층이 철제의 세선을 솜모양으로 뭉친 스틸울(21)에 물을 적신 것이며, 팬(23)이 공간 내에서 피처리 공기를 순환시켜 그 순환경로에 있어 접촉층에 자외선 조사수단(24)에 의해 자외선을 조사시킨 상태에서 피처리 공기를 접촉층에 접촉시킨다.

Description

이산화염소가스 처리구조, 이산화염소가스 처리장치, 멸균장치 및 환경정화장치 {Chlorine dioxide processing structure, chlorine dioxide processing apparatus, sterilization apparatus and environment purification apparatus}

본 발명은 주위환경의 정화에 작용한 이산화염소가스를 단시간에 인체에 안전한 농도로 저하시키는 이산화염소가스 처리구조, 이산화염소가스 처리장치, 멸균장치 및 환경정화장치에 관한 것이다.

사람이 생활하는 공간에는 예를 들면 먼지, 담배연기 등의 극소미립자, 각종 대기오염물질, 부유균류, 도료 등의 화학물질로부터의 유기휘발가스, 인체나 각종 제품 등의 냄새 등을 포함하는 각종 미립자, 기체, 곰팡이, 유해한 세균 등이 포함되어 있다.

인체에 있어 유해한 이들 세균 등을 저감하기 위해, 그 살균, 소취 등의 정화처리가 행해지고 있다. 이산화염소가스는 살균, 소취 등의 정화작용에 지극히 우수한 것이 이전부터 알려져 있었다. 그러나 이산화염소가스는 상온, 상압에서는 염소나 오존과 같은 자극적인 냄새가 있고, 빛이나 열에 대해 불안정한 것이다. 그래서 위험성이 없는 안정된 상태에서 이산화염소가스를 사용할 수 있도록 이산화염소가스를 순수(純水) 속에 알칼리로 안정화시켜, 안정화 이산화염소가 개발되었다. 그리고 겔상태, 액체상태 또는 고체상태의 안정화 이산화염소를 활성화시켜 이산화염소가스를 꺼내어, 공간 내에 있는 정화할 대상물에 접촉시켜 공간 내부를 넓게 정화하는 기술이 제안되고 있다.

종래의 이산화염소가스에 의한 정화처리에 따르면, 처리 후의 기체에 포함되어 있는 잔여 이산화염소가스는 물 또는 활성탄 등에 여과, 흡착시켜 저농도로 되어 있다. 또한 이산화염소가스의 광분해 작용에는 불명확한 점이 많았지만 이산화염소가스는 자외선에 의해 분해되는 것이 알려져 있었다(특허문헌1:단락0004). 그래서 정화처리에 작용한 이산화염소가스는 상기와 같이 저농도로 되고나서 대기중으로 방출되어 확산되어왔다.

이산화염소가스를 옥외로 직접 배출 가능하도록 배기덕트가 부설되어 있는 공기조화장치라면, 배기덕트로부터 배출되는 이산화염소가스를 옥외의 대량의 공기 중으로 배출시켜 희석시킬 수 있다. 그러나 병원 내에서 사용되는 의료기기를 정화시키는 멸균장치에서는 멸균 후의 이산화염소가스는 인체에 안전한 소정의 농도 이하로 되어 기기의 주위에 방산되고 있다. 여기서 인체에 안전한 농도란 미국 산업안정보건청(OSHA)의 기준에 따르면 이산화염소가스의 농도는 1일 8시간 또는 주 40시간 기간 내에 있어 시간하중평균치(TWA)로 0.1ppm이하로 되어있다. 또한 미국산업위생전문가협의회(ACGIH)의 기준에서는 이에 더해 언제나 15분간이 단시간노출한계치(STEL)이 0.3ppm으로 되어 이산화염소가스를 이 낮은 농도 범위 내에서 지속적으로 유지시키는 것이 필요하다고 되어있다. 그러나 종래의 활성탄 등에의 흡착에 따른 이산화염소가스의 저감처리방법에 따르면 소정의 농도보다 낮은 농도가 되고 나서는 흡착작용이 완만해지기 때문에, 이산화염소가스가 방출될 수 있는 저농도가 되기까지 장시간을 요했다.

한편, 고농도의 이산화염소가스를 공간 내에 방출해 공간 내 환경을 정화하는 기술도 제안되어 있다. 예를 들면, 특허문헌2에서는 순수 이산화염소가스액제에 의해 용존 이산화염소를 고농도로 포함시키는 것이 가능함과 동시에 고농도에서 저농도에 이르기까지 농도조정이 가능하게 되어 있다(특허문헌2; 단락0072). 게다가 특허문헌3에 오염된 공간이나 물건을 종래보다도 높은 농도로 이산화염소를 사용해 훈증하는 기술이 개시되어 있다. 특허문헌3에 따르면, 적어도 이산화염소를 5에서 6시간에 걸쳐 제거하는 것도 개시되어 있다(특허문헌; 단락0024)

특허문헌2나 특허문헌3의 기술과 같이, 고농도의 이산화염소를 사용한 경우에는 이산화염소의 제거에 장시간을 필요로 한다는 과제가 있고, 고농도의 이산화염소가스를 이용한 환경정화의 보급을 막고 있었다. 또한, 저농도라도 그 양에 따라 이산화염소가스가 외부 환경에 영향을 주기 때문에 이산화염소가스를 단시간에 효율적으로 저감시키는 처리구조 및 장치가 원해지고 있었다.

본 발명자들은, 이산화염소가스에 자외선을 조사시키면서 각종 실험을 행하여, 이산화염소가스를 단시간에 저감시키기 위해 활성탄 필터 등에 의해 원하는 저농도로 만든 이산화염소가스를 물에 적신 스틸울에 자외선을 조사시킨 상태로 되풀이해 접촉시키는 것에 의해 이산화염소가스를 단시간에 인체에 안전한 저농도까지 저감 또는 소멸시킬 수 있는 것을 발견해 본 발명에 도달했다.

특허문헌1: 특개평4-300201호 공보 특허문헌2: 특개평11-278808호 공보 특허문헌3: 특표2005-528930호 공보

주위환경의 정화에 작용한 이산화염소가스를 인체에 안전한 농도까지 저하시키기 위해서 장시간을 요하는 것이다.

본 발명의 제1발명은 이산화염소가스를 포함한 처리장치 피처리 공기 중의 이산화염소가스를 저감시키는 이산화염소가스 처리구조에 있어, 상기 피처리 공기가 순환되는 공간과 기류발생수단과 접촉층과 자외선 조사수단을 갖추고, 상기 접촉층이 철제의 세선(細線)을 솜모양으로 뭉친 스틸울에 물을 적신 접촉층이며, 상기 기류발생수단이 상기 공간 내에 피처리 공기를 순환시켜, 상기 자외선 조사수단이 상기 피처리 공기의 순환경로에 있어 상기 접촉층에 자외선을 조사시킨 상태로, 상기 피처리 공기가 상기 접촉층에 되풀이해 접촉되는 것을 특징으로 한다.

여기서 피처리 공기란 각종 미립자, 기체, 곰팡이, 유해한 세균 등이 존재하는 공간 내에 있어 살균, 소취, 곰팡이 제거 등에 의해 작용한 이산화염소가스가 포함되어 있는 공기를 말하고, 사람이 생활하는 공간에 한정되지 않고, 예를 들어 멸균장치 안의 공기도 포함된다. 또한, 순환되는 공간이란 피처리 공기가 순환되어 접촉층에 되풀이해 접촉되는 공간이면 된다. 또한 이산화염소가스의 농도는 한정되지 않는다.

자외선의 파장은 자외가시 흡수 스펙트럼 분석에 의해 이산화염소가스에 대해 흡광도가 높다고 되어 있는 파장 254nm에서 270nm의 자외선이 최적이나, 이것에 한정되지 않는다(도8 참조). 또한, 도8의 그래프는500ppm의 안정화 이산화염소를 순수를 희석용액으로 해서 100배로 희석해서 그것을 자외가시 흡수 스펙트럼 분석 실험해서 얻어진 측정결과의 그래프이며, 세로축에 흡광도, 가로축에 자외선 파장을 나타내고 있다.

이산화염소가스에 자외선이 조사되는 것에 의해 이산화염소가스가 반응하기 쉬워진다. 이에 의해 철제 세선을 솜모양으로 뭉친 스틸울에 물을 적시게 한 접촉층에 반응하기 쉬워진 이산화염소가스가 기류발생수단에 의해 순환해 접촉되어 철을 산화시키고, 종래의 처리방법으로는 저감이 완만하게 된 저농도에 있어서도 피처리 공기 중의 이산화염소가스가 단시간에 저감된다고 하는 유리한 효과가 있다. 여기서 자외선의 강도는 한정되지 않고, 자외선의 강도에 따른 이산화염소가스의 저감효과가 보인다(도9 참조). 도9의 그래프는 각 변이 1m로 된 외광을 차단한 아크릴판으로 구성된 입방체 형상의 용기 내의 이산화염소가스에 자외선의 강도를 바꾸어 조사시켜 이산화염소가스의 농도의 저하경향을 확인한 그래프이다. 대개 모든 시간대에 있어 자외선의 강도를 2배로 한 쪽이(△표를 한 꺾인선), 다른 쪽(□표를 한 꺾인선)에 대해 이산화염소가스의 농도 저하효과가 높은 것이 확인되었다.

기류발생수단은 공기의 흐름을 발생시키는 공지의 팬이면 된다. 피처리 공기의 양, 접촉층에의 피처리 공기의 접촉회수에 따라 적당한 송풍능력의 팬이 선택가능하다. 또한 스틸울은 그 표면이 이산화염소가스에 산화되고 이산화염소가스의 저감효과가 저하되어 가기 때문에, 피처리 공기를 통과시키는 주머니에 수용되어 교환가능하게 되어 있으면 최적이다.

본 발명의 제2발명은 제1발명의 이산화염소가스 처리구조에 있어, 상기 세선의 직경이 0.02mm에서 0.04mm인 것을 특징으로 한다. 스틸울의 중량이 동일하더라도, 세선의 직경이 작을수록 그 표면적은 커져서 이산화염소가스의 접촉면적이 커진다. 한편 세선의 직경이 너무 작아지면 세선이 부러져 흩어지기 쉬워진다. 세선의 직경이 0.02mm에서 0.04mm의 스틸울이 동일한 스틸울의 사용중량이더라도 그 표면적을 크게함과 동시에 세선이 부러져 흩어지기 쉬운 굵기로서 최적이다.

본 발명의 제3발명은 제1 또는 제2발명의 이산화염소가스 처리구조에 있어 상기 자외선 조사수단으로부터의 자외선이 조사되는 상기 공간의 내면에 자외선 반사면을 갖추고 있는 것을 특징으로 한다. 상기 공간의 내면에 자외선의 반사율이 높은 알루미늄 재질의 박막 또는 판재가 첨착되는 것이 최적이다. 제3의 발명에 따르면 동일한 자외선 램프를 사용해도 강한 자외선이 조사 가능하다.

본 발명의 제4발명은 제1부터 제3발명의 이산화염소가스 처리구조에 있어서 상기 스틸울에 상기 물을 적시게 하는 습윤수단을 갖추고 있는 것을 특징으로 한다. 습윤수단은 물을 저장한 수조에 스틸울을 출몰시켜 스틸울을 습윤상태로 만들어도 되고, 또 분무기에 의해 물을 분무시켜 스틸울을 습윤상태로 만들어도 된다. 습윤수단을 갖추는 것에 의해 처음에 습윤시켜 상기 공간 내에 배설한 스틸울이 마르지 않아 접촉층의 효과가 계속된다.

본 발명의 제5발명은 이산화염소가스에 의한 공기정화 후의 피처리 공기 중에 포함되어 있는 이산화염소가스를 저감시키는 이산화염소가스 처리장치에 있어서 상기 이산화염소가스를 원하는 농도로 저하시키는 제1차 처리수단과 제1부터 제4발명이 어느 쪽의 상기 이산화염소가스 처리구조를 포함해, 제1차 처리수단이 제1의 기류발생수단과 활성탄필터를 갖추고, 제1 기류발생수단에 의해 상기 피처리 공기 중의 이산화염소가스를 상기 활성탄필터에 흡착시키는 제1차 처리를 행하고 나서, 상기 제1차 처리 후의 피처리 공기 중에 포함되어 있는 이산화염소가스를 상기 이산화염소가스 처리구조에 의해 저감시키는 것을 특징으로 한다.

제5발명에 따르면 종래의 활성탄필터 흡착처리의 기술을 제1차 처리수단에 의해 원하는 농도, 예를 들면 2.5ppm에서 5.0ppm의 범위의 농도로 하고 나서, 제1부터 제4발명의 이산화염소가스 처리구조에 의해 이산화염소가스의 농도를 인체에 안전한 농도까지 저하시키고 있다. 종래기술의 활성탄 필터에 의한 흡착처리에 따르면, 이산화염소가스가 원하는 농도가 되고 나서 흡착작용이 완만해졌다. 이 때문에 이산화염소가스를 원하는 농도, 예를 들면 0.1ppm보다 작게 하기 위해서 장시간을 요했다. 그러나 본 발명에 따르면 종래의 활성탄필터의 높은 저감효율이 유지되는 농도까지 활성탄필터에 의해 이산화염소가스를 저감시키고 나서, 제1부터 제4발명의 이산화염소가스 처리구조에 의해 이산화염소가스의 농도를 저하시키는 것에 의해, 인체에 안전한 원하는 저농도로 하기까지의 시간이 짧아진다.

또한 저농도가 되고 나서 스틸울에 이산화염소가스를 반응시키고 있기 때문에, 스틸울의 사용량이 적어져도 된다. 또 스틸울의 교환빈도도 적어진다.

본 발명의 제6발명은 이산화염소가스에 의한 공기정화 후의 피처리 공기 중에 포함되어 있는 이산화염소가스를 저감시키는 이산화염소가스 처리장치에 있어, 상기 이산화염소가스를 원하는 농도로 저하시키는 제1차 처리수단과, 제1에서 제4발명 중 어느 쪽인가의 상기 이산화염소가스 처리구조를 포함하고, 제1차 처리수단이 제1기류발생수단과 자외선 조사수단과 철체 세선을 솜모양으로 뭉친 스틸울을 접촉층으로서 갖추고, 상기 자외선 조사수단에 의해 자외선을 상기 접촉층에 조사시킨 상태에서 상기 제1 기류발생수단에 의해 상기 피처리 공기 중의 이산화염소가스를 상기 접촉층에 순환시켜 접촉시키는 제1차 처리를 행하고 나서, 제1차 처리 후의 피처리 공기 중에 포함되어 있는 이산화염소가스를 상기 이산화염소가스 처리구조에 의해 저감시키는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제6발명에서는 제5발명의 제1차처리수단의 활성탄필터에 의한 흡착작용을 대신해, 스틸울층을 접촉층으로 하여 자외선을 조사시키면서 피처리 공기를 순환시켜 접촉층에 접촉시키는 수단을 이산화염소가스의 제1차 처리수단으로 하고 있다. 스틸울에 자외선을 조사시키면서 피처리 공기를 접촉시켜도 후술하는 (평가결과2-1) 및 (평가결과2-2)에 나타낸 것과 같이 활성탄필터와 대략 마찬가지의 효과를 발휘하는 것이 확인되었다. 여기서 스틸울의 철선의 세선의 직경은 0.02mm에서 0.04mm이 최적이다.

본 발명의 제7발명은 의료용기기를 이산화염소가스에 접촉시켜 멸균처리하는 멸균장치에 있어 제1에서 제4발명 중 어느 쪽의 발명의 상기 이산화염소가스 처리구조를 갖추고 있는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 제1에서 제4의 이산화염소가스 처리구조를 갖추고 있는 것에 의해, 멸균에 작용한 고농도의 이산화염소가스를 원하는 농도, 예를 들면 0.1ppm의 농도보다 작게 하기까지의 시간이 짧아져서, 멸균장치에 의해 의료기기를 단시간의 사이클로 멸균하는 것이 가능해지고, 멸균장치를 유효하게 활용할 수 있게 된다.

본 발명의 제8발명은 공기정화장치가 설치된 닫힌 환경 내에 이산화염소가스를 도입해, 상기 환경 내에 있는 물건에 상기 이산화염소가스를 접촉시켜 정화처리하는 환경정화장치에 있어, 제1부터 제4발명의 어느 쪽의 상기 이산화염소가스 처리구조를 갖추고 있는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 제1에서 제4의 어느 쪽의 발명의 이산화염소가스 처리구조를 갖추고 있는 것에 의해, 곰팡이 제거 등의 환경정화에 작용한 대량에 고농도의 이산화염소가스를 원하는 농도, 예를 들면 0.1ppm의 농도로 하기까지의 시간이 짧아져, 이산화염소가스에 의한 정화대상이 확대된다. 예를 들면 주택건물이 많은 지역에 있어서도 주택건물 전체를 시트로 덮고 주택 내에 갖추어진 모든 물건을 이산화염소가스에 의해 곰팡이 제거 및 살균을 해서 그 이산화염소가스를 짧은 시간에 저감시켜 거주자를 위해 알레르기 대책을 하는 것도 가능해진다.

본 발명의 제1발명에 의하면, 철제 세선을 솜모양으로 뭉친 스틸울에 물을 적시게 한 접촉층에, 반응하기 쉬워진 이산화염소가스가 기류발생수단에 의해 순환해 접촉되어 철을 산화시켜 종래의 처리방법으로는 저감이 완만해진 저농도에 있어서도, 피처리 공기 중의 이산화염소가스가 단시간에 저감된다는 유리한 효과가 있다.

본 발명의 제2발명에 의하면 동일한 중량에서 이산화염소가스에 반응하는 철의 표면적을 크게 함과 동시에 세선이 부러져 흩어지지 않아서 최적이다.

본 발명의 제3발명에 의하면 동일한 자외선램프를 써도 강한 자외선이 조사 가능하다.

본 발명의 제4발명에 의하면 습윤수단을 갖추는 것에 의해 처음에 적셔서 상기 공간 내에 배설한 스틸울이 마르지 않고 접촉층의 효과가 지속된다.

본 발명의 제5발명에 의하면 활성탄 필터의 저감효율이 높게 유지되는 농도에 있어 활성탄 필터에 의해 이산화염소가스 농도를 저감시켜 활성탄 필터에 의한 저감 경향이 완만해진 농도에서는 제1부터 제4발명의 어느 쪽의 이산화염소가스 처리구조에 의해 이산화염소가스의 농도를 저하시키는 것에 의해 인체에 안전한 원하는 저농도로 하기까지의 시간이 짧아진다.

본 발명의 제6발명에 의하면 제5발명과 마찬가지로 스틸울의 접촉층에 자외선을 조사시키는 이산화염소가스의 저감경향이 완만해진 농도에서 제1부터 제4발명의 어느 쪽의 이산화염소가스 처리구조에 의해 이산화염소가스의 농도를 저하시키는 것에 의해 인체에 안전한 원하는 저농도로 하기까지의 시간이 짧아진다.

본 발명의 제7발명에 따르면 이산화염소가스를 원하는 농도, 예를 들면 0.1ppm의 농도로 하기까지의 시간이 짧아져, 단시간의 사이클로 멸균장치에 의해 의료기기를 살균하는 것이 가능해져서, 멸균장치를 유효하게 활용할 수 있게 된다.

본 발명의 제8발명에 따르면 곰팡이 제거 등의 환경정화에 작용한 대량이며 고농도의 이산화염소가스를 원하는 농도, 예를 들면 0.1ppm의 농도로 하기까지의 시간이 짧아져, 이산화염소가스에 의한 정화대상이 확대된다.

[도1] 이산화염소가스 처리장치의 구성의 모식도(실시예1).
[도2] 이산화염소가스 처리구조의 평가결과 그래프를 나타내는 도(실시예1).
[도3] 소형 이산화염소가스 처리구조의 평가그래프를 나타내는 도(실시예1).
[도4] 이산화염소가스 처리장치의 구성의 모식도(실시예2).
[도5] 제1차 처리수단의 평과 결과 그래프를 나타내는 도(실시예2).
[도6] 이산화염소가스 처리장치의 구성의 모식도(실시예3).
[도7] 멸균장치의 처리공정도(실시예4).
[도8] 자외가시 흡수 스펙트럼 분석 실험 그래프를 나타내는 도.
[도9] 자외선의 강도와 이산화염소가스 저감 경향의 그래프를 나타내는 도.

이산화염소가스를 인체에 안전한 농도까지 짧은 시간에 저하시킨다는 목적을 제1차 처리수단에 의해 이산화염소가스의 농도를 원하는 저농도까지 저하시키고 나서, 이산화염소 처리구조에 의해 인체에 안전한 저농도까지 더욱더 저하시키는 것에 의해 실현했다.

도1을 참조해 실시예1의 이산화염소가스 처리장치(100)을 설명한다. 도1은 실시예1의 이산화염소가스 처리장치(100)의 구성의 모식도를 나타내고 있다. 활성탄 필터(11)을 써서 이산화염소가스를 흡착시켜 이산화염소가스의 농도가 높은 처리 전의 도입공기(30)의 이산화염소가스 농도를 2.0ppm에서 5.0ppm의 저농도의 중간처리공기(40)으로 만드는 제1차 처리수단(10)과 중간처리공기(40)을 인체에 안전한 이산화염소가스 농도로 되어 있는 0.1ppm보다도 저농도로 처리해서 방출공기(50)으로써 방출시키는 이산화염소가스 처리구조(20)으로 이루어진 이산화염소가스 처리장치(100)이 주요구성요소를 모식적으로 나타내고 있다.

실시예1의 제1차 처리수단(10)은 각 변이 1m로 된 아크릴판으로 구성되어 있는 입방체형상의 용기(12) 안에 수용되어 있는데, 용기(12)의 형상, 크기가 한정되지 않는 것은 물론이다. 용기(12)의 안에는 도입공기(30)을 순환시키는 팬(13)이 설치되어 있다. 팬(13)에 의해 발생된 기류가 제1차 처리수단(10)에 나타낸 화살표(14)에 나타내듯이 팬(13)의 앞쪽에 설치된 활성탄필터(11)에 도입공기(30)을 통과시켜 도입공기(30)에 포함되어 있는 이산화염소가스를 활성탄필터(11)에 흡착시킨다.

팬(13)의 풍량 및 활성탄필터(11)의 크기, 두께, 활성탄의 용량은 용기(12) 안에 도입되는 도입공기(30)에 포함되어 있는 이산화염소가스의 농도, 양에 따라 적절하게 선택하면 된다. 여기서 활성탄필터(11)은 산성가스를 흡착하는 것이 가능한 활성탄필터(11)이면 최적으로 사용할 수 있고, 분말탄, 입상탄이어도 된다. 또 중성가스용 활성탄층과 염기성가스용 활성탄층을 병용해도 되는 것은 물론이다.

제1차 처리수단(10)에는 중간처리공기(40)의 배출구 근처에 개폐 가능한 검지흡입구(15)를 설치하고, 검지흡입구(15)를 개폐 가능한 상태로 하고, 거기서 용기(12) 안의 피처리 공기를 이산화염소가스용 검지관(16)에 흡인해, 이산화염소가스농도를 측정시키도록 하여 제1차 처리수단(10)의 구성을 간이한 것으로 하고 있다. 이산화염소가스용 검지관(16)은 주식회사GASTEC(등록상표)의 가스농도 검지관을 사용할 수 있다. 한편 도시하지 않은 이산화염소가스 농도 검지수단으로서 공지의 검지수단(특개2007-68612호 공보 참조)를 설치해, 이산화염소가스의 농도를 측정하도록 해도 된다.

공기정화에 작용되어 이산화염소가스의 농도가 높은 도입공기(30)의 이산화염소가스 농도가 제1차 처리수단(10)에 의해 원하는 저농도로 된 것이 검지된 다음, 중간처리공기(40)으로서 제1차 처리수단(10)에서 이산화염소가스 처리구조(20)으로 도출된다.

이산화염소가스 처리구조(20)도 각 변이 1m으로 된 아크릴판으로 구성되어 있는 입방체 형상의 용기(22)에 수용되어 있는데, 용기(22)의 형상, 크기가 한정되지 않는 것은 물론이다. 용기(22)에는 팬(23)과 자외선 조사수단(24)와 습윤상태로 된 스틸울(21)이 포함되어 있다. 그리고 용기(22)의 내면에는 알루미늄박(28)이 첨착되어 있다. 자외선 조사수단(24)에서 조사되는 자외선이 외부에 새지 않고 자외선이 용기 내에 반사되어 자외선의 강도가 높아지도록 알루미늄재료가 최적이나, 알루미늄 재료에 한정되지 않고 얇은 막의 박체(箔體)여도 판체(板體)여도 된다.

이산화염소가스 처리구조(20) 내에 설치된 팬(23)에 의해 발생된 기류가 도1의 이산화염소가스 처리구조(20) 안의 화살표(25)에 나타낸 듯이 부설된 스틸울(21)의 접촉층에 접촉되는 듯이 순환된다. 이산화염소가스 처리구조(20)의 안에 부설된 스틸울(21)에는 물이 적셔져 자외선조사수단에 의해 자외선이 조사되어 있다. 스틸울(21)에 중간처리공기(40)이 접촉되어 중간처리공기(40)에 포함되어 있는 이산화염소가스가 인체에 안전한 저농도의 방출공기(50)으로 되도록 처리된다.

여기서 접촉층을 이루는 스틸울(21)은 세선의 직경이 0.02mm에서 0.04mm의 스틸울을 325g 사용하고 있다. 스틸울(21)은 이산화염소가스 처리구조(20) 내에 부설될 때에 미리 분무로 물 약 50mL를 뿜어서, 물에 적셔진 상태로 만들어져 있다. 스틸울(21)은 아래쪽에 물을 저류시킨 물팔레트(26)을 설치해 도시하지 않은 출몰수단에 의해 적절히 출몰시켜 습윤상태가 유지되도록 해도 된다.

자외선 조사수단(24)로는 산쿄전기주식회사제의 254nm 파장의 자외선램프 GPL9를 6개, GPL27을 6개 사용해 합계 216W의 출력의 자외선램프로 했다. 자외선 조도는 주식회사 카스타무의 자외선 강도계에 의한 측정에 따라 상기 접촉층을 설치한 위치에 있어 0.345mW/cm²가 계측되어 있다. 또한 실온은 20℃에서 안정된 실온 환경하에서 계측실험을 행했다.

중간처리공기는 방산구 근방의 위치의 농도검지위치(27)에 설치한 이산화염소가스의 농도검지수단에 의해 그 이산화염소가스의 농도가 인체에 안전한 농도, 예를 들어 0.1ppm이하인 것이 검지, 확인되고 나서 방출공기(50)으로써 외기로 방산된다. 실시예1에서는 이산화염소농도가 50ppm의 도입공기(30)이 제1차 처리수단에 의해 처리개시 후 8분 경과시점에서 3.6ppm의 중간처리공기(40)으로 처리되고, 이산화염소 처리구조(20)에 의해 중간처리공기(20)이 처리개시 후 6분 경과 후에 이산화염소농도가 더욱더 안전농도라고 하는 0.1ppm 이하로 되어, 제1차 처리개시 후 14분에 이산화염소가스가 검출되지 않는 상태가 되어, 방출공기(50)에 적합한 상태가 되었다.

(평가실험1)

여기서 실시예1의 이산화염소가스 처리구조(20)의 주요 구성 요소의 효과를 평가하기 위해 실시예1의 이산화염소가스 처리구조(20)에 의해 이산화염소가스의 농도를 저하 처리시킨 경우와 이산화염소가스 처리구조(20)에서 주요구성요소를 제외한 경우를 비교해서 주요구성요소의 효과를 확인하는 실험을 했다(평가실험1). 그 결과를 도2를 참조해 설명한다. 도2는 이산화염소가스 처리구조의 평가결과 및 비교결과의 그래프를 나타내는 그림이다. (평가결과1-1)은 이산화염소가스 처리구조(20)을 작동시킨 경우, (비교결과1-1)은 접촉층의 스틸울을 적시지 않은 상태에서 자외선을 조사시킨 경우, (비교결과1-2)는 스틸울을 떼어내고 자외선만을 조사시킨 경우의, 각각의 중간처리공기(40)의 이산화염소가스 농도의 저하 경향을 나타내고 있다. 이산화염소가스의 농도는 주식회사GASTEC사(등록상표)의 가스검지관에 의해 검지했다.

(평가결과1-1)

이산화염소가스 처리구조의 평가결과(□표시의 꺾인선 그래프): 실온 20℃에 있어 아크릴판으로 구성한 1m³의 용적의 용기의 이산화염소가스 처리구조(20)에 중간처리공기(40)을 도입시켜 이산화염소가스의 농도가 3.6ppm의 상태에서 실시예1의 이산화염소가스 처리구조(20)의 구성으로 이산화염소가스를 처리시켰다. 이 이산화염소가스의 농도의 저하를 □표시를 한 꺾인선 그래프로 나타내고 있다. 이산화염소가스의 농도는 3.6ppm에서 처리개시 후 4분 경과시점에서 약 0.12ppm이 되고, 6분 경과 시점에서 0.00ppm이 되고, 하기에 나타낸 (비교결과1-1), (비교결과1-2)에 비해 이산화염소가스의 농도를 안전한 농도까지 단시간에 저하시켰다.

(비교결과1-1)

스틸울(21)을 물에 적시지 않고, 자외선만을 조사시킨 경우의 비교결과(△표시를 한 꺾인선 그래프): 실시예1의 이산화염소가스 처리구조(20)의 접촉층의 스틸울(21)을 물에 적시지 않은 상태로 해서 중간처리공기(40)을 도입시켜 이산화염소가스의 농도가 2.76ppm의 상태에서 이산화염소가스를 처리시켰다. 이 이산화염소가스의 농도의 저하를 △표시를 붙인 꺾인선 그래프로 나타내고 있다. 이산화염소가스의 농도는 2.76ppm에서 처리개시 후 6분 경과시점에 0.24ppm, 10분 경과 시점에서 약 0.01ppm이 되어있다.

(비교결과1-2)

스틸울(21)을 떼어내고 자외선만을 조사시킨 경우의 비교결과(○표시를 한 꺾인선 그래프): 실시예1의 이산화염소가스 처리구조(20)의 스틸울의 접촉층을 떼어내고, 중간처리공기(40)을 도입시켜 이산화염소가스의 농도가 2.52ppm의 상태에서 이산화염소가스를 처리시켰다. 이 이산화염소가스의 농도 저하를 ○표시를 한 꺾인선 그래프로 나타내고 있다. 이산화염소가스의 농도는 2.52ppm에서 처리개시 후 6분 경과시점에서 0.45ppm이 되었는데, 10분 경과해도 0.36ppm여서, 0.1ppm을 큰 폭으로 넘은 농도이므로 인체에 안전하다는 농도로는 되지 않았다.

(평가실험2)

다음으로 한 변이 65cm인 입방체의 멸균장치를 상정해, 실시예1의 이산화염소가스 처리구조의 용량을 0.25m³으로 해서, 용량의 대소에 상관없이 소형 이산화염소가스 처리구조여도 그 효과가 발휘되는 것을 확인하는 평가실험2를 행했다. 그 결과를 도3을 참조해 설명한다. 도3은 평가실험2의 소형 이산화염소가스 처리구조의 평가결과 그래프를 나타내는 도이다. (평가결과2-1)은 이산화염소가스 처리구조(20)을 작동시킨 경우, (비교결과2-1)은 접촉층의 스틸울을 적시지 않고 자외선을 조사시킨 경우, (비교결과2-2)는 스틸울을 떼어내고 자외선만을 조사시킨 경우의, 각각의 중간처리 공기의 이산화염소가스 농도의 저하경향을 나타내고 있다. 자외선 조사수단(24)로서는 산쿄전기주식회사제의 254nm 파장의 자외선램프 GPL9를 6개 사용하여 합계 54W의 자외선을 사용했다. 접촉층을 이루는 스틸울은 평가실험1과 똑같이 했다. 용기 내면에 알루미늄박을 첨착한 점, 실온조건 등도 똑같다.

(평가결과2-1)

소형 이산화염소가스 처리구조의 평가결과(□표시의 꺾인선 그래프): 실온20℃에 있어, 소형 용기의 이산화염소가스 처리구조(20)에 중간처리공기(40)을 도입시켜 이산화염소가스의 농도가 2.52ppm의 상태에서 상기 구성으로 이산화염소가스를 처리시켰다. 이 이산화염소가스의 농도 저하를 도3에 있어서 □표시를 한 꺾인선 그래프로 나타내고 있다. 이산화염소가스의 농도는 2.52ppm에서 처리개시 후 2분 경과시점에 0.30ppm이 되고, 4분 경과시점에 0.00ppm이 되어있다. 이산화염소가스 처리구조의 용량에 상관없이 자외선의 강도를 적절히 결정하면 용량이 큰 실시예1과 같은 이산화염소가스의 저감 경향이 얻어지는 것이 확인되었다. 하기에 나타내는 (비교결과2-1), (비교결과2-2)에 비교해 이산화염소가스의 농도를 단시간에 안전한 농도까지 저하할 수 있었다.

(비교결과2-1)

스틸울을 적시지 않고, 자외선만을 조사시킨 경우의 비교결과(△표시를 한 꺾인선 그래프): 소형의 이산화염소가스 처리구조에 있어 접촉층의 스틸울을 물에 적시지 않은 상태로 하여 중간처리공기(40)을 도입시켜 이산화염소가스의 농도가 2.16ppm의 상태에서 이산화염소가스를 처리시켰다. 이 이산화염소가스의 농도 저하를 도3에서 △표시를 한 그래프로 나타내고 있다. 이산화염소가스의 농도는 2.16ppm에서 처리개시 후 2분 경과시점에 0.78ppm, 4분 경과시점에서 0.30ppm이 되어 안전한 농도로는 되지 않았다.

(비교결과2-2)

스틸울을 떼어내고 자외선만을 조사시킨 경우의 비교결과(○표시를 한 꺾인선 그래프): 소형의 이산화염소가스 처리구조에 있어 스틸울의 접촉층을 떼어내고 중간처리공기(40)을 도입시켜 이산화염소가스 농도가 2.10ppm의 상태에서 이산화염소가스를 처리시켰다. 이 이산화염소가스의 농도 저하를 ○표시를 한 꺾인선 그래프로 나타내고 있다. 이산화염소가스의 농도는 2.10ppm에서 처리개시 후 2분 경과시점에 1.08ppm, 4분 경과시점에 0.48ppm을 넘는 농도여서 안전 농도로는 되지 않았다.

도4를 참조해 실시예2의 이산화염소가스 처리장치(200)을 설명한다. 도4는 이산화염소가스 처리장치(200)의 구성의 모식도이다. 실시예1의 제1차 처리수단(10)을 대신해 이산화염소가스의 농도가 높은 도입공기(30)의 이산화염소가스를 자외선을 조사시킨 상태의 스틸울에 접촉시켜 이산화염소가스가 원하는 저농도의 중간처리공기(40)으로 되는 제1차 처리수단(60)으로 하고 있다. 중간처리공기(40)을 인체에 안전한 이산화염소가스 농도로 되어 있는 0.1ppm보다도 저농도로 처리해 방출공기(50)으로 만드는 이산화염소가스 처리구조(20)에 관해서는 실시예1과 똑같으므로 도면에 동일한 부호를 붙여 설명을 생략한다.

실시예2의 제1차 처리수단(60)은 각 변이 1m으로 된 아크릴판으로 구성되어 있는 입방체 형상의 용기(62)내에 수용되어 있는데, 실시예1과 마찬가지로 용기(62)의 형상, 크기가 한정되지 않는 것은 물론이다. 용기(62)에는 도입공기(30)을 순환시키는 팬(63)이 설치되어 있다. 팬(63)에 의해 제1차 처리수단(60)에 나타낸 화살표로 나타내 듯이 기류가 발생된다. 팬(63)의 앞쪽에는 자외선 조사수단(64)에 의해 자외선이 조사되는 상태의 스틸울(61)이 설치되어 있다. 스틸울(61)에 도입공기(30)이 통과되고, 도입공기(30)에 포함되어 있는 이산화염소가스가 자외선조사수단에서 나온 자외선에 조사된 상태의 스틸울(61)에 접촉되어 그 이산화염소 농도가 원하는 농도의 중간처리공기(40)으로 되도록 처리된다.

(평가실험3)

여기서 도5를 참조해 이산화염소농도가 높은 도입공기(30)의 이산화염소 농도를 저감시켜, 중간처리공기(40)으로 만드는 제1차 처리수단을 평가하는 평가실험3의 결과를 나타낸다. (평가결과3-1)은 활성탄필터에 이산화염소가스를 흡착시키는 실시예1의 제1차 처리수단이며, (평가결과3-2)는 스틸울필터에 자외선을 조사시킨 상태에서 이산화염소가스를 접촉시키는 실시예2의 제1차 처리수단이며, (비교결과3-1)은 자외선만을 조사시켜 이산화염소가스의 농도를 저하시킨 경우의 실험결과를 나타내고 있다. 자외선 조사수단으로서는 산쿄전기주식회사의 254nm 파장의 자외선 램프GPL9를 6개 사용해 합계54W의 자외선을 사용했다. 접촉층을 이루는 스틸울은 평가실험1과 똑같이 했다. 용기의 내면에 알루미늄박을 첨착한 점, 실온조건 등도 같다.

(평가결과3-1)

활성탄필터에 도입공기의 이산화염소가스를 흡착시키는 실시예1의 제1차 처리수단의 평가결과(○표시를 한 꺾인선 그래프): 실시예1의 제1차 처리수단에서 활성탄필터에 고농도의 이산화염소가스가 포함되어 있는 도입공기를 접촉시켜 활성탄필터에 이산화염소가스를 흡착시키고 이산화염소가스의 농도를 저하시켰다. 이 이산화염소가스의 농도 저하를 도5에서 ○표시를 한 꺾인선 그래프로 나타내고 있다. 처리개시 후 5분 경과시점에서 50ppm에서 6.24ppm으로 저하했고, 10분 경과시점에서 1.20ppm이 되어 있다. 그 다음부터는 농도 저하가 완만해져서 20분 경과시점에서 0.12ppm이 되고, 0.1ppm이 되기까지 처리개시 후 25분의 시간을 필요로 하고 있다.

(평가결과3-2)

자외선을 조사시키면서 스틸울에 도입공기의 이산화염소가스를 접촉시키는 실시예2의 제1차 처리수단의 평가결과(△표시를 한 꺾인선 그래프): 실시예2의 제1차 처리수단에서 스틸울에 자외선을 조사시킨 상태로 고농도의 이산화염소가스가 포함되어 있는 도입공기(30)을 접촉시켜 이산화염소가스의 농도를 저하시켰다. 이 이산화염소가스의 농도의 저하를 도5에서 △표시를 한 꺾인선 그래프로 나타내고 있다. 처리개시 후 10분 경과시점에서 40ppm에서 2.30ppm으로 저하했지만, 그 후에는 느리게 이산화염소가스 농도가 저하되게 되어 0.1ppm이 되기까지는 처리개시 후 20분의 시간을 필요로 했다. 그러나 처리개시 후 20분의 시간에 이산화염소가스는 검출되지 않도록 되었다. 이것을 실시예1의 제1차 처리수단과 비교하면 실시예1의 활성탄 필터의 쪽이 10분 경과시점까지는 약간 우수한 저감효과가 보이지만, 안전농도 0.1ppm이 되기까지는 장시간을 요하는 결과였다. 한편 이산화염소 농도가 2.5ppm의 저농도가 되기까지는 실시예2이 제1차 처리수단과 실시예1이 제1차 처리수단은 둘 다 약 10분 경과하면 되고, 제1차 처리수단으로서는 어느 쪽도 적절하다고 평가되었다.

(비교결과3-1)

도입공기의 이산화염소가스에 자외선만을 조사시켜 이산화염소가스를 저감시킨 비교결과(□표시를 한 꺾인선 그래프): 실시예1과 동일 온도조건에서 같은 크기의 용기에서 고농도의 이산화염소가스가 포함되어있는 도입공기(30)에 자외선 조사수단에 의해 자외선을 조사시켜, 이산화염소가스의 농도를 저하시켰다. 이 이산화염소가스의 농도 저하를 도5에서 □표시를 한 꺾인선 그래프로 나타내고 있다. 처리개시 후 20분 경과 후에는 50ppm에서 47.5ppm까지 저하했지만, 저하경향은 완만했다. 반면 어느 조사시간대에 있어서도 같은 비율로 이산화염소가스의 저감 경향이 보였다.

실시예3에서는 제1차 처리수단과 이산화염소가스 처리구조가 동일한 용기(70) 안에 갖추어진 실시예를 도6을 참조해 설명한다. 도6은 이산화염소가스 처리장치(300)의 구성의 모식도이며, 실시예1과 동일한 구성 부분에 관해서는 도면에 동일한 부호를 붙여 설명을 생략했다. 용기(70) 안에 도입된 이산화염소가스의 농도가 높은 도입공기(30)은 우선 이산화염소가스 처리구조(72)를 정지시킨 상태에서, 제1차 처리수단(71)의 활성탄필터(11)에 순환되어 이산화염소가스 농도가 저하된다. 그리고 검지수단에 의해 용기 안의 피처리 공기의 이산화염소가스 농도가 원하는 농도보다도 작아진 것이 검지되면, 다음으로 제1차 처리수단(71)을 정지시키고, 이산화염소가스 처리구조(72)에 의해 자외선 조사수단(24)에 의해 자외선을 조사시키면서 습윤상태에 있는 스틸울(21)에 피처리 공기를 접촉시켜 순환시킨다. 이에 의해 하나의 용기로 이산화염소가스의 농도를 단시간에 저하시키는 것이 가능하다.

실시예4에서는 의료용기구의 멸균장치의 실시예를 도7을 참조해 설명한다. 도7은 멸균장치의 처리공정도이며, 도7(A)도는 높은 농도의 이산화염소가스를 발생시키고 있는 공정을 나타내며, 도7(B)도는 의료기구의 멸균 후에 높은 농도의 이산화염소가스를 원하는 농도, 예를 들면 2.0ppm에서5.0ppm의 농도까지 저하시키고 있는 공정을 나타내고, 도7(C)도는 미리 원하는 농도까지 저하시킨 이산화염소가스를 인체에 안전한 농도까지 저하시키고 있는 공정을 나타내는 설명도이다.

멸균장치(400)에는 의료기구 수용부(80)에 접해 이산화염소가스 발생수단(81), 제1차 처리수단(82), 이산화염소가스 처리구조(83)이 포함되어 있다. 이산화염소가스 발생수단(81)에 있어서는, 의료기구수용부(80)과의 통기구(84)를 개방시킨 상태에서, 겔 또는 액체상의 안정화 이산화염소수(85)에 자외선 조사수단(86)에 의해 자외선이 조사되고, 고농도의 이산화염소가스가 팬(87)에 의해 도7(A)도에 나타낸 화살표와 같이 의료기구수용부(80)에 보내어져서 순환된다. 의료기구수용부(80)의 이산화염소가스의 농도가 소정의 농도가 되고 나서는 통기구(84)가 닫히고 팬(87)이 정지되어도 된다(도7(A)도 참조).

의료기구의 멸균이 되고나서, 이산화염소가스 발생수단(81)의 통기구(84)가 닫힌 상태로, 제1차 처리수단(82)의 통기구(88)이 개방되어, 팬(89)에 의해 의료기구수용부(80)의 기체가 도7(B)도에 나타낸 화살표와 같이 활성탄필터(90)에 순환되어 이산화염소가스가 흡착되어 원하는 농도까지 저하된다. 여기서 원하는 농도는 2.0ppm에서 5.0ppm까지의 농도로 되면 되지만, 이 범위의 농도에 한정되지 않는다(도7(B)도 참조).

의료기구수용부(80)의 이산화염소가스 농도가 제1차 처리수단에 의해 원하는 농도로 되고나서, 제1차 처리수단의 통기구(88)이 폐쇄되고, 이산화염소가스 처리수단과 의료기구수용부의 통기구(91)이 개방되고, 습윤상태가 된 스틸울(92)에 자외선 조사수단(93)에 의해 자외선이 조사된 상태에서, 저농도가 된 이산화염소가스가 도7(C)도에 나타낸 화살표와 같이 순환되어 접촉되어, 이산화염소가스의 농도가 저하된다(도7(C)도 참조).

의료기구수용부(80)의 크기에 따라 이산화염소가스 발생수단(81)의 처리시간, 제1차 처리수단(82)의 처리 시간, 이산화염소가스 처리구조(83)의 각각의 처리시간을 결정해 타이머제어에 의해 각각을 작동시켜도 되고, 멸균장치의 의료기구수용부(80)에 도에서는 생략한 이산화염소가스 농도검지수단을 설치해, 그 검지결과에 따라 이산화염소가스 발생수단(81), 제1차 처리수단(82), 이산화염소가스 처리구조(83)을 순서대로 작동시켜도 된다. 또한 자외선 조사수단의 출력, 활성탄필터의 용량, 스틸울의 질량은 적절히 선택하면 된다.

(기타)

상기 실시예에서는 구체적인 치수, 출력, 위치를 나타내어 설명했지만 이에 한정되지 않고 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 변경이 되어도 되는 것은 물론이다.

상기 실시예에서는 안정화 이산화염소에 의해 이산화염소가스를 발생시켰지만, 이에 한정되지 않는다.

이번에 개시된 실시의 형태는 모든 점에서 예시이며, 제한적인 것이 아니라고 생각해야 한다. 본 발명의 기술적 범위는 상기한 설명에 한정되지 않고 특허청구범위와 균등한 의미 및 범위 내의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.

100, 200, 300 이산화염소가스 처리장치
400 멸균장치 10 제1차 처리수단
20 이산화염소가스 처리구조 30 도입공기
40 중간처리공기 50 방출공기
11 활성탄필터 12 용기
13 팬 14 화살표
15 검출흡인구 16 이산화염소가스용 검지관
21 스틸울 22 용기
23 팬 24 자외선 조사수단
25 화살표 26 물팔레트
27 농도검지위치 28 알루미늄박
60 제1차 처리수단 61 스틸울
62 용기 63 팬
64 자외선 조사수단 70 용기
71 제1차 처리수단 72 이산화염소가스 처리구조
80 의료기구수용부 81 이산화염소가스 발생수단
82 제1차 처리수단 83 이산화염소가스 처리구조
84 통기구 85 안정화 이산화염소수
86 자외선 조사수단 87 팬
88 통기구 89 팬
90 활성화필터 91 통기구
92 스틸울

Claims

이산화염소가스를 포함한 피처리 공기 중의 이산화염소가스를 저감시키는 이산화염소가스 처리구조에 있어서,
상기 피처리 공기가 순환되는 공간과 기류발생수단과 접촉층과 자외선조사수단을 갖추고,
상기 접촉층이 철제 세선을 솜모양으로 뭉친 스틸울에 물을 적신 접촉층이며,
상기 기류발생수단이 상기 공간 내에서 피처리 공기를 순환시키고,
상기 자외선 조사수단이 상기 피처리 공기의 순환경로에 있어 상기 접촉층에 자외선을 조사시킨 상태로,
상기 피처리 공기가 상기 접촉층에 되풀이해 접촉되는 것을 특징으로 하는 이산화염소가스 처리구조.
제1항에 있어서,
상기 세선의 직경이 0.02mm에서 0.04mm인 것을 특징으로 하는 이산화염소가스 처리구조.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 자외선 조사수단에서 나온 자외선이 조사되는 상기 공간의 내면에 자외선 반사면을 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 이산화염소가스 처리구조.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 스틸울에 상기 물을 적시는 습윤수단을 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 이산화염소가스 처리구조.
이산화염소가스에 의한 공기정화 후의 피처리 공기 중에 포함되어 있는 이산화염소가스를 저감시키는 이산화염소가스 처리장치에 있어,
상기 이산화염소가스를 원하는 농도로 저하시키는 제1차 처리수단과,
청구항1 또는 청구항2 중 어느 한 항에 기재된 상기 이산화염소가스 처리구조를 포함하고,
제1차 처리수단이 제1 기류발생수단과 활성탄필터를 갖추고,
제1 기류발생수단에 의해 상기 피처리 공기 중의 이산화염소가스를 상기 활성탄필터에 흡착시키는 제1차 처리를 행하고나서 상기 제1차 처리후의 피처리 공기중에 포함되어 있는 이산화염소가스를 상기 이산화염소가스 처리구조에 의해 저감시키는 것을 특징으로 하는 이산화염소가스 처리장치.
이산화염소가스에 의한 공기정화 후의 피처리 공기 중에 포함되어 있는 이산화염소가스를 저감시키는 이산화염소가스 처리장치에 있어,
상기 이산화염소가스를 원하는 농도로 저하시키는 제1차 처리수단과,
청구항1 또는 청구항2의 어느 한 항에 기재된 상기 이산화염소가스 처리구조를 포함하고,
제1차 처리수단이 제1 기류발생수단과 자외선 조사수단과 철제 세선을 솜모양으로 뭉친 스틸울을 접촉층으로서 갖추고,
상기 자외선 조사수단에 의해 자외선을 상기 접촉층에 조사시킨 상태에서,
상기 제1 기류발생수단에 의해 상기 피처리 공기 중의 이산화염소가스를 상기 접촉층에 순환시켜 접촉시키는 제1차 처리를 행한 후에, 제1차 처리 후의 피처리 공기 중에 포함되어 있는 이산화염소가스를 상기 이산화염소가스 처리구조에 의해 저감시키는 것을 특징으로 하는 이산화염소가스 처리장치.
의료용기기를 이산화염소가스에 접촉시켜 멸균처리하는 멸균장치에 있어서,
청구항1 또는 청구항2의 어느 한 항에 기재된 상기 이산화염소가스 처리구조를 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 멸균장치.
공기정화장치가 설치된 닫힌 환경 내에 이산화염소가스를 도입하여, 상기 환경 내에 있는 물건에 상기 이산화염소가스를 접촉시켜 정화처리하는 환경정화장치에 있어서,
청구항1 또는 청구항2 중 어느 한 항에 기재된 상기의 이산화염소가스 처리구조를 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 환경정화장치.
제3항에 있어서,
상기 스틸울에 상기 물을 적시는 습윤수단을 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 이산화염소가스 처리구조.