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KR100814231B1 - 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 투명한 감광성 조성물 - Google Patents

옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 투명한 감광성 조성물 Download PDF

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KR100814231B1
KR100814231B1 KR1020060095897A KR20060095897A KR100814231B1 KR 100814231 B1 KR100814231 B1 KR 100814231B1 KR 1020060095897 A KR1020060095897 A KR 1020060095897A KR 20060095897 A KR20060095897 A KR 20060095897A KR 100814231 B1 KR100814231 B1 KR 100814231B1
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박종현
김성현
윤정애
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주식회사 엘지화학
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Abstract

본 발명은 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을 포함하는 투명한 감광성 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은 광중합 개시제로 한 분자내에 옥심 에스테르기와 트리아진기를 가진 화합물을 사용함으로써, 자외선을 효율적으로 흡수하여 감도, 잔막률, 기계적 강도, 내열성, 내화학성 및 내현상성이 우수하다.
따라서, 본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은 액정표시소자의 컬럼 스페이서, 오버코트 및 패시베이션 재료의 경화에 유리할 뿐만 아니라 고온 공정 특성에도 유리하다.

Description

옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을 포함하는 투명한 감광성 조성물{Transparent photosensitive composition comprising triazine based photoactive compound comprising oxime ester}
본 발명은 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을 포함하는 투명한 감광성 조성물에 관한 것이다.
감광성 조성물은 기판상에 도포되어 도막을 형성하고, 이 도막을 전체적으로 노광시켜 절연막 또는 보호막을 형성하거나, 이 도막의 특정 부분에 포토마스크 등을 이용하여 광조사에 의한 노광을 실시한 후, 비노광부를 현상 처리하여 제거함으로써 패턴을 형성하는데 사용될 수 있다. 이러한 감광성 조성물은 광을 조사하여 중합하고 경화시키는 것이 가능하므로 광경화성 잉크, 감광성 인쇄판, 각종 포토레지스트, LCD용 컬러 필터 포토레지스트, 수지 블랙 매트릭스용 포토레지스트, 또는 투명 감광재 등에 이용되고 있다.
그 중 투명한 감광성 조성물은 컬럼 스페이서, 오버코트 및 패시베이션 막에 이용되는 것으로, 통상적으로 안료와 같은 착색 조제를 사용하지 않고, 알칼리 가용성 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다. LCD의 용도가 고급화, 다양화 됨에 따라 종래의 노트북, 모바일 등의 용도외에 TV, 모니터 등의 액정표시소자를 구성하는 용도로 제작되고 있으며, 생산성 및 내구성 향상을 위해 빛에 빠르게 반응하고, 기계적으로 우수한 물성을 지닌 재료에 대한 요구가 높아지고 있다. 포토리소그래피(Photo-lithography) 법에 의해 패턴을 형성시키거나, 전면 노광을 통해 절연 보호막을 형성하는 경우에 있어 빛에 빠르게 반응하는 특성, 즉 광감도는 매우 중요한 역할을 하는 요인이 된다. 또한, 외부에서 가한 충격에 의해 액정표시소자가 파손되지 않고 원래의 성능을 발휘하게 하기 위해서 지지대 역할을 하는 컬럼 스페이서나 보호막의 역할을 하는 오버코트와 패시베이션 막은 기계적 물성이 우수해야 한다. 따라서, 광감도가 우수한 광중합 개시제를 사용하면 빠르게 바람직한 방향으로 이러한 문제들을 해결할 수 있다. 광감도가 우수한 광중합 개시제를 사용하는 경우, 적은 양의 광중합 개시제로도 충분한 감도를 구현할 수 있어 액정의 오염원이 줄어들고, 패턴의 잔막률이 상승될 뿐만 아니라, 조성물 제조 시 다른 원재료의 가용 폭을 높일 수 있다는 장점을 지니게 된다.
이러한 모든 문제를 해결하기 위해서는, 감도가 우수한 광중합 개시제의 사용이 절실하며, 특히 적은 양의 광중합 개시제로도 충분한 감도가 구현될 경우 액정의 오염원이 줄어들고 패턴의 잔막률이 상승될 뿐만 아니라 조성물 제조 시 다른 원재료의 가용 폭을 높일 수 있다.
이러한 감광성 조성물에 이용되는 광중합 개시제로는 아세토페논 유도체, 벤조페논 유도체, 비이미다졸 유도체, 아실포스핀 옥사이드 유도체, 트리아진 유도 체, 옥심 유도체 등 여러 종류가 알려져 있다.
그 중 가장 대표적이며 상용화되어 있는 광중합 개시제로는 아세토페논계 유도체를 들 수 있다. 아세토페논계 유도체는 색특성, 용해성이 좋고 가격이 비교적 저렴하며, 특히 Ciba specialty chemical사의 Irgacure 369와 Irgacure 907은 감도가 우수하여 착색 감광성 조성물의 용도로 널리 사용되고 있다. 그러나 충분한 감도를 내기 위해서는 고형분 중 3% 이상, 심지어 10% 이상을 사용해야 하므로 잔막율을 낮추고 액정 오염의 원인이 될 수 있다. 또한, 고안료 농도의 조성물, 특히 흑색 감광성 조성물에서는 감도가 미약하여 단독으로 사용할 경우 패턴의 탈착이 심각하게 일어난다.
상용화되어 있는 다른 광중합 개시제로, 광조사에 의해 분해되어 할로겐 라디칼을 발생하는 할로메틸 트리아진계 화합물도 많이 사용되고 있다. 특히, 2-아릴-4,6-비스(트리할로메틸)-s-트리아진[2-aryl-4,6-bis(trihalomethyl)-s-triazine]은 감도가 비교적 양호한 것으로 알려져 있다.
예를 들면, 일본특허 공개공보 소53-133428호에는 2-위치의 아릴(aryl)기로서 이환 또는 다환의 방향족기, 또는 복소환식 방향족기를 이용한 화합물에 대하여 기재되어 있으며, 그 중에서도 나프틸(naphthyl)기가 이용될 경우에 양호한 결과가 얻어진다고 기재되어 있다. 그러나 실용상 감도가 만족스럽지 못하며, 다량으로 사용해야 하거나 장시간의 광조사가 필요하고 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물에 대해 용해성이 불충분하여 감광성 조성물의 시간 경과에 따른 안정성이 낮은 단점이 있다.
또한, 옥심 유도체는 색깔을 거의 띄지 않고 투과도가 높으며 UV 조사에 의한 라디칼 발생 효율이 높을 뿐만 아니라 조성물 내에서 안정성과 상용성이 뛰어나다는 장점을 지니고 있어 많이 연구되어 왔다.
국제공개특허공보 제00/52530호, 독일공개특허공보 제199 28 742 A1호에서는 옥심 에테르, 옥심 에스테르, 특히 옥심 설포네이트를 광중합 개시제로 이용한 감광성 조성물에 관하여 기재하고 있다.
국제공개특허공보 02/100903 A1호에서는 알킬 아실 케톤, 디아릴 케톤 또는 케토쿠마린과 결합된 구조를 가지는 옥심 에스테르 화합물에 대하여 기재하고 있다.
이외에도 옥심 에스테르 구조는 미국특허 제4,202,697호에서와 같이 에치 레지스트, 미국특허 제6,001,517호에서와 같이 포지형 감광성 조성물에서 감광성 열경화 가속제로 사용하기도 한다.
그러나 상기와 같이 사용된 옥심 유도체 화합물 중 초기에 개발된 화합물은 광개시 효율이 낮으며, 색 특성이 좋을 경우 UV 광원 흡수에 효율적이지 못하다. 1990년대 후반 이후에 발표된 화합물들은 광개시 효율이 상당히 개선되었으나 최근에 강화된 공정시간 단축을 충분히 만족시킬 수 없었다.
최근에 상용화되고 있는 Ciba specialty chemical사의 옥심 에스테르계 광중합 개시제 Irgacure OXE 01, Irgacure OXE 02는 감도가 상당히 개선되어 착색 감광성 조성물의 용도로 각광받고 있다. 그러나 이 광중합 개시제들은 상당히 고가여서 경제적 측면에서 충분한 감도를 낼 정도로 사용할 수 없고, 광중합 개시제 자체의 보관안정성이 떨어지는 단점이 있다.
따라서, 상기와 같은 광중합 개시제들의 단점을 모두 극복할 수 있고, 소량의 사용으로도 UV 광원을 효율적으로 흡수할 수 있으며, 감도와 고온공정 특성이 우수한 광중합 개시제의 개발이 요구되고 있다.
이에, 본 발명자들은 감도 및 보관안정성이 우수하며 저가의 광중합 개시제에 대하여 연구하던 중, 한 분자내에 옥심 에스테르기와 트리아진기를 함께 도입한 특정한 구조의 화합물을 광중합 개시제로 사용한 투명한 감광성 조성물이 자외선을 효율적으로 흡수하여 감도와 고온공정 특성이 우수함을 확인하고, 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을 포함하는 투명한 감광성 조성물을 제공하고자 한다.
본 발명은
a) 하기 화학식 1로 표시되는 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물,
b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물,
c) 알칼리 가용성 수지 바인더, 및
d) 용매를 포함하는 투명한 감광성 조성물을 제공한다.
Figure 112006071614807-pat00001
상기 화학식 1에서,
n=1일 때, R은 C1~C6의 알킬; C1~C6의 할로알킬; NL2, OL, 및 SL 로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 C1~C6의 알킬; C1~C6의 알킬, 할로겐, 니트릴, OH 및 COOH로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 페닐; 및 C2~C5의 알킬 카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택되고, L는 수소 또는 C1 ~ C6의 알킬이며,
n=2일 때, R은 C2~C6의 알킬렌, 1,2-페닐렌, 1,3-페닐렌, 1,4-페닐렌,
Figure 112006071614807-pat00002
으로 이루어진 군으로부터 선택되고(*는 연결부위이다),
R'는 수소, C1~C6의 알킬, 니트릴 및 페닐로 이루어진 군으로부터 선택되며,
X는 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 또는 비치환된 C5~C20의 아릴렌기; 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 또는 비치환된, O, N 또는 S를 포함하는 C4~C20의 2가 이형고리기; 또는 하기 화학식 2의 화합물이고,
Figure 112006071614807-pat00003
여기서, Z 및 Z'는 각각 독립적으로 CH2, O, S, NR", 및 CH=CH로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 의미하며, 이때 R"는 수소 또는 C1~C6의 알킬이고,
l 및 m은 0~2의 정수로써 l+m ≠0 이며,
A는 단순 연결이거나, CpH2p, O(CH2O)p, CH=CH, NR"', S, O, S=O, SO2, 및 C=O로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 의미하며, 이때 p는 1 내지 6의 정수이고, R"'은 수소 또는 C1~C6의 알킬이나, 단 l+m=1인 경우, A는 단순연결이 아니고,
Y 및 Y'는 각각 선택적으로 수소, 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시기, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
바람직하게는, 상기 화학식 1에서,
n=1일 때, R은 메틸 또는 페닐이며,
n=2일 때, R은 에틸렌 또는 3,4-테트라히드로프탈렌이고,
R'는 수소, 메틸 또는 페닐이며,
X는 페닐렌, 바이페닐렌, 스티릴렌, 및 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
Figure 112006071614807-pat00004
여기서, B는 CH2, O, S, NR", 및 CH=CH로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 의미하며, 이때 R"는 수소 또는 C1~C6의 알킬이고,
Y 및 Y'는 각각 선택적으로 수소, 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시기, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
더욱 바람직하게는, 상기 화학식 1에서, X는 페닐렌, 바이페닐렌 또는 스티렌이다.
상기 화학식 1에서, R은 노광 시에 활성종인 라디칼로 분해가 되는 부분으로, 특별히 구조상의 제약은 받지 않으나 구조가 단순할수록 움직임이 좋아 광개시 효율이 향상된다.
또한, X는 자외선, 특히 260 nm에서 440 nm 영역의 빛을 흡수할 수 있는 구조이어야 하나, 흡광 기능을 할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 흡수 파장대의 특성상 방향족기가 특히 바람직하다.
이하, 본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물의 구성성분에 대해 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물에서, 상기 b) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물의 비제한적인 예로는, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2 내지 14인 폴리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 2-트리스아크릴로일옥시메틸에틸프탈산, 프로필렌기의 수가 2 내지 14인 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트의 산성 변형물과 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트의 혼합물(상품명으로 일본 동아합성사의 TO-2348, TO-2349) 등의 다가 알콜을 α,β-불포화 카르복실산으로 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르아크릴산 부가물, 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물 등의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메타)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 프탈산디에스테르, β-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트의 톨루엔 디이소시아네이트 부가물 등의 수산기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 알킬에스테르; 및 9,9'-비스[4-(2-아크 릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으며, 이들로만 한정되지 않고 당 기술 분야에 알려져 있는 것들을 사용할 수 있다. 또한 경우에 따라서는 이들 화합물에 실리카 분산체를 사용할 수 있는데, 예를 들면 Hanse Chemie 社제 Nanocryl XP series(0596, 1045, 21/1364)와 Nanopox XP series(0516, 0525) 등이 있다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물에서, 상기 c) 알칼리 가용성 수지 바인더는 산기(acid functional group)를 포함하는 모노머와 이 모노머와 공중합 가능한 필름강도를 주는 모노머의 공중합체, 또는 이 공중합체가 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물과 고분자 반응을 통하여 제조되는 화합물이 될 수 있다.
본 발명에서 사용된 알칼리 가용성 수지 바인더는 산가가 30~300 KOH mg/g 정도이며, 중량평균 분자량은 1,000~200,000의 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 분자량이 5,000~100,000의 범위의 바인더이다.
상기 산기를 포함하는 모노머의 비제한적인 예로는, (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 5-노보넨-2-카르복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물 등이 있다.
산기를 포함하는 모노머와 공중합가능한 모노머의 비제한적인 예로는, 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이 트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필(메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 옥시에틸 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 옥시에틸 (메타)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복시산 에스테르류; 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, (o,m,p)-클로로 스티렌과 같은 방향족 비닐류; 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 알릴 글리시딜 에테르와 같은 불포화 에테르류; N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카바졸, N-비닐 모폴린과 같은 N-비닐 삼차아민류; N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, N-시클로헥실 말레이미드와 같은 불포화 이미드류; 무수 말레인산, 무수 메틸 말레인산과 같은 무수 말레인산류; 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트와 같은 불포화 글리시딜 화합물류 또는 이들의 혼합물 등이 있다.
상기 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물로는, 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 5-노보넨-2-메틸-2-카복실레이트(엔도, 엑소 혼합물), 1,2-에폭시-5-헥센, 및 1,2-에폭시-9-데센으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물에서, 상기 d) 용매의 비제한적인 예로는 메틸 에틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 및 디프로필렌글리콜 모노메틸 에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함 할 수 있다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은, 상기 구성성분 외에 필요에 따라 제 2 광활성 화합물, 경화촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 충전제 또는 계면활성제 등의 첨가제를 1종 이상 추가로 포함할 수 있다.
상기 제 2 광활성 화합물의 비제한적인 예로는, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시페닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(피플로닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(3',4'-디메톡시페닐)-6-트리아진, 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오} 프로판산, 2,4-트리클로로메틸-(4'-에틸바이페닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메틸바이페닐)-6-트리아진 등의 트리아진계 화합물; 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등의 비이미다졸 화합물; 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐 (2-히드록시)프로필 케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐 아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-몰폴리노-1-프로판-1-온(Irgacure-907), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온(Irgacure-369) 등의 아세토페논계 화합물; Ciba Geigy 社의 Irgacure OXE 01, Irgacure OXE 02와 같은 O-아실옥심계 화합물; 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 이소프로필 티옥산톤, 디이소프로필 티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 2,4,6-트리메틸 벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일) 프로필 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 3,3'-카르보닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10'-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H,11H-Cl]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물 등이 있다.
상기 경화촉진제의 예로는, 2-머캡토벤조이미다졸, 2-머캡토벤조티아졸, 2-머캡토벤조옥사졸, 2,5-디머캡토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캡토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨 테트라키스(3-머캡토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 트리스(3-머캡토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(2-머캡토아세테이트), 펜타에리스리톨 트리스(2-머캡토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(2-머캡토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(3-머캡토프로피오네이트), 트리메틸올에탄 트리스(2-머캡토아세테이트), 및 트리메틸올에탄 트리스(3-머캡토프로피오네이트)로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있으나, 이들로만 한정되는 것은 아니며 당 기술 분야에 알려져 있는 것들을 포함할 수 있다.
상기 열 중합 억제제로는, p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜(pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), N-니트로소페닐히드록시아민 암모늄염, N-니트로소페닐히드록시아민 알루미늄염 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있으나, 이들로만 한정되 는 것은 아니며 당 기술 분야에 알려져 있는 것들을 포함할 수 있다.
기타 가소제, 접착 촉진제, 충전제 및 계면활성제 등도 종래의 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있는 모든 화합물이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은, 롤 코터(roll coater), 커튼 코터(curtain coater), 스핀 코터(spin coater), 슬롯 다이 코터, 각종 인쇄, 침적 등에 사용되며, 금속, 종이, 유리 플라스틱 기판 등의 지지체 상에 적용될 수 있다. 또한, 필름 등의 지지체 상에 도포한 후 기타 지지체 상에 전사하거나 제 1의 지지체에 도포한 후 블랭킷 등에 전사, 다시 제 2의 지지체에 전사하는 것도 가능하며, 그 적용 방법은 특별히 한정되지 않는다.
본 발명의 투명한 감광성 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는, 예컨대 파장이 250 내지 450 ㎚의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크 등이 있다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은
a) 상기 화학식 1로 표시되는 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물 0.1 내지 5 중량부,
b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 0.5 내지 20 중량부,
c) 알칼리 가용성 수지 바인더 1 내지 20 중량부, 및
d) 용매 10 내지 95 중량부를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 성분 이외에 다른 성분들을 첨가할 경우, 제 2 광활성 화합물은 0.1 내지 5 중량부, 그 외 나머지 첨가제는 각각 0.01 내지 5 중량부로 함유되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은 광경화성 도료, 광경화성 잉크, TFT LCD 컬러 필터 제조용 안료분산형 감광재, TFT LCD 혹은 유기발광다이오드의 블랙 매트릭스 형성용 감광재의 제조 등에 사용할 수 있으며, 그 용도에 제한을 두지 않는다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
실시예 1~6 : 투명한 감광성 조성물의 제조
실시예 1 :
알칼리 가용성 수지 바인더 BzMA/MAA(몰비 : 70/30, Mw : 24,000) 8 g, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 16g, 광중합 개시제로 하기 표 1의 화합물(A) 1 g과, 유기 용매인 PGMEA 79 g을 쉐이커를 이용하여 3 시간 동안 혼합시켰다. 그 다음 용액을 5 마이크론 필터로 여과하여 수득한 감광성 조성물 용액을 유리에 스핀 코팅하여 약 100 ℃로 2분 동안 전열 처리하여 두께가 약 2.5 ㎛되는 균등한 필름을 형성하였다.
상기 필름을 지름 30㎛의 원형 독립 패턴(Isolated Pattern)형 포토마스크를 이용하여 고압 수은 램프 하에서 노광시킨 후, 패턴을 pH 11.3∼11.7의 KOH 알칼리 수용액으로 현상하고 탈 이온수로 세척하였다. 이를 200℃에서 약 40분간 후열 처리한 다음 패턴의 상태를 광학 현미경과 패턴 프로파일러로 관찰하였다.
실시예 2 :
상기 실시예 1에서 광중합 개시제로 하기 표 1의 화합물(A) 대신에 화합물 (B) 1 g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
실시예 3 :
상기 실시예 1에서 광중합 개시제로 하기 표 1의 화합물(A) 대신에 화합물 (C) 1 g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
실시예 4 :
상기 실시예 1에서 광중합 개시제로 하기 표 1의 화합물(A) 대신에 화합물 (D) 1 g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
실시예 5 :
상기 실시예 1에서 광중합 개시제로 하기 표 1의 화합물(A) 대신에 화합물 (E) 1 g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
실시예 6 :
상기 실시예 1에서 광중합 개시제로 하기 표 1의 화합물(A) 대신에 화합물 (F) 1 g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
비교예 1 :
상기 실시예 1에서 광중합 개시제로 하기 표 1의 화합물(A) 대신에 Irgacure 369 1 g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
비교예 2 :
상기 실시예 2에서 광중합 개시제로 하기 표 1의 화합물(B) 대신에 Irgacure 907 1 g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 2와 동일한 방법으로 제조하였다.
Figure 112006071614807-pat00005
실험예 : 본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물의 물성 평가
상기 실시예 1~6 및 비교예 1~2에서 제조한 투명한 감광성 조성물의 물성을 하기와 같은 방법으로 측정하였다.
1. 광감도
지름 30 ㎛의 원형 독립 패턴(Isolated Pattern)형 포토마스크를 이용하여 두께가 더 이상 증가하지 않는 노광량을 감도라고 규정하고, 노광량에 변화를 주면서 감도를 측정하였다. 노광량이 적을수록 감도가 우수하다고 할 수가 있다. 광원으로서 고압 수은등으로부터 나오는 전 파장영역의 빛을 특정 파장에 대한 필터 없이 사용하고, 노광량에 대해서는 365㎚ (I 선)에서 측정을 하였다.
2. 잔막률
후열 처리 전후에 두께를 측정함으로 두께의 차이를 평가하였다.
잔막률 = [(후열 처리 후 막두께)/(후열 처리 전 막두께)] x 100 (%).
잔막률 수치가 클수록 광중합 개시제의 분해물에 의한 후 공정 오염원이 적다.
3. 기계적 강도
패턴을 마이크로 경도계(Fischerscope 사, H-100ⓒ)의 Flat Tip을 이용하여 80 mN까지 압입(Indentation)시킨 후 두께 변화율을 기준으로 평가하였다.
기계적 강도 = [(두께 변화량)/(처리 전 막두께)] x 100 (%).
변화량이 적을수록 기계적 강도가 우수하다고 할 수 있다.
4. 내열성
200℃의 오븐에 40 분을 방치한 후 두께 변화율을 기준으로 평가하였다.
내열성 = [(두께 변화량)/(처리 전 막두께)] x 100 (%).
수치가 작을수록 내열성이 우수하다고 할 수 있다.
5. 내화학성
70 ℃의 NMP에 1분간 침지한 후 패턴의 두께 변화율을 관찰함으로 내화학성 검사를 실시하였다.
내화학성 = [(두께 변화량)/(처리 전 막두께)] x 100 (%).
두께 변화가 적을수록 우수한 투명 감광성 조성물이라고 할 수 있다.
6. 내현상성
150 mJ/㎠의 에너지로 노광하고 80초간 현상 후 남아있는 독립 패턴의 최소 크기를 기준으로 평가하였다. 최소 크기가 작을수록 내현상성이 우수하다고 할 수 있다.
결과는 표 2에 나타내었다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물의 물성치
감도(mJ/㎠) 잔막률(%) 기계적 강도(%) 내열성(%) 내화학성(%) 내현상성(㎛)
실시예 1 100 97 10 1.8 2.1 8
2 105 95 13 1.3 1.8 8
3 105 93 12 1.4 2.0 9
4 100 92 10 1.7 2.0 11
5 105 91 12 1.5 1.8 8
6 105 92 12 1.4 2.0 10
비교예 1 210 89 14 2.1 2.8 14
2 250 73 18 4.5 3.4 17
표 2에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은 감도, 잔막률, 기계적 강도, 내열성, 내화학성 및 내현상성에 대하여 모두 우수하게 나타났다. 반면 비교예에서 제조한 감광성 조성물은 감도, 잔막률, 기계적 강도, 내열성, 내화학성 및 내현상성에 대하여 좋지 않게 나타났다.
따라서, 본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은 광중합 개시제로 한 분자내에 옥심 에스테르기와 트리아진기를 가진 화합물을 사용함으로써, 감도, 잔막률, 기계적 강도, 내열성, 내화학성 및 내현상성이 우수함을 알 수 있다.
본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은 광중합 개시제로 한 분자내에 옥심 에스테르기와 트리아진기를 가진 화합물을 사용함으로써, 자외선을 효율적으로 흡수하여 감도, 잔막률, 기계적 강도, 내열성, 내화학성 및 내현상성이 우수하다.
따라서, 본 발명에 따른 투명한 감광성 조성물은 액정표시소자의 컬럼 스페이서, 오버코트 및 패시베이션 재료의 경화에 유리할 뿐만 아니라 고온 공정 특성에도 유리하다.

Claims (7)

  1. a) 하기 화학식 1로 표시되는 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물,
    b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물,
    c) 알칼리 가용성 수지 바인더, 및
    d) 용매를 포함하는 투명한 감광성 조성물.
    <화학식 1>
    Figure 112006071614807-pat00006
    상기 화학식 1에서,
    n은 1 또는 2이며,
    n=1일 때, R은 C1~C6의 알킬; C1~C6의 할로알킬; NL2, OL, 및 SL 로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 C1~C6의 알킬; C1~C6의 알킬, 할로겐, 니트릴, OH 및 COOH로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 페닐; 및 C2~C5의 알킬 카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택되고, L는 수소 또는 C1 ~ C6의 알킬이며,
    n=2일 때, R은 C2~C6의 알킬렌, 1,2-페닐렌, 1,3-페닐렌, 1,4-페닐렌,
    Figure 112006071614807-pat00007
    으로 이루어진 군으로부터 선택되고(*는 연결부위),
    R'는 수소, C1~C6의 알킬, 니트릴 및 페닐로 이루어진 군으로부터 선택되며,
    X는 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 또는 비치환된 C5~C20의 아릴렌기; 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 또는 비치환된, O, N 또는 S를 포함하는 C4~C20의 2가 이형고리기; 또는 하기 화학식 2의 화합물이고,
    <화학식 2>
    Figure 112006071614807-pat00008
    여기서, Z 및 Z'는 각각 독립적으로 CH2, O, S, NR", 및 CH=CH로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 의미하며, 이때 R"는 수소 또는 C1~C6의 알킬이고,
    l 및 m은 0 ~2의 정수로써 l+m ≠0 이며,
    A는 단순 연결이거나, CpH2p, O(CH2O)p, CH=CH, NR"', S, O, S=O, SO2, 및 C=O 로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 의미하며, 이때 p는 1 내지 6의 정수이고, R"'은 수소 또는 C1~C6의 알킬이나, 단 l+m=1인 경우, A는 단순연결이 아니고,
    Y 및 Y'는 각각 선택적으로 수소, 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시기, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물이,
    n은 1 또는 2이며,
    n=1일 때, R은 메틸 또는 페닐이며,
    n=2일 때, R은 에틸렌 또는 3,4-테트라히드로프탈렌이고,
    R'는 수소, 메틸 또는 페닐이며,
    X는 페닐렌, 바이페닐렌, 스티릴렌, 및 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 투명한 감광성 조성물.
    Figure 112006071614807-pat00009
    여기서, B는 CH2, O, S, NR", CH=CH로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 의미하며, 이때 R"는 수소 또는 C1~C6의 알킬이고,
    Y 및 Y'는 각각 선택적으로 수소, 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시기, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명한 감광성 조성물.
    Figure 112006071614807-pat00010
  4. 청구항 1에 있어서,
    a) 상기 화학식 1로 표시되는 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물 0.1 내지 5 중량부,
    b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 0.5 내지 20 중량부,
    c) 알칼리 가용성 수지 바인더 1 내지 20 중량부, 및
    d) 용매 10 내지 95 중량부를 포함하는 투명한 감광성 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 투명한 감광성 조성물은 제 2 광활성 화합물, 경화촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 충전제 또는 계면활성제 중에서 선택된 1종 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투명한 감광성 조성물.
  6. 청구항 5에 있어서, 상기 제 2 광활성 화합물은 0.1 내지 5 중량부 포함하는 것을 특징으로 하는 투명한 감광성 조성물.
  7. 청구항 5에 있어서, 상기 경화촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 충전제 또는 계면활성제는 각각 0.01 내지 5 중량부 포함하는 것을 특징으로 하는 투명한 감광성 조성물.
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Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070074080A (ko) * 2006-01-06 2007-07-12 삼성전자주식회사 잉크 조성물, 상기 잉크 조성물을 포함하는 표시판 및 그제조 방법
US7838197B2 (en) * 2006-11-15 2010-11-23 Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. Photosensitive composition
KR100839046B1 (ko) * 2006-12-14 2008-06-19 제일모직주식회사 액정표시소자용 감광성 수지 조성물, 이를　이용하여제조된 칼럼 스페이서 및 그 칼럼 스페이서를 포함하는디스플레이 장치
TWI436163B (zh) * 2007-07-17 2014-05-01 Fujifilm Corp 混合物、可光聚合的組成物、彩色濾鏡以及平版印刷的印刷板前驅物
JP5507054B2 (ja) * 2008-03-28 2014-05-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
JP5274151B2 (ja) * 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
EP2196851A1 (en) 2008-12-12 2010-06-16 Eastman Kodak Company Negative working lithographic printing plate precursors comprising a reactive binder containing aliphatic bi- or polycyclic moieties
US8389593B2 (en) * 2008-12-24 2013-03-05 Lg Chem, Ltd. Composition for simultaneously forming two isolated column spacer patterns
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP5909039B2 (ja) 2010-04-06 2016-04-26 株式会社小森コーポレーション 巻紙印刷機
KR101380969B1 (ko) * 2010-09-09 2014-04-04 주식회사 엘지화학 광활성 화합물 및 이를 포함하는 포지티브형 감광성 조성물
JP5688159B2 (ja) * 2010-11-19 2015-03-25 エルジー・ケム・リミテッド アクリレート系化合物を含む感光性組成物
JP5816428B2 (ja) * 2010-12-24 2015-11-18 富士フイルム株式会社 固体撮像素子のカラーフィルタ用感光性透明組成物、並びに、これを用いた固体撮像素子のカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子のカラーフィルタ、及び、固体撮像素子
KR101830206B1 (ko) 2010-12-28 2018-02-20 후지필름 가부시키가이샤 차광막 형성용 티타늄 블랙 분산 조성물과 그 제조방법, 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체촬상소자, 및 흑색 경화막의 제조방법
JP6115005B2 (ja) * 2011-03-08 2017-04-19 住友化学株式会社 着色感光性樹脂組成物
CA2836817C (en) 2011-05-25 2016-08-02 American Dye Source Inc. Compounds with oxime ester and/or acyl groups
CN103608704B (zh) 2011-09-14 2016-03-16 富士胶片株式会社 着色放射线敏感性组合物、图案形成方法、彩色滤光片及其制备方法以及固态图像传感器
JP5922013B2 (ja) 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5976523B2 (ja) 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
KR101664121B1 (ko) 2012-12-13 2016-10-10 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
EP2940090A4 (en) 2012-12-28 2016-01-06 Fujifilm Corp HARDENABLE RESIN COMPOSITION FOR PREPARING AN INFRARED REFLECTIVE FILM, INFRARED REFLECTIVE FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, INFRARED EDGEFILTER, AND SOLIDAGE IMAGING ELEMENT THEREWITH
EP2940081A4 (en) 2012-12-28 2016-01-06 Fujifilm Corp CURABLE RESIN COMPOSITION, INFRARED RADIATION FILTER, AND SEMICONDUCTOR IMAGING ELEMENT USING THE FILTER
JP6097128B2 (ja) 2013-04-12 2017-03-15 富士フイルム株式会社 遠赤外線遮光層形成用組成物
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
JP6062885B2 (ja) * 2014-06-18 2017-01-18 株式会社小森コーポレーション 巻紙印刷機
JP6062886B2 (ja) * 2014-06-18 2017-01-18 株式会社小森コーポレーション 巻紙印刷機
TWI634135B (zh) 2015-12-25 2018-09-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件
CN106933029A (zh) * 2015-12-31 2017-07-07 大东树脂化学股份有限公司 新颖具碱溶性的光起始剂共聚物及其制备方法及用途
JP6721670B2 (ja) 2016-03-14 2020-07-15 富士フイルム株式会社 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
KR102619466B1 (ko) * 2016-06-13 2024-01-02 삼성전자주식회사 팬 아웃 패널 레벨 패키지의 제조 방법 및 그에 사용되는 캐리어 테이프 필름
KR101834209B1 (ko) * 2016-11-25 2018-03-06 주식회사 삼양사 광중합 개시제 및 이를 포함하는 차광용 감광성 수지 조성물
CN107329331A (zh) * 2017-08-17 2017-11-07 惠科股份有限公司 一种显示面板及制造方法
EP3767393A4 (en) 2018-03-13 2021-05-05 FUJIFILM Corporation PROCESS FOR MANUFACTURING HARDENED FILM AND PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR IMAGING ELEMENT
JPWO2020049930A1 (ja) 2018-09-07 2021-09-02 富士フイルム株式会社 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法
KR102508343B1 (ko) * 2019-03-29 2023-03-09 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 컬러 필터 및 상기 컬러 필터를 포함하는 표시장치
WO2020203277A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、インダクタ、アンテナ
CN110156711B (zh) * 2019-04-30 2023-01-31 同济大学 含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物及其制备方法和应用
WO2021039205A1 (ja) 2019-08-29 2021-03-04 富士フイルム株式会社 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物
KR20220035458A (ko) 2019-08-30 2022-03-22 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 광학 필터 및 그 제조 방법, 고체 촬상 소자, 적외선 센서, 및, 센서 모듈
TWI851818B (zh) 2019-09-26 2024-08-11 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
CN111505755A (zh) * 2020-05-26 2020-08-07 苏州京浜光电科技股份有限公司 一种高韧性树脂滤光片及其制备方法
EP4216242A4 (en) 2020-09-18 2024-05-22 FUJIFILM Corporation COMPOSITION, FILM CONTAINING MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC COMPONENT
EP4220669A4 (en) 2020-09-24 2024-03-20 FUJIFILM Corporation COMPOSITION, CURED PRODUCT CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, SUBSTRATE INTRODUCED BY MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL
WO2022070593A1 (ja) 2020-09-30 2022-04-07 富士フイルム株式会社 インクセット、積層体、及び、積層体の製造方法
EP4317294A4 (en) 2021-03-22 2024-08-21 Fujifilm Corp COMPOSITION, MAGNETIC PARTICLE-CONTAINING CURED PRODUCT, SUBSTRATE INTRODUCED IN MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL
EP4410902A1 (en) 2021-09-30 2024-08-07 FUJIFILM Corporation Method for producing magnetic particle-containing composition, magnetic particle-containing composition, magnetic particle-containing cured product, magnetic particle-introduced substrate, and electronic material
CN116135888A (zh) * 2021-11-17 2023-05-19 常州强力电子新材料股份有限公司 肟酯芴类光引发剂、光固化树脂组合物及应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4408054A (en) 1981-11-12 1983-10-04 Hoechst-Roussel Pharmaceuticals Inc. Oximes of 4-benzoyl-piperidines
JPS59230003A (ja) 1983-06-13 1984-12-24 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JPS60166306A (ja) 1984-02-09 1985-08-29 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JPH05281728A (ja) * 1992-04-01 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US6010824A (en) 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
KR20020087658A (ko) 2001-05-15 2002-11-23 주식회사 엘지화학 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1180846A (en) 1967-08-08 1970-02-11 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds
DE2718259C2 (de) 1977-04-25 1982-11-25 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliches Gemisch
FR2393345A1 (fr) * 1977-06-01 1978-12-29 Agfa Gevaert Nv Fabrication d'elements modifies sous forme d'images
US4590145A (en) 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
JP2640470B2 (ja) * 1987-08-19 1997-08-13 旭化成工業株式会社 新しい感光性組成物
JP3587325B2 (ja) * 1996-03-08 2004-11-10 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
US6001517A (en) * 1996-10-31 1999-12-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Positive photosensitive polymer composition, method of forming a pattern and electronic parts
US5910394A (en) * 1997-06-18 1999-06-08 Shipley Company, L.L.C. I-line photoresist compositions
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
ATE330254T1 (de) 1999-03-03 2006-07-15 Ciba Sc Holding Ag Oximderivate und ihre verwendung als photoinitiatoren
NL1014545C2 (nl) * 1999-03-31 2002-02-26 Ciba Sc Holding Ag Oxim-derivaten en de toepassing daarvan als latente zuren.
NL1016815C2 (nl) * 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
JP2002006483A (ja) * 2000-06-20 2002-01-09 Sumitomo Chem Co Ltd フォトレジスト組成物
TWI272451B (en) * 2000-09-25 2007-02-01 Ciba Sc Holding Ag Chemically amplified photoresist composition, process for preparation of a photoresist, and use of said chemically amplified photoresist composition
WO2002100903A1 (en) * 2001-06-11 2002-12-19 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators having a combined structure
DE10255663B4 (de) * 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
JP2004246106A (ja) * 2003-02-14 2004-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd 染料含有硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
MXPA05008118A (es) * 2003-02-19 2005-09-30 Ciba Sc Holding Ag Derivados de oxima halogenados y el uso de los mismos como acidos latentes.
JP2005122113A (ja) * 2003-08-28 2005-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及び画像記録材料
JP4448381B2 (ja) * 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
EP1865030B1 (en) * 2005-03-31 2013-06-26 Fujifilm Corporation Dye-containing hardenable composition, and color filter and process for producing the same
KR100763744B1 (ko) * 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물
KR102008765B1 (ko) 2017-09-04 2019-08-09 광주과학기술원 이중 재위상 포톤 에코 구도에서 ac Stark 전이와 통제 결맞음 변환을 이용한 포톤에코 양자메모리와 그 방법

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4408054A (en) 1981-11-12 1983-10-04 Hoechst-Roussel Pharmaceuticals Inc. Oximes of 4-benzoyl-piperidines
US4408054B1 (ko) 1981-11-12 1987-06-02
JPS59230003A (ja) 1983-06-13 1984-12-24 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JPS60166306A (ja) 1984-02-09 1985-08-29 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JPH05281728A (ja) * 1992-04-01 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US6010824A (en) 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
KR20020087658A (ko) 2001-05-15 2002-11-23 주식회사 엘지화학 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물

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