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KR101005636B1 - Purification system for removing noxious gases and all maloder by using underwater plasma generation apparatus - Google Patents

Purification system for removing noxious gases and all maloder by using underwater plasma generation apparatus Download PDF

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KR101005636B1
KR101005636B1 KR1020100027205A KR20100027205A KR101005636B1 KR 101005636 B1 KR101005636 B1 KR 101005636B1 KR 1020100027205 A KR1020100027205 A KR 1020100027205A KR 20100027205 A KR20100027205 A KR 20100027205A KR 101005636 B1 KR101005636 B1 KR 101005636B1
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water
underwater
underwater plasma
ozone
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KR1020100027205A
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정장근
김선호
윤석현
Original Assignee
정장근
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Abstract

PURPOSE: A complex bad smell removing purification apparatus using an underwater plasma generating device is provided to purify polluted gas, and to secure the excellent process efficiency. CONSTITUTION: A complex bad smell removing purification apparatus using an underwater plasma generating device comprises the following: the underwater plasma generating device(100) including an underwater plasma reactor, a regulator, a electronic neon-transformer, and a porous bubbling unit; a tower type cleaning device(200) including a water treatment tank(204), promoting the forced circulation and the contact oxidation reaction of plasma processing water; and an activated charcoal hollow tower(300) for processing high concentration generated discharge ozone generated from plasma.

Description

수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템{Purification system for removing noxious gases and all maloder by using underwater plasma generation apparatus}Purification system for removing noxious gases and all maloder by using underwater plasma generation apparatus}

본 발명은 수중 플라즈마 기술과 습식 스크러버(Scrubber) 형태의 세정장치를 효율적으로 연계ㆍ접목시켜 대용량의 유해가스 및 복합악취를 효율적으로 정화할 수 있도록 한 수중 플라즈마를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템에 관한 것이다.
The present invention purifies harmful gas and mixed odors by using underwater plasma to efficiently purify a large amount of harmful gases and mixed odors by efficiently connecting and grafting underwater plasma technology and a scrubber type cleaning device. It's about the system.

일반적으로 축산단지, 음식물처리장, 하ㆍ폐수 및 분뇨처리장, 산업단지 등의 악취 및 유해가스 발생원에서 배출되는 오염물질을 처리하기 위한 다양한 기술들이 쓰이고 있다.In general, various techniques are used to treat odors and pollutants emitted from sources of toxic gases, such as livestock complexes, food treatment plants, sewage and wastewater treatment and manure treatment plants, and industrial complexes.

현재 가장 널리 쓰이고 있는 기술로는 흡착법 및 세정법이 있으며, 특히대기 오염방지 시설로는 집진기(A Dust Collector), 흡착탑(Activated carbon tower), 스크러버(Scrubber) 등이 있다. 그 중 스크러버는 악취 및 유해가스, 분진, 액상오염물질 등을 동시에 처리할 수 있어 가장 많이 적용되고 있다. At present, the most widely used technologies include adsorption and cleaning, and in particular, air pollution prevention facilities include an A dust collector, an activated carbon tower, and a scrubber. Among them, scrubbers are most frequently applied because they can simultaneously treat odors and harmful gases, dust, and liquid pollutants.

스크러버는 가스흡수탑이라고도 하며, 일반적으로 세정에 의한 집진시설을 말한다. 스크러버는 종류 및 용도에 따라 건식, 습식, 혼합식으로 나눠지며, 건식 스크러버에 비하여 효율이 더 우수한 습식 스크러버가 많이 사용된다. 습식 스크러버는 유해가스를 액체에 접촉시켜 씻어내는 방식으로 오염물질을 정화하는 방식이며, 정화효율을 높이기 위해 통상적으로 수산화나트륨, 황산과 같은 흡수액 혹은 세정제 등 여러 가지 화학반응을 일으키는 고비용의 화학약품을 물과 함께 사용한다. 이는 화학약품을 포함한 물이 분사되었을 시, 유해가스와의 접촉율을 높이고 오염물질이 용해된 물을 정화시키는 역할을 하여 처리효율을 높이기 위함이다. The scrubber is also called a gas absorption tower, and generally refers to a dust collecting facility by cleaning. The scrubber is divided into dry, wet, and mixed according to the type and use, and a wet scrubber having a higher efficiency than the dry scrubber is used. Wet scrubber is a method of purifying pollutants by contacting and flushing harmful gases with liquid.In order to improve the purification efficiency, expensive scrubbers are usually used to generate expensive chemical reactions such as absorbents such as sodium hydroxide and sulfuric acid or cleaning agents. Use with water. This is to enhance the treatment efficiency by increasing the contact rate with harmful gases and purifying the water in which pollutants are dissolved when water containing chemicals is injected.

그러나 습식 스크러버는 오염가스와의 반응, 화학적 반응 등에 의해 화학약품의 소모가 급격히 일어나므로 고가의 화학약품을 주기적으로 보충하여야 하며, 화학약품과 오염가스를 반응하기 위한 추가 설비비 및 운영비용 등 상당한 비용이 소요되는 문제점이 있다. However, wet scrubbers require rapid replenishment of expensive chemicals due to rapid consumption of chemicals due to reaction with chemicals and chemical reactions, and significant costs such as additional equipment and operating costs for reacting chemicals and polluting gases. There is a problem that this takes.

이중 가장 큰 문제점으로 대두되는 것은 1) 고가의 화학약품을 사용하므로 연속적인 운전이 불가능하며 2) 유해가스 처리공정 후, 화학약품 및 오염물질을 함유한 폐수가 2차적으로 발생된다는 점이다. 특히, 발생된 폐수를 별도의 처리과정 없이 배출할 경우 수질오염 등 또 다른 종류의 환경오염물질을 발생시키는 것이 되기 때문에 2차 폐수처리에 대한 문제점을 해결해야하는 결정적 단점을 가지고 있다. One of the biggest problems is that 1) the use of expensive chemicals makes continuous operation impossible, and 2) the wastewater containing chemicals and pollutants is generated secondly after the hazardous gas treatment process. In particular, when the generated wastewater is discharged without a separate treatment process, another type of environmental pollutant, such as water pollution, is generated, which has a critical disadvantage of solving the problem of secondary wastewater treatment.

최근에는 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 물에 오존을 주입하여 오존수를 이용하거나, 화학약품과 오존을 동시에 공급하여 정화효율을 높이기 위한 기술들이 개발되어지고 있으며, 이는 높은 산화력을 가진 오존을 이용하여 유해가스 및 악취를 처리하고, 2차적으로 발생되는 폐수를 저감시키기 위한 것이다. 그러나 오존을 공급하기 위한 오존발생기는 높은 소비전력이 요구되며, 고농도의 오존발생을 위해 순도 높은 산소를 공급해주어야 하기 때문에 고순도 산소의 발생 설비가 있는 곳으로 제한이 되거나 추가적인 설비가 필요하다. 또한, 물에 용존오존을 일정치 이상으로 발생시키거나 유지하기 위해서는 수 시간동안 오존발생기를 구동시켜야 하기 때문에 상당한 운영비용이 소요되므로 연속적인 운전이 어렵고, 스크러버의 크기와 유지비를 증대시키는 원인이 된다.Recently, in order to solve the above problems, technologies have been developed to increase the purification efficiency by injecting ozone into water using ozone water or by simultaneously supplying chemicals and ozone, which uses ozone having high oxidation power. To deal with harmful gases and odors, and to reduce the secondary water generated. However, the ozone generator for supplying ozone requires high power consumption, and is required to supply high-purity oxygen to generate high concentration of ozone, so it is limited to the place where the generation device of high purity oxygen is needed or additional equipment is needed. In addition, in order to generate or maintain the dissolved ozone above a certain level, the ozone generator needs to be operated for several hours, so a considerable operating cost is required, and thus continuous operation is difficult and causes the size and maintenance cost of the scrubber to increase. .

한편, 일반적인 수(水)처리 기술은 크게 물리ㆍ화학적 처리와 생물학적 처리, 다단계 처리로 대별할 수 있다. 그러나 현재 이러한 기술을 뛰어넘어 더 나은 수처리 효과를 보기 위해 많은 연구가 진행되고 있는데, 소위 첨단 수처리 기술이라 불리는 기술을 중심으로 많은 연구가 행해지고 있다. 이에 상술한 첨단 수처리 기술의 종류를 살펴보면, 1) 전기화학적 방법에 의한 기술, 2) 전기ㆍ자기를 이용한 수(水)처리 기술, 3) 자외선을 이용한 수(水)처리 기술, 4) 플라즈마를 이용한 수처리 기술이 있다.On the other hand, general water treatment technology can be roughly divided into physical and chemical treatment, biological treatment, and multi-stage treatment. However, a lot of researches are currently being carried out to see a better water treatment effect beyond these technologies, and a lot of research is being conducted around a so-called advanced water treatment technology. The above-mentioned kinds of advanced water treatment technologies include 1) electrochemical method, 2) water and water treatment technology using electricity and magnetism, 3) water treatment technology using ultraviolet rays, and 4) plasma. There is a water treatment technique used.

플라즈마를 이용한 수(水)처리 기술은, 주로 저온 플라즈마공정으로서 과거 대기환경 분야에서 유해가스 제거에 사용되었지만, 종전의 수처리 기술과는 달리 약품투입이 필요 없고 처리공정도 간편하며, 2차오염도 발생시키지 않는 장점으로 최근 새로운 개념의 수(水)처리 기술로 부각되고 있으며, 저온 플라즈마를 형성하는 방전에는 펄스 스트리머방전, 무성방전, 부분방전, 연면방전 및 코로나방전 등이 있다. 수질 오염물질 처리를 위한 전기방전에 관한 연구들은 1980년대 후반부터 미국, 일본, 네덜란드, 체코, 러시아, 캐나다 등에서 활발하게 진행되어 왔다. 수중 또는 수표면에서 고전압 펄스방전을 발생시키면 다양한 물리화학적 과정들이 시작되어 자외선(UV), 충격파(shock waves), 그리고 H, O, OH, 과산화수소(H2O2) 등과 같은 화학적 활성종들을 생성시키며, 수표면에 근접하여 발생하는 기체중의 방전에서는 배경기체에 산소가 존재할 때, 고농도의 오존과 활성라디칼들이 생성되어 쉽게 물에 용해되어 오염물질 제거과정에 참여할 수 있는 것으로 알려져 있다. Water treatment technology using plasma is a low-temperature plasma process, which was used to remove harmful gases in the air environment in the past, but unlike conventional water treatment technology, it does not require chemical input, it is easy to process, and secondary pollution occurs. Recently, a new concept of water treatment technology has emerged, and the discharges forming low temperature plasma include pulse streamer discharge, silent discharge, partial discharge, creepage discharge, and corona discharge. Electric discharges for water pollutant treatment have been actively conducted in the United States, Japan, the Netherlands, the Czech Republic, Russia and Canada since the late 1980s. The generation of high voltage pulse discharges in water or on the surface initiates a variety of physicochemical processes that generate UV, shock waves, and chemically active species such as H, O, OH, and hydrogen peroxide (H 2 O 2) . In the gas discharge close to the surface of the water, when oxygen is present in the background gas, high concentrations of ozone and active radicals are generated and are easily dissolved in water to participate in the process of removing pollutants.

특히, 플라즈마 발생기의 유입가스로 공기를 이용할 경우 플라즈마 발생기에서 예상되는 주요 반응식은 아래와 같으며, O3을 비롯한 O, OH, H, N, HO2 등의 라디칼(Radical)이 생성되고 이러한 불안정한 생성물들은 2차적으로 오염물질 또는 산소 등과 반응하여 과산화물(Peroxide)이나 새로운 형태의 라디칼을 형성함으로써 연쇄적인 산화분해 반응이 진행되며, 이러한 산화반응은 난분해성 물질, 대기 중 유해가스 및 악취, 색도 및 오ㆍ폐수의 살균처리 등 오염물질 정화에 폭 넓게 응용될 수 있다. In particular, when using air as the inlet gas of the plasma generator, the main reaction equation expected in the plasma generator is as follows, and radicals such as O, OH, H, N, and HO 2 including O 3 are generated and such an unstable product They react secondarily with pollutants or oxygen to form peroxides or new forms of radicals, resulting in chain oxidative degradation reactions, which are difficult to decompose, harmful gases and odors in the atmosphere, colors and ㆍ It can be widely applied to the purification of pollutants such as sterilization of waste water.

N2 + e → N + N + e 식 1N 2 + e → N + N + e Equation 1

N2 + e → N2 - 식 2 N2 + e → N2 - Equation 2

O2 + e → 2O + e식 3 식 3O 2 + e → 2O + e Equation 3 Equation 3

O2 + e → O2 - 식 4O 2 + e → O 2 - Equation 4

H2O + e → H + OH + e 식 5H 2 O + e → H + OH + e Equation 5

O + e → O- 식 6O + e → O - equation 6

O2 + H → HO2 식 7O 2 + H → HO 2 Formula 7

H2O + O → 2OH 식 8H 2 O + O → 2OH Equation 8

O + O2 → O3 식 9O + O 2 → O 3 Equation 9

N2 + O2 → N2 + 2O 식 10N 2 + O 2 → N 2 + 2 O Equation 10

현재, 수(水)처리를 위한 플라즈마 방전 기법은 너무도 많이 연구되어져 왔으며, 물에 플라즈마를 투입할 경우 매우 좋은 효과가 있다는 것은 이미 많은 학술적 실험으로 증명이 되어 그 가치를 인정받고 있다. At present, too much plasma discharge technique for water treatment has been studied, and it is already proved by many academic experiments that it is very good effect when plasma is added to water and its value is recognized.

그러나 현재까지 거의 대부분의 기술은 수중에서 플라즈마가 발생될 때 물의 도전성 때문에 플라즈마의 발생이 매우 어려울 뿐 아니라 단락 방지 기술이 필수적으로 적용되어야 하기 때문에 플라즈마를 연속적으로 발생시키기 위해서는 고가의 펄스 전원 및 고주파전원을 사용하거나 코팅 막 처리된 전극이나 수표면 방전을 위한 수면 위 전극을 사용하고 있다. 이들 장치는 큰 규격과 무거운 중량으로 설치가 곤란하며, 높은 소비전력과 비싼 가격, 그리고 운전과 유지보수의 어려움 등으로 인한 단점을 가지고 있다. However, to date, almost all technologies are very difficult to generate plasma due to the conductivity of water when plasma is generated in water, and short-circuit prevention technology must be applied. Electrodes on the surface of the surface for water surface discharge or electrodes coated with a coating film. These devices are difficult to install due to their large size and heavy weight, and have disadvantages due to high power consumption, high price, and difficulty in operation and maintenance.

또한, 최근 다양한 유전체를 이용하여 수중에서 방전을 발생시키는 기법들이 연구되고 있지만, 수중에서 안정된 방전을 유지하지 못하여 단락이 발생하거나 급격히 방전효율의 저하되는 등의 문제가 여전히 발생되고 있는 실정이므로 상용화로의 접근이 이루어지지 못하고 있다. In addition, recently, techniques for generating discharge in water using various dielectrics have been studied, but due to the fact that there is still a problem such as short circuit or sudden decrease in discharge efficiency due to failure to maintain stable discharge in water, Has not been approached.

한편, 상기 플라즈마 수(水)처리 기술의 문제점을 해결하여 본 출원인에 의해 실제 상용화 가능한 보급형 수중 플라즈마 기술을 최초로 개발하여 특허등록(제10-0932377호, 2009.12.08, Method of water purification using high density underwater plasma torch/제10-0924649호, 2009.10.26, Generator and method of high desity underwater plasma torch)된 바 있다.On the other hand, by solving the problems of the plasma water treatment technology by the present applicant for the first time developed a commercially available entry-level underwater plasma technology and registered a patent (No. 10-0932377, 2009.12.08, Method of water purification using high density underwater plasma torch / 10-0924649, October 26, 2009, Generator and method of high desity underwater plasma torch.

따라서 본 발명은 본 출원인에 의해 등록된 바 있는 상기 기술들을 응용ㆍ개량 적용하여 세정장치에서 사용되는 물과 유해가스 및 복합악취를 동시에 정화 처리할 수 있는 새로운 개념의 하이브리드 정화시스템을 제공하고자 한다.
Accordingly, the present invention is to provide a hybrid purification system of a new concept that can simultaneously purify the water, harmful gases and complex odors used in the cleaning device by applying and improving the techniques registered by the applicant.

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 수중 플라즈마 기술과 습식 스크러버 형태의 세정장치를 효율적으로 연계ㆍ접목시켜 전기적으로 하전된 고밀도의 수중 플라즈마 처리수를 유해가스 및 복합악취 물질에 분사시켜 집진효율을 높이고, 세정 처리함과 동시에 물에 흡수되거나 용존된 유해가스 및 복합악취를 정화 처리하도록 한 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템을 제공한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to effectively connect and couple an underwater plasma technology and a wet scrubber-type cleaning device to damage an electrically charged high density underwater plasma treated water. Purification system for removing harmful gases and mixed odors using an underwater plasma generator to increase dust collection efficiency by spraying on gas and mixed odorous substances, and to clean and process harmful gases and mixed odors absorbed or dissolved in water. to provide.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면,According to a feature of the present invention for achieving the above object,

수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템에 있어서,In the purification system for removing harmful gases and complex odors using an underwater plasma generator,

상기 시스템은 투명 석영관 내부에는 도전성 방전극과 외부표면에는 전계집중 및 수중 플라즈마 반응기를 지지하며 고밀도 스트리머 플라즈마의 방전영역을 형성하고 플라즈마 반응기의 구조적인 안정성을 증대시키도록 하는 나선형 형태의 한 쌍의 전극으로 이루어진 도전성 대향전극을 갖고 전기적으로 하전된 고밀도의 수중 플라즈마를 발생시키는 수중 플라즈마 반응기(110)와, 상기 수중 플라즈마 반응기에 공기 또는 가스를 주입ㆍ조절하는 레귤레이터(120)와, 상기 수중 플라즈마 반응기에 고전압 저전력 저가의 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 상용 전자식 네온트랜스(130)와, 상기 수중 플라즈마 반응기와 연결되어 산화반응을 촉진시키는 소밀 다공성 버블장치(140)를 구비하여 수중오염물질을 세정하도록 하는 수중 플라즈마 발생장치(100)를 포함하며, The system supports a conductive discharge electrode inside a transparent quartz tube, an electric field concentration and an underwater plasma reactor on an outer surface thereof, and forms a discharge region of a high density streamer plasma and increases a structural stability of the plasma reactor. An underwater plasma reactor 110 having a conductive counter electrode composed of electrodes to generate an electrically charged high density underwater plasma, a regulator 120 for injecting and regulating air or gas into the underwater plasma reactor, and the underwater plasma reactor A commercial electronic neon transformer 130 for generating a plasma by applying a high voltage, low power, and low cost power to the plasma, and a dense porous bubble device 140 connected to the underwater plasma reactor to promote an oxidation reaction to clean the water pollutants. Underwater plasma generator 100),

또한, 상기 수중 플라즈마 발생장치에서 발생되는 고농도 오존과 송풍기(202) 및 가스 유입구(203)를 통해 외부에서 유입되는 유해가스 및 복합악취 간의 접촉산화반응 작용을 증대시키도록 수중 플라즈마 발생을 위한 물 이외에는 어떠한 세정액 혹은 화학약품은 일체 주입되지 않는 수(水)처리 구조의 수조탱크(204)를 갖되, In addition, in order to increase the catalytic oxidation reaction between the high concentration ozone generated in the underwater plasma generator and the harmful gas and the complex odor introduced from the outside through the blower 202 and the gas inlet 203, except for water for generating the plasma in the water Some cleaning fluids or chemicals have a water tank 204 of the water treatment structure is not injected at all,

상기 수처리된 플라즈마 처리수를 강제 순환 및 접촉산화반응 작용을 물리적으로 촉진시켜 상기 고농도의 오존과 유해가스 및 복합악취와의 접촉산화 처리가 동시 복합적으로 작용하도록 하여 집진ㆍ세정하는 FRP 타워형 세정장치(200)와;FRP tower type washing apparatus which collects and washes the plasma treated water by physically promoting forced circulation and catalytic oxidation reaction so that the contact oxidation treatment between the high concentration of ozone, harmful gas and complex odor is simultaneously performed. 200);

또한, 상기 FRP 타워형 세정장치를 거쳐 배출되는 청정가스에 포함된 플라즈마에 의해 발생된 고농도의 배오존을 처리하기 위한 활성탄 공탑(300)을 포함하는 것을 특징으로 하는 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템을 제공한다. In addition, the harmful gas using the underwater plasma generator, characterized in that it comprises an activated carbon ball tower 300 for treating a high concentration of ozone generated by the plasma contained in the clean gas discharged through the FRP tower-type cleaning device; Provide a purification system for removing complex odors.

바람직하게는, 상기 도전성 대향전극은, 15[cm] 이내의 길이와 1 ~ 1.5[mm] 두께를 가진 나선형 형태의 탭 구조이며 나선형 탭(113a)의 간격은 1 ~ 2[mm]인 것을 포함하여 특징으로 한다.Preferably, the conductive counter electrode includes a spiral tab structure having a length within 15 [cm] and a thickness of 1 to 1.5 [mm], and a distance between the spiral tabs 113a is 1 to 2 [mm]. It is characterized by.

바람직하게는, 상기 FRP 타워형 세정장치는, 본체(201)와, 상기 본체의 하부에 설치되는 수조탱크의 플라즈마 처리수를 강제 순환시키는 순환펌프(205)와, 상기 순환펌프와 연결되는 플라즈마 처리수 공급라인(206)과, 상기 플라즈마 처리수 공급라인에 연결되는 제1/제2 분사 파이프(206a, 206b) 및 다수개의 분사노즐(207a,207b)과, 상기 각 분사노즐의 하단에 일정한 간격을 두고 설치되며, 플라즈마 처리수에 의해 집진ㆍ세정된 유해가스 및 복합악취 물질을 오존과의 접촉면적 및 반응시간을 증대시켜 여과 처리하도록 하는 제1/제2 패킹층(208a,208b)과, 상기 본체(201)의 상ㆍ하단에는 상기 수조탱크와 상기 제2 분사파이프 및 다수개의 분사노즐에서 상승되는 수분 및 습기 등의 액체성분을 제거하도록 하는 제1/제2 디미스터(209a,209b)를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the FRP tower type washing apparatus includes a main body 201, a circulation pump 205 for forcibly circulating the plasma treated water of the water tank provided in the lower part of the main body, and a plasma treated water connected to the circulating pump. The supply line 206, the first and second injection pipes 206a and 206b and the plurality of injection nozzles 207a and 207b connected to the plasma treatment water supply line, and a constant distance between the lower end of each injection nozzle First and second packing layers 208a and 208b which are installed to be disposed in a circumference, and which filter harmful gases and mixed odorous substances collected and washed by plasma treatment water by increasing the contact area and reaction time with ozone, and First and second demisters 209a and 209b are disposed at upper and lower ends of the main body 201 to remove liquid components such as moisture and moisture that are raised from the water tank, the second injection pipe and the plurality of injection nozzles. It is characterized by including .

바람직하게는, 상기 수조탱크(204)는, 플라즈마 처리수에 의해 집진ㆍ세정된 오염물질을 보다 효과적으로 처리할 수 있도록 수조탱크 내에 저장되는 물의 양을 최소화하기 위해 수조탱크 바닥부분을 톱니 모양의 구조로 형성되는 것을 포함하여 특징으로 한다.Preferably, the tank tank 204 has a sawtooth structure at the bottom of the tank tank in order to minimize the amount of water stored in the tank tank to more effectively treat the contaminants collected and washed by the plasma treated water. Characterized in that it comprises a.

바람직하게는, 상기 활성탄 공탑(300)은, 상기 제2 디미스터(209b)의 상부를 통해 배출되는 오존을 처리하기 위한 배오존 처리용 촉매층(310)과, 상기 배오존 처리용 촉매층 상부에 위치하여 정화된 공기를 외부로 배출하기 위한 가스 배출구(320)를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the activated carbon ball tower 300 is located in the ozone treatment catalyst layer 310 for treating ozone discharged through the upper portion of the second demister 209b and the catalyst layer for ozone treatment. It characterized in that it comprises a gas outlet 320 for discharging the purified air to the outside.

본 발명에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템은 다음과 같은 효과가 있다.Purifying system for removing harmful gases and complex odors using the underwater plasma generator according to the present invention has the following effects.

본 발명에 의하여, 간단한 구조의 수중 플라즈마 발생장치와 습식 스크러버 형태의 집진ㆍ세정 및 수(水)처리 시스템을 구성함으로써,According to the present invention, by constructing an underwater plasma generator having a simple structure and a dust collecting / cleaning and water treatment system in the form of a wet scrubber,

(1) 일련의 순차적인 과정이 아닌 동시 복합적인 상호작용에 의해 오염가스가 정화 처리되는 기작으로서 탁월한 처리효율을 나타낸다. (1) It is a mechanism that purifies polluted gas by simultaneous complex interaction instead of a series of sequential processes, and shows excellent treatment efficiency.

(2) 간단한 구조의 수중 플라즈마 발생장치를 고안함으로써, 운전 및 설치가 용이함은 물론 고장발생시 수리 및 보수를 편리하다. (2) By devising an underwater plasma generator with a simple structure, it is easy to operate and install as well as convenient to repair and repair in the event of a failure.

(3) 고전압 인가 전원으로 저전력, 저가의 상용 네온트랜스를 사용함으로써 전원에 소비되는 비용을 최소화 시킨다.(3) Minimize the cost of power by using low-power, low-cost commercial neon transformer as a high voltage applied power source.

(4) 높은 소비전력이 소요되고 고순도 산소공급설비가 필요한 오존 및 오존수 발생기술과 고가의 세정ㆍ흡수제 등 화학약품을 사용하는 것에 비해 설비규모가 작아지며, 유지ㆍ운영비가 매우 저렴하여 경제적이고 효율적이다. (4) Compared with using chemicals such as ozone and ozone water generation technology, which requires high power consumption and high purity oxygen supply facilities, and expensive cleaning and absorbing agents, the size of equipment is smaller, and the maintenance and operation costs are very low. to be.

(5) 화학약품을 일체 사용하지 않고 일반적인 수돗물 혹은 지하수만이 공급되므로 연속적인 운전이 가능하며, 사용되는 물은 플라즈마 수처리 시스템에 의해 정화되어 순환 및 재사용되거나 이후 배출되기 때문에 2차 오염에 대한 문제점이 없는 저비용 고효율의 친환경 대기오염방지 기술을 제공할 수 있는 독특한 효과가 있다.
(5) It is possible to operate continuously because only normal tap water or ground water is supplied without any chemicals, and the water used is purified by plasma water treatment system, circulated and reused, or discharged afterwards. It has the unique effect of providing low cost, high efficiency and eco-friendly air pollution prevention technology.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템에 적합한 형태로 고안된 수중 플라즈마 발생장치를 개략적으로 나타낸 도면.
도 2는 상기 도 1에 대한 레귤레이터 및 상용 전자식 네온트랜스를 추가여 나타낸 수중 플라즈마 발생장치 도면.
도 3은 상기 도 1 및 도 2에 대한 수중 플라즈마 발생장치의 도전성 대향전극(나선형 탭)을 구체적으로 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템의 구성을 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템의 작용을 설명하기 위한 도면.
도 6은 상기 도 5에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템의 도면.
1 is a view schematically showing an underwater plasma generating apparatus designed in a form suitable for the purification system for removing harmful gases and complex odors using the underwater plasma generating apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram of an underwater plasma generator further showing the regulator and a commercial electronic neon transformer of FIG. 1. FIG.
3 is a view showing in detail the conductive counter electrode (spiral tab) of the underwater plasma generating apparatus for FIGS.
Figure 4 is a view showing the configuration of the purification system for removing harmful gases and complex odors using the underwater plasma generator according to a preferred embodiment of the present invention.
5 is a view for explaining the operation of the purification system for removing harmful gases and odors using the underwater plasma generator according to a preferred embodiment of the present invention.
6 is a view of the purification system for removing harmful gases and complex odors using the underwater plasma generator according to FIG.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지의 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are used to refer to the same components, even if displayed on different drawings. In describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the related well-known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템은, 전술한 배경기술에서 밝힌 바와 같이, 본 출원인에 의해 특허 등록된 바 있는 수중 플라즈마 발생장치 기술을 습식 스크러버 형태의 세정장치에 연계ㆍ접목시켜 새로운 개념의 하이브리드 정화시스템으로 응용ㆍ개량하였으며, 그 핵심 기술적 해결수단은, 크게는 수중 플라즈마 발생장치(100)와 FRP 타워형 세정장치(200) 및 활성탄 공탑(300)으로 구성하여 전기적으로 하전된 고밀도의 수중 플라즈마 처리수를 유해가스 및 복합악취 물질에 분사시켜 집진ㆍ세정 효율을 높이고, 동시에 물에 흡수되거나 용존된 유해가스 및 복합악취 물질을 별도의 화학약품 사용 없이도 효율적으로 정화 처리하도록 하는데 그 특징이 있다.1 to 6, the purification system for removing harmful gases and complex odors using an underwater plasma generator according to a preferred embodiment of the present invention, as disclosed in the above background, has been patented by the applicant We applied and improved the existing underwater plasma generator technology to the wet scrubber type cleaning device and applied it to the new concept of hybrid purification system.The main technical solution is the underwater plasma generator 100 and the FRP tower type. Consists of the cleaning device 200 and the activated carbon ball tower 300 to spray the electrically charged, high density underwater plasma treated water to the noxious gas and the complex odorous substance to increase dust collection and cleaning efficiency, and at the same time absorbed or dissolved harmful water in the water And efficient treatment of complex odorous substances without the use of chemicals. There is this.

먼저, 도 1 및 도 2를 참조하여, 상기 수중 플라즈마 발생장치(100)는 수중 플라즈마 반응기(110), 레귤레이터(120), 상용 전자식 네온 트랜스(130), 소밀 다공성 버블장치(140)로 이루어진다.First, referring to FIGS. 1 and 2, the underwater plasma generator 100 includes an underwater plasma reactor 110, a regulator 120, a commercial electronic neon transformer 130, and a dense porous bubble device 140.

상기 수중 플라즈마 반응기(110)는, 수중에서 플라즈마를 발생시키기 위한 수단으로, 투명 석영관(111)과, 상기 투명 석영관 내부에 삽입되어 석영관의 내경과 방전 갭(discharge gap)을 확보할 수 있는 직경을 갖는 도전성 방전극(112)과, 투명 석영관 외부표면에 직접 접촉되어 전계집중 및 수중 플라즈마 반응기(100)를 지지할 수 있도록 하여 고밀도 스트리머 플라즈마의 방전영역을 형성하고 플라즈마 반응기의 구조적인 안정성을 증대시키도록 하는 나선형 형태의 한 쌍의 전극으로 이루어진 도전성 대향전극(113)과 상기 투명 석영관(111) 상단에 조립되어 도전성 방전극(112)을 투명 석영관(111) 내부 중심축에 고정시켜, 간극거리를 유지하기 위한 전극팁(a)과, 전극 인입구(b) 및 가스 주입구(c)를 갖는 방사형 반응기 헤드(114)를 구비한다.The underwater plasma reactor 110 is a means for generating a plasma in the water, the transparent quartz tube 111, and can be inserted into the transparent quartz tube to secure the inner diameter and the discharge gap (discharge gap) of the quartz tube. A conductive discharge electrode 112 having a diameter, and a direct contact with the outer surface of the transparent quartz tube to support the electric field concentration and the underwater plasma reactor 100 to form a discharge region of the high density streamer plasma, A conductive counter electrode 113 composed of a pair of spiral-shaped electrodes to increase stability and the transparent quartz tube 111 is assembled on the top to fix the conductive discharge electrode 112 to a central axis inside the transparent quartz tube 111. And a radial reactor head 114 having an electrode tip a, an electrode inlet b, and a gas inlet c for maintaining the gap distance.

상기 투명 석영관(111)은, 필요한 기계적 강도를 만족시키고 고밀도 플라즈마영역(d)에서 발생되는 자외선 배출용으로 사용되며, 절연성 소재로 만들어진 관체는 모두 대체하여 사용이 가능하다. 물론 석영관을 사용하는 것이 자외선 배출용으로는 더 적합하며, 내경이 1.5 ~ 10[mm] 내외(바람직하게는 6mm)이고 외경은 3 ~ 16[mm] 내외(바람직하게는 8mm)이며 두께는 0.7 ~ 3[mm] 내외(바람직하게는 2mm)인 것을 사용하였으며, 그 길이는 환경에 따라 조절이 가능하며 길이의 제한은 없고 당연히 크기의 특별한 제한도 없다. 따라서 석영관이 더 작을 경우도 더 클 경우에도 사용이 가능하다. The transparent quartz tube 111 is used to discharge the ultraviolet rays generated in the high-density plasma region (d) to satisfy the required mechanical strength, all of the tubular body made of an insulating material can be used to replace. Of course, the use of quartz tube is more suitable for UV emission, the inner diameter is 1.5 ~ 10 [mm] inside and outside (preferably 6mm), the outside diameter is 3 ~ 16 [mm] inside and around (preferably 8mm) and the thickness is 0.7 ~ 3 [mm] around (preferably 2mm) was used, the length can be adjusted according to the environment, there is no limit of length and of course there is no particular limitation of size. Therefore, it can be used even when the quartz tube is smaller or larger.

상기 도전성 방전극(112)과 도전성 대향전극(113)은, 도전성 소재이면 무엇이든지 사용이 가능하다. 먼저 상기 도전성 방전극(112)은, 아크방전의 발생을 방지하여 안정적인 스트리머 플라즈마의 발생과 방전효율을 높이기 위해서 상기 투명 석영관(111) 하단부에서 3[cm] ~ 5[cm] 정도(바람직하게는 3.5[cm]) 상단에 위치시키는 것이 적합하다.The conductive discharge electrode 112 and the conductive counter electrode 113 can be used as long as it is a conductive material. First, the conductive discharge electrode 112 is preferably about 3 [cm] to 5 [cm] at the lower end of the transparent quartz tube 111 in order to prevent generation of arc discharge and increase generation and stable discharge of streamer plasma. Is appropriately positioned at the top of 3.5 [cm]).

또한, 상기 도전성 방전극(112)의 직경은, 상기 투명 석영관(111)의 내경보다 작아야 하는데 상기 도전성 방전극(112)의 반지름 r과 투명 석영관(111)의 내경의 반지름 R과의 관계가 R/r ≒ 3 이상이 되도록 한다. 이는 내부 전극표면의 전계세기는 외부전극의 내반지름과 내부전극의 반지름의 크기에 따라 변화하기 때문이며, 코로나를 경유하여 스트리머 방전까지 안정적으로 발생시키기 위함이다. In addition, the diameter of the conductive discharge electrode 112 should be smaller than the inner diameter of the transparent quartz tube 111, but the relationship between the radius r of the conductive discharge electrode 112 and the radius R of the inner diameter of the transparent quartz tube 111 is R / r ≒ 3 or greater. This is because the electric field strength of the inner electrode surface changes according to the inner radius of the outer electrode and the size of the radius of the inner electrode, and is intended to stably generate the streamer discharge via the corona.

상기 도전성 대향전극(113)은, 상기 투명 석영관(111) 외부에 직접 접촉되어 유입되는 악취 및 유해가스에 의한 가스압이나 공급되는 물에 의한 충격 및 흔들림에서 수중 플라즈마 반응기(110)를 지지하고 보호한다. 또한 물이 하나의 도전성 물질 역할을 하므로 수중에 직접 접촉되어 물과 함께 접지전극의 역할을 하며 상기 도전성 방전극(112)과 상기 투명 석영관(111) 사이에서 발생되는 고밀도 스트리머 플라즈마의 방전영역을 형성한다.The conductive counter electrode 113 directly supports and protects the underwater plasma reactor 110 from a gas pressure caused by odor and harmful gas introduced into the transparent quartz tube 111 and impact and shaking caused by supplied water. do. In addition, since water acts as a conductive material, the water directly contacts water, and serves as a ground electrode together with water, and discharges high-density streamer plasma generated between the conductive discharge electrode 112 and the transparent quartz tube 111. Form.

또한, 상기 도전성 대향전극(113)은 15[cm] 이내의 길이와 1 ~ 1.5[mm] 두께를 가진 나선형 형태의 한 쌍의 전극으로 이루어지는 탭 구조이며 나선형 탭(113a)의 간격은 1 ~ 2[mm]가 되도록 한다. 이는 안정적으로 수중 플라즈마 반응기(100)를 지지함과 동시에 구조적으로 나선형 전극과 평판전극에서 발생되는 방전형태와 같이 고밀도의 강한 방전성상을 형성하기 위함이다.In addition, the conductive counter electrode 113 is a tab structure consisting of a pair of spiral-shaped electrodes having a length within 15 [cm] and a thickness of 1 to 1.5 [mm], and the interval between the spiral tabs 113a is 1 to 2. [mm]. This is to stably support the underwater plasma reactor 100 and at the same time to form a high-density strong discharge characteristics, such as the discharge form generated in the spiral electrode and the plate electrode structurally.

여기서 도 3의 (가),(나)를 참조하면, 먼저 도 3의 (가)와 같이 상기 나선형 탭(113a)을 1 ~ 2[mm] 간격(Pitch)을 가지고 석영관 표면에 직접 접촉할 경우, 방전극에서의 전위경도를 집중시켜 고밀도 스트리머 플라즈마를 발생시키고 플라즈마의 발생영역을 고르게 분포시킨다. 그러나 도 3의 (나)에서 보는 바와 같이, 나선형 탭(113a)의 간격(Pitch)을 2[mm]이상으로 할 경우, 최대전위경도 계수가 높아져 아크성 플라즈마가 발생되기 쉽고 플라즈마가 고르게 분포되기 어려워 안정적인 방전성상을 유지하기 힘들며, 강한 플라즈마 에너지가 지속적으로 전극 및 석영관에 가해지므로 전극의 손실 및 석영관의 파손 등의 문제점이 발생한다.Referring to (a) and (b) of FIG. 3, first, as shown in (a) of FIG. 3, the spiral tab 113a may directly contact the surface of the quartz tube with a pitch of 1 to 2 [mm]. In this case, the high-density streamer plasma is generated by concentrating the potential hardness at the discharge electrode, and the generation area of the plasma is evenly distributed. However, as shown in (b) of FIG. 3, when the pitch (pitch) of the spiral tab 113a is 2 [mm] or more, the maximum dislocation hardness coefficient becomes high, and an arc plasma is easily generated and the plasma is evenly distributed. It is difficult to maintain stable discharge characteristics, and strong plasma energy is continuously applied to the electrodes and the quartz tube, thereby causing problems such as electrode loss and breakage of the quartz tube.

한편, 상기 도전성 방전극(112)과 도전성 대향전극(113)에 인가되는 전압은, 대략 7[kV]부터 시작해서 그 이상의 내압을 발생시킬 수 있는 전원이면 사용가능하며, 고주파 전원은 물론이고 상용 전원의 범위 안에서 자유롭게 적용될 수 있다. 또한, 상기 7[kV]는 장치의 크기를 조정하여 그 이하에서도 동작을 가능하게 할 수 있다. 때문에 전원의 용량과 요구 사항에 맞춰 맞춤형 제작이 가능하다.On the other hand, the voltage applied to the conductive discharge electrode 112 and the conductive counter electrode 113 can be used if it is a power source capable of generating a higher withstand voltage starting from approximately 7 [kV], as well as a commercial power source It can be applied freely within the scope of. In addition, the 7 [kV] may adjust the size of the device to enable operation even below. This allows for custom fabrication to match the power capacity and requirements.

상기 도전성 방전극(112)과 도전성 대향전극(113)에 인가되는 고압선은 출력전압의 손실과 단락 및 코로나손실을 방지하기 위해 최소 20[mm] 이상의 거리를 두었다. The high voltage line applied to the conductive discharge electrode 112 and the conductive counter electrode 113 has a distance of at least 20 [mm] to prevent loss of output voltage, short circuit, and corona loss.

상기 방사형 반응기 헤드(114)는, 상기 투명 석영관(111) 상단에 위치하며, 석영관의 파손을 방지하기 위하여 완충작용을 할 수 있는 절연성 재질의 것으로 사용되어야 한다. 또한, 반응기 내에서 고른 방전영역을 형성하기 위해 상기 도전성 방전극을 상기 투명 석영관(111) 내부 중심축에 고정시키고 삽입 길이를 조절할 수 있도록 하는 전극팁(a)과 상기 도전성 방전극(112) 및 도전성 대향전극(113)을 삽입할 수 있는 전극 인입구(b)와, 상기 레귤레이터(120)를 통해 도전성 방전극(112)과 투명 석영관(111) 내경 사이의 공간으로 가스나 공기를 주입하기 위한 가스 주입구(c)로 구성되어 있다. The radial reactor head 114 is located on top of the transparent quartz tube 111, and should be used as an insulating material that can cushion the quartz tube to prevent breakage. In addition, in order to form an even discharge region in the reactor, the electrode tip a and the conductive discharge electrode 112 and the conductive electrode may be fixed to the central axis inside the transparent quartz tube 111 to adjust the insertion length. An electrode inlet (b) into which the counter electrode 113 can be inserted and a gas inlet for injecting gas or air into the space between the conductive discharge electrode 112 and the inner diameter of the transparent quartz tube 111 through the regulator 120. It consists of (c).

또한, 상기 투명 석영관(111) 하단부에 설치되는 소밀 다공성 버블장치(140)는 미세한 마이크론 사이즈의 기포를 발생시켜, 물과의 접촉표면적을 넓혀 줄 수 있는 것이면 기존에 나와 있는 제품 혹은 제작하여 사용할 수 있다.In addition, the dense porous bubble device 140 installed at the lower end of the transparent quartz tube 111 generates a micron-sized bubble, so that the contact surface with water can be widened, and it is possible to use the existing products or manufactured products. Can be.

한편, 본 발명에 적용되는 상기 수중 플라즈마 발생장치는 물을 매개체로 하여 상기 방전극(112)과 상기 투명 석영관(111)의 공간에서 발생되는 스트리머 플라즈마와 상기 도전성 대향전극(113)이 마치 한 쌍의 전극으로 사용되는 특징이 있으며, 전극간 고전계 및 플라즈마에너지를 물에 공급함으로써 전기적으로 대전되어 집진효율을 높일 수 있는 플라즈마 처리수를 생성할 수 있다. On the other hand, the underwater plasma generating apparatus applied to the present invention is as long as the streamer plasma and the conductive counter electrode 113 generated in the space between the discharge electrode 112 and the transparent quartz tube 111 using water as a medium. There is a feature that is used as a pair of electrodes, by supplying a high electric field between the electrode and the plasma energy to the water can be electrically charged to generate plasma treated water that can increase the dust collection efficiency.

또한 상기 수중 플라즈마 발생장치는 고밀도 플라즈마 에너지와 다량의 활성종 및 라디칼 등을 물에 주입하여 수중 오염물질을 처리하는데 있어 매우 뛰어난 처리성능을 나타냄으로 본 발명과 같은 유해가스 및 복합악취제거 기술에 적용할 수 있음은 물론, 축산폐수, 난분해성 오염물질, 녹조제거, 색도 및 오ㆍ폐수의 살균처리 등 수질정화에 폭 넓게 응용될 수 있다. In addition, the underwater plasma generator is applied to the harmful gas and complex odor removal technology such as the present invention by showing a very excellent treatment performance in treating contaminants in water by injecting high density plasma energy and a large amount of active species and radicals into water. In addition, it can be widely applied to water purification, such as livestock wastewater, hardly degradable contaminants, green algae removal, color and disinfection of wastewater.

또한 플라즈마의 방전성상을 사용 환경이나 상황에 맞추어 적용할 수 있어 사용상 유동성이 크며, 본 발명에 이용될 수 있는 가스의 종류 또한 특별한 제한이 없어 환경에 맞추어 적절히 사용이 가능하므로 그 만큼 사용상황에 따라 다양한 변화를 꾀할 수 있는 장점이 있다. In addition, since the discharge characteristics of the plasma can be applied according to the use environment or situation, the fluidity in use is large, and the type of gas that can be used in the present invention can be used appropriately according to the environment because there is no particular limitation. There are advantages to making various changes.

이어서, 본 발명에서 플라즈마의 주 활성 메커니즘을 살펴보면, 상기 투명 석영관(111) 내부의 도전성 방전극(112)과 상기 투명 석영관(111) 외부표면에서 직접 접촉해 있는 상기 도전성 대향전극(113)이 존재하고 이 투명 석영관(111)의 내부 즉, 투명 석영관(111) 내경과 상기 투명 석영관(111) 안에 삽입되어 상기 투명 석영관(111) 내경 중심부에 위치하고 있는 상기 도전성 방전극(112)의 외경 사이에 형성된 공간으로 상기 레귤레이터(120)를 이용하여 가스 또는 공기를 주입시켜 그것들의 압력으로 상기 투명 석영관(111) 내부와 상기 도전성 방전극(112)의 하단부로부터 물과의 사이에 공간을 만들어 전로를 차단함으로써, 상기 도전성 방전극(112)과 물과의 단락현상을 막아주면서 동시에 상기 공간에서 플라즈마를 발생시킨다. Subsequently, the main active mechanism of the plasma in the present invention, the conductive discharge electrode 112 in the transparent quartz tube 111 and the conductive counter electrode 113 in direct contact with the outer surface of the transparent quartz tube 111 is The inside of the transparent quartz tube 111, that is, the inner diameter of the transparent quartz tube 111 and the conductive discharge electrode 112 inserted into the transparent quartz tube 111 and positioned at the center of the inner diameter of the transparent quartz tube 111. Inject a gas or air into the space formed between the outer diameter using the regulator 120 to create a space between the inside of the transparent quartz tube 111 and water from the lower end of the conductive discharge electrode 112 at their pressure. By blocking the converter, a short circuit between the conductive discharge electrode 112 and water is prevented and at the same time, plasma is generated in the space.

이때 상기 투명 석영관(111)에서는 물과 접촉된 투명 석영관(111) 전체에서 고른 방전영역을 가지는 플라즈마가 생성되는데 상기 도전성 대향전극(113)이 수중에 직접 접촉되어 있기 때문에 물 자체가 하나의 도전성 전극의 역할을 하므로 대전현상이 발생하여 기(氣)중 방전의 하나인 높은 에너지 밀도의 스트리머 플라즈마(streamer plasma) 가 상기 고밀도 플라즈마영역(d)에서 발생한다. At this time, in the transparent quartz tube 111, a plasma having an even discharge area is generated in the entire transparent quartz tube 111 in contact with water. Since the conductive counter electrode 113 is in direct contact with water, one of the water itself is generated. Since it acts as a conductive electrode, charging occurs and a high energy density streamer plasma, which is one of discharges in the group, is generated in the high density plasma region d.

이하, 본 발명의 고밀도 플라즈마를 수중에서 안정적으로 발생시키기 위한 작용을 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the operation for generating the high-density plasma of the present invention stably in water is as follows.

본 발명에서 수중 플라즈마 반응기(110)에 사용되는 전원은 상용 전자식 네온트랜스(130)로서 22.5[kHz] ~ 23[kHz]의 높은 주파수를 갖는 고전압 펄스 교류전원이다. 유전체관[투명 석영관(111)] 내로 공기나 가스를 주입한 후, 도전성 방전극(112)과 도전성 대향전극(113)에 전원을 인가하면, 공기와 유전체관[투명 석영관(111)]의 정전용량으로 인한 충전전류, 절연저항에 의한 누설전류 및 유전체손을 공급하기 위한 전류가 흐르는데 이 경우 중요한 것은 쌍극분자가 전계의 방향으로 전향하려고 하는 현상으로 인하여 생기는 쌍극자 전도전류이다. 이 전류는 직류전압에 대하여는 쌍극분자가 전계방향으로 그 방향으로 전향해버리면 흐르지 않게 되지만, 본 발명에 사용되는 전원이 인가된 경우 교번전계가 수중에 가해지므로 극성의 전환에 의하여 쌍극분자가 전원 주파수에 상당하는 주기로 그 방향으로 전향되어 유전체 내에 전류가 흐르게 되고, 또 이 쌍극분자가 진동을 하게 되므로 인접된 물 분자와의 마찰 및 전계효과 등이 발생되며, 상기 도전성 방전극(112)과 유전체관[투명 석영관(111)] 표면과 수중에 직접적으로 접촉되어 있는 상기 도전성 대향전극(113) 사이에서 도전현상이 일어나 고밀도 플라즈마가 발생됨과 동시에 수중에서 강한 전계를 형성하여 플라즈마 에너지를 효율적으로 물에 주입시킬 수 있는 것이다. In the present invention, the power source used for the underwater plasma reactor 110 is a high-voltage pulse AC power source having a high frequency of 22.5 [kHz] to 23 [kHz] as the commercial electronic neon transformer 130. After injecting air or gas into the dielectric tube (transparent quartz tube 111) and applying power to the conductive discharge electrode 112 and the conductive counter electrode 113, the air and the dielectric tube (transparent quartz tube 111) Charge current due to capacitance, leakage current due to insulation resistance, and current for supplying dielectric loss are important in this case. The important thing in this case is the dipole conduction current caused by the phenomenon in which the dipole molecules try to turn in the direction of the electric field. This current does not flow with respect to the DC voltage when the dipole molecules are turned in the direction of the electric field, but when the power source used in the present invention is applied, an alternating electric field is applied in the water, so that the dipole molecules become the power frequency by switching the polarity. The current is flowed in the dielectric at a period corresponding to the current, and the dipole molecules vibrate, thereby generating friction and electric field effects with adjacent water molecules. The conductive discharge electrode 112 and the dielectric tube [ Transparent quartz tube 111] A conductive phenomenon occurs between the surface and the conductive counter electrode 113 which is in direct contact with water, thereby generating a high-density plasma and forming a strong electric field in water to efficiently inject plasma energy into water. It can be done.

한편, 기존의 수중에서 플라즈마를 발생시키는 기술은, 전극이 물속에 잠겨 있을 경우 도전성 물에 의해 단락이 발생하거나 수표면 방전의 경우 방전공간이 한정되어 있어 매우 비효율적인 처리방법이 되며, 전극의 간극길이가 일정하지 못하여 절연파괴가 일어나기 때문에 매우 고가인 펄스전원을 사용하거나 유전체 코팅된 전극 등을 사용한다. 때문에 고가의 장비와 운전 및 설치의 어려움으로 일반화되지 못하고 있다.On the other hand, the existing technology of generating plasma in the water is a very inefficient treatment method because the short circuit occurs due to the conductive water when the electrode is submerged in water or the discharge space is limited in the case of water surface discharge, the gap between the electrodes Insulation breakage occurs due to inconsistent length, so use a very expensive pulse power supply or dielectric coated electrode. Therefore, it is not generalized due to the expensive equipment and difficulty of operation and installation.

그러나 본 발명의 경우는 상기 도전성 방전극(112)과 물과의 전로를 차단하여 안정적으로 고밀도 플라즈마를 발생시키고, 스트리머 방전에 의해서 생성된 전하의 양 만큼만 수중에 플라즈마 에너지를 전달시키기 때문에 단락이 발생되지 않고 스트리머 방전에서 생성된 전하의 양 만큼만 포화되어 전류가 흐르기 때문에 전원장치의 용량을 초과하지 않는 안정적인 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 때문에 연속적인 플라즈마 에너지의 전달이 가능하다. However, in the case of the present invention, a short circuit occurs because the conductive discharge electrode 112 and the electric current are blocked to stably generate a high density plasma, and the plasma energy is transferred to the water only by the amount of charge generated by the streamer discharge. Instead, the current flows by saturating only the amount of charge generated in the streamer discharge, thereby generating a stable plasma that does not exceed the capacity of the power supply. This allows for continuous delivery of plasma energy.

따라서 본 발명에서는 플라즈마 에너지에 의해 전기적으로 하전된 플라즈마 처리수를 유입되는 유해가스 및 복합악취물질에 분사시킴으로서 집진 및 세정(혹은 정화) 효율을 증대시키고 트랩 되어 수중에 용존되는 오염물질을 수중 플라즈마를 이용한 수처리 공법으로 처리하는 시스템이 복합적으로 적용된다. Therefore, in the present invention, by spraying the plasma treated water electrically charged by the plasma energy to the incoming harmful gas and complex odorous substances to increase the efficiency of dust collection and cleaning (or purification) and trap the contaminants dissolved in the water to trap the underwater plasma The treatment system using the used water treatment method is applied in combination.

이는 상기 수중 플라즈마 발생장치(100)에 주입된 가스 및 공기는 고밀도 플라즈마 영역을 거치면서 활성화되어 고농도의 OH, O3, H+, H2O2, 수하전자 그리고 각종 라디칼 등 다량의 활성종이 생성되며, 생성된 활성라디칼은 즉시 수중에 주입되고 상기 투명 석영관에서 방사되는 자외선(UV), 충격파(Shock Wave) 등과 플라즈마 에너지를 처리 대상물에 직접 조사하는 복합적인 수처리 기작으로 플라즈마 처리수에 집진 ㆍ세정된 복합악취 물질을 정화 처리하도록 하는 정화시스템을 구현하였기 때문이다. The gas and air injected into the underwater plasma generator 100 are activated through a high density plasma region to generate a large amount of active species such as high concentrations of OH, O 3 , H +, H 2 O 2 , bagged electrons and various radicals. The generated active radicals are immediately injected into the water and collected and washed in the plasma treated water by a complex water treatment mechanism that directly irradiates plasma energy to ultraviolet light, shock waves, and the like emitted from the transparent quartz tube. This is because it has implemented a purification system to purify the complex odorous substances.

상기 소밀 다공성 버블장치(140)는, 산화반응을 촉진시키는 수단으로, 상기 투명 석영관(111) 하단부에 연결되며, 물과의 접촉시간 및 접촉 표면적을 높여 접촉산화반응을 증대시키기 위해 마이크론(Micron) 사이즈의 기포를 발생시킨다. 즉 고밀도 플라즈마 영역을 거쳐서 나온 다량의 고농도 활성라디칼을 포함한 기포가 뭉쳐지지 않고 잘게 쪼개어져 수중에 표류 확산된다. 따라서 물과의 접촉시간 및 표면적 등이 높아져 고농도 활성종들의 용존율과 접촉산화작용 등을 매우 증대시킬 수 있으므로 환경오염물질 처리에 있어 그 처리시간이 매우 빠르며 탁월한 효과가 있다. The dense porous bubble device 140 is a means for promoting an oxidation reaction, is connected to the lower end of the transparent quartz tube 111, and in order to increase the contact oxidation reaction with water to increase the contact oxidation reaction (Micron) ) Bubbles of size are generated. That is, bubbles containing a large amount of highly active radicals emitted through the high-density plasma region do not clump together and are finely divided to drift in water. Therefore, the contact time with water and the surface area is increased, so that the dissolution rate and the catalytic oxidation of high concentration active species can be greatly increased, so the treatment time is very fast and excellent effect in the treatment of environmental pollutants.

도 4 내지 도 6을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템에 대하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Referring to Figures 4 to 6, it will be described in detail with respect to the purification system for removing harmful gases and complex odors using the underwater plasma generator according to the preferred embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 정화시스템 기술적 구성은 크게 FRP 타워형 세정장치(200)와 활성탄 공탑(300)으로 이루어진다.Technical configuration of the purification system according to an embodiment of the present invention is largely composed of the FRP tower type washing apparatus 200 and the activated carbon ball tower (300).

상기 FRP 타워형 세정장치(200)는 정화시스템의 본체(201), 송풍기(202) 및 가스 유입구(203), 수조탱크(204), 순환펌프(205), 플라즈마 처리수 공급라인(206), 제1/제2 분사 파이프(206a, 206b) 및 다수개의 분사노즐(207a,207b), 제1/제2 패킹층(208a,208b), 제1/제2 디미스터(209a,209b)를 구비하며, 상기 활성탄 공탑(300)은 배오존 처리용 촉매층(310), 가스 배출구(320)를 각각 구비한다. The FRP tower type cleaning apparatus 200 includes a main body 201, a blower 202 and a gas inlet 203, a water tank 204, a circulation pump 205, a plasma treatment water supply line 206, and a purge system. 1 / second injection pipes 206a, 206b and a plurality of injection nozzles 207a, 207b, first / second packing layers 208a, 208b, and first / second demisters 209a, 209b. The activated carbon ball tower 300 includes a catalyst layer 310 for treating ozone and a gas outlet 320, respectively.

상기 정화시스템의 본체(201) 및 수조탱크(204)는 통상적으로 내식ㆍ내산성이 있는 FRP(Fiber Reinforced Plastics) 및 유리섬유 소재의 재료가 사용되며, 크기, 형태, 높이 등의 제약이 없어 환경 및 적절한 상황에 맞도록 설계가 가능하다. 또한 상기 가스 유입구(203) 전단에는 유해가스 및 복합악취 처리용량에 적합한 송풍기(202) 혹은 팬(Fan) 등을 선정하여 설치할 수 있다. The body 201 and the water tank 204 of the purification system are generally made of FRP (Fiber Reinforced Plastics) and glass fiber materials which are corrosion and acid resistant, and have no restrictions on size, shape, height, etc. Can be designed to suit the appropriate situation. In addition, the front of the gas inlet 203 may be installed by selecting a blower 202 or a fan (Fan) suitable for the harmful gas and the mixed odor treatment capacity.

또한, 상기 수조탱크(204) 내부에는, 하나 이상의 수중 플라즈마 발생장치(100)가 직접 접촉해 설치되어 있으며, 정화시스템의 본체(201) 하단부와 연결되어 플라즈마 처리수에 의해 집진ㆍ세정된 오염물질이 수중 플라즈마 처리영역으로 유입된다. 또한, 수조탱크(204)는 유해가스 및 복합악취 물질이 수중 플라즈마 발생장치(100)와 수조탱크(204)내부의 수표면 사이의 공간으로 유입되어 플라즈마에 의해 발생된 고농도의 오존과 접촉산화처리함과 동시에 본체(201) 내부로 유입되도록 하기 위해 가스 유입구(203)를 포함하고 있다. 또한, 플라즈마 처리수에 의해 집진ㆍ세정된 오염물질을 보다 효과적으로 처리할 수 있도록 수조탱크(204)내에 저장되는 물의 양을 최소화하기 위해서는 수조탱크(204)의 바닥부분은 톱니 모양의 구조로 형성되어 있다. 또한 수조탱크(204)내에는 수중 플라즈마 발생을 위한 물 이외에는 어떠한 세정액 혹은 화학약품이 일체 주입되지 않는 것을 특징으로 한다. In addition, one or more underwater plasma generators 100 are installed in the water tank 204 in direct contact with each other, and are connected to the lower end of the main body 201 of the purification system and collected and washed by plasma treated water. This is introduced into the underwater plasma processing region. In addition, the tank 204 has a high concentration of ozone and contact oxidation treatment generated by the plasma is introduced into the space between the water plasma generator 100 and the water surface inside the tank 204, the harmful gas and complex odorous substances At the same time, the gas inlet 203 is included so as to be introduced into the main body 201. In addition, in order to minimize the amount of water stored in the tank tank 204 so that the pollutants collected and washed by the plasma treated water can be more effectively treated, the bottom portion of the tank tank 204 has a sawtooth structure. have. In addition, the water tank 204 is characterized in that no cleaning liquid or chemicals are injected at all except water for plasma generation in water.

또한, 상기 수조탱크(204)내의 플라즈마 발생장치에서 플라즈마가 발생되어 전기 및 화학적으로 활성화된 플라즈마 처리수는 순환펌프(205)와 플라즈마 처리수 공급라인(206)[제1 분사 파이프(206a), 제2 분사 파이프(206b)]를 통해 정화시스템의 본체(201) 내에서 분사된다. 상기 제1/제2 분사 파이프(206a,206b)에는 다수개의 분사노즐(207a,207b)이 설치되어 있으며, 상기 제1 분사 파이프(206a)와 제2 분사 파이프(206b) 하단에는 제1/제2 패킹층(208a,208b)이 설치되어 있다. 유해가스 및 복합악취 물질은 순환펌프(205)와 플라즈마 처리수 공급라인(206)을 통해 상기 다수개의 분사노즐(207a,207b)에서 분사된 플라즈마 처리수에 의해 집진ㆍ세정되어 정화시스템의 본체(201) 하부의 수조탱크(204)로 흘러 내려와 플라즈마에 의해 수중에서 정화 처리되며, 플라즈마 처리수는 순환펌프(205)를 통해 연속적인 공급 및 순환이 이루어진다. In addition, plasma treatment water generated by the plasma generating apparatus in the tank tank 204 and electrically and chemically activated may be a circulation pump 205 and a plasma treatment water supply line 206 (first injection pipe 206a, Second injection pipe 206b) in the body 201 of the purification system. The first and second injection pipes 206a and 206b are provided with a plurality of injection nozzles 207a and 207b, and the first and second injection pipes 206a and the second injection pipe 206b are disposed at the lower end. 2 packing layers 208a and 208b are provided. Hazardous gases and complex odorous substances are collected and washed by the plasma treated water sprayed from the plurality of injection nozzles 207a and 207b through the circulation pump 205 and the plasma treated water supply line 206, and the main body of the purification system ( 201) It flows down to the tank tank 204 of the lower part and is purified by the plasma, and the plasma treated water is continuously supplied and circulated through the circulation pump 205.

여기서, 상기 제1/제2 분사 파이프(206a,206b) 및 다수개의 분사노즐(207a,207b)은, 그 위치와 수량에 제한을 받지 않으며 처리용량과 환경에 적합하도록 구조변경이 가능하며 바람직하게는 상기 다수개의 분사노즐(207a,207b)을 동일한 간격의 원형으로 설치할 경우 정화효율을 더욱 증대시킬 수 있다. Here, the first and second injection pipes 206a and 206b and the plurality of injection nozzles 207a and 207b are not limited in their position and quantity, and can be structurally modified to suit the processing capacity and environment. When the plurality of injection nozzles (207a, 207b) are installed in a circular form at the same interval can further increase the purification efficiency.

상기 제1/제2 패킹층(Packed Bed)(208a,208b)은, 유해가스 및 복합악취 가스와 플라즈마 처리수 및 고농도의 오존이 접촉하는 곳을 말하며, 다량의 활성라디칼을 포함한 플라즈마 처리수와 유해가스 및 복합악취 가스의 접촉면적 및 반응시간을 증대시키고 수중 플라즈마 발생장치에서 발생되는 고농도의 배오존과 접촉산화작용의 효율을 높일 수 있도록 설치되는 것으로서, 플라즈마 처리수에 의해 집진ㆍ세정된 유해가스 및 복합악취 물질을 플라즈마 처리수 및 오존과의 반응에 의해 처리되는 영역이다. The first and second packed beds 208a and 208b refer to a place where harmful gas, a mixed odor gas, plasma treated water and a high concentration of ozone contact each other, and a plasma treated water including a large amount of active radicals. It is installed to increase the contact area and reaction time of harmful gas and complex odor gas, and to increase the efficiency of high concentration of ozone generated by underwater plasma generator and catalytic oxidation, and it is collected and cleaned by plasma treated water. Gas and complex odorous substances are treated by reaction with plasma-treated water and ozone.

또한, 상기 제1/제2 패킹층(208a,208b)은, 일반적인 스크러버장치에도 사용되어져 왔던 것으로, 내식성 및 내산성, 표면적, 무게 및 압력손실 등을 고려하여 선정되며, 본 발명에서는 다수개의 분사노즐(207a,207b)의 하단에 상기 제1/제2 패킹층(208a,208b)을 각각 설치함으로서 유해 가스의 처리 효율을 증대시킬 수 있게 된다. In addition, the first and second packing layers 208a and 208b have been used in general scrubber devices, and are selected in consideration of corrosion resistance and acid resistance, surface area, weight, pressure loss, and the like. By providing the first and second packing layers 208a and 208b at the lower ends of 207a and 207b, the treatment efficiency of the noxious gas can be increased.

도 4 내지 도 6을 참조하여, 상기 활성탄 공탑(300)은, 상기 FRP 타워형 세정장치(200)를 거쳐 배출되는 청정가스에 포함된 플라즈마에 의해 발생된 고농도의 배오존을 처리하기 위한 수단으로, 상기 제2 디미스터(209b)의 상부를 통해 배출되는 오존을 처리하기 위한 배오존 처리용 촉매층(310)과, 상기 배오존 처리용 촉매층(310) 상부에 위치하여 정화된 공기를 외부로 배출하기 위한 가스 배출구(320)를 포함한다.4 to 6, the activated carbon ball tower 300 is a means for treating the high concentration of ozone generated by the plasma contained in the clean gas discharged through the FRP tower-type cleaning device 200, The ozone treatment catalyst layer 310 for treating ozone discharged through the upper portion of the second demister 209b, and the purified air disposed above the ozone treatment catalyst layer 310 to discharge the purified air to the outside It includes a gas outlet 320 for.

여기서, 플라즈마에 의해 발생된 오존이 본 발명의 정화시스템 본체(201)의 제1/제2 디미스터(209a,209b)를 거쳐 그대로 대기에 배출되었을 경우 2차적인 대기환경오염원이 될 수 있으므로, 상기 배오존 처리용 촉매층(310)을 두어 배출되는 고농도의 오존을 제거함과 동시에 미량의 잔류오염가스와의 산화분해 반응으로 처리하도록 한다. Here, when ozone generated by the plasma is discharged to the atmosphere as it is through the first / second demisters 209a and 209b of the purification system main body 201 of the present invention, it may be a secondary air pollution source, The ozone treatment catalyst layer 310 is provided to remove the high concentration of ozone discharged and to be treated by oxidative decomposition with a small amount of residual pollutant gas.

한편, 상기 배오존 처리용 촉매층(310)에서 오존을 제거하기 위한 공법으로는, 열분해 및 다공성 실리게이트, 제올라이트 등의 흡착제가 이용되고 있으나, 본 발명에서는 고가의 흡착제, 촉매제 등을 지양하고 경제적이고 가장 보편화되어 있는 활성탄만을 사용하였으며, 광촉매 등의 별도의 촉매제조 공정 없이 활성탄의 사용만으로도 시험결과 탁월한 효과를 나타내었다. 현실적으로 흡착공법에 의한 유해가스 및 악취제거 기술은 첫째로, 원천적인 오염물질을 제거하는 기술이 아니며, 흡착제에 악취분자가 흡착되어 짧은 시간 내에 포화되거나 흡착제로서의 기능을 제대로 수행하지 못하여 오염가스를 정화하는데 큰 한계가 있다. 따라서 본 발명에서는 첨단 수(水)처리 공법으로 유해가스 및 복합악취 물질을 정화 처리함과 동시에, 연속적인 플라즈마의 발생으로 생성된 오존과 활성탄의 반응을 지속적으로 일으키기 때문에 흡착제의 성능 및 정화효율을 유지ㆍ향상시킬 수 있다. Meanwhile, as a method for removing ozone from the ozone treatment catalyst layer 310, an adsorbent such as pyrolysis and porous silicate or zeolite is used, but in the present invention, it is economical to avoid expensive adsorbents and catalysts. Only the most common activated carbon was used, and the test results showed excellent effects only by using activated carbon without a separate catalyst manufacturing process such as a photocatalyst. Actually, the harmful gas and odor removal technology by the adsorption method is not a technology to remove the original pollutants, and the odor molecules are adsorbed on the adsorbent, so that they are saturated in a short time or do not function properly as an adsorbent to clean the polluted gas. There is a big limitation. Therefore, in the present invention, the advanced water treatment method purifies the toxic gas and the mixed odorous substance and at the same time continuously generates the reaction of ozone and activated carbon generated by continuous plasma generation, thereby improving the performance and purification efficiency of the adsorbent. It can be maintained and improved.

상기 가스 배출구(320)는, 오염물질이 제거된 청정공기를 배출하는 수단으로, 상기 배오존 처리용 촉매층(310)을 거쳐 배출되는 정화된 공기를 외부로 배출하기 때문에 상기 제1/제2 패킹층(208a,208b)을 거친 오존과, 수분을 함유한 액체성분, 미량의 잔류 유해가스 및 복합악취 물질이 상승하여 정화시스템 본체의 상ㆍ하단에 위치하고 있는 제1/제2 디미스터(209a,209b)와 접촉하게 되고 이때 상기 제1/제2 디미스터(209a,209b)에서는 상승된 수분 및 습기 등의 액체성분을 제거하게 된다. The gas outlet 320 is a means for discharging clean air from which contaminants are removed, and discharges the purified air discharged through the catalyst for treating the ozone zone 310 to the outside. Ozone through the layers 208a and 208b, a liquid component containing water, a small amount of residual harmful gas, and a complex odorous substance are raised so that the first and second demisters 209a, which are located above and below the main body of the purification system, 209b), and the first and second demisters 209a and 209b remove liquid components such as elevated moisture and moisture.

여기서 상기 디미스터(Demister)는 Mist Eliminator, Wire, Mesh Separator 등으로 호칭되며, 작용 원리는 유체 중에 포함되어 있는 불순물(Mist 및 Dust)을 선조(線條)에 의거 보촉(補促)한 후에 이를 분리, 제거하는 일종의 과정인 동시에 반응 장치에 있어서는 반응 작용을 효과적으로 일으키게 하는 반응 촉진이기도 하다. 특히, Demister는 복잡한 관성충돌 구도를 조성하는 까닭에 기액(氣液) 접촉효과가 크며, 99.9%이상의 분리효율(Separation Efficiency)을 가지고 있다. 또한 기존의 충전율에 비하면 중량이 가벼울 뿐만 아니라 공간율이 우수하여 압력손실(Pressure Drop)도 무시할 정도로 적게 일어난다. 또한, 사용조건에 맞게끔 다양한 재질로 제작되기 때문에 반영구적이며, 충전을 할 경우 간단히 유도하여 재사용할 수 있어 유지관리가 용이하며 경제적이다. 환경오염 방지시설의 가스세정기(Gas Scrubber) 장치에 필수적인 제품이다. The demister is referred to as Mist Eliminator, Wire, Mesh Separator, etc., and the principle of operation is to separate impurities after moisturizing impurities (Mist and Dust) contained in the fluid based on the ancestors. In addition, it is a kind of process of removing, and at the same time, reaction reaction in the reaction apparatus to effectively cause the reaction. In particular, Demister has a large gas-liquid contact effect due to the complex inertia collision composition, and has a separation efficiency of more than 99.9%. In addition, it is light in weight compared to the conventional filling rate, and the space rate is excellent, so that pressure drop occurs to be negligible. In addition, it is semi-permanent because it is made of various materials to suit the use conditions, and it is easy to maintain and economical because it can be easily induced and reused when charging. It is an essential product for the gas scrubber system of environmental pollution prevention facilities.

도 5를 참조하여 본 발명에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템의 작용을 보다 알기 쉽게 설명한다. Referring to Figure 5 will be described more clearly the operation of the purification system for removing harmful gases and complex odor using the underwater plasma generator according to the present invention.

도 5에서 보는 바와 같이, 수조탱크(204)내부에는 일정한 간격으로 하나 이상의 수중 플라즈마 발생장치(100)가 설치되며, 수조탱크(204)내부의 수표면 사이의 공간으로 송풍기(202)를 통해 외부에서 유입되는 유해가스 및 복합악취 물질이 가스 유입구(203)로 유입되면, 유해가스 및 복합악취 물질은 상기 하나 이상의 수중 플라즈마 발생장치(100)에 의해 발생된 오존과 접촉산화반응을 일으키면서 정화시스템의 본체(201)내로 유입되고 수방전 플라즈마에 의해 활성화된 플라즈마 처리수가 분사되어 오염가스 물질이 집진ㆍ세정된다. 또한 플라즈마에 의해 생성된 오존가스와 오염가스 물질이 제1/제2 패킹층(208a,208b) 및 본체(201) 내에서 접촉산화반응 처리됨과 동시에 집진ㆍ세정된 유해가스 및 복합악취 물질은 수조탱크(204)로 유입되어 다량의 활성종 및 플라즈마 에너지에 의해 수중에서 정화처리 된다. 그리고 지속적으로 수처리 및 활성화된 플라즈마 처리수는 다시 순환펌프(205)를 통해 분사되는 과정이 복합적으로 일어난다. 이후 제1/제2 디미스터(209a,209b)를 거쳐 배출되기 전 상기 배오존을 제거할 수 있는 배오존 처리용 촉매층(310)을 설치하여 오존이 외부로 배출되지 않도록 하고 송풍기(202)를 통해 가스 배출구(320)로 청정한 공기를 배출하게 되는 것이다. As shown in FIG. 5, one or more underwater plasma generators 100 are installed in the tank 204 at regular intervals, and are externally provided through the blower 202 to a space between the water surfaces inside the tank 204. When the harmful gas and the mixed odorous substance introduced from the gas inlet 203, the harmful gas and the mixed odorous substance causes a catalytic oxidation reaction with ozone generated by the at least one underwater plasma generator 100 while purifying the system. The plasma treated water flowing into the main body 201 and activated by the water discharge plasma is sprayed to collect and wash the contaminated gaseous substance. In addition, the ozone gas and the pollutant gas generated by the plasma are subjected to catalytic oxidation in the first and second packing layers 208a and 208b and the main body 201, and at the same time, the harmful gases and the complex odorous substances collected and washed are collected in a water tank. It enters the tank 204 and is purified in water by a large amount of active species and plasma energy. In addition, the process of continuously spraying the treated water and activated plasma treated water through the circulation pump 205 takes place in combination. After installing the ozone treatment catalyst layer 310 which can remove the ozone before being discharged through the first and second demisters 209a and 209b, the ozone is not discharged to the outside and the blower 202 is opened. The clean air is discharged to the gas outlet 320 through.

한편, 도 6은 상기 도 5에 대한 본 발명에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템의 단면도이며 별도의 설명은 생략한다. On the other hand, Figure 6 is a cross-sectional view of the purifying system for removing harmful gases and complex odors using the underwater plasma generator according to the present invention with respect to FIG.

이와 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 정화시스템은, 전기적으로 하전된 고밀도의 플라즈마 처리수에 의한 집진ㆍ세정하며, 집진ㆍ세정된 유해가스 및 복합악취 물질을 수방전 플라즈마에 의해 수(水)처리하고 고농도의 오존과 오염가스와의 접촉산화 처리가 동시 복합적으로 작용하여 높은 처리효율을 나타낸다. 또한 공급되는 물은 정화되어 배출 및 재사용되므로 2차 오염에 대한 문제점이 없고 고가의 화학약품을 사용하지 않으므로 연속적인 운전이 가능한 저비용 고효율의 친환경 대기오염방지 기술을 제공하게 된다. As described above, the noxious gas and the mixed odor purifying system using the underwater plasma generator according to the embodiment of the present invention are collected and washed by the electrically charged high density plasma treated water, and the noxious gas and the mixed noxious gas are collected and cleaned. The malodorous substance is water-treated by a water discharge plasma, and a high concentration of ozone and contact oxidation treatment of polluting gas simultaneously acts in combination to exhibit high treatment efficiency. In addition, since the supplied water is purified, discharged and reused, there is no problem of secondary pollution and no expensive chemicals are used, thereby providing a low-cost, high-efficiency, environmentally friendly air pollution prevention technology capable of continuous operation.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명에 개시된 실시예는 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

100 : 수중 플라즈마 발생장치
110 : 수중 플라즈마 반응기
111 : 투명 석영관 112 : 도전성 방전극
113 : 도전성 대향전극 113a : 나선형 탭
114 : 방사형 반응기 헤드 120 : 레귤레이터
130 : 상용 전자식 네온 트랜스 140 : 소밀 다공성 버블장치
200 : FRP 타워형 세정장치 201 : 정화시스템의 본체
202 : 송풍기 203 : 가스 유입구
204 : 수조탱크 205 : 순환펌프
206 : 플라즈마 처리수 공급라인 206a,206b : 제1/제2 분사 파이프
207a,207b : 다수개의 분사노즐 208a,208b : 제1/제2 패킹층
209a,209b : 제1/제2 디미스터 300 : 활성탄 공탑
310 : 배오존 처리용 촉매층 320 : 가스 배출구
100: underwater plasma generator
110: underwater plasma reactor
111: transparent quartz tube 112: conductive discharge electrode
113: conductive counter electrode 113a: spiral tab
114: radial reactor head 120: regulator
130: commercial electronic neon transformer 140: high density porous bubble device
200: FRP tower type cleaning device 201: main body of the purification system
202: blower 203: gas inlet
204: tank tank 205: circulation pump
206: plasma treatment water supply line 206a, 206b: first / second injection pipe
207a, 207b: a plurality of injection nozzles 208a, 208b: first / second packing layer
209a, 209b: First and Second Demister 300: Activated Carbon Ball Tower
310: catalyst layer for ozone treatment 320: gas outlet

Claims (8)

수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템에 있어서,
상기 시스템은 투명 석영관 내부에는 도전성 방전극과 외부표면에는 전계집중 및 수중 플라즈마 반응기를 지지하며 고밀도 스트리머 플라즈마의 방전영역을 형성하고 플라즈마 반응기의 구조적인 안정성을 증대시키도록 하는 나선형 형태의 한 쌍의 전극으로 이루어진 도전성 대향전극을 갖고 전기적으로 하전된 고밀도의 수중 플라즈마를 발생시키는 수중 플라즈마 반응기(110)와, 상기 수중 플라즈마 반응기에 공기 또는 가스를 주입ㆍ조절하는 레귤레이터(120)와, 상기 수중 플라즈마 반응기에 고전압 저전력 저가의 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 상용 전자식 네온트랜스(130)와, 상기 수중 플라즈마 반응기와 연결되어 산화반응을 촉진시키는 소밀 다공성 버블장치(140)를 구비하여 수중오염물질을 세정하도록 하는 수중 플라즈마 발생장치(100)를 포함하며,
또한, 상기 수중 플라즈마 발생장치에서 발생되는 고농도 오존과 송풍기(202) 및 가스 유입구(203)를 통해 외부에서 유입되는 유해가스 및 복합악취 간의 접촉산화반응 작용을 증대시키도록 수중 플라즈마 발생을 위한 물 이외에는 어떠한 세정액 혹은 화학약품은 일체 주입되지 않는 수(水)처리 구조의 수조탱크(204)를 갖되,
상기 수처리된 플라즈마 처리수를 강제 순환 및 접촉산화반응 작용을 물리적으로 촉진시켜 상기 고농도의 오존과 유해가스 및 복합악취와의 접촉산화 처리가 동시 복합적으로 작용하도록 하여 집진ㆍ세정하는 FRP 타워형 세정장치(200)와;
또한, 상기 FRP 타워형 세정장치를 거쳐 배출되는 청정가스에 포함된 플라즈마에 의해 발생된 고농도의 배오존을 처리하기 위한 활성탄 공탑(300)을 포함하는 것을 특징으로 하는 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템.
In the purification system for removing harmful gases and complex odors using an underwater plasma generator,
The system supports a conductive discharge electrode inside a transparent quartz tube, an electric field concentration and an underwater plasma reactor on an outer surface thereof, and forms a discharge region of a high density streamer plasma and increases a structural stability of the plasma reactor. An underwater plasma reactor 110 having a conductive counter electrode composed of electrodes to generate an electrically charged high density underwater plasma, a regulator 120 for injecting and regulating air or gas into the underwater plasma reactor, and the underwater plasma reactor A commercial electronic neon transformer 130 for generating a plasma by applying a high voltage, low power, and low cost power to the plasma, and a dense porous bubble device 140 connected to the underwater plasma reactor to promote an oxidation reaction to clean the water pollutants. Underwater plasma generator 100),
In addition, in order to increase the catalytic oxidation reaction between the high concentration ozone generated in the underwater plasma generator and the harmful gas and the complex odor introduced from the outside through the blower 202 and the gas inlet 203, except for water for generating the plasma in the water Some cleaning fluids or chemicals have a water tank 204 of the water treatment structure is not injected at all,
FRP tower type washing apparatus which collects and washes the plasma treated water by physically promoting forced circulation and catalytic oxidation reaction so that the contact oxidation treatment between the high concentration of ozone, harmful gas and complex odor is simultaneously performed. 200);
In addition, the harmful gas using the underwater plasma generator, characterized in that it comprises an activated carbon ball tower 300 for treating a high concentration of ozone generated by the plasma contained in the clean gas discharged through the FRP tower-type cleaning device; Purification system for compound odor removal.
제1 항에 있어서,
상기 도전성 대향전극은, 15[cm] 이내의 길이와 1 ~ 1.5[mm] 두께를 가진 나선형 형태의 탭 구조이며 나선형 탭(113a)의 간격은 1 ~ 2[mm]인 것을 포함하여 특징으로 하는 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템.
The method according to claim 1,
The conductive counter electrode includes a spiral tab structure having a length within 15 [cm] and a thickness of 1 to 1.5 [mm], and a distance between the spiral tabs 113a is 1 to 2 [mm]. Purification system for removing harmful gases and complex odors using an underwater plasma generator.
제1 항에 있어서,
상기 FRP 타워형 세정 장치는, 본체(201)와, 상기 본체의 하부에 설치되는 수조탱크의 플라즈마 처리수를 강제 순환시키는 순환펌프(205)와, 상기 순환펌프와 연결되는 플라즈마 처리수 공급라인(206)과, 상기 플라즈마 처리수 공급라인에 연결되는 제1/제2 분사 파이프(206a, 206b) 및 다수개의 분사노즐(207a,207b)과, 상기 각 분사노즐의 하단에 일정한 간격을 두고 설치되며, 플라즈마 처리수에 의해 집진ㆍ세정된 유해가스 및 복합악취 물질을 오존과의 접촉면적 및 반응시간을 증대시켜 여과 처리하도록 하는 제1/제2 패킹층(208a,208b)과, 상기 본체(201)의 상ㆍ하단에는 상기 수조탱크와 상기 제2 분사파이프 및 다수개의 분사노즐에서 상승되는 수분 및 습기 등의 액체성분을 제거하도록 하는 제1/제2 디미스터(209a,209b)를 포함하는 것을 특징으로 하는 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템.
The method according to claim 1,
The FRP tower type cleaning apparatus includes a main body 201, a circulation pump 205 for forcibly circulating plasma treated water in a tank installed under the main body, and a plasma treated water supply line 206 connected to the circulating pump. ), First / second injection pipes 206a and 206b and a plurality of injection nozzles 207a and 207b connected to the plasma treatment water supply line, and are provided at predetermined intervals at the lower ends of the injection nozzles, First and second packing layers 208a and 208b for filtering toxic gases and complex odorous substances collected and washed by plasma treated water to increase the contact area and reaction time with ozone and the main body 201. The first and second demisters 209a and 209b are disposed at upper and lower ends of the tank tank, the second injection pipe and the plurality of injection nozzles to remove liquid components such as moisture and moisture that are raised. Underwater plaque Harmful gases and complex odor purification system using the generator.
삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 수조탱크(204)는, 플라즈마 처리수에 의해 집진ㆍ세정된 오염물질을 보다 효과적으로 처리할 수 있도록 수조탱크 내에 저장되는 물의 양을 최소화하기 위해 수조탱크 바닥부분을 톱니 모양의 구조로 형성되는 것을 포함하여 특징으로 하는 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템.
The method according to claim 1,
The tank 204 is formed with a sawtooth structure at the bottom of the tank to minimize the amount of water stored in the tank so that the pollutants collected and washed by the plasma treatment water can be more effectively treated. Purifying system for removing harmful gases and complex odors using an underwater plasma generator, including.
삭제delete 제3 항에 있어서,
상기 활성탄 공탑(300)은, 상기 제2 디미스터(209b)의 상부를 통해 배출되는 오존을 처리하기 위한 배오존 처리용 촉매층(310)과, 상기 배오존 처리용 촉매층 상부에 위치하여 정화된 공기를 외부로 배출하기 위한 가스 배출구(320)를 포함하는 것을 특징으로 하는 수중 플라즈마 발생장치를 이용한 유해가스 및 복합악취 제거용 정화시스템.
The method of claim 3,
The activated carbon ball tower 300 includes a catalyst layer for ozone treatment for treating ozone discharged through the upper portion of the second demister 209b and air purified by being positioned on the catalyst layer for treating the ozone treatment. Purifying system for removing harmful gases and complex odors using an underwater plasma generator, characterized in that it comprises a gas outlet 320 for discharging to the outside.
삭제delete
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