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KR100252879B1 - Sub wordline driver of semiconductor device - Google Patents

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KR100252879B1
KR100252879B1 KR1019970066254A KR19970066254A KR100252879B1 KR 100252879 B1 KR100252879 B1 KR 100252879B1 KR 1019970066254 A KR1019970066254 A KR 1019970066254A KR 19970066254 A KR19970066254 A KR 19970066254A KR 100252879 B1 KR100252879 B1 KR 100252879B1
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Abstract

PURPOSE: A sub word line driver of a semiconductor device is provided to be suitable to prevent the sub word line from being floated and to minimize the layout of the semiconductor device by using a PMOS transistor(PM) having lower threshold voltage, thereby enhancing the integrity of the semiconductor device. CONSTITUTION: The sub word line(SWL) acts as preventing a word line from being floated. A PMOS transistor(PM) has threshold voltage lower than that of a cell transistor for storing data, and is operated by a global word bar line signal applied to a gate. A drain and a source of an NMOS transistor(NM) are respectively connected to a drain of the PMOS transistor(PM) and a ground. The sub word line(SWL) is connected to a common drain of the PMOS transistor(PM) and NMOS transistor(NM).

Description

반도체장치의 서브(SUB)워드라인 드라이버Sub word line driver of semiconductor device

본 발명은 반도체장치에 관한 것으로써 특히, 칩사이즈를 감소시키고 저전압특성을 개선시키는데 적당한 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor devices, and more particularly, to a sub word line driver for semiconductor devices suitable for reducing chip size and improving low voltage characteristics.

일반적으로 소자의 집적도가 높아지고 셀 사이즈가 감소됨에 따라 워드라인에 연결되는 셀(Cell)의 숫자가 많아지게 되었다.In general, as the integration of devices increases and the cell size decreases, the number of cells connected to a word line increases.

이로인해 발생되는 문제점중 하나는 워드라인에 연결되는 셀의 숫자가 많아짐에 따라 워드라인의 커패시턴스가 증가하게 되고 워드라인이 길어져야 하기 때문에 저항또한 증가하게 되어 결과적으로 스피드특성을 저하시키게 된다.One of the problems caused by this is that as the number of cells connected to the word line increases, the capacitance of the word line increases and the word line needs to be long, resulting in an increase in the resistance, thereby degrading the speed characteristic.

또한, 셀 사이즈가 작아짐에 따라 동시에 워드라인의 피치(Pitch)또한 줄어들게 되어 공정상의 어려움이 발생된다.In addition, as the cell size becomes smaller, the pitch of the word line is also reduced, resulting in process difficulties.

상기와 같은 문제들을 해결하기 위해 워드 션트 스킴(Word Shunt Scheme), 하이어라키컬 워드라인 스킴(Hierarchical Wordline Scheme)의 개념이 제안되었다.In order to solve the above problems, concepts of a word shunt scheme and a hierarchical wordline scheme have been proposed.

그러나 상기 워드 션트 스킴은 스피드는 개선시킬 수는 있지만 메탈라인의 피치가 서브 워드라인의 피치와 같기 때문에 공정상에 어려움이 따른다.However, although the word shunt scheme can improve the speed, it is difficult to process because the pitch of the metal line is the same as the pitch of the sub word line.

그리고 상기 하이어라키컬 워드라인 스킴은 워드 션트 스킴에 비해 서브 워드라인 드라이버만큼 레이아웃의 사이즈가 커지지만 스피드를 개선시키고 메탈라인의 피치를 보다 더 크게할 수 있으므로 공정의 용이성으로 인해 현재 많이 사용되어지고 있다.In addition, although the layout of the hierarchical word line scheme is larger than that of the word shunt scheme, the layout is larger than that of the sub word line driver, it has been widely used due to the ease of processing because it can improve the speed and make the pitch of the metal line larger. .

이하, 종래 반도체 메모리장치의 서브 워드라인 드라이버를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a sub word line driver of a conventional semiconductor memory device will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 앤모스(NMOS)만으로 이루어진 셀프-부스트 드라이버의 구성도이다.1 is a configuration diagram of a self-boosting driver consisting of NMOS only.

도 1에 도시한 바와같이 종래 제 1 실시예에 따른 셀프-부스트 드라이버는 3개의 NMOS트랜지스터로 구성된다.As shown in FIG. 1, the self-boost driver according to the first embodiment of the present invention is composed of three NMOS transistors.

즉, 제 1 앤모스 트랜지스터(NM1)와 제 2 앤모스 트랜지스터(NM2)가 직렬로 구성되고, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(NM1)의 게이트에 제 3 앤모스 트랜지스터(NM3)의 드레인이 연결된다.That is, the first NMOS transistor NM1 and the second NMOS transistor NM2 are configured in series, and the drain of the third NMOS transistor NM3 is connected to the gate of the first NMOS transistor NM1. .

도 1에 도시한 셀프-부스트 드라이버는 앤모스 트랜지스터들로 이루어져 있기 때문에 레이아웃의 면적이 작은 이점이 있다.Since the self-boost driver shown in FIG. 1 is composed of NMOS transistors, the area of the layout is small.

이와같은 셀프-부스트 드라이버는 먼저, 게이트 제어신호(Vboot)가 인가되면 상기 제 3 앤모스 트랜지스터(NM3)는 턴-온된다.In the self-boost driver, when the gate control signal Vboot is applied, the third NMOS transistor NM3 is turned on.

따라서, 제 3 앤모스 트랜지스터(NM3)를 통해 하이레벨의 글로벌 워드라인 신호(GWL)가 제 1 앤모스 트랜지스터(NM1)를 턴-온시킨다.Accordingly, the high level global word line signal GWL turns on the first NMOS transistor NM1 through the third NMOS transistor NM3.

따라서, DXi는 제 1 앤모스 트랜지스터( NM1)를 통해 서브 워드라인(SWL)에 전달된다.Therefore, DXi is transferred to the sub word line SWL through the first NMOS transistor NM1.

한편, 도 2는 종래기술에 따른 CMOS 서브 워드라인 드라이버의 구성도이다.2 is a configuration diagram of a CMOS sub word line driver according to the related art.

도 2에 도시한 바와같이 종래 CMOS서브 워드라인 드라이버는 피모스 트랜지스터(PM)와, 제 1 앤모스 트랜지스터(NM1)으로 구성된 CMOS트랜지스터(21)와, 상기 피모스 트랜지스터(PM)와 병렬로 연결되는 제 2 앤모스 트랜지스터(NM2)로 구성된다.As shown in FIG. 2, the conventional CMOS sub word line driver is connected in parallel with the CMOS transistor 21 including the PMOS transistor PM, the first NMOS transistor NM1, and the PMOS transistor PM. And a second NMOS transistor NM2.

여기서, 상기 CMOS트랜지스터(21)의 출력단과 상기 앤모스 트랜지스터(NM2)의 드레인이 공통으로 연결되어 서브 워드라인(SWL)에 연결된다.Here, the output terminal of the CMOS transistor 21 and the drain of the NMOS transistor NM2 are connected in common and are connected to the sub word line SWL.

이와같은 CMOS서브 워드라인 드라이버는 스피드가 빠르고 타이밍 컨트롤이 용이하다는 장점이 있다.This CMOS sub wordline driver has the advantages of high speed and easy timing control.

도 2에 도시한 바와같이 로우레벨의 글로벌 워드바라인의 신호(GWLb)에 의해 피모스 트랜지스터(PM)는 턴-온상태가 되고, 제 1 앤모스 트랜지스터(NM1)는 오프상태를 유지한다.As shown in FIG. 2, the PMOS transistor PM is turned on by the signal GWLb of the low level global word bar line, and the first NMOS transistor NM1 remains off.

그리고 글로벌 워드라인(GWL)신호에 의해 제 2 앤모스 트랜지스터(NM2)가 턴-온되어 하이레벨의 DXi신호를 서브워드라인으로 전달한다.The second NMOS transistor NM2 is turned on by the global word line GWL signal to transfer the high level DXi signal to the subword line.

만일, 상기 DXi가 로우레벨이고, 글로벌 워드바라인(GWLb)가 로우레벨이면, 상기 제 1, 제 2 앤모스 트랜지스터( NM1,NM2)는 오프상태가 된다.If the DXi is low level and the global word bar line GWLb is low level, the first and second NMOS transistors NM1 and NM2 are turned off.

이때 서브워드라인이 플로팅(Floating)되는 것을 방지하기 위해 상기 글로벌 워드라인신호로써, 제 2 앤모스 트랜지스터(NM2)를 턴-온시켠 준다.In this case, the second NMOS transistor NM2 is turned on as the global word line signal in order to prevent the subword line from floating.

도 3은 종래 CMOS서브 워드라인 드라이버의 다른 실시예로써, 워드라인 액티브시 플로팅(Floating)워드라인의 커플링 노이즈(Coupling Noise)를 없애기 위해 글로벌 워드라인(GWL)을 트위스트(Twist)시킨다.3 is another embodiment of a conventional CMOS sub word line driver, and twists the global word line GWL to eliminate coupling noise of a floating word line during word line active.

도 3에 도시한 바와같이 다른 실시예에 따른 CMOS서브 워드라인 드라이버는 두 개의 트랜지스터 즉, 피모스 트랜지스터(PM)와, 앤모스 트랜지스터(NM)가 직렬로 구성된 CMOS트랜지스터이다.As shown in FIG. 3, a CMOS sub word line driver according to another exemplary embodiment is a CMOS transistor including two transistors, a PMOS transistor PM and an NMOS transistor NM in series.

도 1이나 도 2에 비해 두 개의 트랜지스터로 구성하기 때문에 레이아웃의 면적을 감소시킬 수 있는 잇점이 있다.Compared with FIG. 1 or FIG. 2, two transistors are used to reduce the layout area.

도 3에서와 같이 로우레벨의 글로벌 워드바라인(GWLb)에 의해 피모스 트랜지스터(PM)은 턴-온상태가 되고 앤모스 트랜지스터(NM)는 오프상태가 된다.As shown in FIG. 3, the PMOS transistor PM is turned on and the NMOS transistor NM is turned off by the global word bar line GWLb having a low level.

따라서, 상기 하이레벨의 DXi신호가 상기 피모스 트랜지스터(PM)를 통해 서브워드라인에 전달된다.Accordingly, the high level DXi signal is transmitted to the subword line through the PMOS transistor PM.

워드라인 액티브시, 플로팅 워드라인의 커플링 노이즈(Coupling Noise)를 제거하기 위해 글로벌 워드라인을 트위스트 시킨다.When the word line is active, the global word line is twisted to remove coupling noise of the floating word line.

즉, 플로팅 워드라인을 확실하게 로우상태로 유지되고 있는 워드라인으로 대체시킴으로써, 워드라인의 커플링 노이즈를 감소시킨다.That is, by replacing the floating word line with a word line that is reliably kept low, the coupling noise of the word line is reduced.

그러나 상기와 같은 종래 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버는 다음과 같은 문제점이 있었다.However, the sub word line driver of the conventional semiconductor device as described above has the following problems.

첫째, NMOS셀프 부스트 드라이버는 글로벌 워드라인을 Vboot신호로써 부팅시켜야 하기 때문에 글로벌 워드라인과 Vboot의 타이밍 메치(METCH)가 필요하고 높은 게이트전압이 가해지기 때문에 게이트절연막이 파괴되어 소자의 신뢰성을 저하시킨다.First, the NMOS self-boost driver needs to boot the global word line with the Vboot signal, which requires a timing METCH of the global word line and Vboot and a high gate voltage is applied to the gate insulating film, which degrades device reliability. .

둘째, 3개의 트랜지스터를 이용하는 CMOS서브 워드라인 드라이버는 피모스 트랜지스터를 만들기 위해 N웰이 필요하기 때문에 레이아웃의 면적이 증가하게 되고, 2개의 컴플리먼트 글로벌 워드라인이 필요하므로 메탈라인의 피치(Pitch)가 그 만큼 줄어들게 된다.Second, the CMOS sub word line driver using three transistors increases the area of the layout because N wells are needed to make the PMOS transistor, and the pitch of the metal lines is needed because two complement global word lines are required. ) Will decrease by that amount.

셋째, 두 개의 트랜지스터를 사용하는 다른 CMOS 서브 워드라인 드라이버의 경우, 선택되어지지 않는 DXi의 워드라인은 플로팅 상태가 되어 버린다.Third, in the case of another CMOS sub word line driver using two transistors, the word line of the DXi that is not selected becomes a floating state.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로써, 낮은 문턱전압을 갖는 피모스 트랜지스터를 이용하여 서브워드라인이 플로팅되는 것을 방지하고, 레이아웃을 최소화시켜 집적도를 향상시키는데 적당한 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and is a subword of a semiconductor device suitable for preventing a subword line from being floated using a PMOS transistor having a low threshold voltage and minimizing a layout to improve integration. The purpose is to provide a line driver.

도 1은 종래 셀프-부스트 드라이버의 회로적 구성도1 is a circuit diagram of a conventional self-boost driver

도 2는 종래 CMOS서브 워드라인 드라이버의 회로적 구성도2 is a circuit diagram illustrating a conventional CMOS sub word line driver.

도 3은 종래 다른 실시예에 따른 CMOS서브 워드라인 드라이버의 회로적 구성도3 is a circuit diagram illustrating a CMOS sub word line driver according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 CMOS 서브 워드라인 드라이버의 회로적 구성도4 is a circuit diagram illustrating a CMOS sub wordline driver of the present invention.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

PM : 피모스 트랜지스터 NM : 앤모스 트랜지스터PM: PMOS transistor NM: NMOS transistor

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버는 워드라인이 플로팅되는 것을 방지하기 위한 서브 워드라인에 있어서, 데이터를 저장하는 셀 트랜지스터의 문턱전압보다 더 낮은 문턱전압을 갖고 게이트에 인가되는 글로벌 워드바라인 신호에 의해 동작하는 피모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 피모스 트랜지스터의 드레인에 연결되고, 소오스는 접지단에 연결되는 앤모스 트랜지스터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.A sub word line driver of a semiconductor device according to the present invention for achieving the above object has a threshold voltage lower than a threshold voltage of a cell transistor for storing data in a sub word line for preventing a word line from floating. A PMOS transistor operated by a global word bar line signal applied to a gate, and a drain is connected to the drain of the PMOS transistor, the source is characterized in that it comprises a NMOS transistor connected to the ground terminal.

이하, 본 발명에 따른 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a sub word line driver of a semiconductor device according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버의 회로적 구성도이다.4 is a circuit diagram illustrating a sub word line driver of a semiconductor device according to the present invention.

도 4에 도시한 바와같이 본 발명의 서브 워드라인 드라이버는 두 개의 트랜지스터 즉, 낮은 문턱전압을 갖는 피모스 트랜지스터(PM)와, 앤모스 트랜지스터(NM)로 구성된다.As shown in FIG. 4, the sub word line driver according to the present invention includes two transistors, that is, a PMOS transistor PM having a low threshold voltage and an NMOS transistor NM.

도 4에서와 같이 글로벌 워드바라인(GWLb)이 액티브되면 즉, 하이레벨에서 로우레벨로 떨어지면, 상기 피모스 트랜지스터(PM)가 턴-온되고, 앤모스 트랜지스터는 턴-오프상태가 되는 것이 아니라, 상기 글로벌 워드바라인(GWLb)가 하이레벨에서 로우레벨로 떨어짐에 따라 상기 피모스 트랜지스터는 낮은 문턱전압을 가지므로 곧 바로 턴-온상태가 된다.As shown in FIG. 4, when the global word bar line GWLb is active, ie, falls from a high level to a low level, the PMOS transistor PM is turned on and the NMOS transistor is not turned off. As the global word bar line GWLb falls from a high level to a low level, the PMOS transistor has a low threshold voltage and is immediately turned on.

이후에 상기 앤모스 트랜지스터(NM)가 턴-오프상태로 된다.Thereafter, the NMOS transistor NM is turned off.

앤모스 트랜지스터가 턴-오프상태가 되었다고 하더라도 상기 글로벌 워드라인이 트랜지션(Transition)되는 시간이 짧기 때문에 상기 피모스 트랜지스터(PM)를 통해 흐르는 액티브 커런트의 양은 매우 작다.Even when the NMOS transistor is turned off, the amount of active current flowing through the PMOS transistor PM is very small because the time that the global word line is transitioned is short.

따라서, 액티브 커런트에 의해서는 아무런 문제가 발생되지 않는다.Therefore, no problem occurs with the active current.

그리고 스탠바이시에는 리키지 커런트(leakage current)가 없기 때문에 Vpp레벨을 안전하게 유지할 수 있다.In standby mode, there is no leakage current, which keeps the Vpp level safe.

이와같은 본 발명의 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버의 동작설명을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.The operation description of the sub word line driver of the semiconductor device of the present invention will be described in detail as follows.

도 4에 도시한 바와같이 낮은 문턱전압(VT)을 갖는 피모스 트랜지스터(PM)를 사용하여 플로팅 워드라인의 전압이 낮은 문턱전압을 갖는 상기 피모스 트랜지스터의 문턱전압만큼 상승하면, 피모스 트랜지스터(PM)가 턴-온되어 워드라인이 최소한 피모스 트랜지스터의 문턱전압만큼 상승하는 것을 막아준다.As shown in FIG. 4, when the voltage of the floating word line rises by the threshold voltage of the PMOS transistor having the low threshold voltage using the PMOS transistor PM having the low threshold voltage V T , the PMOS transistor is used. (PM) is turned on to prevent the word line from rising at least by the threshold voltage of the PMOS transistor.

이때, 셀내에 로우(low)데이터가 저장되어 있고, 비트라인이 로우(low)레벨인 경우, 플로팅 워드라인의 전압이 상승하여 셀 트랜지스터를 턴-온시켜도 셀의 데이터가 반전될 가능성은 전혀 없다.At this time, when low data is stored in the cell and the bit line is at a low level, there is no possibility that the data of the cell is inverted even if the voltage of the floating word line rises and the cell transistor is turned on. .

만일, 비트라인이 하이(high)레벨인 경우에는 셀의 데이터가 하이레벨로 점차 높아질 가능성은 있지만, 완전하게 로우에서 하이레벨로 반전될 가능성은 전혀 없다.If the bit line is at a high level, there is a possibility that the data of the cell is gradually increased to a high level, but there is no possibility of completely inverting from a low to a high level.

또한, 시간이 지나면 리키지 커런트에 의해 다시 로우레벨의 데이터로 떨어지게 된다.In addition, as time passes, it drops back to the low level data by the liquid current.

여기서, 셀에 하이레벨의 데이터가 저장되어 있을 경우에 대해서 설명하면 다음과 같다.A case where high-level data is stored in a cell will now be described.

즉, 셀에 저장된 데이터가 하이레벨이고, 비트라인이 하이레벨이면, 워드라인이 Vpp레벨로 상승하지 않기 때문에 셀 데이터는 안전하게 유지된다.That is, if the data stored in the cell is high level and the bit line is high level, the cell data is safely maintained because the word line does not rise to the Vpp level.

이와같이 낮은 문턱전압을 갖는 피모스 트랜지스터를 이용하여 셀 트랜지스터의 문턱전압보다 피모스 트랜지스터의 문턱전압을 낮게하여 셀 트랜지스터가 턴-온되기 이전에 피모스 트랜지스터가 턴-온되도록 함으로써, 플로팅 워드라인의 전압을 피모스 트랜지스터의 문턱전압 아래에서 컨트롤할 수 있다.The PMOS transistor having a low threshold voltage is used to lower the threshold voltage of the PMOS transistor than the threshold voltage of the cell transistor so that the PMOS transistor is turned on before the cell transistor is turned on. The voltage can be controlled below the threshold voltage of the PMOS transistor.

이상 상술한 바와같이 본 발명의 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버는 다음과 같은 효과가 있다.As described above, the sub word line driver of the semiconductor device of the present invention has the following effects.

낮은 문턱전압을 갖는 피모스 트랜지스터를 사용함으로써, 워드라인을 플로팅 시키지 않기 위해 별도로 앤모스 트랜지스터를 구성할 필요가 없어 레이아웃의 면적을 최소화시킬 수 있다.By using a PMOS transistor having a low threshold voltage, it is not necessary to configure an NMOS transistor separately so as not to float the word line, thereby minimizing the area of the layout.

또한, 메탈라인의 피치(Pitch)를 늘릴 수 있어 공정을 손쉽게 구현할 수 있으며, 낮은 문턱전압을 갖는 피모스 트랜지스터를 사용함에 따라 동일한 속도에서 피모스 트랜지스터의 위스(Width)를 줄일 수 있으므로 그 만큼 노말(normal)한 문턱전압을 갖는 피모스 트랜지스터에 비해 레이아웃의 면적을 감소시킬 수 있다.In addition, the pitch of the metal line can be increased, so that the process can be easily implemented. As the PMOS transistor having a low threshold voltage can be used, the Wisth of the PMOS transistor can be reduced at the same speed, so that is normal. The area of the layout can be reduced in comparison with a PMOS transistor having a normal threshold voltage.

Claims (3)

워드라인이 플로팅되는 것을 방지하기 위한 서브 워드라인에 있어서,A sub word line for preventing a word line from floating, 데이터를 저장하는 셀 트랜지스터의 문턱전압보다 더 낮은 문턱전압을 갖고 게이트에 인가되는 글로벌 워드바라인 신호에 의해 동작하는 피모스 트랜지스터와,A PMOS transistor having a threshold voltage lower than a threshold voltage of a cell transistor for storing data and operating by a global word bar line signal applied to a gate; 드레인이 상기 피모스 트랜지스터의 드레인에 연결되고, 소오스는 접지단에 연결되는 앤모스 트랜지스터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버.And a source connected to the drain of the PMOS transistor and a source connected to the ground terminal of the PMOS transistor. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 피모스 트랜지스터와 앤모스 트랜지스터의 공통 드레인에 서브 워드라인에 연결되는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버.And a sub word line connected to a common word drain of the PMOS transistor and the NMOS transistor. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 피모스 트랜지스터는 상기 서브 워드라인의 전압을 자신의 문턱전압보다 낮도록하여 서브 워드라인이 플로팅되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 서브 워드라인 드라이버.And the PMOS transistor prevents the sub word line from being floated by lowering the voltage of the sub word line below its threshold voltage.
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