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KR100313109B1 - Manufacturing method for plasma display panel - Google Patents

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KR100313109B1
KR100313109B1 KR1019990042495A KR19990042495A KR100313109B1 KR 100313109 B1 KR100313109 B1 KR 100313109B1 KR 1019990042495 A KR1019990042495 A KR 1019990042495A KR 19990042495 A KR19990042495 A KR 19990042495A KR 100313109 B1 KR100313109 B1 KR 100313109B1
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sealing
section
exhaust
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정의선
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Abstract

본 발명에 따르면, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부 구조가 완성된 상태의 전면 유리 기판과 배면 유리 기판 사이에 기판 접합용 프리트 글래스 및, 상기 기판들을 이격시키는 핀을 설치하는 단계; 상기 패널 기판을 진공 열처리 구간으로 이송하여 상기 진공 열처리 구간을 가열시킴과 동시에 진공화시키는 단계; 상기 패널 기판을 핀 증발/봉착 구간에 이송하여 봉착 온도까지 더 가열함으로써 상기 핀을 제거함과 동시에 봉착을 수행하는 단계; 상기 봉착된 패널을 배기/가스 주입 구간으로 이송하여 상온까지 냉각시키면서 패널의 배면 기판에 설치된 배기관을 통해 상기 패널 내부를 진공화시키는 단계; 및, 상기 진공화된 패널 내부에 방전 가스를 주입하고 상기 패널 배면 기판에 설치된 배기관을 봉지하는 단계;를 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이 제공된다.According to the present invention, there is provided a substrate for bonding a frit glass for bonding a substrate between a front glass substrate and a rear glass substrate in which an internal structure of a plasma display panel is completed, and pins for separating the substrates; Transferring the panel substrate to a vacuum heat treatment section to heat and vacuum the vacuum heat treatment section; Removing the fins by simultaneously transferring the panel substrate to a fin evaporation / sealing section and further heating to a sealing temperature to perform sealing at the same time; Vacuuming the inside of the panel through an exhaust pipe installed on the rear substrate of the panel while transferring the encapsulated panel to an exhaust / gas injection section and cooling it to room temperature; And injecting a discharge gas into the evacuated panel and encapsulating an exhaust pipe installed in the panel back substrate.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법{Manufacturing method for plasma display panel}Manufacturing method for plasma display panel

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널의 배기 효율을 향상시킬 수 있도록 패널 사이에 핀을 설치하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a plasma display panel, and more particularly, to a method of manufacturing a plasma display panel in which fins are provided between panels so as to improve the exhaust efficiency of the plasma display panel.

통상적으로 플라즈마 디스플레이 장치는 가스방전현상을 이용하여 화상을 표시하기 위한 것으로서, 표시용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시능력이 우수하여, CRT를 대체할 수 있는 장치로 각광을 받고 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이 장치는 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이의 가스에서 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다.BACKGROUND ART In general, a plasma display device is used to display an image using a gas discharge phenomenon, and is excellent in various display capacities such as display capacity, brightness, contrast, afterimage, viewing angle, etc., and has been spotlighted as a device that can replace CRT. . In such a plasma display device, a discharge is generated in a gas between the electrodes by a direct current or an alternating voltage applied to the electrode, and the phosphor emits light by exciting the phosphor by radiation of ultraviolet rays.

도 1에는 일반적인 교류형 플라즈마 디스플레이 장치의 패널에 대한 개략적인 분해 사시도가 도시되어 있다.FIG. 1 is a schematic exploded perspective view of a panel of a typical AC plasma display device.

도면을 참조하면, 전면 유리 기판(11)과 배면 유리 기판(12) 사이에 투명한 디스플레이 전극인 제 1 전극(13a)과 어드레스 전극인 제 2 전극(13b)이 형성된다. 도면 번호 13c로 표시된 것은 버스 전극이다. 제 1 전극(13a)과 제 2 전극(13b)은 전면 유리 기판(11) 및 배면 유리 기판(12)의 내표면에 각각 스트립 형상으로 형성되며, 기판(11,12)이 상호 조립되었을 때 상호 직각으로 교차하게 된다. 전면 유리 기판(11)의 내표면에는 유전층(14)과 보호층(15)이 차례로 적층된다. 한편, 배면 유리 기판(12)에는 유전층(14')의 상부 표면에 격벽(17)이 형성되며, 격벽(17)에 의해 셀(19)이 형성된다. 셀(19)내에는 아르곤과 같은 불활성 개스가 충전된다. 또한 각각의 셀(19)을 형성하는 격벽(17)의 내측에는 소정 부위에 형광체(18)가 도포된다. 통상적으로 위에 설명된 바와 같은 플라즈마 디스플레이 장치의 패널을 제작하는데 있어서 패널 내부의 방전 공간은 공기나 기타 불순 개스를 배기시킨 후에 고순도의 방전 개스로 충전되어 유지될 것이 요구된다.Referring to the drawings, a first electrode 13a which is a transparent display electrode and a second electrode 13b which is an address electrode are formed between the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12. Designated by reference numeral 13c is a bus electrode. The first electrode 13a and the second electrode 13b are formed in strip shapes on the inner surfaces of the front glass substrate 11 and the back glass substrate 12, respectively, and are mutually bonded when the substrates 11 and 12 are assembled to each other. Cross at right angles. The dielectric layer 14 and the protective layer 15 are sequentially stacked on the inner surface of the front glass substrate 11. On the other hand, in the back glass substrate 12, the partition 17 is formed on the upper surface of the dielectric layer 14 ', and the cell 19 is formed by the partition 17. The cell 19 is filled with an inert gas such as argon. In addition, the phosphor 18 is applied to a predetermined portion inside the partition wall 17 forming each cell 19. Typically, in fabricating a panel of a plasma display device as described above, the discharge space inside the panel is required to be kept charged with a high purity discharge gas after exhausting air or other impurity gas.

도 2에 도시된 것은 플라즈마 디스플레이 장치의 패널을 가열 배기하기 위한 장치에 대한 개략적인 구성도이다.2 is a schematic configuration diagram of an apparatus for heating and exhausting a panel of a plasma display apparatus.

도면을 참조하면, 가열로(21)의 내측에는 진공 챔버(22)가 설치되며, 상기 진공 챔버(22)에는 터보 분자 펌프(25)와 로터리 펌프(26)를 통해서 진공이 제공될 수 있다. 한편, 가스 봄베(28)가 진공 챔버(22)에 연결됨으로써 방전용 개스가 패널(24)에 공급될 수 있다. 펌프(25,26)와 가스 봄베(28)의 작동은 선택적으로 이루어진다. 진공 챔버(22)로부터 연장된 파이프는 각 패널(24)에 연결된다. 패널(24)은 도 1에 도시된 기판(11,12)들의 접합면에 프리트를 도포하고 이들을 상호 클립으로 고정된 상태로 가열로(21)내의 소정 위치에 유지되며, 배면 유리 기판(12)의 일측에 형성된 배기용 홀(미도시)에 배기관이 연결되고, 상기 배기관에 파이프가 연결됨으로써 배기 및 개스 주입이 이루어질 수 있다. 도면 번호 23 으로 표시된 것은 밸브이며, 각 패널(24)에 대한 진공의 제공을 제어할 수 있게 한다. 또한 도면 번호 27은 가스 봄베(28)로부터 유입되는 가스를 선택적으로 차단할 수 있다.Referring to the drawings, a vacuum chamber 22 is installed inside the heating furnace 21, and the vacuum chamber 22 may be provided with a vacuum through the turbo molecular pump 25 and the rotary pump 26. On the other hand, the gas cylinder 28 is connected to the vacuum chamber 22, the discharge gas can be supplied to the panel 24. Operation of the pumps 25, 26 and the gas cylinder 28 is optional. Pipes extending from the vacuum chamber 22 are connected to each panel 24. The panel 24 is applied to the bonding surfaces of the substrates 11 and 12 shown in Fig. 1 and is held at a predetermined position in the heating furnace 21 with the clips fixed to each other, and the rear glass substrate 12 An exhaust pipe is connected to an exhaust hole (not shown) formed at one side of the exhaust pipe, and exhaust and gas injection may be performed by connecting a pipe to the exhaust pipe. Designated by reference numeral 23 is a valve, which makes it possible to control the provision of a vacuum to each panel 24. In addition, reference numeral 27 may selectively block the gas flowing from the gas cylinder 28.

도 3에 도시된 것은 도 2의 장치를 이용하여 패널을 배기하고 봉착하는 과정을 나타내기 위한 시간-온도에 관한 그래프이다.3 is a graph of time-temperature for showing a process of evacuating and sealing a panel using the apparatus of FIG. 2.

도면을 참조하면, 우선 가열로(21)내에는 접합면에 프리트가 도포된 기판(11,12)들이 투입되어 봉착 온도인 섭씨 400 도까지 가열되는데(구간 31), 이때 가열에 걸리는 시간은 대략 2.5 시간 정도이다. 봉착 온도에 도달하면 약 0.5 시간 동안 봉착 온도를 유지함으로써 프리트가 용융되고 봉착이 이루어진다(구간 32). 다음에 약 0.5 시간 동안 봉착 온도 이하로 냉각하는 과정을 거치며(구간 33), 다시 소정 온도로 유지된 상태로 배기를 수행하게 된다. 배기 과정은 도 2에 도시된 두가지 펌프(25,26)를 선택적으로 사용하여 수행되는데, 이것은 약 10 시간 동안 계속된다(구간 34). 다음에 원하는 진공도에 도달하면 가열로(21)를 상온까지 냉각시키면서 계속 배기를 수행하는데 약 4 시간이 걸린다(구간 35). 다음에 가스 봄베(28)에 충전된 방전 가스를 패널(24)들에 공급하고, 배기관을 봉지하여 절단하게 된다.Referring to the drawings, first, in the heating furnace 21, the substrates 11 and 12 coated with frit are put on the joint surface and heated up to 400 degrees Celsius, which is a sealing temperature (section 31), wherein the heating time is approximately 2.5 hours or so. When the sealing temperature is reached, the frit is melted and sealed by maintaining the sealing temperature for about 0.5 hours (section 32). Next, the process is cooled to the sealing temperature or less for about 0.5 hours (section 33), and exhaust is performed while being maintained at a predetermined temperature. The evacuation process is carried out optionally using the two pumps 25, 26 shown in FIG. 2, which lasts for about 10 hours (section 34). Next, when the desired degree of vacuum is reached, it takes about 4 hours to continue the exhaust while cooling the furnace 21 to room temperature (section 35). Next, the discharge gas filled in the gas cylinder 28 is supplied to the panels 24, and the exhaust pipe is sealed and cut.

위와 같은 패널의 배기 과정에는 다음과 같은 문제점이 존재한다. 우선, 패널에 형성된 격벽(17)등은 많은 불순 개스를 함유하고 있기 때문에 충분한 가열 배기 공정을 통해서 이러한 불순 개스를 배기시키려면 오랜 시간이 필요하다. 또한 패널 자체 구조의 특성상 배기 효율이 매우 낮으므로 충분한 진공도를 달성하기 위해서는 상당한 배기 시간을 필요로 한다. 특히 기존의 가열 배기 공정에 의해서 충분한 배기 상태에 도달하기 위해서는 수십 시간이 소요되며, 이러한 배기 시간의 지체는 공정 진행에 있어서 큰 지장을 준다.The following problems exist in the exhaust process of the panel as described above. First, since the partition 17 formed in the panel contains many impurity gases, it takes a long time to exhaust such impurity gases through a sufficient heat exhaust process. In addition, the exhaust efficiency is very low due to the nature of the panel itself, which requires a considerable exhaust time to achieve a sufficient degree of vacuum. In particular, it takes several tens of hours to reach a sufficient exhaust state by the existing heat exhaust process, and this delay of exhaust time causes a great obstacle in the progress of the process.

본 발명은 위와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 플라즈마 디스플레이 패널의 개선된 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an improved manufacturing method of a plasma display panel.

본 발명의 다른 목적은 플라즈마 디스플레이 패널 내부의 불순 개스를 효과적으로 제거함과 동시에 방전 개스로 충전시키는 과정이 보다 빠르게 수행될 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a plasma display panel in which the process of filling the discharge gas with the effective removal of the impurity gas inside the plasma display panel can be performed more quickly.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 분해 사시도.1 is a schematic exploded perspective view of a typical plasma display panel.

도 2에 도시된 것은 플라즈마 디스플레이 제조에 사용되는 통상적인 봉착 진공 배기 장치에 대한 개략적인 구성도.Shown in Figure 2 is a schematic diagram of a conventional sealed vacuum evacuation apparatus used for plasma display manufacturing.

도 3은 도 2에 도시된 장치를 사용하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 경우의 시간에 대한 온도의 개략적인 그래프.FIG. 3 is a schematic graph of temperature versus time when a plasma display panel is manufactured using the apparatus shown in FIG. 2. FIG.

도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 수행하기 위하여 패널 사이에 핀을 설치한 상태를 나타내는 개략적인 사시도.4 is a schematic perspective view showing a state in which pins are installed between panels to perform a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention;

도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 수행하기 위한 장치.5 is an apparatus for performing a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention.

도 6은 도 5에 도시된 장치를 사용하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 경우의 시간에 대한 온도의 개략적인 그래프.FIG. 6 is a schematic graph of temperature versus time when a plasma display panel is manufactured using the apparatus shown in FIG. 5; FIG.

< 도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명 ><Brief Description of Major Codes in Drawings>

11.12 기판 13a,13b 전극11.12 Substrates 13a and 13b Electrodes

14. 유전층 15 보호층14. Dielectric layer 15 protective layer

17. 격벽 18. 형광체17. Bulkhead 18. Phosphor

19. 셀 21. 가열로19. Cell 21. Furnace

22. 진공 챔버 23. 밸브22. Vacuum chamber 23. Valve

24. 패널 41.42. 기판24.Panel 41.42. Board

43. 핀 44. 프리트43.Pin 44.Frit

51. 진공 열처리 구간 52. 봉착 구간51. Vacuum heat treatment section 52. Sealing section

53. 배기 및 가스 주입 구간 67. 카메라53. Exhaust and gas injection section 67. Camera

56.57.58.59. 도어56.57.58.59. door

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부 구조가 완성된 상태의 전면 유리 기판과 배면 유리 기판 사이에 기판 접합용 프리트 글래스 및, 상기 기판들을 이격시키는 핀을 설치하는 단계; 상기 패널 기판을 진공 열처리 구간으로 이송하여 상기 진공 열처리 구간을 가열시킴과 동시에 진공화시키는 단계; 상기 패널 기판을 핀 증발/봉착 구간에 이송하여 봉착 온도까지 더 가열함으로써 상기 핀을 제거함과 동시에 봉착을 수행하는 단계; 상기 봉착된 패널을 배기/가스 주입 구간으로 이송하여 상온까지 냉각시키면서 패널의배면 기판에 설치된 배기관을 통해 상기 패널 내부를 진공화시키는 단계; 및, 상기 진공화된 패널 내부에 방전 가스를 주입하고 상기 패널 배면 기판에 설치된 배기관을 봉지하는 단계;를 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이 제공된다.In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a substrate between the front glass and the rear glass substrate of the completed state of the interior of the plasma display panel glass plate for bonding the substrate, and the pins spaced apart from the substrate; Transferring the panel substrate to a vacuum heat treatment section to heat and vacuum the vacuum heat treatment section; Removing the fins by simultaneously transferring the panel substrate to a fin evaporation / sealing section and further heating to a sealing temperature to perform sealing at the same time; Vacuuming the inside of the panel through an exhaust pipe installed on the rear substrate of the panel while transferring the sealed panel to an exhaust / gas injection section and cooling to room temperature; And injecting a discharge gas into the evacuated panel and encapsulating an exhaust pipe installed in the panel back substrate.

본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 봉착을 수행하는 단계에 있어서, 봉착이 이루어지기이전에는 상기 핀 증발/봉착 구간을 자체 진공화시키고, 봉착이 이루어진 이후에는 상기 패널 배면 기판에 설치된 배기관을 통해서 진공화시킨다.According to one feature of the invention, in the step of performing the sealing, before the sealing is made, the fin evaporation / sealing section is self-vacuum, and after the sealing is made through the exhaust pipe installed in the panel back substrate Make it angry.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 진공 열처리 구간의 가열은 상기 봉착 온도 미만으로 이루어진다.According to another feature of the invention, the heating of the vacuum heat treatment section is made below the sealing temperature.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 핀은 프리트 재료로 형성된다.According to another feature of the invention, the fin is formed of frit material.

이하 본 발명을 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to an embodiment shown in the accompanying drawings.

도 4에 도시된 것은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 제조 방법을 적용하기 위하여 패널의 기판들 사이에 핀을 개재시킨 것을 도시한 개략적인 사시도이다.4 is a schematic perspective view showing a pin interposed between substrates of a panel in order to apply the plasma display manufacturing method according to the present invention.

도면을 참조하면, 전면 유리 기판(41)과 배면 유리 기판(42) 사이에는 핀(43)이 개재됨으로써 기판들 사이의 간격이 유지된다. 핀(43)은 패널의 모서리마다설치되는 것이 바람직스럽다. 한편, 배면 유리 기판(42)에는 기판들의 접합면에 대응하는 부위에 프리트(44)가 도포되어 있다. 도 4에는 도시되어 있지 않으나, 기판(41,42)들의 내측면에는 도 1을 참고하여 설명된 전극 및 격벽등의 모든 구조가 이전 공정을 통해 형성된 상태이다.Referring to the drawings, the pin 43 is interposed between the front glass substrate 41 and the back glass substrate 42 to maintain the gap between the substrates. The pin 43 is preferably provided for each corner of the panel. On the other hand, the frit 44 is applied to the back glass substrate 42 at a portion corresponding to the bonding surface of the substrates. Although not shown in FIG. 4, all structures of the electrodes, the partition walls, and the like described with reference to FIG. 1 are formed on the inner surfaces of the substrates 41 and 42 through a previous process.

핀(43)은 기판(41,42) 사이의 간격을 유지하는 역할을 한다. 핀(43)이 기판(41,42) 사이에 개재됨으로써, 기판들 사이에는 배기를 위한 공간이 확보된다. 즉, 종래 기술에서는 기판들을 클립으로 상호 고정시킴으로써, 대부분의 불순 가스가 배면 기판에 설치된 좁은 단면적의 배기관을 통해서 빠져나가는데 반해, 본 발명에서는 기판들 사이에 핀(43)에 의해서 확보된 공간을 통해 불순한 가스가 빠져나갈 수 있는 것이다. 상기 핀(43)은 프리트 도포시에 함께 설치되어 이후에 설명될 배기 장치에 투입되게 된다.The pin 43 serves to maintain the gap between the substrates 41 and 42. Since the pin 43 is interposed between the substrates 41 and 42, a space for evacuation is secured between the substrates. That is, in the prior art, by fixing the substrates with clips, most of the impure gas escapes through a narrow cross-sectional exhaust pipe installed in the rear substrate, whereas in the present invention, through the space secured by the pins 43 between the substrates. Impure gas can escape. The pins 43 are installed together at the time of frit application and are put into the exhaust device to be described later.

핀(43)은 봉착시에 가해지는 온도에 의해서 증발되거나 또는 용융될 수 있는 재료로써 형성되는 것이 바람직스럽다. 이것은 기판들의 봉착이 이루어질 때, 별도의 제거 작용 없이도 핀(43)이 고온에 의해서 제거될 수 있도록 하기 위한 것이다. 예를 들면 핀(43)은 프리트 재료로 만들어질 수 있다. 프리트로 제작될 경우 봉착 온도에 도달하면 핀(43)은 용융되어 기판의 접합에 기여하게 될 것이다. 다른 경우에 있어서는 봉착 온도에서 증발할 수 있는 재료로 형성될 수도 있을 것이다.The pin 43 is preferably formed of a material that can be evaporated or melted by the temperature applied during sealing. This is so that when the sealing of the substrates is made, the pin 43 can be removed by a high temperature without a separate removal action. For example, the pin 43 may be made of frit material. When made of frit, the fins 43 will melt and contribute to bonding of the substrate once the sealing temperature is reached. In other cases it may be formed of a material that can evaporate at the sealing temperature.

도 5에 도시된 것은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 제조 방법을 수행할 수 있는 배기 장치에 대한 개략적인 구성도이다.5 is a schematic configuration diagram of an exhaust device capable of performing the plasma display manufacturing method according to the present invention.

도면을 참조하면, 배기 장치는 진공 열처리 구간(51), 핀 증발/봉착 구간(52) 및, 배기 가스 주입 구간(53)으로 구획된다. 각 구간에는 콘베이어 벨트(54)가 설치됨으로써, 그 위에 탑재된 패널들이 구간을 순차적으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 각 구간들은 도어(56,57,58,59)를 통해서 접근 가능하며, 상기 도어를 폐쇄할 경우에는 구간별로 밀봉이 유지될 수 있다. 각 구간에는 터보 분자펌프(61,63)와 로타리 펌프(60,64)가 연결됨으로써 구간 자체를 진공화하거나, 또는 패널의 배면 기판에 설치된 배기관을 통해서 패널의 내부 공간을 진공화할 수 있다. 보다 상세하게는, 진공 열처리 구간(51)에서는 구간 자체의 진공화만이 이루어지고, 핀 증발/봉착 구간(52)에서는 구간 자체의 진공화 및, 패널 배면 기판에 부착된 배기관을 통한 패널의 진공화가 가능하다. 반면에 봉착이 이루어진 패널이 진입하는 배기/가스 주입 구간(53)에서는 패널 배면 기판에 부착된 배기관을 통한 패널의 진공화가 가능하도록 되어 있다.Referring to the figure, the exhaust device is divided into a vacuum heat treatment section 51, fin evaporation / sealing section 52, and the exhaust gas injection section 53. Conveyor belts 54 are installed in each section so that the panels mounted thereon can move the sections sequentially. Each section is accessible through the doors 56, 57, 58, and 59, and when the door is closed, the sealing may be maintained for each section. In each section, the turbo molecular pumps 61 and 63 and the rotary pumps 60 and 64 are connected to each other to vacuum the section itself, or to vacuum the internal space of the panel through an exhaust pipe installed on the rear substrate of the panel. More specifically, in the vacuum heat treatment section 51, only the vacuum of the section itself is made, and in the fin evaporation / sealing section 52, the vacuum of the section itself and the vacuum of the panel through the exhaust pipe attached to the panel back substrate are It is possible. On the other hand, in the exhaust / gas injection section 53 where the sealed panel enters, the panel can be evacuated through the exhaust pipe attached to the panel back substrate.

핀 증발/봉착 구간(52)에는 패널의 봉착시에 기판들의 상호 정렬 상태를 모니터할 수 있도록 카메라(67)가 설치되어 있다. 또한 기판들의 정렬 상태를 보정하기 위해서 미세 조정기(68)가 설치된다. 작업자는 패널의 봉착시에 카메라(67)로 촬상한 기판의 정렬 상태를 모니터를 통해 보면서 미세 조정기(68)를 이용하여 기판의 상호 조립 상태를 조절할 수 있다.In the pin evaporation / sealing section 52, a camera 67 is installed to monitor the mutual alignment of the substrates when the panel is sealed. Also, a fine adjuster 68 is installed to correct the alignment of the substrates. The operator can adjust the mutual assembly state of the board | substrate using the fine adjuster 68, watching the alignment state of the board | substrate image | photographed with the camera 67 at the time of sealing a panel.

가스 봄베(65)에는 방전 가스가 충전되어 있으며, 이러한 방전 가스는 가스 봄베(65)로부터 연장된 배관을 통해 패널의 배면 기판 설치된 배기관에 연결될 수 있다. 이를 보다 상세하게 설명하면, 패널 배면 기판에 설치된 배기관으로부터 연장된 배관은 터보 분자 펌프(63) 및 로터리 펌프(64)와 연결되고, 또한 가스 봄베(65)에도 연결된다. 가스 봄베(65)로부터 공급되는 가스는 밸브(66)를 통해서 패널에 제공될 수 있다. 펌프(63,64)들이 작동하는 동안에는 밸브(66)를 폐쇄시킴으로써 가스의 공급을 차단하게 되며, 배기 작업이 종료된 후에 밸브(66)를 개방하여 방전 가스를 공급하게 된다.The gas cylinder 65 is filled with a discharge gas, and the discharge gas may be connected to an exhaust pipe installed at the rear substrate of the panel through a pipe extending from the gas cylinder 65. In more detail, the pipe extending from the exhaust pipe provided on the panel back substrate is connected to the turbo molecular pump 63 and the rotary pump 64 and also to the gas cylinder 65. Gas supplied from the gas cylinder 65 may be provided to the panel through the valve 66. While the pumps 63 and 64 are in operation, the valve 66 is closed to shut off the supply of gas, and after the exhaust operation is completed, the valve 66 is opened to supply discharge gas.

이하, 도 5에 도시된 배기 장치를 이용하여 패널의 봉착 및 배기 작업을 수행하는 과정을 간단히 설명하기로 한다.Hereinafter, a process of performing the sealing and exhausting of the panel using the exhaust device shown in FIG. 5 will be briefly described.

도 4 에 도시된 바와 같이 핀(43)을 개재시킨 패널은 도어(56)를 통해 진공 열처리 구간(51)으로 투입된다. 진공 열처리 구간(51)은 도어(56,57)에 의해서 밀봉이 유지된다. 진공 열처리 구간(51)은 도시되지 아니한 가열 장치에 의해서 가열됨과 동시에, 터보 분자 펌프(61) 및 로타리 펌프(60)를 통해서 구간 자체가 배기된다. 이때, 패널에서 발생하는 가스는 펌프(61,60)를 통해 배기된다. 이전에 설명된 바와 같이 패널의 기판(41,42)들은 핀(43)에 의해서 서로 이격된 상태를 유지하므로, 패널 내부에 존재하는 불순한 가스들은 이격된 틈새를 통해서 배기될 수 있다.As shown in FIG. 4, the panel having the pin 43 interposed therein is introduced into the vacuum heat treatment section 51 through the door 56. The vacuum heat treatment section 51 is sealed by the doors 56 and 57. The vacuum heat treatment section 51 is heated by a heating device (not shown) and the section itself is exhausted through the turbo molecular pump 61 and the rotary pump 60. At this time, the gas generated in the panel is exhausted through the pump (61, 60). As previously described, since the substrates 41 and 42 of the panel are spaced apart from each other by the fins 43, the impure gases existing inside the panel may be exhausted through the spaced gaps.

진공 열처리 구간(51)에서의 배기 및 가열이 소정 시간 지난 이후에는 도어(57)가 개방되고, 패널은 콘베이어(55)에 의해서 핀 증발/봉착 구간(52)으로 진입한다. 핀 증발/봉착 구간(52)에서는 구간의 온도를 진공 열처리 구간(51) 보다도 더욱 상승시켜서 봉착 온도에 도달하게 한다. 봉착 온도는 섭씨 약 400 도 이다. 도 5에 도시된 핀 증발/봉착 구간(52)에 도시된 우측의 패널은 봉착이 이루어지기 이전에 핀이 존재하는 상태를 나타낸 것이고, 좌측의 패널은 봉착이 이루어지면서 핀이 제거된 상태를 나타낸 것이다.After the exhaust and heating in the vacuum heat treatment section 51 have passed a predetermined time, the door 57 is opened, and the panel enters the fin evaporation / sealing section 52 by the conveyor 55. In the fin evaporation / sealing section 52, the temperature of the section is raised further than the vacuum heat treatment section 51 to reach the sealing temperature. The sealing temperature is about 400 degrees Celsius. The panel on the right side shown in the fin evaporation / sealing section 52 shown in FIG. 5 shows a state in which pins exist before sealing is performed, and the panel on the left side shows a state in which pins are removed while sealing is performed. will be.

구간(52)이 봉착 온도에 도달하면 핀(43)은 용융되거나 증발되며, 따라서 기판(41,42)들은 서로에 대하여 근접하게 된다. 이때, 기판(41,42)들의 정렬 상태를 카메라(67)로 촬상하면서 미세 조정기(68)를 통해 기판들 상호간의 정렬 상태를 조절한다.When the section 52 reaches the sealing temperature, the fins 43 melt or evaporate, so that the substrates 41 and 42 are close to each other. At this time, while the image of the alignment of the substrates 41 and 42 with the camera 67, the alignment between the substrates is adjusted through the fine adjuster 68.

핀 증발/봉착 구간(52)내에서 봉착 이전의 가열 기간 동안 및, 봉착시에는 펌프(61,60)들이 가동됨으로써 구간(52) 자체에 대한 진공화가 이루어진다. 특히 핀(43)의 재료가 봉착되는 동안 증발해버리는 경우에는 구간(52) 자체의 진공화에 의해서 증발된 핀 재료의 가스를 방출시킬 필요가 있다. 봉착이 이루어진 이후에는 패널 배면의 배기관을 통해서 패널 자체에 대한 진공화가 수행된다.During the heating period before sealing in the fin evaporation / sealing section 52 and during sealing, the pumps 61 and 60 are operated to vacuum the section 52 itself. In particular, when the material of the fin 43 evaporates while being sealed, it is necessary to release the gas of the fin material evaporated by the vacuum of the section 52 itself. After the sealing is made, the panel itself is evacuated through the exhaust pipe at the back of the panel.

봉착이 이루어진 이후에 패널은 도어(58)를 통해서 배기/가스 주입 구간(53)으로 진입한다. 상기 구간(53)에서는 온도를 점차적으로 냉각시키게 되며, 패널 배면 기판에 설치된 배기관을 통해서 펌프(63,64)들에 의한 배기 작업이 계속 수행된다. 배기 작업이 충분히 수행됨으로써 소정의 진공도에 도달하면, 펌프(63,64)의 작동을 중지하고, 밸브(63)를 개방하여 가스 봄베(65)에 충전된 방전 가스를 패널 배면 기판의 배기관을 통해 패널내로 주입한다. 방전 가스의 주입이 끝난 이후에는 패널 배면 기판의 배기관을 봉지하게 되고, 도어(59)를 통해 외부로 배출된다.After sealing is made, the panel enters the exhaust / gas injection section 53 through the door 58. In the section 53, the temperature is gradually cooled, and the exhaust operation by the pumps 63 and 64 is continuously performed through the exhaust pipe installed in the panel rear substrate. When the evacuation operation is sufficiently performed to reach the predetermined vacuum degree, the pumps 63 and 64 are stopped, and the valve 63 is opened to discharge gas charged in the gas cylinder 65 through the exhaust pipe of the panel back substrate. Inject into the panel. After the injection of the discharge gas is finished, the exhaust pipe of the panel back substrate is sealed and discharged to the outside through the door 59.

도 6 에 도시된 것은 도 5의 장치를 이용하여 패널을 배기하고 봉착하는 과정을 나타내기 위한 시간-온도에 관한 그래프이다.Shown in FIG. 6 is a graph of time-temperature for illustrating a process of evacuating and sealing a panel using the apparatus of FIG. 5.

도면을 참고하면, 도 5 의 진공 열처리 구간(51)으로 패널이 투입되면 가열 및 배기가 약 1.5 시간 동안 이루어짐으로써 소정 온도에 도달하게 된다(구간 71). 진공 열처리 구간(51)내 온도는 봉착 온도보다는 낮은 온도로 설정됨으로써 핀(43)의 증발이 이루어지지 않는다. 다음에, 진공 열처리 구간(51)내에서 다시 약 1 시간 정도 배기를 계속한다(구간 72).Referring to the drawing, when the panel is input to the vacuum heat treatment section 51 of FIG. 5, heating and exhausting are performed for about 1.5 hours to reach a predetermined temperature (section 71). The temperature in the vacuum heat treatment section 51 is set to a temperature lower than the sealing temperature so that the fin 43 does not evaporate. Next, the evacuation is continued for about 1 hour in the vacuum heat treatment section 51 (section 72).

패널이 핀 증발/봉착 구간(52)으로 진입하게 되면 다시 가열을 0.1 시간 동안 계속함으로써 봉착 온도인 섭씨 약 400 도 정도에 도달하게 된다 (구간 73). 봉착 온도에 약 0.5 시간 정도 유지시키게 되면 핀(43)은 증발하거나 용융되고, 프리트도 용융되어 접합이 이루어진다 (구간 74).When the panel enters the fin evaporation / sealing section 52, heating continues again for 0.1 hour to reach a sealing temperature of about 400 degrees Celsius (section 73). Maintaining the sealing temperature for about 0.5 hours, the fin 43 is evaporated or melted, and the frit is melted to bond (section 74).

봉착이 이루어진 이후에 패널은 배기/가스 주입 구간(53)으로 진입하게 되며, 여기에서 약 3 시간 동안 상온까지 냉각된다(구간 75). 냉각이 이루어진 이후에는 패널의 배면 기판에 설치된 배기관을 봉지하게 되며, 패널은 외부로 배출될 수 있다.After sealing is made, the panel enters the exhaust / gas injection section 53 where it is cooled to room temperature for about 3 hours (section 75). After cooling is performed, the exhaust pipe installed on the rear substrate of the panel is encapsulated, and the panel may be discharged to the outside.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은 플라즈마 디스플레이 패널을 보다 신속하게 제조할 수 있다는 장점이 있다. 패널의 전면 기판과 배면기판은 진공 열처리 구간에서 핀에 의해 이격된 상태로 유지되므로 그 틈새를 통해서 패널 내부 구조로부터 발생하는 불순 가스들이 용이하게 배출될 수 있는 것이다.The manufacturing method of the plasma display panel according to the present invention has an advantage that the plasma display panel can be manufactured more quickly. Since the front substrate and the rear substrate of the panel are kept spaced apart by the fins in the vacuum heat treatment section, impurity gases generated from the internal structure of the panel can be easily discharged through the gaps.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the accompanying drawings, it is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Could be. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

Claims (4)

플라즈마 디스플레이 패널의 내부 구조가 완성된 상태의 전면 유리 기판과 배면 유리 기판 사이에 기판 접합용 프리트 글래스 및, 상기 기판들을 이격시키는 핀을 설치하는 단계;Installing a frit glass for bonding a substrate and a fin to separate the substrates between the front glass substrate and the rear glass substrate having the internal structure of the plasma display panel completed; 상기 패널 기판을 진공 열처리 구간으로 이송하여 상기 진공 열처리 구간을 가열시킴과 동시에 진공화시키는 단계;Transferring the panel substrate to a vacuum heat treatment section to heat and vacuum the vacuum heat treatment section; 상기 패널 기판을 핀 증발/봉착 구간에 이송하여 봉착 온도까지 더 가열함으로써 상기 핀을 제거함과 동시에 봉착을 수행하는 단계;Removing the fins by simultaneously transferring the panel substrate to a fin evaporation / sealing section and further heating to a sealing temperature to perform sealing at the same time; 상기 봉착된 패널을 배기/가스 주입 구간으로 이송하여 상온까지 냉각시키면서 패널의 배면 기판에 설치된 배기관을 통해 상기 패널 내부를 진공화시키는 단계; 및,Vacuuming the inside of the panel through an exhaust pipe installed on the rear substrate of the panel while transferring the encapsulated panel to an exhaust / gas injection section and cooling it to room temperature; And, 상기 진공화된 패널 내부에 방전 가스를 주입하고 상기 패널 배면 기판에 설치된 배기관을 봉지하는 단계;를 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.Injecting a discharge gas into the evacuated panel and encapsulating an exhaust pipe installed in the panel back substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 봉착을 수행하는 단계에 있어서, 봉착이 이루어지기이전에는 상기 핀 증발/봉착 구간을 자체 진공화시키고, 봉착이 이루어진 이후에는 상기 패널 배면 기판에 설치된 배기관을 통해서 진공화시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.The method of claim 1, wherein in the sealing step, before the sealing is performed, the fin evaporation / sealing section is self-vacuumed, and after sealing, the vacuuming is performed through an exhaust pipe installed in the panel back substrate. A method of manufacturing a plasma display panel. 제 1 항에 있어서, 상기 진공 열처리 구간의 가열은 상기 봉착 온도 미만으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the heating of the vacuum heat treatment section is performed below the sealing temperature. 제 1 항에 있어서, 상기 핀은 프리트 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the fin is formed of a frit material.
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