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KR100892757B1 - Apparatus and method for treating substrates - Google Patents

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KR100892757B1
KR100892757B1 KR1020070101867A KR20070101867A KR100892757B1 KR 100892757 B1 KR100892757 B1 KR 100892757B1 KR 1020070101867 A KR1020070101867 A KR 1020070101867A KR 20070101867 A KR20070101867 A KR 20070101867A KR 100892757 B1 KR100892757 B1 KR 100892757B1
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substrate
wing
air flow
rod
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Application number
KR1020070101867A
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Inventor
신재윤
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세메스 주식회사
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Abstract

An apparatus and a method for treating substrates are provided to form the air current blocking fume regardless of the rotational direction of the rotation rod by changing the spiral direction of the wing portions of the brush cleaner part. A cleaning chamber(110) provides the process space for performing the substrate washing process. A plurality of shafts(120), the first spin transmitter(130), a plurality of rotation drivers(160), a belt(170), the second spin transmitter(180), and a brush cleaner part(190) are arranged in the process space. Each shaft comprises a rotation roller(121a) and a plurality of support rollers(121b). The first spin transmitter comprises a plurality of first magnets(131). The first spin transmitter is rotated by the torque delivered from the second spin transmitter. A rotary motor(150) is located adjacent to the rotation driver. The rotary motor provides the torque to the rotation drivers. The rotation driver which is adjacent to the rotary motor is connected to the belt. The second spin transmitter comprises a plurality of second magnets(181).

Description

기판 처리장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATES}Substrate processing apparatus and method {APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATES}

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 웨이퍼 또는 평판 표시 소자 제조에 사용되는 기판 등을 세정하는 기판 처리장치 및 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to an apparatus for processing a substrate, and more particularly, to a substrate processing apparatus and a method for cleaning a substrate or the like used for manufacturing a wafer or a flat panel display element.

최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 소정의 정보를 표시하는 표시 패널(display panel)을 가진다. 지금까지 표시 패널로는 주로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 사용되었으나, 최근에는 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널의 사용이 급격히 증대하고 있다. Recently, information processing devices have been rapidly developed to have various types of functions and faster information processing speeds. Such an information processing apparatus has a display panel which displays predetermined information. Until now, a cathode ray tube monitor has been mainly used as a display panel. However, in recent years, the use of flat panel displays such as liquid crystal displays (LCDs), which are light and occupy small spaces, is rapidly increasing with the rapid development of technology.

이러한, 평판 표시 패널은 그 제조 과정에서 다양한 세정 공정들이 수행된다. 세정 공정은, 기판 상에 부착된 파티클 등과 같은 오염물질을 제거하는 공정으로서, 박막 트랜지스터 등과 같은 회로 소자의 손실을 최소화하여 수율을 향상시키기 위해 수행된다.Such a flat panel display panel is subjected to various cleaning processes in its manufacturing process. The cleaning process is a process for removing contaminants such as particles and the like deposited on the substrate, and is performed to minimize the loss of circuit elements such as thin film transistors and the like to improve the yield.

일반적으로, 세정 공정은 약액을 기판에 분사하여 기판을 세정하기 때문에, 공정 과정에서 흄(Fume)이 많이 발생한다. 이러한 흄은 세정 공정이 이루어지는 챔버 안에서 확산되므로, 세정이 완료된 기판에 흡착되어 기판의 얼룩을 유발한다.In general, since the cleaning process injects the chemical liquid onto the substrate to clean the substrate, a large amount of fume is generated in the process. Since the fume diffuses in the chamber in which the cleaning process is performed, the fume is adsorbed onto the cleaned substrate and causes staining of the substrate.

본 발명의 목적은 기판의 세정 효율을 향상시킬 수 있는 기판 처리장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of improving the cleaning efficiency of a substrate.

또한, 본 발명의 목적은 상기한 기판 처리장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법을 제공하는 것이다. It is also an object of the present invention to provide a method of treating a substrate using the substrate processing apparatus described above.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 기판 처리장치는, 이송부재 및 브러쉬 세정부로 이루어진다.A substrate processing apparatus according to one feature for realizing the above object of the present invention comprises a transfer member and a brush cleaning unit.

이송부재는 기판이 안착되고, 상기 기판을 이송한다. 브러쉬 세정부는 상기 이송부재의 상부에 구비되어 상기 기판과 마주하고, 회전을 통해 기류를 형성하여 기판을 세정한다. 구체적으로, 상기 브러쉬 세정부는, 일 방향으로 연장되어 로드 형상을 갖고, 중심축을 기준으로 회전하는 회전 로드, 및 상기 회전 로드의 외주면에 구비되고, 상기 회전 로드의 회전력에 의해 상기 기류를 형성하며, 상기 회전 로드의 회전 방향에 상관없이 상기 기류를 일정하게 형성하는 다수의 기류 형성부를 포함한다.The transfer member has a substrate mounted thereon, and transfers the substrate. The brush cleaning unit is provided on the transfer member to face the substrate, and forms a air flow through rotation to clean the substrate. Specifically, the brush cleaning unit has a rod shape extending in one direction, provided on a rotating rod rotating about a central axis, and an outer circumferential surface of the rotating rod, and forming the air flow by the rotational force of the rotating rod. And a plurality of airflow forming portions which constantly form the airflow regardless of the rotational direction of the rotary rod.

상기 기류 형성부는, 바디부 및 다수의 날개부를 포함한다. 바디부는 링 형상을 갖고, 상기 회전 로드를 둘러싸며, 상기 회전 로드와 함께 회전한다. 날개부들은 및 상기 바디부의 외주면에 배치되고, 상기 회전 로드의 회전 방향에 대응하여 그 위치가 조절되며, 상기 회전 로드의 회전을 통해 상기 기류를 형성한다.The air flow forming portion includes a body portion and a plurality of wings. The body portion has a ring shape, surrounds the rotating rod, and rotates with the rotating rod. The wing parts are disposed on the outer circumferential surface of the body part, and the position thereof is adjusted corresponding to the rotation direction of the rotation rod, and forms the airflow through the rotation of the rotation rod.

또한, 상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 기판 처리 방법은 다음과 같다. 먼저, 기판을 이송부재에 안착시켜 수평 이동시킨다. 상기 기판의 상부에 기류를 형성하는 다수의 날개부를 갖는 브러쉬 세정부를 배치한다. 상기 브러쉬 세정부의 회전을 통해 상기 기류를 형성하여 상기 기판을 세정한다. 여기서, 상기 브러쉬 세정부의 회전 방향에 따라 상기 다수의 날개부의 위치를 조절하여 상기 기류의 방향을 조절한다.Further, the substrate processing method according to one feature for realizing the above object of the present invention is as follows. First, the substrate is placed on the transfer member and moved horizontally. A brush cleaning unit having a plurality of wings forming an air stream is disposed on the substrate. The air is formed through the rotation of the brush cleaner to clean the substrate. Here, the direction of the air flow is adjusted by adjusting the positions of the plurality of wings according to the rotation direction of the brush cleaning unit.

상술한 본 발명에 따르면, 기판 처리장치는 브러쉬 세정부의 날개부들의 나선 방향을 변경할 수 있으므로, 회전 로드의 회전 방향에 상관없이 흄을 차단하는 기류를 형성할 수 있다. 이에 따라, 기판 처리장치는 기판의 세정 효율 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.According to the present invention described above, the substrate processing apparatus can change the spiral direction of the wings of the brush cleaning portion, it is possible to form an air flow blocking the fume irrespective of the rotation direction of the rotary rod. Accordingly, the substrate processing apparatus can improve the cleaning efficiency of the substrate and the yield of the product.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치를 나타낸 평면도이다.1 is a plan view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 처리장치(100)는 세정 챔버(110), 다수의 샤프트(120), 제1 회전 전달부(130), 회전 모터(150), 다수의 회전 구동부(160), 벨트(170), 제2 회전 전달부(180) 및 브러쉬 세정부(190)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the substrate processing apparatus 100 according to the present invention may include a cleaning chamber 110, a plurality of shafts 120, a first rotation transfer unit 130, a rotation motor 150, and a plurality of rotation drivers ( 160, the belt 170, the second rotation transfer unit 180, and the brush cleaner 190.

구체적으로, 상기 세정 챔버(110)는 기판(10)의 세정 공정이 수행되는 공정 공간을 제공한다. 상기 공정 공간에는 상기 다수의 샤프트(120), 상기 제1 회전 전달부(130), 상기 다수의 회전 구동부(160), 상기 벨트(170), 상기 제2 회전 전달부(180) 및 상기 브러쉬 세정부(190)가 배치된다.Specifically, the cleaning chamber 110 provides a process space in which a cleaning process of the substrate 10 is performed. The plurality of shafts 120, the first rotation transmission unit 130, the plurality of rotation driving units 160, the belt 170, the second rotation transmission unit 180, and the brush three are disposed in the process space. Government 190 is deployed.

상기 샤프트들(120)은 서로 평행하게 병렬 배치되고, 소정 거리로 서로 이격되어 배치된다. 각 샤프트(121)는 회전 롤러(121a) 및 다수의 지지 롤러(121b)를 포함한다. 상기 회전 롤러(121a)는 상기 샤프트들(120)이 배치된 방향과 직교하는 방향으로 연장되어 로드 형상을 갖고, 상기 다수의 회전 구동부(160)에 의해 일 방향으로 회전한다. 상기 회전 롤러(121a)는 상기 다수의 지지 롤러(121b)에 삽입된다. 상기 지지 롤러들(121b)은 상기 회전 롤러(121a)의 길이 방향으로 서로 이격되어 위치하고, 링 형상을 가지며, 상기 회전 롤러(121a)와 함께 회전한다.The shafts 120 are arranged in parallel to each other and spaced apart from each other by a predetermined distance. Each shaft 121 includes a rotating roller 121a and a plurality of support rollers 121b. The rotary roller 121a extends in a direction orthogonal to a direction in which the shafts 120 are disposed to have a rod shape, and rotate in one direction by the plurality of rotation drivers 160. The rotary roller 121a is inserted into the plurality of support rollers 121b. The support rollers 121b are spaced apart from each other in the longitudinal direction of the rotary roller 121a, have a ring shape, and rotate together with the rotary roller 121a.

상기 기판(10)은 상기 샤프트들(120)의 상부에 상기 샤프트들(120)과 마주하게 배치되고, 하면이 상기 지지 롤러들(121b)에 의해 지지된다. 상기 기판(10)은 상기 지지 롤러(121b)의 회전 운동에 의해 상기 샤프트들(120)이 배치된 방향으로 수평 이동된다.The substrate 10 is disposed on the shafts 120 to face the shafts 120, and a lower surface thereof is supported by the support rollers 121b. The substrate 10 is horizontally moved in the direction in which the shafts 120 are disposed by the rotational movement of the support roller 121b.

상기 회전 롤러(121a)의 일 단부에는 상기 제1 회전 전달부(130)가 구비된다. 상기 제1 회전 전달부(130)는 다수의 제1 자석(131)을 내장하고, 상기 제2 회전 전달부(180)로부터 회전력을 전달받아 회전한다. 상기 제1 회전 전달부(130)의 회전력은 대응하는 회전 롤러(121a)에 전달되어 상기 회전 롤러(121a)가 회전하고, 이에 따라, 상기 샤프트들(120) 상에 안착된 상기 기판(10)이 수평 이동된다.One end of the rotary roller 121a is provided with the first rotation transfer part 130. The first rotation transmission unit 130 includes a plurality of first magnets 131 and rotates by receiving a rotation force from the second rotation transmission unit 180. The rotational force of the first rotation transmission unit 130 is transmitted to the corresponding rotation roller 121a so that the rotation roller 121a rotates, and thus, the substrate 10 seated on the shafts 120. It is moved horizontally.

한편, 상기 회전 모터(150)는 상기 회전 구동부들(160)과 인접하여 위치하 고, 회전력을 상기 회전 구동부들(160)에 제공한다. 즉, 상기 벨트(170)는 상기 회전 모터(150) 및 상기 회전 모터(150)와 인접한 회전 구동부, 및 서로 인접한 두 개의 회전 구동부에 마다 구비되어 상기 회전 모터(150)와 인접한 회전 구동부를 연결하고, 상기 인접한 두 개의 회전 구동부를 연결한다. 이에 따라, 상기 회전 모터(150)의 회전력이 상기 회전 모터(150)와 인접한 회전 구동부로부터 그 다음 회전 구동부에 순차적으로 전달되어 상기 회전 구동부들(160)이 회전한다.On the other hand, the rotary motor 150 is located adjacent to the rotation drive unit 160, and provides a rotational force to the rotation drive unit 160. That is, the belt 170 is provided for each of the rotary motor 150 and the rotary driving unit adjacent to the rotary motor 150, and two rotary driving units adjacent to each other to connect the rotary driving unit adjacent to the rotary motor 150. Connecting the two adjacent rotation drive. Accordingly, the rotational force of the rotational motor 150 is sequentially transmitted from the rotational drive adjacent to the rotational motor 150 to the next rotational drive to rotate the rotational drive 160.

상기 다수의 회전 구동부(160)는 서로 이격되어 평행하게 배치되고, 상기 다수의 샤프트(120)와 일대일 대응하여 위치한다. 각 회전 구동부(161)는 회전축(161a) 및 풀리(161b)를 구비한다. 상기 회전축(161a)은 상기 샤프트(121)의 회전 롤러(121a)와 동일한 방향으로 연장되어 형성되고, 로드 형상을 갖는다. 상기 회전축(161a)의 제1 단부에는 상기 풀리(161b)가 구비된다.The plurality of rotation drivers 160 are spaced apart from each other and arranged in parallel, and are located in one-to-one correspondence with the plurality of shafts 120. Each rotation drive unit 161 includes a rotation shaft 161a and a pulley 161b. The rotating shaft 161a extends in the same direction as the rotating roller 121a of the shaft 121 and has a rod shape. The pulley 161b is provided at the first end of the rotation shaft 161a.

상기 회전 구동부들(160)의 풀리들 중 상기 회전 모터(150)와 인접한 풀리는 상기 벨트(170)에 의해 상기 회전 모터(150)와 연결되어 상기 회전 모터(150)로부터 회전력을 전달받는다. 또한, 서로 인접한 두 개의 풀리들도 밸트에 의해 연결되어 상기 회전 모터(150)로부터의 회전력을 전달받는다. 상기 풀리(161b)의 회전력은 대응하는 회전축(161a)에 전달되어 상기 회전축(161a)이 회전한다.Among the pulleys of the rotation drivers 160, the pulley adjacent to the rotation motor 150 is connected to the rotation motor 150 by the belt 170 to receive a rotation force from the rotation motor 150. In addition, two pulleys adjacent to each other are also connected by a belt to receive the rotational force from the rotary motor 150. The rotational force of the pulley 161b is transmitted to the corresponding rotation shaft 161a so that the rotation shaft 161a rotates.

상기 각 회전축(161a)의 제2 단부에는 상기 제2 회전 전달부(180)가 구비되고, 상기 제2 회전 전달부(180)는 상기 회전축(161a)으로부터 회전력을 전달받는다. 상기 제2 회전 전달부(180)는 상기 제1 회전 전달부(130)와 일대일 대응하여 위치하고, 차단벽(20)을 사이에 두고 상기 제1 회전 전달부(130)와 마주한다. 여기 서, 상기 차단벽(20)은 실질적으로 약액에 의해 상기 기판(10)이 처리되는 공간과 상기 회전 구동부들(160)이 위치하는 공간을 서로 분리시켜 상기 약액이 상기 회전 구동부들(160)이 구비된 영역 안으로 유입되는 것을 방지한다.The second rotation transmission unit 180 is provided at the second end of each of the rotation shafts 161a, and the second rotation transmission unit 180 receives the rotational force from the rotation shaft 161a. The second rotation transmission unit 180 is located in one-to-one correspondence with the first rotation transmission unit 130 and faces the first rotation transmission unit 130 with the blocking wall 20 therebetween. Here, the blocking wall 20 substantially separates the space in which the substrate 10 is processed by the chemical liquid from the space in which the rotation driving units 160 are located, thereby separating the chemical liquid from the rotation driving units 160. To prevent it from entering into the provided area.

상기 제2 회전 전달부(180)는 다수의 제2 자석(181)을 내장하고, 상기 제1 회전 전달부(130)에 내장된 제1 자석들(131)과의 사이에 인력을 형성한다. 상기 제2 회전 전달부(180)는 상기 제1 자석들(131)과 상기 제2 자석들(181)과의 사이에 형성된 자력을 이용하여 회전력을 상기 제1 회전 전달부(130)에 전달한다.The second rotation transmission unit 180 includes a plurality of second magnets 181 and forms an attraction force with the first magnets 131 embedded in the first rotation transmission unit 130. The second rotation transmission unit 180 transmits a rotational force to the first rotation transmission unit 130 by using a magnetic force formed between the first magnets 131 and the second magnets 181. .

이에 따라, 상기 제1 회전 전달부(130)가 회전하고, 상기 제1 회전 전달부(130)의 회전력은 대응하는 샤프트(120)에 전달되어 상기 샤프트(120)가 회전된다.Accordingly, the first rotation transmission unit 130 rotates, and the rotational force of the first rotation transmission unit 130 is transmitted to the corresponding shaft 120 to rotate the shaft 120.

한편, 상기 사프트들(120)의 상부에는 상기 브러쉬 세정부(190)가 구비된다. 상기 브러쉬 세정부(190)는 기류를 형성하여 약액을 이용한 상기 기판(10)의 세정 공정 과정에서 발생된 흄(Fume)을 차단한다.Meanwhile, the brush cleaner 190 is provided on the shafts 120. The brush cleaning unit 190 forms an airflow to block fumes generated during the cleaning process of the substrate 10 using the chemical liquid.

구체적으로, 상기 브러쉬 세정부(190)는 상기 기판(10)의 상부에 배치되어 공정 시 상기 기판(10)과 마주한다. 상기 브러쉬 세정부(190)는 회전 로드(191), 다수의 기류 형성부, 및 모터(193)를 포함한다. 상기 회전 로드(191)는 상기 회전 롤러(121a)와 동일한 방향으로 연장되어 로드 형상을 갖고, 중심축을 기준으로 회전한다. 상기 회전 로드(191)는 일 단부가 상기 모터(193)와 결합하여 상기 모터(193)의 구동에 의해 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전한다.In detail, the brush cleaner 190 is disposed on the substrate 10 to face the substrate 10 during the process. The brush cleaner 190 includes a rotating rod 191, a plurality of airflow forming units, and a motor 193. The rotary rod 191 extends in the same direction as the rotary roller 121a, has a rod shape, and rotates about a central axis. One end of the rotary rod 191 is coupled to the motor 193 to rotate in a clockwise or counterclockwise direction by driving the motor 193.

상기 회전 로드(191)는 상기 다수의 기류 형성부에 삽입되고, 상기 기류 형 성부들은 상기 회전 로드(191)와 함께 회전한다. 상기 기류 형성부들은 상기 회전 로드(191)의 길이 방향으로 서로 이격되어 배치되고, 상기 회전 로드(191)의 회전에 의해 상기 기류를 형성하여 상기 흄이 상기 기판(10)에 안착되는 것을 방지한다.The rotary rod 191 is inserted into the plurality of airflow forming portions, and the airflow forming portions rotate together with the rotary rod 191. The airflow forming portions are spaced apart from each other in the longitudinal direction of the rotary rod 191, and forms the airflow by the rotation of the rotary rod 191 to prevent the fume from being seated on the substrate 10. .

도 2는 도 1에 도시된 기류 형성부를 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시된 바디부를 나타낸 평면도이며, 도 4는 도 2에 도시된 날개부를 나타낸 사시도이고, 도 5는 도 2에 도시된 날개부가 바디부에 삽입된 상태를 나타낸 단면도이다.FIG. 2 is a perspective view showing the airflow forming portion shown in FIG. 1, FIG. 3 is a plan view showing the body portion shown in FIG. 2, FIG. 4 is a perspective view showing the wing portion shown in FIG. 2, and FIG. 5 is shown in FIG. 2. It is a cross-sectional view showing a state in which the wing portion is inserted into the body portion.

도 2 내지 도 3을 참조하면, 상기 기류 형성부(192)는 바디부(192a) 및 다수의 날개부를 포함한다. 상기 바디부(192a)는 링 형상을 갖고, 상기 회전 로드(191)의 외주면을 둘러싸며, 상기 회전 로드(191)와 함께 회전한다. 상기 바디부(192a)의 외주면에는 상기 다수의 날개부가 삽입되는 다수의 삽입홈이 형성된다.2 to 3, the air flow forming portion 192 includes a body portion 192a and a plurality of wings. The body portion 192a has a ring shape, surrounds the outer circumferential surface of the rotation rod 191, and rotates together with the rotation rod 191. The outer circumferential surface of the body portion 192a is formed with a plurality of insertion grooves into which the plurality of wing portions are inserted.

상기 다수의 삽입홈은 상기 바디부(192a)의 외주면을 따라 서로 이격되어 형성되고, 각 삽입홈(91)은 'X'자 형상을 갖는다.The plurality of insertion grooves are formed to be spaced apart from each other along the outer peripheral surface of the body portion 192a, each insertion groove 91 has an 'X' shape.

상기 날개부들은 서로 이격되어 위치되고, 상기 바디부(192a)의 외주면에 나선상으로 배치된다. 각 날개부(192b)는 플레이트 형상을 갖는다. 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 날개부(192b)의 하단부는 상기 삽입홈(91)에 삽입되어 상기 바디부(192a)에 고정된다. 상기 날개부(192b)의 하단부는 양측에 각각 돌기(92a, 29b)가 형성되어 상기 바디부(192a)와의 결합력을 향상시킨다. 본 발명의 일례로, 상기 날개부(192b)는 수지 재질로 이루어진다.The wings are spaced apart from each other, and are disposed spirally on the outer circumferential surface of the body portion 192a. Each wing 192b has a plate shape. As shown in FIG. 5, the lower end of the wing 192b is inserted into the insertion groove 91 and fixed to the body 192a. The lower ends of the wing portions 192b are provided with protrusions 92a and 29b on both sides, respectively, to improve the coupling force with the body portion 192a. In one example of the present invention, the wing 192b is made of a resin material.

이와 같이, 상기 날개부(192b)는 상기 바디부(192a)의 외주면으로부터 돌출 되므로, 상기 바디부(192a)의 회전에 의해 상기 기류를 형성한다. 상기 기판(10)의 상면에 형성된 흄은 상기 기류에 의해 가이드 되어 상기 기판(10)이 위치하는 영역의 외부로 배기된다.As such, the wing 192b protrudes from the outer circumferential surface of the body 192a, thereby forming the airflow by the rotation of the body 192a. The fume formed on the upper surface of the substrate 10 is guided by the air flow and exhausted to the outside of the region where the substrate 10 is located.

또한, 상기 날개부(192b)는 상기 회전 로드(191)(도 1 참조)의 회전 방향에 대응하여 그 위치가 변경된다. 즉, 상기 삽입홈(91)은 'X'자 형상으로 형성되므로, 상기 바디부(192a)의 외주면을 지면에 대해 수직하게 세운 상태에서 볼 때, 상기 지면에 대해 제1 방향으로 기울어진 제1 나선부(SD1)와, 상기 제1 방향과 반대되는 제2 방향으로 기울어져 상기 제1 나선부(SD1)와 교차하는 제2 나선부(SD2)로 나눌 수 있다. 상기 날개부(192a)는 상기 제1 및 제2 나선부(SD1, SD2) 중 어느 하나에 삽입되며, 상기 삽입홈들은 상기 날개부(192b)가 삽입되는 삽입홈이 서로 동일하다. 상기 날개부들은 상기 각 날개부(192b)가 삽입된 나선부에 따라 나선 방향이 변경되고, 상기 날개부들의 나선 방향 및 상기 회전 로드(191)의 회전 방향에 따라 상기 기류가 형성된다.In addition, the position of the wing 192b corresponding to the rotation direction of the rotary rod 191 (see FIG. 1) is changed. That is, since the insertion groove 91 is formed in an 'X' shape, when viewed in a state in which the outer circumferential surface of the body portion 192a is perpendicular to the ground, the first slanted in the first direction with respect to the ground The spiral part SD1 may be divided into a second spiral part SD2 that is inclined in a second direction opposite to the first direction and crosses the first spiral part SD1. The wing portion 192a is inserted into any one of the first and second spiral portions SD1 and SD2, and the insertion grooves have the same insertion grooves into which the wing portion 192b is inserted. The wing portions are changed in the spiral direction according to the spiral portion into which the wing portions 192b are inserted, and the air flow is formed according to the spiral direction of the wing portions and the rotation direction of the rotary rod 191.

이와 같이, 상기 기류 형성부(192)는 상기 삽입홈(91) 내에서의 상기 날개부(192b)의 위치를 변경할 수 있으므로, 상기 회전 로드(191)의 회전 방향에 따라 상기 날개부들의 나선 방향을 변경할 수 있다. 이에 따라, 상기 브러쉬 세정부(190)는 상기 회전 로드(191)의 회전 방향에 상관없이 현 공정의 환경에 적합하게 기류를 형성할 수 있다. 따라서, 상기 기판 처리장치(100)는 상기 브러쉬 세정부(190)의 이용 효율을 향상시킬 수 있고, 공정 효율을 향상시킬 수 있다.As such, the air flow forming part 192 may change the position of the wing part 192b in the insertion groove 91, and thus, the spiral direction of the wing parts according to the rotation direction of the rotation rod 191. Can be changed. Accordingly, the brush cleaning unit 190 may form an air flow suitably for the environment of the current process regardless of the rotation direction of the rotary rod 191. Therefore, the substrate processing apparatus 100 may improve the utilization efficiency of the brush cleaning unit 190, and may improve the process efficiency.

또한, 상기 기류 형성부(192)는 상기 바디부(192a)와 상기 날개부(192b)의 결합력을 향상시키기 위한 다수의 나사를 더 포함한다.In addition, the air flow forming portion 192 further includes a plurality of screws for improving the coupling force between the body portion 192a and the wing portion 192b.

도 6은 도 2에 도시된 나사와 날개부의 위치관계를 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing the positional relationship between the screw and the blade shown in FIG.

도 2 및 도 6을 참조하면, 각 나사(192c)는 상기 날개부(192b)에 대응하여 구비된다. 상기 나사(192c)는 상기 바디부(192a)의 일 측면에 채결되고, 상기 바디부(192a)의 일 측면에는 상기 나사(192c)가 삽입되는 체결홈(93)이 형성된다. 상기 체결홈(93)은 상기 제1 및 제2 나선부(SD1, SD2)(도 3 참조)에 일대일 대응하여 형성된다. 따라서, 상기 바디부(192a)는 하나의 삽입홈(91)에 대응하여 두 개의 체결홈(93)이 형성된다.2 and 6, each screw 192c is provided corresponding to the wing 192b. The screw 192c is connected to one side of the body portion 192a, and a fastening groove 93 into which the screw 192c is inserted is formed at one side of the body portion 192a. The fastening groove 93 is formed in one-to-one correspondence with the first and second spiral parts SD1 and SD2 (see FIG. 3). Accordingly, two fastening grooves 93 are formed in the body portion 192a corresponding to one insertion groove 91.

상기 날개부(192b)의 일측 단부는 상기 바디부(192a)의 모서리와 접하고, 상기 나사(192c)가 구비되는 상기 바디부(192a)의 측면과 동일선상에 위치한다. 상기 나사(192c)의 헤드부는 상기 날개부(192b)의 일측 단부를 가압하여 상기 날개부(192b)를 상기 바디부(192a)에 고정시킨다. 본 발명의 일례로, 상기 날개부(192b)의 타측 단부는 상기 바디부(192a)의 모서리로부터 이격되어 위치한다. One end of the wing portion 192b is in contact with an edge of the body portion 192a and is positioned on the same line as a side surface of the body portion 192a provided with the screw 192c. The head portion of the screw 192c presses one end of the wing portion 192b to fix the wing portion 192b to the body portion 192a. In one example of the present invention, the other end of the wing 192b is spaced apart from an edge of the body 192a.

이하, 도면을 참조하여 상기 브러쉬 세정부(190)에서 상기 기류를 형성하는 과정을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, a process of forming the air flow in the brush cleaner 190 will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 7은 도 1에 도시된 기판 처리장치가 기판을 처리하는 공정과정을 나타낸 도면이다.7 is a view illustrating a process of processing a substrate by the substrate processing apparatus shown in FIG. 1.

도 2 및 도 7을 참조하면, 먼저, 상기 기판(10)을 상기 샤프트들(120)의 상부에 안착시키고, 상기 사프트들(120)을 일 방향으로 회전하여 상기 기판(10)을 수 평 이동시킨다.2 and 7, first, the substrate 10 is seated on the shafts 120, and the shafts 120 are rotated in one direction to horizontally move the substrate 10. Let's do it.

상기 기판(10)을 약액을 이용하여 세정하고, 약액 처리된 기판(10)은 상기 샤프트들(120)에 의해 상기 브러쉬 세정부(190)의 하부로 이동한다.The substrate 10 is cleaned using the chemical liquid, and the chemically treated substrate 10 is moved to the lower portion of the brush cleaner 190 by the shafts 120.

상기 브러쉬 세정부(190)의 회전 로드(191)는 상기 모터(193)의 구동에 의해 기 설정된 방향, 즉 시계 방향(RD1)과 반 시계 방향(RD2) 중 어느 한 방향으로 회전한다. 상기 브러쉬 세정부(190)의 날개부(192b)는 상기 회전 로드(191)의 회전 방향에 따라 상기 제1 및 제2 나선부(SD1, SD2) 중 어느 하나에 삽입되어 나선 방향이 조절된다.The rotary rod 191 of the brush cleaning unit 190 rotates in a predetermined direction, ie, in a clockwise direction RD1 and a counterclockwise direction RD2 by the driving of the motor 193. The wing 192b of the brush cleaner 190 is inserted into one of the first and second spiral parts SD1 and SD2 according to the rotational direction of the rotary rod 191 to adjust the spiral direction.

상기 날개부들은 상기 회전 로드(191)가 회전함에 따라 상기 기류를 형성하여 상기 세정 챔버(110) 내에 형성된 흄이 상기 기판(10)에 안착되는 것을 방지한다. 이에 따라, 상기 브러쉬 세정부(190)는 상기 기판(10)이 상기 흄에 의해 오염되는 것을 방지한다.The wings form the air flow as the rotary rod 191 rotates to prevent the fume formed in the cleaning chamber 110 from being seated on the substrate 10. Accordingly, the brush cleaner 190 prevents the substrate 10 from being contaminated by the fume.

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described with reference to the embodiments above, those skilled in the art will understand that the present invention can be variously modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리장치를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 기류 형성부를 나타낸 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating the airflow forming unit illustrated in FIG. 1.

도 3은 도 2에 도시된 바디부를 나타낸 평면도이다.3 is a plan view illustrating the body part illustrated in FIG. 2.

도 4는 도 2에 도시된 날개부를 나타낸 사시도이다.4 is a perspective view showing the wing portion shown in FIG.

도 5는 도 2에 도시된 날개부가 바디부에 삽입된 상태를 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing a state in which the wing portion shown in Figure 2 is inserted into the body portion.

도 6은 도 2에 도시된 나사와 날개부의 위치관계를 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing the positional relationship between the screw and the blade shown in FIG.

도 7은 도 1에 도시된 기판 처리장치가 기판을 처리하는 공정과정을 나타낸 도면이다.7 is a view illustrating a process of processing a substrate by the substrate processing apparatus shown in FIG. 1.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 기판 처리 장치 110 : 세정 챔버100 substrate treating apparatus 110 cleaning chamber

120 : 샤프트 130 : 제1 회전 전달부120: shaft 130: first rotation transmission portion

150 : 회전 모터 160 : 회전 구동부150: rotation motor 160: rotation drive unit

170 : 벨트 180 : 제2 회전 전달부170: belt 180: second rotational transmission part

190 : 브러쉬 세정부190: brush cleaning unit

Claims (10)

삭제delete 기판이 안착되고, 상기 기판을 이송시키는 이송부재; 및A transfer member on which a substrate is seated and which transfers the substrate; And 상기 이송부재의 상부에 구비되어 상기 기판과 마주하고, 회전을 통해 기류를 형성하여 기판을 세정하는 브러쉬 세정부를 포함하고,Is provided on the upper portion of the transfer member facing the substrate, and includes a brush cleaning unit for cleaning the substrate by forming an air flow through the rotation, 상기 브러쉬 세정부는,The brush cleaning unit, 일 방향으로 연장되어 로드 형상을 갖고, 중심축을 기준으로 회전하는 회전 로드; 및A rotating rod extending in one direction and having a rod shape and rotating about a central axis; And 상기 회전 로드의 외주면에 구비되고, 상기 회전 로드의 회전력에 의해 상기 기류를 형성하며, 상기 회전 로드의 회전 방향에 상관없이 상기 기류를 일정하게 형성하는 다수의 기류 형성부를 포함하며,It is provided on the outer circumferential surface of the rotary rod, and forms the air flow by the rotational force of the rotary rod, and includes a plurality of air flow forming portion for constantly forming the air flow regardless of the rotation direction of the rotary rod, 상기 기류 형성부는,The air flow forming unit, 링 형상을 갖고, 상기 회전 로드를 둘러싸며, 상기 회전 로드와 함께 회전하는 바디부; 및A body portion having a ring shape and surrounding the rotating rod and rotating together with the rotating rod; And 상기 바디부의 외주면에 배치되고, 상기 회전 로드의 회전 방향에 대응하여 그 위치가 조절되며, 상기 회전 로드의 회전을 통해 상기 기류를 형성하는 다수의 날개부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.And a plurality of wing parts disposed on an outer circumferential surface of the body part, the positions of which are adjusted in correspondence to the rotation direction of the rotation rod, to form the air flow through the rotation of the rotation rod. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 날개부는 플레이트 형상을 갖고 상기 바디부의 외주면으로부터 돌출되며,The wing portion has a plate shape and protrudes from the outer circumferential surface of the body portion, 상기 날개부들은 상기 바디부의 외주면에 나선상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.And the wing portions are arranged in a spiral shape on an outer circumferential surface of the body portion. 제3항에 있어서, The method of claim 3, 상기 날개부들의 나선 방향은 상기 회전 로드의 회전 방향에 대응하여 변경되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.Spiral direction of the wing portion is characterized in that the substrate processing apparatus is changed corresponding to the rotation direction of the rotating rod. 제4항에 있어서, 상기 바디부는 상기 날개부들의 일 단부를 삽입하기 위해 외주면이 부분적으로 제거되어 형성된 다수의 삽입홈을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.The substrate processing apparatus of claim 4, wherein the body portion has a plurality of insertion grooves formed by partially removing an outer circumferential surface to insert one end of the wing portions. 제5항에 있어서, 상기 삽입홈은 'X'자 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.The substrate processing apparatus of claim 5, wherein the insertion groove has an 'X' shape. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 기류 형성부는, 상기 바디부의 측면에 체결되어 상기 날개부를 상기 바디부에 고정하는 나사를 더 포함하고,The air flow forming portion further includes a screw fastened to the side of the body portion to fix the wing portion to the body portion, 상기 나사의 헤드부는, 상기 날개부의 측 단부를 지지하는 것을 특징으로 하 는 기판 처리장치.The head portion of the screw supports the side end of the blade portion. 제2항에 있어서, 상기 날개부는 수지재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.The substrate processing apparatus of claim 2, wherein the wing part is made of a resin material. 기판을 이송부재에 안착시켜 수평 이동시키는 단계;Mounting the substrate on the transfer member and horizontally moving the substrate; 상기 기판의 상부에 기류를 형성하는 다수의 날개부를 갖는 브러쉬 세정부를 배치하는 단계; 및Disposing a brush cleaner having a plurality of wings forming an air stream on the substrate; And 상기 브러쉬 세정부의 회전을 통해 상기 기류를 형성하여 상기 기판을 세정하는 단계를 포함하고,Forming the airflow through the brush cleaning unit to clean the substrate; 상기 브러쉬 세정부의 회전 방향에 따라 상기 다수의 날개부의 위치를 조절하여 상기 기류의 방향을 조절하는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.And controlling the position of the plurality of wings according to the rotational direction of the brush cleaning unit to adjust the direction of the airflow. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 다수의 날개부는 상기 기판과 마주하게 배치되어 상기 브러쉬 세정부의 외주면을 따라 나선상으로 배치되고,The plurality of wings are disposed facing the substrate to be arranged in a spiral along the outer circumferential surface of the brush cleaning portion, 상기 날개부들의 나선 방향은 상기 브러쉬 세정부의 회전 방향에 대응하여 변경되는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.The spiral direction of the wing portion is changed to correspond to the direction of rotation of the brush cleaning unit.
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