Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR100753462B1 - 가스 방전 처리의 전력 공급 유닛 - Google Patents

가스 방전 처리의 전력 공급 유닛 Download PDF

Info

Publication number
KR100753462B1
KR100753462B1 KR1020057017677A KR20057017677A KR100753462B1 KR 100753462 B1 KR100753462 B1 KR 100753462B1 KR 1020057017677 A KR1020057017677 A KR 1020057017677A KR 20057017677 A KR20057017677 A KR 20057017677A KR 100753462 B1 KR100753462 B1 KR 100753462B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
voltage
output
conversion stage
supply unit
switching elements
Prior art date
Application number
KR1020057017677A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050113244A (ko
Inventor
피터 비에데무스
스테판 쉬르마이에르
마르쿠스 빈테르할터
Original Assignee
헛팅거 일렉트로닉 게엠베하 + 코 카게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 헛팅거 일렉트로닉 게엠베하 + 코 카게 filed Critical 헛팅거 일렉트로닉 게엠베하 + 코 카게
Publication of KR20050113244A publication Critical patent/KR20050113244A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100753462B1 publication Critical patent/KR100753462B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02M—APPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M7/00—Conversion of AC power input into DC power output; Conversion of DC power input into AC power output
    • H02M7/02—Conversion of AC power input into DC power output without possibility of reversal
    • H02M7/04—Conversion of AC power input into DC power output without possibility of reversal by static converters
    • H02M7/12—Conversion of AC power input into DC power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode
    • H02M7/21—Conversion of AC power input into DC power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal
    • H02M7/217—Conversion of AC power input into DC power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02M—APPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M5/00—Conversion of AC power input into AC power output, e.g. for change of voltage, for change of frequency, for change of number of phases
    • H02M5/40—Conversion of AC power input into AC power output, e.g. for change of voltage, for change of frequency, for change of number of phases with intermediate conversion into DC
    • H02M5/42—Conversion of AC power input into AC power output, e.g. for change of voltage, for change of frequency, for change of number of phases with intermediate conversion into DC by static converters
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/36—Circuit arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Dc-Dc Converters (AREA)
  • Ignition Installations For Internal Combustion Engines (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Generation Of Surge Voltage And Current (AREA)

Abstract

가스 방전 처리 전압 공급 유닛(1)의 출력 DC 전압을 생성하기 위한 방법에서는, 제 1 전압 변환 단(2)에서, 제 1 DC 전압이 소정 전압 범위의 제 2 DC 전압으로 변환되며, 출력 DC 전압이 제 2 전압 변환 단(3)의 제 2 DC 전압으로부터 생성되며, 하나 이상의 승압 변환기(20)의 스위칭 소자(23)가 제 2 전압 변환 단에서, 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 스위칭되어 출력 DC 전압을 생성한다. 이러한 방법에 의해, 플라즈마 처리의 스트라이크 및 유지를 가능하게 할 수 있다.

Description

가스 방전 처리의 전력 공급 유닛{POWER SUPPLY UNIT FOR A GAS DISCHARGE PROCESS}
본 발명은 가스 방전 처리의 전력 공급 유닛의 출력 DC 전압을 생성하는 방법 및 그 방법을 수행하는 장치에 관한 것으로, 제 1 전압 변환 단에서는, 제 1 DC 전압이 소정 전압 범위의 제 2 DC 전압으로 변환되고, 제 2 전압 변환단에서는, 출력 DC 전압이 제 2 DC 전압으로부터 생성된다.
이러한 유형의 방법 및 대응하는 장치는 예를 들어, DE 196 27 497 A1에 개시되어 있다.
가스 방전 처리는 처리시 너무 상이한 요건과 시스템 기술의 특수화에 의해 상이한 임피던스를 갖게 된다. 이는 요구되는 특정 전력 변환을 획득하는데 상이한 방전 전압이 제공되어야 함을 의미한다. 또한, 가스 방전 처리를 스트라이크하는데 요구되는 전압은 종종 가스 방전 처리를 유지하는데 요구되는 전압보다 높게 된다.
DE 196 27 497 A1에는, 스트라이크 강화 회로를 가진 플라즈마 생성기가 개시되어 있다. 스트라이크 강화 회로는 고 임피던스에서 고 전압을 생성하여, 플라즈마 또는 스퍼터 챔버에서 플라즈마를 개시시킨다. 스트라이크 강화 회로는 전파(full wave) 정류기로서 기능하는 복수의 다이오드 브리지를 갖고 있다. 전력 공급 부의 부차적인 변압기는 분리 커패시터들을 통하여 각각의 다이오드 브리지의 교류(AC) 입력에 접속된다. 다이오드 브리지의 직류(DC) 접속부들은 직렬로 접속되어 있고, 추가 전압은 입력 접속부들을 통하여 플라즈마 챔버로 공급된다. 또한, 각각의 다이오드 브리지는 양과 음의 DC 접속부들과 접속하는 축적 커패시터를 포함한다. 변압기 2차 파형의 양과 음의 전압 피크는 축적 커패시터에 저장된다. 전압은 DC 출력에서 제공되는데, 이는 플라즈마 방전을 개시하기에 충분할 정도로 크다. 플라즈마가 존재하는 경우, 분리 커패시터의 임피던스는 스트라이크 회로가 고 스트라이크 전압을 공급하는 것을 막는다. 종래의 장치와 관련 방법은 광범위한 전압 범위에 걸쳐 플라즈마 생성기의 출력에서의 DC 전압을 제어하는데 적합하지 못하다.
본 발명의 목적은 광범위한 출력 전압을 소정의 공칭 출력 전압으로 설정하는 것을 가능하게 하는 방법 및 그러한 방법을 수행하는 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 제 2 전압 변환 단에서 출력 DC 전압을 생성하는 상술한 방법에서는, 하나 이상의 승압(boost) 변환기의 스위칭 소자가 제어된 펄스 충격 계수(duty factor)를 가지고 스위칭된다. 제 1 전압 변환 단은 특히 가스 방전 처리의 정상 동작에 적합한, 즉, 보다 자세하게는, 가스 방전 처리를 유지시키는데 적합한 제 1 DC 전압을 생성한다. 이에 의해, 가스 방전 처리의 공급 전압은 제 1 전압 변환 단을 통하여 조정될 수 있다. 출력 전압은 특히, 가스 방전 처리를 스트라이크하기 위하여, 제 2 전압 변환 단에서 상승할 수 있다. 가스 방전 처리가 스트라이크될 경우, 가스 방전 처리가 유지되면서, 출력 전압이 제 2 전압 변환 단을 통하여 제어될 수 있다. 특히, 상위 출력 전압 범위에서의 전력은 제 2 전압 변환 단을 통하여 조정될 수 있다. 이러한 동작에서, 승압 변환기의 활성 소자만이 최대 허용가능 출력 전압에 의존하여 선택되어야 한다. 제 1 전압 변환 단의 구성요소들은 최대 허용가능 출력 전압에 의존하지 않는다. 승압 변환기의 스위칭 소자를 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 스위칭하는 것은, 승압 변환기가 회로 동작이 끊기는 것을 방지한다는 점에서 이점을 가진다. 이에 의해, 매 사이클 마다, 인덕턴스로부터 승압 변환기의 필터 커패시터로 에너지가 펌핑되는 것을 방지할 수 있고, 따라서, 구성 요소들을 파괴할 수 있는, 언로딩 상태에서의 출력 DC 전압의 상승을 방지할 수 있다. 또한, 출력 DC 전압은 펄스 충격 계수의 제어를 통하여 조정될 수 있다. 자세하게는, 펄스 충격 계수는 출력 DC 전압이 제 2 DC 전압에 일치하도록 제로로 설정될 수 있다.
특히 바람직하게 변형된 방법에서는, 제 2 전류 변환 단에서의 제 2 DC 전압이 상승된다. 특히, 제 2 DC 전압의 상승에 의해, 추가 스트라이크 강화 회로들을 필요로 하지 않고 가스 방전 처리를 스트라이크시킬 수 있다.
변형된 일 방법에서는, 2 이상의 승압 변환기의 스위칭 소자를 시간적인 오프셋 방식으로, 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 스위칭시켜, 제 2 DC 전압으로부터 출력 DC 전압을 생성할 수 있다. 이것은 스위칭 소자들이 최적의 기능을 스위칭 소자들에 제공하는 하위 주파수에서 동작할 수 있도록 한다는 이점을 가진다. 또한, 제 2 전압 변환 단의 출력에서의 필터 커패시터는 전압 공급 유닛에 고속의 접속 해제를 제공하는 보다 작은 용량을 제공할 수 있다. 특히, 소위 아크가 플라즈마 처리에서 발생하는 경우 고속의 스위칭이 요구된다. 이들 아크는 플라즈마 처리에서의 불안정성을 발생시키고, 플라즈마 챔버에서의 캐소드나 그 외의 소자들을 파괴할 수 있다. 이러한 아크가 발생하는 경우, 전압 공급부는 신속하게 오프로 스위칭되어야 한다. 접속 해제후에는, 작은 잔여 에너지만이 전체 시스템에, 즉, 전류 공급부 및 플라즈마 시스템에 남아 있게 된다. 또 다른 이점으로는, 시간적인 오프셋 방식으로, 제어된 펄스 충격 게수를 가지고 스위칭하는 2 개의 승압 변환기를 이용하여, 평활한 (큰 리플(ripple)이 없는) DC 전압을 전압 공급 유닛의 출력에서 생성할 수 있다는 점이다.
시간적인 오프셋 방식으로, 제어된 펄스 충격 계수을 가지고 2 이상의 승압 변환기의 스위칭 소자들을 변환하여 입력 DC 전압으로부터 출력 DC 전압을 생성하는 것은 입력 DC 전압의 생성 방법에 의존하지 않고 독립적인 발명으로 기술된다. 특히 바람직한 방식으로는, 승압 변환기들이 병렬로 접속되어 있고 입력 DC 전압들이 출력 DC 전압으로 상승된다.
특히 우선적으로, 예를 들어, 변환기에서 여기된 오실레이션이 18 ㎑ 이상인 주파수에서는 가청가능하지 않기 때문에 스위칭 소자들이 18 ㎑ 이상인 주파수에서 구동된다. 또한, 예를 들어, 변압기와 같은 수동 소자들이 보다 소형의 크기를 가질 수 있다.
스위칭 소자들은 동일 주파수 또는 소정의 기본 주파수의 배수에서 바람직하게 구동되기 때문에, 비트(beat)를 방지할 수 있다. 이러한 비트는, 예를 들어, 스위칭 소자가 상이한 구동 주파수에서 구동되는 경우에 발생될 수 있다. 예를 들어, 이는 가변 주파수 제어 방식으로, 제어되는 경우이다. 스위칭 소자들을 동일 주파수에서 또는 소정의 기본 주파수의 배수에서 구동시키는 것은, 개선된 전자기 호환성(EMC)을 이루게 한다. 이에 의해, 스위칭 소자들에 의한 상호 영향 및 그 외의 구성 요소나 외부 장치에 의한 영향이 크게 방지될 수 있다.
바람직한 변형 방법에서는, 초기에, 제 1 DC 전압을 AC 전압으로 변환한 다음 그 AC 전압을 제 2 DC 전압으로 정류한다. 이에 의해, 제 2 전류 변환 단의 입력 전압이 조정될 수 있다. 또한, 제 1 전류 변환 단의 입력 및 출력의 전위들이 제 1 전류 변환 단 내에서 분리될 수 있다. AC 전압의 진폭이 AC 전압의 파형과 함께 조정될 수 있다.
보다 바람직한 개선된 방법에서는, 스위칭 소자들의 브리지 회로에 의해 AC 전압을 생성하는데, 여기서, 스위칭 소자들은 펄스 폭 변조 방식 또는 위상 시프트 방식으로 구동될 수 있어, 한편에서는 로우 부하 전압에 대한 전력 제어를 가능하게 하면서 다른 한편에서는 제 1 전압 변환 단의 입력 전압의 변환을 가능하게 한다. 또한, AC 전압의 파형을 자유자재로 조정할 수 있다. 브리지 회로는 준 브리지 또는 완전 브리지로서 구현될 수 있다.
특히 바람직한 방식으로는, 브리지 회로의 스위칭 소자와 부스트 변환기(들)의 스위칭 소자가 동일 주파수에서 또는 소정의 기본 주파수의 배수에서 구동된다. 이에 의해 비트 상태가 제거된다. 스위칭 소자들의 공통 제어는 전자기 호환성에 바람직한 영향을 준다. 제 1 및 제 2 전압 변환 단이 서로 영향을 주지 않는다.
특히 우선적으로, AC 전압은 정류 전에 변환된다. 변환은 전위 분리를 가능하게 한다. 또한, 제 2 전압 변환 단의 입력 전압을 조정할 수 있고, 제 2 전압 변환 단에서의 전압이 상승하지 않을 경우, 또한, 전압 공급 유닛의 출력 전압을 조정할 수 있다.
제 1 DC 전압은 메인 전압으로부터 정류를 통하여 바람직하게 생성된다. 이는 전체 전력 공급 장치를 대부분의 어떠한 메인 전압에서도 동작될 수 있게 하는 이점을 가진다. 플라즈마 시스템은 가장 상이한 메인 전압에서도, 그리고, 실제적으로 동일한 전압 공급 장치에서의 가장 상이한 출력 DC 전압에서도 동작될 수 있다.
특히 바람직한 방식으로는, 650 V 이하인 전압, 바람직하게는 50 내지 650V 범위의 전압인 제 2 DC 전압이 제 1 DC 전압으로부터 생성되고, 600 V 이상인 전압, 바람직하게는 600 내지 2000V 범위의 전압인 출력 DC 전압이 제 2 DC 전압으로부터 생성된다. 이에 의해, 제 1 전압 변환 단이, 특히 가스 방전 처리를 유지하기 위해, 또는 낮은 부하 임피던스 및 고 출력 전류를 위하여 비교적 낮은 출력 DC 전압을 생성하고 제 2 전압 변환 단은 가스 방전 처리를 스트라이크하기 위해 또는, 상위 출력 전압 범위에서의 전력 조정, 즉, 고 부하 임피던스와 그에 따른 고 출력 DC 전압을 위하여 보다 높은 출력 전압을 생성한다. 따라서, 작은 전압이 제 1 전압 변환 단에서 생성되고 고 전압이 제 2 전압 변환 단에서 생성되는 경, 제 2 전압 변환 단만이 고전압 용으로 설계된 구성요소들의 이용에 필요하다. 제 1 전압 변환 단의 소자들 간의 안전 거리는, 감소된 전압으로 인해 보다 작아질 수 있다.
또한, 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛과, 제 1 DC 전압을 제 2 DC 전압으로 변환하기 위한 제 1 전압 변환 단과, 제 2 DC 전압을 출력 DC 전압으로 변환하기 위한 제 2 전압 변환 단을 포함한다. 출력 DC 전압을 생성하기 위하여, 제 2 전압 변환 단은 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 동작되는 스위칭 소자들을 가진 하나 이상의 승압 변환기를 포함한다. 이러한 유형의 DC 전압 공급 유닛은 넓은 입력 전압 범위와 필요한 출력 DC 전압 범위에 걸쳐 이용될 수 있다. 제 1 전압 변환 단은 어떠한 DC/DC 컨버터일 수도 있으며, 예를 들어, 버크(buck) 변환기, 승압 변환기 또는 이들의 조합이 될 수 있다. 제 1 DC 전압은 제 1 전압 변환 단에서 상승될 수도 있고 감소될 수도 있다.
제어 유닛은 제 1 전압 변환 단과 제 2 전압 변환 단을 제어하는데 바람직하게 제공된다. 제 2 전압 변환 단에서의 승압 변환기의 이용과 결합한 제어 유닛에 의한 제 1 전압 변환 단과 제 2 전압 변환 단의 공통 제어는 가스 방전 처리의 신뢰성있는 스트라이크를 가능하게 하고 또한, 플라즈마 처리 요건에 따른 출력 DC 전압의 연속적인 조정을 가능하게 한다. 또한, 자신의 제어 유닛을 각각의 전압 변환 단에 제공하는 것을 용이하게 한다.
바람직한 실시형태에서, 병렬로 접속되어 있는 2 이상의 승압 변환기가 제 2 전압 변환 단에 제공되어, 제 2 전압 변환 단에서의 구성 요소들을 보호한다. 특히, 스위칭 소자들은 승압 변환기 하나만을 이용할 때에 비하여, 하위 주파수에서 동작될 수 있다. 또한, 병렬로 접속되어 있는 2 이상의 승압 변환기를 포함하는 제 2 전압 변환 단은 본 발명의 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛으로서 독립적으로 간주될 수도 있다. 승압 변환기는 공통 DC 전압 공급부에 접속될 수 있거나, 또는 각각의 승압 변환기가 자신의 DC 전압 공급부를 가질 수도 있다.
특히 바람직한 방식으로는, 승압 변환기는 공통 필터 커패시터를 갖고 있다. 초소 용량을 갖는 필터 커패시터를 커패시터의 고속 방전을 가능하게 하는 소정의 최대 출력 DC 전압용으로 이용할 수도 있는데, 이에 의해, 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛이 파괴되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 이러한 기능에 의해 기판과 타겟과 같은 플라즈마 처리의 요소들을 보호한다.
승압 변환기의 스위칭 소자들이 시간적인 오프셋 방식으로 구동되는 경우, 비교적 저렴한 스위칭 소자들, 특히, 트랜지스터를 이용하는 것이 가능하다. 스위칭 소자들의 시간적인 오프셋 구동에 의해, 개개의 스위칭 소자들이 하위 주파수에서 동작할 수 있다.
바람직한 실시형태에서, 제 1 전압 변환 단은 특히, 제어 유닛에 의해 구동되며 제 2 DC 전압으로부터 AC 전압을 생성하기 위한 인버터, 이 인버터에 접속되어 있으며 AC 전압의 전압 변환을 위한 변압기, 및 제 2 DC 전압을 생성하기 위한 정류기를 포함한다. 이 장치는 로우 출력 DC 전압에 대한 출력 DC 전압의 조정을 가능하게 한다. 이러한 변압기의 이용은 전류 공급 유닛의 입력에서의 전압과 출력에서의 전압 간, 특히, 메인 측 전압과 플라즈마 처리 전압 간의 전위 분리를 가능하게 하는데, 이는 플라즈마 처리에 종종 필요하다.
보다 바람직한 실시 형태로는, 인버터가 브리지 회로로서 구현되는데, 이는 인버터에서 생성되는 AC 전압의 진폭과 파형에 영향을 주게 한다. 브리지 회로의 스위칭 소자를 적절하게 구동시킴으로써, 입력 DC 전압의 진폭을 감소시킬 수 있다. 스위칭 소자를 구동시키는데 이용되는 구동 주파수와 펄스 충격 계수는 생성된 AC 전압의 파형에 영향을 줄 수 있다. 이에 의해, 제 1 전압 변환 단에서의 변압기의 크기들이 소형으로 유지될 수 있도록 출력 AC 전압이 조정될 수 있다. 특히, 고 주파수 AC 전압이 생성되는 경우, 예를 들어, 10 내지 100 ㎑ 범위에서의 전압이 생성되는 경우, 변압기가 초소형으로 될 수 있다. 또한, 전체적인 배치의 효율성이 향상될 수 있다. 다른 방식으로, 제 1 DC 전압은 브리지 회로를 통하여 오실레이션 회로를 구동시켜 상승시킬 수도 있다.
본 발명의 다른 특징 및 이점들은 본 발명의 주요한 세부 사항을 나타내는 도면과 함께 본 발명의 실시형태의 상세한 설명부를 통하여 그리고 청구범위를 통하여 이해할 수 있다. 개개의 특징들이 개별적으로 구현될 수도 있고 본 발명의 변형예와 결합하여 구현될 수도 있다.
이하, 개략도는 상세한 설명부에서 설명되는 본 발명의 가스 방전 처리 전압 공급 유닛의 실시형태를 나타낸다.
도 1 은 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛의 회로도의 형태를 나타내는 제 1 실시형태를 나타낸다.
도 2 는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛의 제 2 실시형태를 나타낸다.
도 1 은 제 1 전압 변환 단(2), 및 이 단에 접속되는 제 2 전압 변환 단(3) 을 가진 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛(1)을 나타낸다. 로드(5), 특히, 가스 방전부 또는 플라즈마 처리부는 제 2 전압 변환 단(3)의 출력(4)에 접속된다. 제 1 전압 변환 단(2)과 제 2 전압 변환 단(3)은 공통 제어 유닛(6)에 의해 구동된다. 제 1 DC 전압은 제 1 전압 변환 단(2)에 제공된다. 이 실시형태에서, 제 1 DC 전압은 수개의 다이오드(8)를 포함하는 정류기(7)를 이용하여 메인 공급부(9)의 메인 전압으로부터 생성된다. 에너지를 축적하기 위한 중간 회로 커패시터(10)는 정류기(7)와 제 1 전압 변환 단(2) 간에 접속되어 있다.
입력 DC 전압은 제 1 전압 변환 단(2)의 인버터(11)에 의해 AC 전압으로 변환된다. 인버터(11)는 스위칭 소자 12 내지 15에 의해 형성되는 브리지 회로를 갖고 있으며, 여기서, 스위칭 소자 12 내지 15는 트랜지스터로 구현되어 제어 유닛(6)에 의해 구동된다. AC 전압은 스위칭 소자 12 내지 15의 적절한 구동을 통하여 인버터(11)의 출력에서 생성될 수 있으며, 이 실시형태에서는, AC 전압의 진폭이 입력에 존재하는 제 1 DC 전압과 최대로 동일하게 된다. 그러나, 이 진폭은 스위칭 소자 12 내지 15의 구동을 통하여 감소될 수 있다. 구동은 예를 들어, PWM(펄스 폭 변조) 방법이나 위상 시프트 방법에 따라서 영향을 받을 수 있다. 양 방법 모두, 고정 주파수(f)에서 그에 따라, 고정된 주기(T=1/f)로 동작한다. 단락 회로를 방지하기 위해, 스위칭 소자(12, 15)가 온으로 스위칭 되는 경우, 스위칭 소자(13, 14)는 오프로 스위칭 되며, 그 역의 경우도 마찬가지다. 이에 의해, 대칭성 구동을 위한 최대 턴온 시간은 T/2로 제한된다. PWM 방법에서, 대각선 형상으로 배열되는 스위칭 소자(12, 15)와 함께, 대각선 형상으로 배열되는 스위칭 소자(13, 14)는 동시 에 온 및 오프로 스위칭된다. 각각의 경우, 턴온 시간은 0 내지 T/2 사이에서 제어된다. 위상 시프트 방법에서는, 턴온 시간이 항상 T/2이다. 스위칭 소자(13, 15)와 함께 서로 아래에 배치되는 스위칭 소자(12, 14)는 정확하게 T/2의 오프셋을 갖고 온 및 오프로 스위칭된다. 제어를 위하여, 스위칭 소자(13)가 온으로 스위칭되는 순간은 스위칭 소자(12)가 온으로 스위칭되는 순간에 대하여 시프트되며, 여기서, 시간 시프트는 0 내지 T/2 사이에 있다. 이는 위상 위치가 시프트되었음을 의미한다.
또한, AC 전압의 파형도 브리지 회로에 의해 영향을 받을 수 있다. 인버터(11)의 출력에서의 AC 전압은 이 실시형태에서 전기(galvanic) 분리를 수행하는 변압기(16)에 제공된다. 이 실시형태에서, 1 차 권선측(17) 상의 권선 수는 2차 권선측(18) 상의 권선 수와 일치하며, 이에 의해 전압 변환이 수행되지 않는다. 그러나, 이는 변압기(16)에 의해 1 차 권선측의 AC 전압을 보다 높은 값 또는 보다 낮은 값으로 변환하는 것을 용이하게 한다. 변압기(16)의 2 차 권선측에서의 AC 전압은 정류기(19)에 의해 제 2 DC 전압으로 변환된다. 제 1 전압 변환 단(2)의 출력에서는, 비교적 작은 출력 전압이 바람직하며, 이는 예를 들어, 650 V에서 사전 결정될 수 있다. 보다 높은 제 2 DC 전압이 요구되는 경우, 정류기(19)의 다이오드들과 스위칭 소자(12 내지 15)의 다이오드들은 대응하여 설계되어야 한다. 이러한 형태의 구성요소들은 비교적 고가로 되고 그 외의 다른 단점을 가진다. 소정의 제 1 DC 전압이 보다 작은 경우, 제 1 전압 변환 단의 구성요소들이 보다 작어질 수 있다. 또한, 절연체의 절연 강도나 전류 저항의 변형에 대한 수개의 요건이 요구된다. 내 부 아킹을 방지하는 것은 용이하게 구현된다. 구성요소들 간의 안전 거리가 보다 작아지는데, 이는 전체 구성을 보다 소형으로 형성한다. 오직 제 2 전압 변환 단(3)의 구성요소들은 특히, 플라즈마 처리를 스트라이크하는데 요구되는 보다 높은 전압을 견디도록 설계되어야 한다.
제 1 전압 변환 단(2)의 출력에서의 제 2 DC 전압은 제 2 전압 변환 단(3)의 입력에 제공된다. 제 2 전압 변환 단(3)은 코일(21), 다이오드(22), 스위칭 소자(23), 및 필터 커패시터(24)를 포함하는 승압 변환기(20)를 갖고 있다. 스위칭 소자(23)를 제어 유닛(16)에 의해 스위칭하는 방법에 의존하여, 입력 DC 전압이 로드(5)를 통하여 접속되거나, 또는 보다 높은 전압으로 변환된다. 스위칭 소자(23)의 턴온 단계 동안, 입력 전압은 인덕턴스(21)에서 드롭된다. 인덕턴스(21)를 통한 전류는 선형으로 증가한다. 스위칭 소자(23)가 턴 오프로 되면, 전류는 다이오드(22)를 통하여 계속 흐르고 필터 커패시터(24)를 충전시킨다. 이는 턴온 단계에서 에너지가 인덕턴스(21)로 충전됨을 의미한다. 이것은 스위칭 소자(23)의 블록킹 단계 동안에 필터 커패시터(24)로 이동된다. 트랜지스터로 구현되는 스위칭 소자(23)가 클록되지 않는 경우, 즉, 어떤 펄스 충격 계수를 가지고 구동되지 않는 경우, 필터 커패시터(24)는 인덕턴스(21)를 통하여 충전되고 다이오드(22)는 제 2 DC 전압으로 충전된다. 스위칭 소자(23)가 클록되는 경우, 출력(4)에서의 출력 전압이 제 2 DC 전압보다 높은 값으로 승압한다. 연속 동작시, 출력(4)에서의 출력 전압은 단지 펄스 충격 계수와 제 2 DC 전압, 즉, 제 2 전압 변환 단(3)의 입력 전압에만 의존한다. 출력 전압은 로드에는 의존하지 않는다.
제어되지 않은 동작 상태에서, 특히, 고정된 펄스 충격 계수로 구동되는 경우에서, 회로 동작이 끊기는 것을 승압 변환기(20)가 방지하지 못하기 때문에, 스위칭 소자(23)의 펄스 충격 계수가 제어된다. 에너지가 매 사이클마다 인덕턴스(21)로부터 필터 커패시터(24)로 펌핑된다. 이러한 이유로, 출력 전압은 회로 동작이 끊기는 동안, 구성요소들이 파괴될 때까지 연속으로 상승한다. 펄스 충격 계수는 제어 유닛(6)에 의해 조정된다.
도 2의 실시형태에서, 제 2 전압 변환 단(30)은 병렬로 접속되어 있는 2 개의 승압 변환기를 포함한다. 제 1 승압 변환기는 인덕턴스(31), 다이오드(32), 스위칭 소자(33) 및 필터 커패시터(34)를 포함한다. 이 제 1 승압 변환기에 병렬로 접속되어 있는 제 2 승압 변환기는 인덕턴스(35), 다이오드(36), 스위칭 소자(37) 및 필터 커패시터(34)를 포함한다. 2개의 승압 변환기는 공통 필터 커패시터(34)를 갖고 있다. 스위칭 소자(33, 37)는 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 시간적인 오프셋 방식으로, 제어 수단(6)에 의해 구동된다. 시간적인 오프셋 구동은, 각각의 스위칭 소자(33, 37)가 비교적 낮은 주파수에서 동작할 수 있는 효과를 갖는다. 다른 방법으로는, 필터 커패시터(34)가 2 개의 승압 변환기에 의해 에너지를 공급받아, 출력 전압을 생성한다. 이러한 동작 모드는 특히 구성요소들에 대하여 적합하며, 비교적 저렴하고 상업적으로 이용가능한 구성요소들을 이용할 수 있다. 제 2 전압 변환 단(30)의 입력 DC 전압은 스위칭 소자(33, 37)를 적절하게 구동시켜, 출력 (4)을 통하여 접속될 수 있다.
가스 방전 전력 공급 유닛(1)의 출력 DC 전압을 생성하기 위한 방법에서는, 제 1 전압 변환 단(2)에서, 제 1 DC 전압이 소정 전압 범위의 제 2 DC 전압으로 변환되며, 출력 DC 전압이 제 2 전압 변환 단(3)의 제 2 DC 전압으로부터 생성되며, 하나 이상의 승압 변환기(20)의 스위칭 소자(23)가 제 2 전압 변환 단에서, 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 스위칭되어 출력 DC 전압을 생성한다. 이러한 방법에 의해, 플라즈마 처리의 스트라이크 및 유지를 가능하게 할 수 있다.

Claims (19)

  1. 제 1 전압 변환 단(2)에서, 제 1 DC 전압이 소정 전압 범위의 제 2 DC 전압으로 변환되며, 제 2 전압 변환 단(3)에서, 출력 DC 전압이 제 2 DC 전압으로부터 생성되는, 가스 방전 처리 전압 공급 유닛(1)의 출력 DC 전압을 생성하는 방법으로서,
    제 2 전압 변환 단(3)에서, 상기 출력 DC 전압을 생성하기 위하여, 하나 이상의 승압 변환기(20)의 스위칭 소자(23)가, 제어된 펄스 충격 계수(pulse-duty factor)를 가지고 스위칭되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 DC 전압은 제 2 전압 변환 단(3)에서 상승하는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 출력 DC 전압은 2 이상의 승압 변환기의 스위칭 소자(33, 37)를 시간적인 오프셋 방식으로(in a temporally offset manner), 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 스위칭하여, 상기 제 2 DC 전압으로부터 생성되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  4. 가스 방전 처리 전압 공급 유닛의 출력 DC 전압을 생성하는 방법으로서,
    승압 변환기들의 스위칭 소자(33, 37)를 시간적인 오프셋 방식으로, 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 스위칭하고, 병렬로 접속되어 있는 2 이상의 승압 변환기에 의해 제 2 DC 전압으로부터 높은 DC 전압을 생성하며,
    상기 스위칭 소자(33, 37)는 동일 주파수 또는 소정의 기본 주파수의 배수에서 제어되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스위칭 소자는 18 ㎑ 이상인 주파수에 의해 구동되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  6. 제 3 항에 있어서, 상기 스위칭 소자(33, 37)는 동일 주파수 또는 소정의 기본 주파수의 배수에서 제어되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 DC 전압이 초기에 AC 전압으로 변환된 다음 후속하여 상기 제 2 DC 전압으로 정류되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 AC 전압은 스위칭 소자(12 내지 15)의 브리지 회로에 의해 생성되며, 상기 스위칭 소자(12 내지 15)는 펄스 폭 변조 방식 또는 위상 시프트 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 브리지 회로의 스위칭 소자(12 내지 15) 및 상기 승 압 변환기(들)(20)의 스위칭 소자(23, 33, 37)는 동일 주파수 또는 소정의 기본 주파수의 배수에서 제어되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 AC 전압은 정류되기 전에 변환되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 DC 전압이 메인 전압으로부터 정류를 통하여 생성되는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  12. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 650 V 보다 작은 전압, 바람직하게는 50 V 내지 650 V 인 범위의 전압을 가진 제 2 DC 전압을 제 1 DC 전압으로부터 생성하고,
    600 V 보다 큰 전압, 바람직하게는 600 V 내지 2000 V 인 범위의 전압을 가진 출력 전압을 제 2 DC 전압으로부터 생성하는 것을 특징으로 하는 출력 DC 전압의 생성 방법.
  13. 제 1 DC 전압을 제 2 DC 전압으로 변환하는 제 1 전압 변환 단(2), 및 제 2 DC 전압을 출력 DC 전압으로 변환하는 제 2 전압 변환 단(3)을 포함하며, 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 방법을 수행하는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛(1)으로서,
    출력 전압을 생성하기 위하여, 상기 제 2 전압 변환 단(3)은 제어된 펄스 충격 계수를 가지고 구동되는 스위칭 소자(23)를 가진 하나 이상의 승압 변환기(20)를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛.
  14. 제 13 항에 있어서, 제 1 전압 변환 단(2) 및 제 2 전압 변환 단(3)을 제어하는 제어 유닛(6)이 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛.
  15. 제 13 항에 있어서, 병렬로 접속되어 있는 2 이상의 승압 변환기가 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 승압 변환기는 공통 필터 커패시터(34)를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 승압 변환기의 스위칭 소자(33, 37)는 시간적인 오프셋 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛.
  18. 제 13 항에 있어서, 제 1 전압 변환 단(2)은 제 1 DC 전압으로부터 AC 전압을 생성하는 인버터(11), 인버터에 접속되어, AC 전압의 전압 변환을 수행하는 변압기(16), 및 제 2 DC 전압을 생성하는 정류기(19)를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 인버터(11)는 브리지 회로로 구현되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 DC 전압 공급 유닛.
KR1020057017677A 2003-03-21 2004-03-10 가스 방전 처리의 전력 공급 유닛 KR100753462B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10312549.3 2003-03-21
DE10312549A DE10312549B3 (de) 2003-03-21 2003-03-21 Gasentladungsprozess-Spannungsversorgungseinheit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050113244A KR20050113244A (ko) 2005-12-01
KR100753462B1 true KR100753462B1 (ko) 2007-08-31

Family

ID=32748289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020057017677A KR100753462B1 (ko) 2003-03-21 2004-03-10 가스 방전 처리의 전력 공급 유닛

Country Status (8)

Country Link
US (2) US7408329B2 (ko)
EP (1) EP1606872B1 (ko)
JP (1) JP4273151B2 (ko)
KR (1) KR100753462B1 (ko)
CN (1) CN100588102C (ko)
AT (1) ATE392737T1 (ko)
DE (2) DE10312549B3 (ko)
WO (1) WO2004084394A1 (ko)

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9997338B2 (en) * 2005-03-24 2018-06-12 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Method for operating a pulsed arc source
JP4764980B2 (ja) * 2005-06-14 2011-09-07 富士電機株式会社 直流−直流変換装置
DE102007011230A1 (de) * 2007-03-06 2008-09-11 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Magnetronplasmaanlage
DE102007039758B4 (de) * 2007-08-22 2012-10-31 Johann Wolfgang Goethe-Universität Frankfurt am Main Einrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines Plasmas durch niederfrequente induktive Anregung
US9118259B2 (en) * 2007-12-03 2015-08-25 Texas Instruments Incorporated Phase-shifted dual-bridge DC/DC converter with wide-range ZVS and zero circulating current
WO2010012293A1 (de) 2008-08-01 2010-02-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Anordnung und verfahren zur erzeugung eines plasmas mit definiertem und stabilem ionisierungszustand
JP5268615B2 (ja) 2008-12-15 2013-08-21 キヤノン株式会社 電源装置および画像形成装置
CN101772252B (zh) * 2008-12-26 2013-02-13 中国科学院空间科学与应用研究中心 一种等离子体激励电源
KR101017585B1 (ko) * 2008-12-31 2011-02-28 지에스플라텍 주식회사 혼합형 플라즈마 토치의 전원 장치
EP2648209B1 (en) 2009-02-17 2018-01-03 Solvix GmbH A power supply device for plasma processing
US8164929B2 (en) * 2009-08-17 2012-04-24 Schleifring Und Apparatebau Gmbh Controlled contactless power transmission
GB2475518A (en) * 2009-11-20 2011-05-25 Technelec Ltd Two stage resonant converter for LED lamps
DE102010031568B4 (de) 2010-07-20 2014-12-11 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Arclöschanordnung und Verfahren zum Löschen von Arcs
KR101228797B1 (ko) 2011-05-30 2013-01-31 한국과학기술원 전원 공급 장치
CN103107714A (zh) * 2011-11-10 2013-05-15 烟台龙源电力技术股份有限公司 一种等离子体点火系统及其电源系统
DE102012201415A1 (de) * 2012-02-01 2013-08-01 Osram Gmbh Schaltungsanordnung, Leuchteinheit für ein Fahrzeug und Verfahren zur Ansteuerung von Halbleiterleuchtelementen
CN103259429A (zh) * 2012-02-16 2013-08-21 阳光电源股份有限公司 一种逆变电源装置
CN102612224B (zh) * 2012-03-01 2015-09-23 杭州乐图光电科技有限公司 一种mr16led灯驱动电路、驱动方法以及应用其的mr16led灯照明系统
TW201427259A (zh) * 2012-12-19 2014-07-01 Chyng Hong Electronic Co Ltd 交流電源供應器電源電路
JP6089677B2 (ja) * 2012-12-19 2017-03-08 富士通株式会社 電源装置
US9584024B2 (en) * 2013-06-24 2017-02-28 Illinois Tool Works Inc. Metal working power supply converter system and method
US9539661B2 (en) 2013-06-24 2017-01-10 Illinois Tool Works Inc. Welding power supply extended range system and method
US10237962B2 (en) * 2014-02-26 2019-03-19 Covidien Lp Variable frequency excitation plasma device for thermal and non-thermal tissue effects
DE102014220094A1 (de) * 2014-10-02 2016-04-07 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Verfahren zum Betrieb eines MF-Leistungsgenerators und MF-Leistungsgenerator
US10658943B2 (en) * 2015-07-01 2020-05-19 Texas Instruments Incorpored Power conditioning circuit with hybrid full wave rectifiction using matched virtual junction rectifier
DE102016109343A1 (de) * 2016-05-20 2017-11-23 Christof-Herbert Diener Schaltungsanordnung zur Bereitstellung von Hochfrequenzenergie und System zur Erzeugung einer elektrischen Entladung
DE102016110141A1 (de) * 2016-06-01 2017-12-07 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Verfahren und Vorrichtung zum Zünden einer Plasmalast
US10110321B2 (en) * 2017-03-16 2018-10-23 Tyco Electronics Subsea Communications Llc Techniques for providing adaptive power distribution using a multi-node network of power feed branching units (PFBUs) and an undersea optical communication system using same
US10510575B2 (en) 2017-09-20 2019-12-17 Applied Materials, Inc. Substrate support with multiple embedded electrodes
US10555412B2 (en) 2018-05-10 2020-02-04 Applied Materials, Inc. Method of controlling ion energy distribution using a pulse generator with a current-return output stage
US11476145B2 (en) 2018-11-20 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Automatic ESC bias compensation when using pulsed DC bias
WO2020154310A1 (en) 2019-01-22 2020-07-30 Applied Materials, Inc. Feedback loop for controlling a pulsed voltage waveform
US11508554B2 (en) 2019-01-24 2022-11-22 Applied Materials, Inc. High voltage filter assembly
JP2020174465A (ja) * 2019-04-10 2020-10-22 Ntn株式会社 三相交流用の絶縁型力率改善装置
US11848176B2 (en) 2020-07-31 2023-12-19 Applied Materials, Inc. Plasma processing using pulsed-voltage and radio-frequency power
US11798790B2 (en) 2020-11-16 2023-10-24 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for controlling ion energy distribution
US11901157B2 (en) 2020-11-16 2024-02-13 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for controlling ion energy distribution
US11495470B1 (en) 2021-04-16 2022-11-08 Applied Materials, Inc. Method of enhancing etching selectivity using a pulsed plasma
CN113078823A (zh) * 2021-05-11 2021-07-06 安徽省金屹电源科技有限公司 一种基于数字化全桥boost两级升压电源
US11791138B2 (en) 2021-05-12 2023-10-17 Applied Materials, Inc. Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing
US11948780B2 (en) 2021-05-12 2024-04-02 Applied Materials, Inc. Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing
US11967483B2 (en) 2021-06-02 2024-04-23 Applied Materials, Inc. Plasma excitation with ion energy control
US11984306B2 (en) 2021-06-09 2024-05-14 Applied Materials, Inc. Plasma chamber and chamber component cleaning methods
US12148595B2 (en) 2021-06-09 2024-11-19 Applied Materials, Inc. Plasma uniformity control in pulsed DC plasma chamber
US11810760B2 (en) 2021-06-16 2023-11-07 Applied Materials, Inc. Apparatus and method of ion current compensation
US11569066B2 (en) 2021-06-23 2023-01-31 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage source for plasma processing applications
US11776788B2 (en) 2021-06-28 2023-10-03 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage boost for substrate processing
US11476090B1 (en) 2021-08-24 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Voltage pulse time-domain multiplexing
US12106938B2 (en) 2021-09-14 2024-10-01 Applied Materials, Inc. Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber
US11694876B2 (en) 2021-12-08 2023-07-04 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing
US11972924B2 (en) 2022-06-08 2024-04-30 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage source for plasma processing applications
US12111341B2 (en) 2022-10-05 2024-10-08 Applied Materials, Inc. In-situ electric field detection method and apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980067277U (ko) * 1997-05-24 1998-12-05 김영귀 Dc/dc 변환기의 병렬운전제어
KR200261558Y1 (ko) * 2001-10-10 2002-01-24 대영전기기술 주식회사 마이컴을 이용한 고압 램프용 자동 디밍 전자식안정기

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3913000A (en) * 1973-05-29 1975-10-14 Hughes Aircraft Co Two-phase solid state power converter
DE3538494A1 (de) * 1985-10-30 1987-05-07 Boehringer Andreas Aus einer gleichspannungsquelle gespeiste elektrische schaltungsanordnung zur versorgung eines verbraucherzweipols mit eingepraegtem, jedoch unterbrechbarem gleichstrom oder eingepraegtem, jedoch unterbrechbarem, blockfoermigem wechselstrom mit einstellbarer begrenzung der spannungen am verbraucherzweipol und an den verwendeten elektronischen einwegschaltern
US4803610A (en) * 1986-04-07 1989-02-07 Zdzislaw Gulczynski Switching power supply
DE3830460A1 (de) * 1988-09-08 1990-03-15 Asea Brown Boveri Schaltungsanordnung zur speisung eines elektrischen verbrauchers aus einem wechselspannungsnetz
DE4023253A1 (de) 1989-07-24 1992-01-23 Boehringer Andreas Einrichtung zur speisung eines verbraucherzweipols mit einer weitgehend oberschwingungsfreien und dennoch rasch veraenderbaren gleichspannung oder einem weitgehend oberschwingungsfreien und dennoch rasch veraenderbaren gleichstrom
DE3924398A1 (de) 1989-07-24 1991-01-31 Boehringer Andreas Einrichtung zur speisung eines verbraucherzweipols mit einem weitgehend oberschwingungsfreien und dennoch rasch veraenderbaren gleichstrom
DE4017207A1 (de) 1989-07-24 1991-12-05 Boehringer Andreas Verbesserte einrichtung zur speisung eines verbraucherzweipols mit einem weitgehend oberschwingungsfreien und dennoch rasch veraenderbaren gleichstrom
JP3003437B2 (ja) * 1992-11-20 2000-01-31 モトローラ株式会社 電圧変換装置
JP2556246B2 (ja) * 1992-12-08 1996-11-20 東洋製罐株式会社 耐熱性ポリエステル容器及びその製法
JP3280475B2 (ja) * 1993-08-03 2002-05-13 池田デンソー株式会社 放電灯点灯装置
JPH07327361A (ja) 1993-12-27 1995-12-12 Mitsubishi Electric Corp インバータ装置
US5426346A (en) * 1994-03-09 1995-06-20 General Electric Company Gas discharge lamp ballast circuit with reduced parts-count starting circuit
TW312890B (ko) * 1995-10-20 1997-08-11 Eni Inc
DE19543419A1 (de) * 1995-11-21 1997-05-22 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Verfahren und Schaltungsanordnung zum Betreiben von Kaltkathoden-Glimmleuchtstofflampen
KR100215991B1 (ko) 1997-02-01 1999-08-16 정진영 원적외선 방사조성물 및 그 제조방법
US5861734A (en) * 1997-10-14 1999-01-19 Lucent Technologies, Inc. Control architecture for interleaved converters
JP3156657B2 (ja) * 1997-11-12 2001-04-16 日本電気株式会社 二次電池ユニット
US6052790A (en) * 1998-01-27 2000-04-18 Dell Usa, L.P. Computer system with improved DC to DC power conversion employing capacitive energy storage reservoirs
JPH11243646A (ja) * 1998-02-23 1999-09-07 Nippon Electric Ind Co Ltd 充電器用のコンバータ回路
DE19917180A1 (de) * 1998-04-18 1999-10-21 Manfred Diez Verfahren zum Betreiben eines Gasentladungsstrahlers, und Anordnung zur Durchführung eines solchen Verfahrens
US6122183A (en) * 1998-11-24 2000-09-19 Lucent Technologies Inc. Two-stage, three-phase boost converter with reduced total harmonic distortion
US6545450B1 (en) 1999-07-02 2003-04-08 Advanced Energy Industries, Inc. Multiple power converter system using combining transformers
US6198257B1 (en) * 1999-10-01 2001-03-06 Metropolitan Industries, Inc. Transformerless DC-to-AC power converter and method
DE10015244C2 (de) * 2000-03-28 2002-09-19 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Schaltungsanordnung zur pulsförmigen Energieeinspeisung in Magnetronentladungen
JP3670955B2 (ja) * 2000-11-10 2005-07-13 株式会社日立製作所 力率改善回路
US6587356B2 (en) * 2001-02-23 2003-07-01 Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. Start-up circuit and control for high power isolated boost DC/DC converters
JP2002325458A (ja) 2001-02-26 2002-11-08 Shinei Sangyo Kk 定電流装置
KR100364505B1 (ko) 2001-10-10 2002-12-12 대영전기기술 주식회사 마이컴을 이용한 고압 램프용 전자식안정기 및 자동 디밍제어방법
GB2420666B (en) * 2003-08-08 2007-01-03 Astec Int Ltd A circuit for maintaining hold-up time while reducing bulk capacitor size and improving efficiency in a power supply
US7164591B2 (en) * 2003-10-01 2007-01-16 International Rectifier Corporation Bridge-less boost (BLB) power factor correction topology controlled with one cycle control
US7279868B2 (en) * 2004-03-12 2007-10-09 Comarco Wireless Technologies, Inc. Power factor correction circuits
US7023186B2 (en) * 2004-08-05 2006-04-04 Astec International Limited Two stage boost converter topology
US7283379B2 (en) * 2005-01-07 2007-10-16 Harman International Industries, Incorporated Current controlled switch mode power supply
TWI289971B (en) * 2005-11-01 2007-11-11 Asustek Comp Inc Boost converter and boost conversion method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980067277U (ko) * 1997-05-24 1998-12-05 김영귀 Dc/dc 변환기의 병렬운전제어
KR200261558Y1 (ko) * 2001-10-10 2002-01-24 대영전기기술 주식회사 마이컴을 이용한 고압 램프용 자동 디밍 전자식안정기

Also Published As

Publication number Publication date
WO2004084394A1 (de) 2004-09-30
US20080284344A1 (en) 2008-11-20
DE502004006845D1 (de) 2008-05-29
CN100588102C (zh) 2010-02-03
JP4273151B2 (ja) 2009-06-03
EP1606872A1 (de) 2005-12-21
US7898238B2 (en) 2011-03-01
JP2006521078A (ja) 2006-09-14
CN1762087A (zh) 2006-04-19
DE10312549B3 (de) 2004-08-26
EP1606872B1 (de) 2008-04-16
ATE392737T1 (de) 2008-05-15
KR20050113244A (ko) 2005-12-01
US7408329B2 (en) 2008-08-05
US20060076904A1 (en) 2006-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100753462B1 (ko) 가스 방전 처리의 전력 공급 유닛
EP3691101A1 (en) Interleaved switched-capacitor converters
US9168083B2 (en) HR surgical generator
US7830685B2 (en) Method modular power supply for x-ray tubes and method thereof
US8315076B2 (en) Circuit arrangement having a dual coil for producing an alternating voltage or an alternating current
US5140510A (en) Constant frequency power converter
JP5585408B2 (ja) スイッチング電源装置
JP5483231B2 (ja) 電圧均一回路
US6009002A (en) Operating a power electronic circuit arrangement having multiple power converters
US6744222B2 (en) Discharge lamp lighting apparatus and lamp apparatus
KR20100037149A (ko) 전압 트랜스포머를 포함하는 회로 어레인지먼트 및 연관된 방법
CN113328638A (zh) 一种宽电压宽频率输出的等离子体电源及其控制方法
JP2005253295A (ja) 準共振ソフトスイッチングタイプのインバータを備えた溶接セット
JP2003299356A (ja) Ｄｃ／ｄｃコンバータの制御方法
KR102736657B1 (ko) 전력 증폭기를 위한 부스터 스테이지 회로
WO2000011784A1 (en) A high voltage pulse generator using a non-linear capacitor
JP2004064817A (ja) 電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置
JP2007524212A (ja) 点灯回路及びその動作方法、駆動回路
JPH11144860A (ja) 高周波加熱装置
JP4879556B2 (ja) 高電圧充電器
EP4429092A1 (en) A modular power converter and a ups
JP2000350457A (ja) 電力変換装置
JP2024538301A (ja) Ｄｃ／ｄｃコンバータを備えるｒｆパルス増幅器およびｒｆパルスを増幅する方法
JP2002159171A (ja) 電源装置及び放電灯点灯装置
CN113422536A (zh) 一种负极性电压型脉冲驱动电路拓扑、系统及设备

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20050921

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20060113

Comment text: Request for Examination of Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20070208

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20070719

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20070823

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20070824

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
PG1701 Publication of correction
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20100816

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20110811

Start annual number: 5

End annual number: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120816

Year of fee payment: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20120816

Start annual number: 6

End annual number: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130820

Year of fee payment: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20130820

Start annual number: 7

End annual number: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140825

Year of fee payment: 8

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20140825

Start annual number: 8

End annual number: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150821

Year of fee payment: 9

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20150821

Start annual number: 9

End annual number: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160817

Year of fee payment: 10

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20160817

Start annual number: 10

End annual number: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170811

Year of fee payment: 11

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20170811

Start annual number: 11

End annual number: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180809

Year of fee payment: 12

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20180809

Start annual number: 12

End annual number: 12

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20220811

Start annual number: 16

End annual number: 16

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20230810

Start annual number: 17

End annual number: 17

PC1801 Expiration of term

Termination date: 20240910

Termination category: Expiration of duration