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KR101012452B1 - Light guide plate side serration pattern manufacturing system using laser - Google Patents

Light guide plate side serration pattern manufacturing system using laser Download PDF

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KR101012452B1
KR101012452B1 KR1020100077936A KR20100077936A KR101012452B1 KR 101012452 B1 KR101012452 B1 KR 101012452B1 KR 1020100077936 A KR1020100077936 A KR 1020100077936A KR 20100077936 A KR20100077936 A KR 20100077936A KR 101012452 B1 KR101012452 B1 KR 101012452B1
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KR
South Korea
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light guide
guide plate
support
pattern processing
unit
Prior art date
Application number
KR1020100077936A
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Korean (ko)
Inventor
이남경
이성환
강효진
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(주)바오스
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Abstract

PURPOSE: A light guide plate side serration pattern processing system using the laser is provided to improve the processing yield. CONSTITUTION: A light guide plate support(200) is arranged to be moving in straight on a table(100). While the pattern processing is implemented, a position of a plurality of light guide plates(A) is fixed. A light guide plate position setting unit(300) aligns the pattern processing position of the plurality of light guide plates.

Description

레이져를 이용한 도광판 측면 세레이션 패턴 가공 시스템{LIGHT GUIDE PLATE SIDE SERRATION PATTERN MANUFACTURING SYSTEM USING LASER}LIGHT GUIDE PLATE SIDE SERRATION PATTERN MANUFACTURING SYSTEM USING LASER}

본 발명은 도광판 패턴 가공장치에 관한 것으로, 구체적으로는 레이져를 이용하여 도광판의 측면에 세레이션 패턴을 가공하는 도광판 패턴 가공시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a light guide plate pattern processing apparatus, and more particularly, to a light guide plate pattern processing system for processing a serration pattern on a side surface of a light guide plate using a laser.

디스플레이장치는 핸드폰의 액정, TV화면, 컴퓨터의 모니터 등의 형태로 정보통신시대 영상장치 중 핵심적인 위치를 차지하고 있다. The display device occupies a key position among the video devices of the information and communication era in the form of a liquid crystal of a mobile phone, a TV screen, a computer monitor.

디스플레이장치는 브라운관을 시작으로 기술의 발전에 따라 LCD, OLED 등과 같은 형태의 평판 디스플레이 형태로 진화하고 있다. Display devices are evolving into flat panel displays, such as LCDs and OLEDs, with the development of technology, starting with CRTs.

LCD는 액정의 특정한 분자배열에 전압을 인가하여 분자배열을 변환시키고, 분자배열에 의해 발광하는 액정셀의 광학적 성질의 변화를 시각변화로 변환하는 액정셀에 의한 빛의 변조를 이용한 디스플레이 장치이다. An LCD is a display device using a modulation of light by a liquid crystal cell that converts a molecular array by applying a voltage to a specific molecular array of the liquid crystal and converts a change in optical properties of the liquid crystal cell that emits light by the molecular array into a visual change.

여기서, LCD에 사용되는 액정은 스스로 발광하지 못하는 수광소자이므로 액정을 발광시키기 위한 별도의 광원이 요구된다. 액정표시장치에 사용되는 광원은 선광원인 냉음극 형광램프(CCFL)가 사용되었으나 냉음극 형광램프(CCFL)은 화면이 커질수록 가격이 비싸지는 단점이 있어 최근 점광원인 LED로 변화되고 있다. LED는 가격은 비싸지만 높은 수명, 뛰어난 색 재현성, 저전력 소모, 친환경제품이라는 장점으로 그 사용이 급속하게 증가하고 있다. Here, since the liquid crystal used in the LCD is a light receiving element that does not emit light by itself, a separate light source for emitting the liquid crystal is required. As the light source used in the liquid crystal display device, a cold cathode fluorescent lamp (CCFL), which is a linear light source, is used, but the cold cathode fluorescent lamp (CCFL) has a disadvantage that the price increases as the screen is enlarged. LEDs are expensive, but their use is rapidly increasing due to their long life, excellent color reproducibility, low power consumption and eco-friendly products.

한편, LCD는 디스플레이 전면의 휘도 분포를 균일하게 하기 위해 도광판이 사용된다. 도광판은 광원에서 입사된 선광원 또는 점광원을 면광원으로 변경한다. 광원으로부터 도광판 내부로 유입된 광은 반사, 전반사, 굴절, 투과 등의 광학적 과정의 반복으로 불균일한 광분포를 가지는데, 이를 균일한 밝기로 유도하고 광손실을 줄이기 위해 2차원적인 광분산 패턴을 이용하여 면광원을 형성한다.On the other hand, an LCD uses a light guide plate to uniform the luminance distribution on the front of the display. The light guide plate changes a line light source or a point light source incident from a light source into a surface light source. The light flowing from the light source into the light guide plate has a non-uniform light distribution by repeating optical processes such as reflection, total reflection, refraction, and transmission, and induces it to uniform brightness and reduces light loss by using two-dimensional light dispersion pattern. To form a surface light source.

한편, 점광원 형태인 LED로 변화되면서, 기존 CCFL, EEFL 등을 사용하는 선 광원의 경우와 대비하여, 점광원 사이의 암부 및 Hot spot에 의해 외관상의 문제가 제기되어, 제품상 휘도 마진이 있음에도 불구하고, 점 광원 사이의 품질적인 문제를 해결하지 못하고 있는 실정이다.On the other hand, as it is changed to LED in the form of a point light source, in contrast to the case of the line light source using the CCFL, EEFL, etc., the appearance problem is raised by the dark part and hot spot between the point light sources, Nevertheless, there is a situation that does not solve the quality problem between the point light source.

또한, LED 성능 향상 및 저가격 정책에 의한 LED 소자 축소로 상기와 같은 문제점은 더욱 더 부각될 것이며, 이에 대한 대안이 절실히 요구되고 있는 실정이다.In addition, the above problems will be more and more highlighted due to LED performance improvement and reduction of LED devices due to low price policies, and an alternative to this situation is urgently required.

이러한 문제를 개선시키고 백라이트 전체의 외관 품질을 향상시키기 위해, 도광판의 입광부 측면에 세레이션 패턴을 형성하는 방법이 사용되고 있다. . In order to improve this problem and improve the appearance quality of the entire backlight, a method of forming a serration pattern on the light incident part side of the light guide plate is used. .

종래에 측면 세레이션 패턴을 가공하기 위해서는 사출코어를 이용하여 도광판을 사출성형하여 제조하거나 레이져를 이용하여 가공하였다. Conventionally, in order to process the side serration pattern, the light guide plate is manufactured by injection molding using an injection core, or processed using a laser.

그런데, 사출성형을 통해 측면 세레이션 패턴이 형성된 도광판을 제조하기 위해서는 한 개씩 개별적으로 제조가 이루어지므로 제품 수율이 낮아 생산성이 저하되는 단점이 있었다. However, in order to manufacture the light guide plate on which the side serration pattern is formed through injection molding, since the production is performed one by one, there is a disadvantage in that productivity is lowered due to low product yield.

또한, 종래 레이져를 이용하여 측면 세레이션 패턴을 가공하는 방법은 한국특허출원번호 10-2007-0016203에 개시된 바와 같이 도광판이 수용되는 이동 조립체가 테이블 상을 이동하며 세레이션 패턴이 형성되고 있다. 그런데, 개시된 방법에 의할 경우 도광판이 수용된 이동 조립체가 좌우로 이동하면서 레이져 가공이 이루어지므로 이동시 발생되는 진동에 의해 가공오차가 발생될 소지가 있다. 이 경우 가공의 신뢰성이 떨어지는 문제가 있다. In addition, in the conventional method of processing the side serration pattern using a laser, as described in Korean Patent Application No. 10-2007-0016203, a moving assembly in which a light guide plate is accommodated moves on a table and a serration pattern is formed. However, according to the disclosed method, since the laser assembly is performed while the mobile assembly accommodating the light guide plate moves left and right, processing errors may occur due to vibration generated during the movement. In this case, there is a problem of inferior processing reliability.

또한, 도광판의 크기가 점차 대형화됨에 따라 가공을 위해 도광판을 안정적으로 이동시킬 수 있는 가공시스템이 요구되고 있다.
In addition, as the size of the light guide plate is gradually increased, a processing system capable of stably moving the light guide plate for processing is required.

본 발명의 목적은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 복수개의 도광판을 고정시킨 상태로 레이져를 이용하여 한번에 측면 세레이션 패턴을 형성할 수 있는 패턴 가공 시스템를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to solve the above-described problems, to provide a pattern processing system capable of forming a side serration pattern at a time using a laser in a state in which a plurality of light guide plates are fixed.

또한, 본 발명의 다른 목적은 레이져의 위치를 조절하여 도광판의 다양한 사이즈에 간편하게 대응하여 측면 세레이션 패턴을 형성할 수 있는 패턴 가공 시스템을 제공하는 것이다. In addition, another object of the present invention is to provide a pattern processing system that can form the side serration pattern by simply adjusting the position of the laser to correspond to various sizes of the light guide plate.

또한, 본 발명의 다른 목적은 도광판의 크기가 대형화되더라도 안정적으로 이동시키고, 위치를 고정시켜 측면 세레이션 패턴을 가공하여 가공의 신뢰성을 높일 수 있는 패턴 가공 시스템을 제공하는 것이다.
In addition, another object of the present invention is to provide a pattern processing system that can increase the reliability of the process by processing the side serration pattern by stably moving and fixing the position even if the size of the light guide plate is enlarged.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 도광판 패턴 가공시스템에 관한 것이다. 본 발명의 도광판 패턴 가공시스템은, 테이블과; 상기 테이블에 직선이동가능하게 구비되며 패턴가공 동안 복수개의 도광판 위치가 고정되도록 도광판을 지지하는 도광판 지지대와; 복수개의 도광판의 패턴가공위치가 상호 정렬되도록 도광판 위치를 설정하는 도광판 위치설정부와; 레이져로 도광판 지지대에 지지된 복수개의 도광판에 패턴을 가공하는 패턴가공부와; 상기 도광판 지지대를 상기 패턴가공부로 직선 이동시키는 지지대이송부를 포함하는 것을 특징으로 한다. One aspect of the present invention for achieving the above technical problem relates to a light guide plate pattern processing system. The light guide plate pattern processing system of this invention is a table; A light guide plate support provided on the table to support the light guide plate so that a plurality of light guide plate positions are fixed during pattern processing; A light guide plate positioner for setting the light guide plate position such that the pattern processing positions of the plurality of light guide plates are mutually aligned; A pattern processing unit for processing a pattern on the plurality of light guide plates supported by the light guide plate support with a laser; It characterized in that it comprises a support for transferring the light guide plate support linearly moving to the pattern processing portion.

일 실시예에 따르면, 상기 도광판 지지대는, 상기 지지대이송부를 따라 직선이동가능하게 구비되며 상면에 복수개의 도광판이 적재되는 지지베이스와; 상기 지지베이스의 상부영역에 결합된 지지프레임과; 상기 지지베이스와 상기 지지프레임 사이에 구비되어 상기 복수개의 도광판의 상하를 가압하여 상호 밀착시키는 상하가압판과; 상기 지지베이스의 상부영역에 구비되어 상기 복수개의 도광판의 적재방향을 회전시키는 회전판과; 상기 지지프레임의 상부영역에 구비되어 상기 패턴가공부에 의한 패턴가공시 발생되는 분진을 흡입하는 집진부를 포함한다.According to an embodiment, the light guide plate support includes: a support base provided with a linear movement along the support transfer part and having a plurality of light guide plates mounted on an upper surface thereof; A support frame coupled to an upper region of the support base; A vertical press plate provided between the support base and the support frame to press the upper and lower sides of the plurality of light guide plates to closely contact each other; A rotating plate provided in an upper region of the support base to rotate a loading direction of the plurality of light guide plates; It is provided in the upper region of the support frame includes a dust collecting portion for sucking the dust generated during the pattern processing by the pattern processing unit.

일 실시예에 따르면, 상기 도광판 위치설정부는, 상기 테이블의 일측에 구비되며 상기 복수개의 도광판의 모서리영역에 밀착되어 복수개의 도광판의 위치를 정렬시키는 "ㄱ"자 형상의 위치설정프레임과; 상기 위치설정프레임의 위치를 이동시켜 상기 복수개의 도광판과 밀착시키는 프레임이동부를 포함한다. According to one embodiment, the light guide plate positioning unit includes a "a" shaped positioning frame provided at one side of the table and in close contact with edge regions of the plurality of light guide plates to align positions of the plurality of light guide plates; And a frame moving part which moves the position of the positioning frame to closely contact the plurality of light guide plates.

일 실시예에 따르면, 상기 패턴가공부는, 가공프레임과; 레이져를 발진시켜 도광판 표면에 패턴을 가공하는 레이져발진부와; 상기 레이져발진부의 상하 위치를 이동시켜 포커스를 조절하는 포커스설정부를 포함하며, 상기 레이져발진부는 상하로 이동가능하게 구비되어 상기 도광판 표면에 연속적인 패턴을 형성한다. According to one embodiment, the pattern processing unit, the processing frame; A laser oscillation unit for oscillating the laser to process a pattern on the light guide plate surface; And a focus setter configured to adjust focus by moving up and down positions of the laser oscillator, wherein the laser oscillator is movable up and down to form a continuous pattern on the light guide plate surface.

일 실시예에 따르면, 상기 지지대이송부는, 상기 지지베이스의 하부영역에 요홈결합되어 상기 지지베이스의 이동을 안내하는 가이드레일과; 상기 가이드레일을 따라 상기 지지베이스가 이동하도록 구동력을 발생시키는 레일구동부를 포함한다. According to one embodiment, the support transfer portion, the guide rail is grooved to the lower region of the support base to guide the movement of the support base; It includes a rail driving unit for generating a driving force to move the support base along the guide rail.

일 실시예에 따르면, 상기 복수개의 도광판을 상기 지지베이스로 이동시키는 이동대차를 더 포함하고, 상기 이동대차는, 바퀴에 의해 이동되는 대차본체와; 도광판이 적재되는 플로팅부와; 상기 대차본체와 상기 플로팅부 사이에 구비되어 상기 플로팅부의 높이가 상기 지지베이스의 높이에 대응되도록 높이를 조절하는 높이조절부를 포함한다.
According to one embodiment, further comprising a moving cart for moving the plurality of light guide plates to the support base, the moving cart comprises: a bogie body moved by a wheel; A floating part on which the light guide plate is loaded; It is provided between the balance body and the floating portion includes a height adjusting unit for adjusting the height so that the height of the floating portion corresponds to the height of the support base.

본 발명에 따른 도광판 패턴 가공시스템은 도광판 지지대 상에 도광판의 위치는 고정된 상태로 패턴가공부가 상하로 이동하며 세레이션 패턴을 가공하기 때문에 보다 안정적이고 정밀하게 측면 세레이션 패턴을 가공할 수 있다. The light guide plate pattern processing system according to the present invention can process the side serration pattern more stably and precisely because the pattern processing unit moves up and down and processes the serration pattern while the position of the light guide plate is fixed on the light guide plate support.

또한, 복수개의 도광판이 함께 도광판 지지대에 고정된 상태로 가공이 이루어지므로 복수개의 도광판을 한번에 가공할 수 있다. 이에 따라 가공수율이 향상될 수 있다. In addition, since the plurality of light guide plates are processed together with the light guide plate support fixed thereto, the plurality of light guide plates may be processed at once. Accordingly, the processing yield can be improved.

그리고, 포커스설정부의 높이를 상하로 조절하여 포커스를 조정하므로 서로 다른 사이즈의 도광판에도 호환하여 간편하게 세레이션 패턴을 가공할 수 있다. In addition, since the focus is adjusted by adjusting the height of the focus setting part up and down, the serration pattern can be easily processed by being compatible with light guide plates of different sizes.

또한, 레이져 가공시 발생하는 분진을 즉석에서 흡입하여 제거하므로 레이져발진부의 렌즈가 항상 청결하게 유지될 수 있다. In addition, since the dust generated during the laser processing is sucked out and removed immediately, the lens of the laser oscillator can be kept clean at all times.

또한, 이동대차가 도광판을 이동시키므로 크기가 큰 도광판도 안정적으로 이동시킬 수 있어 작업자의 운반에 따른 위험부담을 줄일 수 있다.
In addition, since the moving cart moves the light guide plate, it is possible to stably move the large light guide plate, thereby reducing the risk of carrying the worker.

도 1은 본 발명의 도광판 패턴 가공시스템의 구성을 도시한 개략도이고,
도 2와 도3은 본 발명의 도광판 패턴 가공시스템의 지지베이스의 구성을 도시한 개략도이고,
도 4와 도5는 본 발명의 도광판 패턴 가공시스템의 패턴가공부의 구성을 도시한 개략도이고,
도 6은 본 발명의 도광판 패턴 가공시스템의 이동대차의 구성을 도시한 개략도이고,
도 7은 본 발명의 도광판 패턴 가공시스템으로 가공가능한 다양한 측면 세레이션패턴의 형상을 도시한 예시도들이다.
1 is a schematic view showing the configuration of a light guide plate pattern processing system of the present invention,
2 and 3 are schematic views showing the configuration of the support base of the light guide plate pattern processing system of the present invention,
4 and 5 are schematic views showing the configuration of the pattern processing portion of the light guide plate pattern processing system of the present invention,
6 is a schematic view showing the configuration of a mobile truck of the light guide plate pattern processing system of the present invention;
7 is an exemplary view illustrating the shape of various side serration patterns that can be processed by the light guide plate pattern processing system of the present invention.

본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.
In order to fully understand the present invention, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Embodiment of the present invention may be modified in various forms, the scope of the invention should not be construed as limited to the embodiments described in detail below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shape of the elements in the drawings and the like may be exaggerated to emphasize a more clear description. It should be noted that the same members in each drawing are sometimes shown with the same reference numerals. Detailed descriptions of well-known functions and configurations that are determined to unnecessarily obscure the subject matter of the present invention are omitted.

도1은 본 발명에 따른 도광판 패턴 가공시스템(1)의 전체 구성을 개략적으로 도시한 개략도이고, 도2와 도3은 본 발명의 도광판 지지대(200)와 도광판 위치설정부(300)의 구성을 도시한 개략도이다.Figure 1 is a schematic diagram showing the overall configuration of a light guide plate pattern processing system 1 according to the present invention, Figures 2 and 3 is a configuration of the light guide plate support 200 and the light guide plate positioning unit 300 of the present invention It is a schematic diagram shown.

도시된 바와 같이 본 발명에 따른 도광판 패턴가공시스템(1)은 테이블(100)과, 테이블(100)에 직선이동가능하게 구비되며 패턴가공이 진행되는 동안 복수개의 도광판(A) 위치가 고정되도록 도광판(A)을 안정적으로 지지하는 도광판 지지대(200)와, 복수개의 도광판(A)의 패턴가공위치가 상호 정렬되도록 도광판 위치를 설정하는 도광판 위치설정부(300)와, 레이져로 도광판 지지대(200)에 지지된 복수개의 도광판에 측면 세레이션 패턴(a)을 가공하는 패턴가공부(400)와, 도광판 지지대(200)를 패턴가공부(400)로 직선 이동시키는 지지대이송부(500)와, 도광판(A)을 도광판 지지대(200)로 이동시키는 이동대차(600)를 포함한다.
As shown, the light guide plate pattern processing system 1 according to the present invention is provided with a table 100 and a linearly movable member on the table 100 so that the light guide plate A positions are fixed while the pattern processing is in progress. The light guide plate support 200 for stably supporting (A), the light guide plate positioner 300 for setting the light guide plate position so that the pattern processing positions of the plurality of light guide plates A are mutually aligned, and the light guide plate support 200 with a laser. A pattern processing unit 400 for processing the side serration pattern a on the plurality of light guide plates supported on the support plate, a support transfer unit 500 for linearly moving the light guide plate support 200 to the pattern processing unit 400, and the light guide plate A; It includes a moving cart 600 to move the light guide plate support 200.

여기서, 본 발명에 따른 도광판 패턴가공시스템(1)은 복수개의 도광판(A)이 한번에 이동 및 가공된다. 이를 위해 복수개의 도광판이 서로 적층된 상태로 이동된다. 작업자는 복수개의 도광판을 더미형태로 이동대차(600)에 적재하고, 더미형태로 도광판 지지대(200)에 적재된다.
Here, in the light guide plate pattern processing system 1 according to the present invention, a plurality of light guide plates A are moved and processed at once. To this end, the plurality of light guide plates are moved in a state of being stacked on each other. The worker loads the plurality of light guide plates in the dummy on the mobile trolley 600, and is loaded in the dummy light guide on the light guide plate support 200.

테이블(100)은 패턴가공이 안정적으로 진행되도록 각 구성의 위치를 지지한다. 테이블(100)은 지지대이송부(500)의 양측으로 구비되며, 도광판 위치설정부(300)와 패턴가공부(400)의 위치를 고정한다.
The table 100 supports the position of each component so that pattern processing can proceed stably. The table 100 is provided at both sides of the support transfer unit 500, and fixes the positions of the light guide plate positioning unit 300 and the pattern processing unit 400.

도광판 지지대(200)는 이동대차(600)를 통해 이동된 도광판(A)을 패턴가공이 진행되는 동안 위치를 고정시킨다. 도광판 지지대(200)는 이동대차(600)로부터 도광판(A)을 인수받는 인수위치와, 패턴가공부(400)에서 가공이 수행되는 가공위치 간을 지지대이송부(500)를 통해 직선이동가능하게 구비된다. 이 때, 복수개의 도광판은 도광판 지지대(200) 상에 위치가 고정된 상태로 이동되므로 위치 변동이 없어 정확하게 패턴이 가공될 수 있다. The light guide plate support 200 fixes the position of the light guide plate A moved through the moving cart 600 during pattern processing. The light guide plate support 200 is provided to be capable of linearly moving between the receiving position receiving the light guide plate A from the moving cart 600 and the processing position where the processing is performed in the pattern processing unit 400 through the support transfer unit 500. . In this case, since the plurality of light guide plates are moved in a fixed state on the light guide plate support 200, there is no change in position so that the pattern may be processed accurately.

도광판 지지대(200)는 지지대이송부(500) 상에 이동가능하게 구비되는 지지베이스(210)와, 지지베이스(210)의 상부영역에 결합되는 지지프레임(220)과, 지지베이스(210) 상에 적재된 복수개의 도광판(A)의 상하면을 가압하여 위치를 고정하는 하부가압판(230) 및 상부가압판(240)과, 지지베이스(210)에 적재된 도광판(A)의 방향을 변경시키는 회전판(250)과, 지지프레임(220)에 결합되어 패턴가공부(400)의 가공시 도광판(A) 표면으로부터 발생되는 분진을 집진하는 집진부(260)를 포함한다. The light guide plate support 200 includes a support base 210 that is movable on the support transfer part 500, a support frame 220 coupled to an upper region of the support base 210, and a support base 210. The lower pressure plate 230 and the upper pressure plate 240 for fixing the position by pressing the upper and lower surfaces of the plurality of light guide plates A and the rotating plate 250 for changing the directions of the light guide plate A loaded on the support base 210. And a dust collecting part 260 coupled to the support frame 220 to collect dust generated from the surface of the light guide plate A when the pattern processing part 400 is processed.

지지베이스(210)는 도2와 도3에 도시된 바와 같이 일정 면적을 갖는 판상 재질로 구비되며 상면에 복수개의 도광판(A)이 적재된다. 지지베이스(210)의 하단면에는 상방향으로 레일결합홈(211)이 형성된다. 레일결합홈(211)은 지지대이송부(500)의 가이드레일(510)과 결합되고, 지지베이스(210)는 레일구동부(520)의 구동력에 의해 패턴가공부(400)로 직선이동된다. As shown in FIGS. 2 and 3, the support base 210 is formed of a plate-like material having a predetermined area, and a plurality of light guide plates A are mounted on an upper surface thereof. Rail coupling groove 211 is formed in the lower surface of the support base 210 in the upward direction. The rail coupling groove 211 is coupled to the guide rail 510 of the support transfer part 500, and the support base 210 is linearly moved to the pattern processing part 400 by the driving force of the rail driving part 520.

지지프레임(220)은 지지베이스(210) 상에 기립되게 형성되어 복수개의 도광판(A)의 위치가 고정되도록 지지한다. 지지프레임(220)에 상부가압판(240)이 승강가능하게 결합되어 복수개의 도광판(A)을 가압할 수 있다. 또한, 지지프레임(220)에 집진부(260)가 결합되어 도광판(A)에서 발생된 분진을 흡입할 수 있다. The support frame 220 is formed to stand on the support base 210 to support the positions of the plurality of light guide plates A to be fixed. The upper pressing plate 240 is coupled to the support frame 220 to be liftable to press the plurality of light guide plates A. In addition, the dust collecting part 260 is coupled to the support frame 220 to suck dust generated from the light guide plate A.

하부가압판(230)과 상부가압판(240)은 이동대차(600)로부터 지지베이스(210)로 이동된 복수개의 도광판(A)의 상면과 하면을 가압하여 위치를 고정시킨다. 하부가압판(230)과 상부가압판(240)은 유압공급부(270)의 작동유체의 공급여부에 따라 승강하는 승강실린더(231,241, 도4 참조)에 의해 위치가 조절된다. 하부가압판(230)과 상부가압판(240)은 복수개의 도광판(A)의 상면과 하면을 가압하여 상호 밀착시키고 위치를 고정하여 패턴가공의 정밀성을 높일 수 있다. The lower pressing plate 230 and the upper pressing plate 240 press the upper and lower surfaces of the plurality of light guide plates A moved from the moving cart 600 to the support base 210 to fix the position. The lower pressurizing plate 230 and the upper pressurizing plate 240 are adjusted by the lifting cylinders 231 and 241 (see FIG. 4) which are lifted according to whether the hydraulic fluid of the hydraulic supply unit 270 is supplied. The lower pressurizing plate 230 and the upper pressurizing plate 240 may press the upper and lower surfaces of the plurality of light guide plates A to closely contact each other and fix the position to increase the precision of pattern processing.

회전판(250)은 지지베이스(210)의 상면에 회전가능하게 구비된다. 회전판(250)은 상면에 적재된 도광판(A)의 세레이션 패턴이 가공될 가공면이 패턴가공부(400)를 향하도록 적재방향을 회전시킨다. 회전판(250)은 모터와 같은 회전구동부(255)에 의해 구동력을 전달받아 회전된다. The rotating plate 250 is rotatably provided on the upper surface of the support base 210. The rotating plate 250 rotates the loading direction so that the processing surface on which the serration pattern of the light guide plate A loaded on the upper surface is to be processed faces the pattern processing unit 400. The rotating plate 250 is rotated by receiving a driving force by the rotation driving unit 255 such as a motor.

집진부(260)는 지지프레임(220)의 상부영역에 구비되어 도광판 패턴 가공시 발생되는 분진을 흡입한다. 집진부(260)는 도광판(A)의 가공면을 향해 형성된 복수개의 집진헤드(261)와, 집진헤드(261)와 연결되어 흡입력을 발생시키는 흡입펌프(263)를 포함한다. 집진부(260)는 패턴가공부(400)에서 생성된 레이져에 의해 도광판(A) 표면이 가공되면, 흡입력을 발생시켜 집진헤드(261)를 통해 분진을 흡입한다. 이에 의해 가공환경이 항상 청결히 유지될 수 있다.
The dust collector 260 is provided in the upper region of the support frame 220 to suck in dust generated during light guide plate pattern processing. The dust collecting unit 260 includes a plurality of dust collection heads 261 formed toward the processing surface of the light guide plate A, and a suction pump 263 connected to the dust collection head 261 to generate suction force. When the surface of the light guide plate A is processed by the laser generated by the pattern processing unit 400, the dust collector 260 generates a suction force and sucks dust through the dust collection head 261. This allows the processing environment to be kept clean at all times.

도광판 위치설정부(300)는 이동대차(600)로부터 도광판 지지대(200)로 이송된 복수개의 도광판(A)의 위치를 정렬한다. 도광판 위치설정부(300)는 도광판(A)의 모서리와 접촉되게 구비되는 위치설정프레임(310)과, 위치설정프레임(310)의 위치를 이동시켜 도광판(A)과 접촉시키는 프레임이동부(320)를 포함한다. The light guide plate positioning unit 300 aligns positions of the plurality of light guide plates A transferred from the moving cart 600 to the light guide plate support 200. The light guide plate positioning unit 300 includes a positioning frame 310 provided to be in contact with the edge of the light guide plate A, and a frame moving part 320 for moving the position of the positioning frame 310 to contact the light guide plate A. ).

도광판 위치설정부(300)는 도광판 지지대(200) 상에 위치가 정렬되지 않은 더미상태로 이송된 복수개의 도광판(A)의 모서리 영역를 가압하여 위치가 정렬되도록 한다. 이에 의해 패턴가공면이 평탄화될 수 있다. The light guide plate positioning unit 300 presses edge regions of the plurality of light guide plates A, which are transferred in a dummy state in which positions are not aligned, on the light guide plate support 200 so that the positions are aligned. As a result, the pattern processing surface may be flattened.

프레임이동부(320)는 위치설정프레임(310)의 위치를 테이블(100)에 대해 전후좌우로 이동시켜 복수개의 도광판(A)의 위치를 정렬함과 동시에 밀착시키는 효과를 나타낸다. The frame moving unit 320 moves the position of the positioning frame 310 back, front, left, and right with respect to the table 100, thereby aligning the positions of the plurality of light guide plates A, and bringing close contact with them.

프레임이동부(320)는 모터와 같은 구동원과, 구동원의 구동력을 위치설정프레임(310)으로 전달하는 기어와 같은 전동부재를 포함한다.
The frame moving part 320 includes a driving source such as a motor and a transmission member such as a gear for transmitting the driving force of the driving source to the positioning frame 310.

도4와 도5는 본 발명에 따른 도광판 패턴가공시스템(1)의 패턴가공부(400)의 구성을 개략적으로 도시한 개략도이다. 도시된 바와 같이 패턴가공부(400)는 테이블(100)에 고정결합된 가공프레임(410)과, 가공프레임(410) 상을 승강가능하게 결합된 포커스설정부(420)와, 포커스설정부(420)에 결합되어 도광판(A)을 향해 레이져를 발진시켜 패턴을 가공하는 레이져발진부(430)와, 포커스설정부(420)를 상하로 이동시켜 포커스를 조절하고, 도광판(A)에 연속되게 패턴이 형성되도록 하는 가공이송부(440)를 포함한다.   4 and 5 are schematic diagrams schematically showing the configuration of the pattern processing portion 400 of the light guide plate pattern processing system 1 according to the present invention. As illustrated, the pattern processing unit 400 includes a processing frame 410 fixedly coupled to the table 100, a focus setting unit 420 coupled to the lifting frame 410 to be elevated, and a focus setting unit 420. The laser oscillation unit 430 coupled to the light guide plate A and the laser oscillation unit 430 to process the pattern and the focus setting unit 420 are moved up and down to adjust the focus, and the pattern is continuously connected to the light guide plate A. It includes a processing transfer unit 440 to be formed.

가공프레임(410)은 테이블(100)에 결합되며 지지대이송부(500)를 통해 이송된 도광판 지지대(200)의 외곽영역을 커버하도록 구비된다. 포커스설정부(420)와 레이져발진부(430)는 가공프레임(410)의 양측면에 한 쌍이 구비되어 도광판(A)의 양측면을 동시에 가공할 수 있도록 마련된다. The processing frame 410 is coupled to the table 100 and provided to cover the outer region of the light guide plate support 200 transferred through the support transfer unit 500. The focus setter 420 and the laser oscillator 430 are provided on both sides of the processing frame 410 so that both sides of the light guide plate A can be simultaneously processed.

포커스설정부(420)는 상하로 위치이동이 가능하게 구비되어 도광판(A)의 크기에 따라 레이져발진부(430)의 포커스를 조절할 수 있도록 한다. The focus setting unit 420 may be moved up and down to adjust the focus of the laser oscillator 430 according to the size of the light guide plate A. FIG.

레이져발진부(430)는 상하로 승강되며 도광판(A)의 Z축 가공을 수행한다.The laser oscillator 430 is moved up and down and performs the Z axis processing of the light guide plate A. FIG.

가공이송부(440)는 레이져발진부(430)의 Y축 이동을 조절하여 가공패턴의 간격과 속도를 조절한다. Z축 이송속도와 Y축 이송속도를 함께 조절하여 패턴형상을 조절할 수 있다.
The processing transfer unit 440 adjusts the Y-axis movement of the laser oscillation unit 430 to adjust the spacing and speed of the processing pattern. The pattern shape can be controlled by adjusting the Z axis feed rate and Y axis feed speed together.

지지대이송부(500)는 도광판 지지대(200)가 인수위치와 가공위치 간을 이동하도록 구동력을 제공한다. 지지대이송부(500)는 도광판 지지대(200)가 패턴가공부(400)의 가공위치에 정확하게 위치하도록 위치이동을 제어한다.The support transfer unit 500 provides a driving force to move the light guide plate support 200 between the receiving position and the processing position. The support transfer unit 500 controls the position movement so that the light guide plate support 200 is accurately positioned at the processing position of the pattern processing unit 400.

지지대이송부(500)는 레일결합홈(211)에 결합되는 가이드레일(510)과, 가이드레일(510)을 따라 지지베이스(210)가 이송되도록 이송력을 제공하는 레일구동부(520)를 포함한다. The support transfer unit 500 includes a guide rail 510 coupled to the rail coupling groove 211, and a rail driving unit 520 providing a transfer force so that the support base 210 is transferred along the guide rail 510. .

레일구동부(520)는 가이드레일(510)과 지지베이스(210)가 LM 가이드 방식에 의해 이송되도록 하거나, 랙과 피니언 또는 구동벨트 또는 전동기어의 조합 등 공지된 다양한 이송방식에 의해 지지베이스(210)가 위치이동되도록 한다.
The rail driving unit 520 allows the guide rail 510 and the support base 210 to be transported by the LM guide method, or the support base 210 by various known transport methods such as a combination of a rack and a pinion or a driving belt or an electric gear. ) Is moved.

도6은 본 발명에 따른 도광판 패턴 가공시스템(1)의 이동대차(600)의 구성을 도시한 개략도이다. 6 is a schematic diagram showing the configuration of the moving trolley 600 of the light guide plate pattern processing system 1 according to the present invention.

도시된 바와 같이 이동대차(600)는 복수개의 도광판(A)을 도광판 지지대(200)로 이동시킨다. 본 발명에 따른 도광판 패턴 가공시스템(1)은 무게가 무거운 대형 도광판(A)도 간편하게 이동시킬 수 있도록 이동대차(600)를 사용한다. As shown in the drawing, the moving cart 600 moves the plurality of light guide plates A to the light guide plate support 200. The light guide plate pattern processing system 1 according to the present invention uses a moving cart 600 to easily move a large light guide plate A that is heavy.

이동대차(600)는 이동바퀴(611)에 의해 이동가능하게 구비되는 대차본체(610)와, 대차본체(610) 상부에 구비되어 상면에 도광판(A)이 적재되는 플로팅부(630)와, 대차본체(610)와 플로팅부(630) 사이에 구비되어 플로팅부(630)의 높이를 조절하는 높이조절부(620)를 포함한다. The mobile trolley 600 includes a trolley main body 610 provided to be movable by the moving wheel 611, a floating unit 630 provided on the trolley main body 610, and a light guide plate A mounted on an upper surface thereof. It is provided between the balance body 610 and the floating portion 630 includes a height adjusting unit 620 for adjusting the height of the floating portion 630.

높이조절부(620)는 플로팅부(630)의 높이를 도광판 지지대(200)의 높이에 대응되도록 조절한다. 작업자는 높이조절레버(621)를 가압하여 공압 또는 유압에 의해 높이를 조절한다. The height adjusting unit 620 adjusts the height of the floating unit 630 to correspond to the height of the light guide plate support 200. The operator presses the height adjustment lever 621 to adjust the height by pneumatic or hydraulic pressure.

플로팅부(630)는 상면에 복수개의 도광판(A)을 적재한다. 플로팅부(630)의 판면에는 도광판(A)의 하역을 용이하게 하도록 회전하는 플로팅볼(631)이 일정 간격으로 복수개가 구비된다. The floating unit 630 loads a plurality of light guide plates A on an upper surface thereof. On the plate surface of the floating part 630, a plurality of floating balls 631 are provided at a predetermined interval to rotate to facilitate the unloading of the light guide plate A.

이러한 구성을 갖는 본 발명에 따른 도광판 패턴 가공시스템(1)의 도광판 패턴 가공과정을 도1 내지 도7을 참조로 설명한다. The light guide plate pattern processing of the light guide plate pattern processing system 1 according to the present invention having such a configuration will be described with reference to FIGS. 1 to 7.

먼저, 작업자는 복수개의 도광판(A)을 이동대차(600)의 플로팅부(630) 상면에 적재한다. 그리고, 이동대차(600)를 이동시켜 테이블(100)의 측면에 위치시킨다. 높이조절레버(621)를 이용하여 플로팅부(630)의 높이가 도광판 지지대(200)의 높이와 같아지도록 조절한다. 작업자는 도광판(A)을 가압하여 도광판 지지대(200) 상면으로 이동시킨다. 이 때, 플로팅볼(631)에 의해 보다 수월하게 도광판(A)을 이동시킬 수 있다. First, the worker loads the plurality of light guide plates A on the upper surface of the floating part 630 of the moving cart 600. Then, the moving cart 600 is moved and positioned on the side of the table 100. The height of the floating unit 630 is adjusted to be equal to the height of the light guide plate support 200 using the height adjustment lever 621. The operator presses the light guide plate A and moves it to the upper surface of the light guide plate support 200. At this time, the light guide plate A can be moved more easily by the floating ball 631.

복수개의 도광판(A)이 더미형태로 지지베이스(210)로 이동되면, 작업자는 해머 등의 공구를 이용하여 복수개의 도광판(A)의 측면을 가압한다. 이에 의해 복수개의 도광판(A)의 측면위치가 정렬되면 프레임이동부(320)가 위치설정프레임(310)을 이동시켜 도광판(A)의 모서리를 가압한다. 이러한 과정에 의해 복수개의 도광판(A)의 가공면이 정확하게 일치되도록 평탄화작업이 완료되면 회전판(250)를 회전시켜 도광판(A)의 방향을 조절하고 상부가압판(240)과 하부가압판(230)을 승강시켜 도광판(A)의 상면과 하면을 가압한다. 이에 의해 복수개의 도광판(A)의 위치를 고정시킨다. When the plurality of light guide plates A are moved to the support base 210 in a dummy form, an operator presses the side surfaces of the plurality of light guide plates A using a tool such as a hammer. As a result, when the side positions of the plurality of light guide plates A are aligned, the frame moving unit 320 moves the positioning frame 310 to press the edges of the light guide plate A. When the flattening operation is completed to exactly match the processing surfaces of the plurality of light guide plates A by this process, the rotating plate 250 is rotated to adjust the direction of the light guide plate A, and the upper pressure plate 240 and the lower pressure plate 230 are moved. The upper and lower surfaces of the light guide plate A are pushed up and down to pressurize. As a result, the positions of the plurality of light guide plates A are fixed.

도광판 지지대(200)에 도광판(A)의 위치가 고정되면 레일구동부(520)를 구동시켜 가이드레일(510)을 따라 지지베이스(210)를 가공위치로 이동시킨다. 도광판 지지대(200)가 패턴가공부(400) 내부에 위치되면 포커스설정부(420)가 상하로 이동되어 세레이션 패턴(a) 형상에 맞도록 레이져발진부(430)의 포커스를 조절한다. When the position of the light guide plate A is fixed to the light guide plate support 200, the rail driving unit 520 is driven to move the support base 210 along the guide rail 510 to a machining position. When the light guide plate support 200 is positioned inside the pattern processing unit 400, the focus setting unit 420 is moved up and down to adjust the focus of the laser oscillator 430 to match the shape of the serration pattern a.

포커스 조절이 완료되면 레이져발진부(430)가 Z축을 따라 상하로 승강되며 레이져를 발진시키고 가공이송부(440)가 Y축을 따라 이동하며 피치간격을 조절하여 세레이션 패턴(a)을 가공한다. When the focus adjustment is completed, the laser oscillator 430 is moved up and down along the Z axis, the laser oscillates, and the processing transfer part 440 moves along the Y axis, and adjusts the pitch interval to process the serration pattern (a).

가공이 완료된 복수개의 도광판(A)은 도광판 지지대(200)로부터 분리된 후 이동대차(600)를 통해 이동된다.
After the processing is completed, the plurality of light guide plates A are separated from the light guide plate support 200 and then moved through the moving cart 600.

한편, 도7은 본 발명에 따른 도광판 패턴 가공시스템(1)에 의해 가공된 세레이션 패턴(a)의 다양한 형상을 도시한 예시도이다. On the other hand, Figure 7 is an exemplary diagram showing various shapes of the serration pattern (a) processed by the light guide plate pattern processing system 1 according to the present invention.

패턴가공부(400)는 측면 세레이션 패턴(a)의 가로/세로 종횡비에 따라 레이져부(400)의 이동속도와 이동위치를 조절하여 가공 폭과 깊이의 변화를 줄수 있다. 이에 의해 한 개의 도광판 패턴 가공시스템(1)를 이용하여 다양한 가공 패턴 및 형상을 가공할 수 있다. The pattern processing unit 400 may change the processing width and depth by adjusting the moving speed and the moving position of the laser unit 400 according to the horizontal / vertical aspect ratio of the side serration pattern (a). Thereby, various process patterns and shapes can be processed using one light guide plate pattern processing system 1.

측면 세레이션 패턴은 도광판이 적용되는 제품의 종류와 모델별 특성에 따라 선택적으로 가공될 수 있으며, 한 개의 도광판에 서로 다른 형상의 측면 세레이션 패턴을 복합적으로 가공할 수도 있다.
The side serration pattern may be selectively processed according to the type of the product to which the light guide plate is applied and the characteristics of each model, and the side serration pattern having different shapes may be combined into one light guide plate.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 도광판 패턴 가공시스템은 도광판 지지대 상에 도광판의 위치는 고정된 상태로 패턴가공부가 상하로 이동하며 세레이션 패턴을 가공하기 때문에 보다 안정적이고 정밀하게 측면 세레이션 패턴을 가공할 수 있다. As described above, the light guide plate pattern processing system according to the present invention moves the pattern processing part up and down while fixing the position of the light guide plate on the light guide plate support, and processes the serration pattern to more stably and precisely adjust the side serration pattern. I can process it.

또한, 복수개의 도광판이 함께 도광판 지지대에 고정된 상태로 가공이 이루어지므로 복수개의 도광판을 한번에 가공할 수 있다. 이에 따라 가공수율이 향상될 수 있다. In addition, since the plurality of light guide plates are processed together with the light guide plate support fixed thereto, the plurality of light guide plates may be processed at once. Accordingly, the processing yield can be improved.

그리고, 포커스설정부의 높이를 상하로 조절하여 포커스를 조정하므로 서로 다른 사이즈의 도광판에도 호환하여 간편하게 세레이션 패턴을 가공할 수 있다. In addition, since the focus is adjusted by adjusting the height of the focus setting part up and down, the serration pattern can be easily processed by being compatible with light guide plates of different sizes.

또한, 레이져 가공시 발생하는 분진을 즉석에서 흡입하여 제거하므로 레이져발진부의 렌즈가 항상 청결하게 유지될 수 있다. In addition, since the dust generated during the laser processing is sucked out and removed immediately, the lens of the laser oscillator can be kept clean at all times.

또한, 이동대차가 도광판을 이동하므로 크기가 큰 도광판도 안정적으로 이동시킬 수 있어 작업자의 위험부담을 줄일 수 있다.
In addition, since the moving cart moves the light guide plate, the large light guide plate can be stably moved, thereby reducing the risk of the worker.

이상에서 설명된 본 발명의 도광판 패턴 가공시스템의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그러므로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
The embodiment of the light guide plate pattern processing system of the present invention described above is merely exemplary, and it is well understood that various modifications and equivalent other embodiments are possible to those skilled in the art to which the present invention pertains. You will know. Therefore, it will be understood that the present invention is not limited to the forms mentioned in the above detailed description. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims. It is also to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

1 : 도광판 패턴 가공시스템 100 : 테이블
200 : 도광판 지지대 210 : 지지베이스
211 : 레일결합홈 220 : 지지프레임
230 : 하부가압판 231 : 하부가압실린더
240 : 상부가압판 241 : 상부가압실린더
250 : 회전판 255 : 회전구동부
260 : 집진부 261 : 집진헤드
263 : 흡입펌프 270 : 유압공급부
300 : 도광판 위치설정부 310 : 위치설정프레임
320 : 프레임이동부 400 : 패턴가공부
410 : 가공프레임 420 : 포커스설정부
430 : 레이져발진부 440 : 가공이송부
500 : 지지대이송부 510 : 가이드레일
520 : 레일구동부 600 : 도광판 이동대차
610 : 대차본체 611 : 이동바퀴
620 : 높이조절부 621 : 높이조절레버
630 : 플로팅부 631 : 플로팅볼
1: Light guide plate pattern processing system 100: Table
200: light guide plate support 210: support base
211: rail coupling groove 220: support frame
230: lower pressurizing plate 231: lower pressurizing cylinder
240: upper pressing plate 241: upper pressing cylinder
250: rotating plate 255: rotating drive unit
260: dust collector 261: dust collector head
263: suction pump 270: hydraulic supply
300: light guide plate positioning unit 310: positioning frame
320: frame moving part 400: pattern processing part
410: processing frame 420: focus setting unit
430: laser oscillation unit 440: processing transfer unit
500: support transfer unit 510: guide rail
520: rail driving unit 600: light guide plate moving cart
610: balance body 611: moving wheel
620: height adjustment unit 621: height adjustment lever
630: floating portion 631: floating ball

Claims (6)

도광판 패턴 가공시스템에 있어서,
테이블과;
상기 테이블에 직선이동가능하게 구비되며 패턴가공 동안 복수 개의 도광판 위치가 고정되도록 도광판을 지지하는 도광판 지지대와;
복수 개의 도광판의 패턴가공위치가 상호 정렬되도록 도광판 위치를 설정하는 도광판 위치설정부와;
레이져로 도광판 지지대에 지지된 복수 개의 도광판에 패턴을 가공하는 패턴가공부와;
상기 도광판 지지대를 상기 패턴가공부로 직선 이동시키는 지지대이송부를 포함하고,
상기 도광판 지지대는,
상기 지지대이송부를 따라 직선이동가능하게 구비되며, 상면에는 복수 개의 도광판이 적재되고 하단면에는 상방향으로 레일결합홈이 형성된 지지베이스와;
상기 지지베이스의 상부영역에 결합된 지지프레임과;
상기 지지베이스와 상기 지지프레임 사이에 구비되어 상기 복수개의 도광판의 상하를 가압하여 상호 밀착시키는 상하가압판과;
상기 지지베이스의 상부영역에 구비되어 상기 복수개의 도광판의 적재방향을 회전시키는 회전판을 포함하고,
상기 도광판 위치설정부는,
상기 테이블의 일측에 구비되며 상기 복수 개의 도광판의 모서리영역에 밀착되어 복수 개의 도광판의 위치를 정렬시키는 "ㄱ"자 형상의 위치설정프레임을 포함하고,
상기 패턴 가공부는,
레이져를 발진시켜 도광판 표면에 패턴을 가공하는 레이져발진부를 포함하고,
상기 지지대이송부는,
상기 지지베이스의 레일결합홈에 요홈결합되어 상기 지지베이스의 이동을 안내하는 가이드레일을 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 가공시스템.
In the light guide plate pattern processing system,
Table;
A light guide plate support provided on the table to support the light guide plate so that a plurality of light guide plate positions are fixed during pattern processing;
A light guide plate positioner configured to set the light guide plate position so that the pattern processing positions of the plurality of light guide plates are mutually aligned;
A pattern processing unit for processing a pattern on the plurality of light guide plates supported by the light guide plate support with a laser;
It includes a support for transferring the light guide plate support linearly moving to the pattern processing portion,
The light guide plate support,
A support base provided to be linearly movable along the support transfer unit, a plurality of light guide plates mounted on an upper surface thereof, and a rail coupling groove formed on an upper surface thereof;
A support frame coupled to an upper region of the support base;
A vertical press plate provided between the support base and the support frame to press the upper and lower sides of the plurality of light guide plates to closely contact each other;
A rotating plate provided in an upper region of the support base to rotate a loading direction of the plurality of light guide plates;
The light guide plate positioning unit,
It is provided on one side of the table and in close contact with the edge region of the plurality of light guide plate includes a "b" shaped positioning frame for aligning the position of the plurality of light guide plate,
The pattern processing portion,
It includes a laser oscillator for oscillating the laser to process the pattern on the light guide plate surface,
The support transfer unit,
Light guide plate pattern processing system comprising a guide rail which is grooved to the rail coupling groove of the support base to guide the movement of the support base.
제1항에 있어서,
상기 도광판 지지대는,
상기 지지프레임의 상부영역에 구비되어 상기 패턴가공부에 의한 패턴가공시 발생되는 분진을 흡입하는 집진부를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 가공시스템.
The method of claim 1,
The light guide plate support,
The light guide plate pattern processing system further comprises a dust collecting part provided in the upper region of the support frame to suck dust generated during the pattern processing by the pattern processing unit.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 도광판 위치설정부는,
상기 위치설정프레임의 위치를 이동시켜 상기 복수 개의 도광판과 밀착시키는 프레임이동부를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 가공시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The light guide plate positioning unit,
The light guide plate pattern processing system further comprises a frame moving unit for moving the position of the positioning frame in close contact with the plurality of light guide plates.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 패턴가공부는,
가공프레임과;
상기 레이져발진부의 상하 위치를 이동시켜 포커스를 조절하는 포커스설정부와;
상기 레이져발진부를 Y축 방향으로 이송시키는 가공이송부를 더욱 포함하며,
상기 레이져발진부는 상하의 Z축방향과 좌우의 Y축 방향으로 이동하며 상기 도광판 표면에 연속적인 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 가공시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The pattern processing unit,
A processing frame;
A focus setting unit which adjusts a focus by moving up and down positions of the laser oscillator;
Further comprising a processing transfer unit for transferring the laser oscillation unit in the Y-axis direction,
The laser oscillator is moved in the upper and lower Z-axis direction and the left and right Y-axis direction to form a continuous pattern on the light guide plate surface, characterized in that the light guide plate pattern processing system.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 지지대이송부는,
상기 가이드레일을 따라 상기 지지베이스가 이동하도록 구동력을 발생시키는 레일구동부를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 가공시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The support transfer unit,
The light guide plate pattern processing system further comprises a rail driving unit for generating a driving force to move the support base along the guide rail.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 복수 개의 도광판을 상기 지지베이스로 이동시키는 이동대차를 더 포함하고,
상기 이동대차는,
바퀴에 의해 이동되는 대차본체와;
도광판이 적재되는 플로팅부와;
상기 대차본체와 상기 플로팅부 사이에 구비되어 상기 플로팅부의 높이가 상기 지지베이스의 높이에 대응되도록 높이를 조절하는 높이조절부를 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 가공시스템.
The method according to claim 1 or 2,
Further comprising a moving cart for moving the plurality of light guide plate to the support base,
The moving cart,
A balance body moved by a wheel;
A floating part on which the light guide plate is loaded;
And a height adjusting part provided between the bogie body and the floating part to adjust a height of the floating part to correspond to a height of the support base.
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