JPWO2017038267A1 - メソゲン基を有する化合物及びそれを含む組成物、並びに重合性組成物を重合することにより得られる重合体、光学異方体、並びに位相差膜 - Google Patents

Abstract

本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物に添加しフィルム状の重合物を作製した場合にはじきが生じにくく、得られたフィルム状の重合物に対し紫外光を照射した場合に、配向欠陥が生じにくい重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。本発明は、少なくとも１つのメソゲン基を有する逆波長分散性又は低波長分散性化合物を含有し、下記の式（式１）０．５≦ＹＩ／Δｎ≦５００ （式１）（式中、ＹＩは化合物の黄色度を表し、Δｎはフィルムにした場合の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性を表す。）を満たす混合物。

Description

本発明は、ＹＩ／Δｎの値が特定の範囲を示す混合物、それを含む組成物、重合性組成物を重合することにより得られる重合体、該重合性組成物を重合することにより得られる光学異方体及び該重合性組成物を重合することにより得られる位相差膜に関するものであり、併せて該光学異方体を有する表示装置、光学素子、発光装置、印刷物、光情報記録装置等に関する。

メソゲン基を有する化合物は種々の光学材料に使用される。例えば、メソゲン基を有する化合物を含む重合性組成物を液晶状態で配列させた後、重合させることにより、均一な配向を有する重合体を作製することが可能である（特許文献１）。このような重合体は、ディスプレイに必要な偏光板、位相差板等に使用することができる。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、重合体の透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上のメソゲン基を有する化合物を含む重合性組成物が使用される。その際、使用するメソゲン基を有する化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、重合性組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。

液晶ディスプレイの視野角を向上させるために、位相差フィルムの複屈折率の波長分散性を小さく、若しくは逆にすることが求められている。そのための材料として、逆波長分散性又は低波長分散性を有するメソゲン基を有する化合物が種々開発されてきた。しかしながら、それらのメソゲン基を有する化合物は、重合性組成物に添加し、基材に塗布し重合させた場合に、はじきが生じやすい欠点や、得られたフィルム状の重合物に対し紫外光を照射した場合に、配向欠陥が生じやすい問題があった。はじきや配向欠陥が生じたフィルムを、例えばディスプレイに使用した場合、画面の明るさにムラが生じたり、色味が不自然となる場合や、目的の光学特性が得られず、ディスプレイ製品の品質を大きく低下させてしまう問題がある。そのため、このような問題を解決することができる逆波長分散性又は低波長分散性を有するメソゲン基を有する化合物の開発が求められていた。

特開２００６−３９１６４号公報

本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物に添加しフィルム状の重合物を作製した場合にはじきが生じにくく、得られたフィルム状の重合物に対し紫外光を照射した場合に、配向欠陥が生じにくい重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。

本願発明は、少なくとも１つのメソゲン基を有する逆波長分散性又は低波長分散性化合物を含有し、下記の式（式１）
０．５≦ＹＩ／Δｎ≦５００ （式１）
（式中、ＹＩは化合物の黄色度を表し、Δｎはフィルムにした場合の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性を表す。）を満たす混合物を提供し、併せて当該混合物を含有する組成物、重合体、光学異方体及び位相差膜を提供する。

本発明の混合物は、組成物を構成して光学異方体を作製する場合にはじきが起こりにくい。また、本発明の混合物を含有する組成物を用いた光学異方体は、紫外光を照射した場合に配向欠陥が生じにくいことから、位相差膜等の光学材料の用途に有用である。

以下に本発明の最良の形態について説明する。

本発明において「混合物」とは、少なくとも１つのメソゲン基を有する逆波長分散性又は低波長分散性化合物（以降において、メソゲン基を有する化合物と記載する。）と、メソゲン基を有する化合物を製造する際に不可避的に混入する不純物とを含有するものである。不純物とは、混合物中のメソゲン基を有する化合物以外の成分をいう。一般的に、メソゲン基を有する化合物は、精製工程を経て製造されているが、精製工程を経たとしても不純物を完全にゼロにすることは困難であることから、実際には、精製の程度等により不純物を少なからず含有している。本発明は、このように不純物を含有する化合物を、不純物を含まない化合物自体と明確に区別するために、「混合物」と称する。

該混合物は不純物を含有するが、該混合物における化合物の含有量は７０．０質量％以上であり、８０．０質量％以上であることが好ましく、８５．０質量％以上であることがより好ましく、９０．０質量％以上であることが特に好ましい。

また、本発明において「組成物」とは、上記混合物を１種又は２種以上含有し、更に、必要に応じて、メソゲン基を含有しない化合物、安定剤、有機溶剤、重合禁止剤、酸化防止剤、光重合開始剤、熱重合開始剤、及び界面活性剤等を含有するものである。本発明の混合物が、単一のメソゲン基を有する化合物と、不純物からなるものであるのに対して、本発明の組成物は、１種の混合物及び１種又は２種以上の添加物を含有するものであるか、２種以上の混合物及び必要に応じて添加剤を含有するものである点で区別される。なお、以下において、重合性組成物を重合性液晶組成物と称することがあるが、該「液晶」とは、重合性組成物を基材に塗布、印刷、滴下、あるいはセルに注入等を行った際に液晶性を示すことを意図するもので、組成物として必ずしも液晶性を示さなくてもよい。

混合物は、精製工程によって不純物が除かれるが、精製工程を経ることで収率が悪くなるという問題がある。その原因として、精製工程を経ることで混合物中の不純物とともに化合物が除去されてしまうことや、化合物が精製剤に吸着されてしまうことが一因として考えられる。また、精製工程において、不純物中に化合物が多く取り込まれてしまうことや、混合物が重合性基を有する化合物を含有する場合、混合物中に微量に含まれる不純物のポリマー成分同士が集合してしまい、濾過が煩雑になるという原因も考えられる。

本発明の混合物の黄色度（ＹＩ）を測定すると、より精製された混合物であるほど、黄色度の値が小さくなる傾向がある。本発明者らは、メソゲン基を有する化合物を含有する混合物について着目し、鋭意検討した結果、混合物の黄色度（ＹＩ）及び化合物の屈折率異方性（Δｎ）の値は、収率と関連性があることを見出した。また、本発明者らは混合物の黄色度（ＹＩ）及び化合物の屈折率異方性（Δｎ）の値についてさらに検討し、当該値は当該混合物を含む組成物を基材に塗布した場合のはじきの発生や、当該組成物を用いて光学異方体とし、紫外光を照射した場合の配向欠陥に影響を及ぼすことを見出した。

すなわち、本発明の混合物は、０．５≦ＹＩ／Δｎ≦５００ （式１）
（式中、ＹＩは混合物の黄色度を表し、Δｎはメソゲン基を有する化合物の屈折率異方性を表す。）
で表される式を満たす混合物である。

上記（式１）を満たすものであれば、精製の度合いが適度な範囲であるため、高い収率を得ることができる。また、上記（式１）を満たすものであれば、はじきが少なく、紫外光を照射した場合に配向欠陥が少ない光学異方体を得ることができる。はじきの原因として、組成物中のポリマー成分量や、化合物の分子構造等が影響を及ぼす可能性があげられるが、上記範囲内の混合物は、適度なポリマー成分及び化合物の剛直性を有することが考えられる。また、配向性に影響を及ぼす原因として、化合物が一部重合してできた、化合物同様のメソゲン骨格を持つポリマーの働きがあげられるが、上記範囲内の混合物は、ポリマー成分が均一に分散しており、また、メソゲン骨格の構造として剛直性が高すぎず、且つ、ポリマー成分中のメソゲン部位と化合物のメソゲン部位の分子間相互作用が働くことから、ポリマー成分による配向効果が効果的に得られることが考えられる。

また、高い収率を得る観点からは、混合物のＹＩ／Δｎの値は、０．９以上であることが好ましく、１．２以上であることがより好ましく、１．５以上であることがさらに好ましく、２．０以上であることがさらにより好ましく、３．０以上であることが特に好ましい。また、４５０以下であることが好ましく、４００以下であることがより好ましく、１５０以下であることがさらに好ましく、５０以下であることがさらにより好ましく、１０以下であることが特に好ましい。

はじき及び配向性について良好なものを得る観点からは、混合物のＹＩ／Δｎの値は、４５０以下であることが好ましく、４００以下であることがより好ましく、１５０以下であることがさらに好ましく、５０以下であることがさらにより好ましく、１０以下であることが特に好ましい。

混合物の黄色度（ＹＩ）は、本発明の混合物を２０ｐｐｍの割合で含有するアセトニトリル溶液を測定対象物として、分光光度計を用いて測定する。なお、溶液は混合物の十分な溶解性を得られるものであれば、アセトニトリル以外の溶液を用いてもよい。例えば、テトラヒドロフラン、シクロペンタノン、クロロホルム等が挙げられる。得られた測定値を、測定対象物である材料溶液濃度が２０ｐｐｍ、光路長が１ｃｍのセルを用いて測定することにより、混合物の黄色度（ＹＩ）を算出できる。

化合物の屈折率異方性は、以下のように測定する。下記の式（ａ）で表される化合物（２５質量％）、式（ｂ）で表される化合物（２５質量％）、式（ｃ）で表される化合物（２５質量％）、式（ｄ）で表される化合物（２５質量％）

からなる母体液晶にメソゲン基を有する化合物（１０質量％、２０質量％又は３０質量％）を混合し液晶組成物とする。ポリイミド配向膜付きガラス基板を使用し、ポリイミド配向膜のラビング方向が平行になるように、２つのガラス基板を組み合わせ、ガラスセルを作成する。そのガラスセルに、前記液晶組成物を注入した後に、紫外線（照度８００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射して硬化させた後、ガラスセルからフィルムを剥がし取る。その後、アッベ屈折率計で、フィルムのｎe、ｎｏを測定し、メソゲン基を有する化合物が１００質量％となるよう外挿した屈折率異方性（Δｎ）を算出する。

そして、混合物の黄色度（ＹＩ）を、メソゲン基を有する化合物の屈折率異方性で割ることにより、ＹＩ／Δｎの値を得る。
（逆波長分散性又は低波長分散性化合物）
本発明の１つ以上のメソゲン基を有する液晶性化合物は、前記化合物の複屈折性が可視光領域において、短波長側より長波長側で大きい特徴を有する。具体的には、（式２）
Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０５ （式２）
（式中、Ｒｅ（４５０ｎｍ）は、前記１つ以上のメソゲン基を有する液晶性化合物を基板上に分子の長軸方向が実質的に基板に対して水平に配向させたときの４５０ｎｍの波長における面内位相差、Ｒｅ（５５０ｎｍ）は、前記１つのメソゲン基を有する液晶性化合物を基板上に分子の長軸方向が実質的に基板に対して水平に配向させたときの５５０ｎｍの波長における面内位相差を表す。）
を満たしていればよく、紫外線領域や赤外線領域では複屈折性が短波長側より長波長側で大きい必要はない。上記、１つのメソゲン基を有し、且つ、（式２）を満たすメソゲン基を有する化合物において、（式２）は、逆波長分散性を発現させる観点から、１．０５未満が好ましく、１．００未満がより好ましく、０．９５未満がより好ましく、０．９０未満が特に好ましい。
位相差フィルムに対する入射光の波長λを横軸に取りその複屈折率Δｎを縦軸にプロットしたグラフにおいて、波長λが短くなるほど複屈折率Δｎが大きくなる場合、そのフィルムは「正分散性」であり、波長λが短くなるほど複屈折率Δｎが小さくなる場合、そのフィルムは「逆波長分散性」又は「逆分散性」であると当業者間で一般的に呼ばれている。本発明において、波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ（４５０））を波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ（５５０）で除した値Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９５以下である位相差フィルムを構成する化合物を逆分散性化合物と呼ぶ。また、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９５より大きく１．０５以下である位相差フィルムを構成する化合物を低波長分散性化合物と呼ぶ。位相差の測定方法は下記に示すとおりである。
（メソゲン基を有する化合物）
少なくとも１つのメソゲン基を有する化合物としては、本技術分野で、複数の化合物を混合して組成物とした場合に液晶相を呈するものであれば、分子内に重合性官能基を１つ又は２つ以上有する化合物であっても、分子内に重合性官能基を有さない化合物であっても、特に制限なく使用することができる。尚、重合性液晶化合物単独では、液晶性を示さなくてもよい。ここで、メソゲン基とは、２個以上の環構造とこれらの環構造を連結する連結基又は単結合で構成されるもので、環構造と環構造とを最短経路で連結する結合手を有する原子の数が２以下である連結基又は単結合により、２個以上の環構造が連結された部分を意味する。

少なくとも１つのメソゲン基を有する逆波長分散性又は低波長分散性化合物としては、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２００９−１７３８９３号公報、特開２０１０−３０９７９号公報、特開２００９−２２７６６７号公報、特開２００９−２７４９８４号公報、特開２０１１−２０７７６５号公報、特開２０１１−４２６０６号公報、特開２０１１−２４６３８１号公報、特開２０１２−７７０５５号公報、特開２０１１−６３６０号公報、特開２０１１−６３６１号公報、特開２００８−１０７７６７号公報、特開２００８−２７３９２５号公報、特開２００９−１７９５６３号公報、特開２０１０−８４０３２号公報、ＷＯ２０１２／１４１２４５Ａ１号公報、ＷＯ２０１２／１４７９０４Ａ１号公報、ＷＯ２０１３／１８０２１７Ａ１号公報、ＷＯ２０１４／０１０３２５Ａ１号公報、ＷＯ２０１４／０６５１７６Ａ１号公報、ＷＯ２０１２／１６９４２４Ａ１号公報、ＷＯ２０１２／１７６６７９Ａ１号公報、ＷＯ２０１４／０６１７０９Ａ１号公報、特表２０１０−５２２８９２号公報、特表２０１３−５０９４５８号公報等に記載のものが挙げられる。

少なくとも１つのメソゲン基を有する逆波長分散性又は低波長分散性化合物としては、より具体的には、一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は各々独立して水素原子又は炭素原子数１から８０の炭化水素基を表すが、当該基は置換基を有していても良く、任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌによって置換されても良く、
Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌは重合性基を表し、好ましい重合性基は下記Ｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^Ｌはスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基基は下記Ｓｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は単結合で表される基を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良いが、複数存在する場合は各々独立して、存在するＺ^１及びＺ^２のうち少なくとも１つは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合から選ばれる基を表し、
Ｇ^１は芳香族炭化水素環又は芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する２価の基を表すが、Ｇ^１で表される基中の芳香環に含まれるπ電子の数は１２以上であり、Ｇ^１で表される基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良く、
Ｌ^Ｇはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＧはＰ^ＬＧ−（Ｓｐ^ＬＧ−Ｘ^ＬＧ）_ｋＬＧ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^ＬＧは重合性基を表し、好ましい重合性基は上記Ｐ^０で定義したものと同一のものを表し、Ｓｐ^ＬＧはスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基は上記Ｓｐ^０で定義したものと同一のものを表しＳｐ^ＬＧが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^ＬＧは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^ＬＧが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^ＬＧ−（Ｓｐ^ＬＧ−Ｘ^ＬＧ）_ｋＬＧ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬＧは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬ^Ｇが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
ｍ１及びｍ２は各々独立して０から６の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２は０から６の整数を表す。）で表される化合物であることが好ましい。

フィルムにした場合の機械的強度の観点から、少なくとも１つのメソゲン基を有する逆波長分散性又は低波長分散性化合物において、分子内に少なくとも１つの重合性基を有することが好ましい。また、液晶性の観点から、分子内に少なくとも１つの下記一般式（Ｉ−０−Ｒ）

（式中、Ｐ^０は重合性基を表し、Ｓｐ^０はスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓｐ^０が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^０は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^０が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^０−（Ｓｐ^０−Ｘ^０）_ｋ０−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋ０は０から１０の整数を表す。）で表される基を有することがより好ましい。

式（Ｉ−０−Ｒ）において、Ｐ^０は重合性基を表すが、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

式（Ｉ−０−Ｒ）において、Ｓｐ^０はスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓｐ^０が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。また、当該スペーサー基は無置換であっても、１つ以上の置換基Ｌ^ＳＰによって置換されていても良い。スペーサー基としては、置換基Ｌ^ＳＰによって置換されていても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましい。Ｓｐ^０は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して、置換基Ｌ^ＳＰによって置換されていても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましく、各々独立して、メチル基によって置換されていても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表すことがより好ましく、各々独立して炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して炭素原子数１から８のアルキレン基を表すことが特に好ましい。

式（Ｉ−０−Ｒ）において、Ｌ^ＳＰはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＳＰはＰ^ＬＳＰ−（Ｓｐ^ＬＳＰ−Ｘ^ＬＳＰ）_ｋＬＳＰ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^ＬＳＰは重合性基を表し、好ましい重合性基は上記Ｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^ＬＳＰはスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基又は単結合は上記Ｓｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^ＬＳＰが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^ＬＳＰは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^ＬＳＰが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^ＬＳＰ−（Ｓｐ^ＬＳＰ−Ｘ^ＬＳＰ）_ｋＬＳＰ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬＳＰは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬ^ＳＰが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点からＬ^ＳＰはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＳＰはＰ^ＬＳＰ−（Ｓｐ^ＬＳＰ−Ｘ^ＬＳＰ）_ｋＬＳＰ−で表される基を表すことが好ましく、Ｌ^ＳＰはフッ素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い基を表すことがより好ましく、Ｌ^ＳＰはフッ素原子又はメチル基を表すことがさらにより好ましく、Ｌ^ＳＰはメチル基を表すことが特に好ましい。

式（Ｉ−０−Ｒ）において、Ｘ^０は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^０が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ^０は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

式（Ｉ−０−Ｒ）において、ｋ０は、０から１０の整数を表すが、０から５の整数を表すことが好ましく、０から２の整数を表すことがより好ましく、１を表すことが特に好ましい。

液晶性、合成の容易さの観点から、一般式（Ｉ）において、Ｒ^１及びＲ^２のうち少なくとも１つは式（Ｉ−０−Ｒ）で表される基を表すことが好ましく、フィルムにした場合の機械的強度の観点から、Ｒ^１及びＲ^２が各々独立して式（Ｉ−０−Ｒ）で表される基を表すことがより好ましく、Ｒ^１及びＲ^２が式（Ｉ−０−Ｒ）で表される同一の基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｒ^１及びＲ^２は各々独立して水素原子又は置換基を有していても良く、任意の炭素原子がヘテロ原子に置換されていても良い炭素原子数１から８０の炭化水素基を表す。Ｒ^１又はＲ^２が式（Ｉ−０−Ｒ）で表される基以外の基を表す場合、液晶性及び合成の容易さの観点からＲ^１又はＲ^２は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すことがより好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌによって置換されても良い。Ａ^１及びＡ^２の好ましい形態としては、各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基を表すことがより好ましく、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１１）

から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。逆分散性の観点から、Ｇ^１で表される基に隣接するＺ^１で表される基に結合するＡ^１で表される基及びＧ^１で表される基に隣接するＺ^２で表される基に結合するＡ^２で表される基としては、各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−シクロヘキシレン基を表すことが好ましく、上記の式（Ａ−２）で表される基を表すことがより好ましい。また、Ａ^１及びＡ^２で表される基が複数存在する場合、屈折率異方性、合成の容易さ、溶媒への溶解性の観点から、前記Ａ^１及びＡ^２以外のＡ^１及びＡ^２で表される基としては、各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基を表すことが好ましく、各々独立して上記の式（Ａ−１）、式（Ａ−３）から式（Ａ−１１）から選ばれる基を表すことがより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）、式（Ａ−３）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（Ａ−１）、式（Ａ−３）、式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌは重合性基を表し、好ましい重合性基は下記Ｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^Ｌはスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基又は単結合は上記Ｓｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌはフッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は単結合で表される基を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良いが、複数存在する場合は各々独立して、存在するＺ^１及びＺ^２のうち少なくとも１つは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合から選ばれる基を表す。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｚ^１及びＺ^２は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合を表すことがさらに好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、ｍ１及びｍ２は各々独立して０から６の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２は０から６の整数を表す。溶媒への溶解性、液晶性の観点から、ｍ１及びｍ２は各々独立して１から３の整数を表すことが好ましく、各々独立して１又は２を表すことが特に好ましい。また、合成の容易さの観点から、ｍ１及びｍ２は同一であることがより好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｇ^１は芳香族炭化水素環又は芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する２価の基を表すが、Ｇ^１で表される基中の芳香環に含まれるπ電子の数は１２以上であり、Ｇ^１で表される基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良い。逆波長分散性の観点から、Ｇ^１は３００ｎｍから９００ｎｍに吸収極大を有する基であることが好ましく、３１０ｎｍから５００ｎｍに吸収極大を有する基であることがより好ましい。化合物の液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点からＧ^１は下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−６）

（式中、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良く、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｔ−（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）、−ＣＳ−又は−ＣＯ−に置き換えられても良く、Ｔ^１は下記の式（Ｔ１−１）から式（Ｔ１−６）

（式中、任意の位置に結合手を有して良く、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｔ−（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）、−ＣＳ−又は−ＣＯ−に置き換えられても良い。ここで、任意の位置に結合手を有して良くとは、例えば、式（Ｍ−１）から式（Ｍ−６）のＴ^１に式（Ｔ１−１）が結合する場合、式（Ｔ１−１）の任意の位置に結合手を１つ有することを意図する（以下、本発明において、任意の位置に結合手を有して良くとは同様な意味を示す。）。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良い。）から選ばれる基を表す。）から選ばれる基、又は下記の式（Ｍ−７）から式（Ｍ−１４）

（式中、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良く、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｔ−（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）、−ＣＳ−又は−ＣＯ−に置き換えられても良く、Ｔ^２は下記の式（Ｔ２−１）又は式（Ｔ２−２）

（式中、Ｗ^１は置換されていても良い炭素原子数１から４０の芳香族基及び／又は非芳香族基を含む基を表すが、当該芳香族基は炭化水素環又は複素環であっても良く、当該非芳香族基は炭化水素基又は炭化水素基の任意の炭素原子がヘテロ原子に置換された基であっても良く（但し、酸素原子同士が直接結合することは無い。）、
Ｗ^２は水素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｗ^２は少なくとも１つの芳香族基を有する、炭素原子数２から３０の基を表しても良いが、当該基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良く、若しくは、Ｗ^２はＰ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｗは重合性基を表し、好ましい重合性基は上記Ｐ^０で定義したものと同一のものを表し、Ｓｐ^Ｗはスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基は上記Ｓｐ^０で定義したものと同一のものを表し、Ｓｐ^Ｗが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｗは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｗが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＷは０から１０の整数を表し、
Ｌ^Ｗはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＷはＰ^ＬＷ−（Ｓｐ^ＬＷ−Ｘ^ＬＷ）_ｋＬＷ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^ＬＷは重合性基を表し、Ｓｐ^ＬＷはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓｐ^ＬＷが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^ＬＷは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^ＬＷが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^ＬＷ−（Ｓｐ^ＬＷ−Ｘ^ＬＷ）_ｋＬＷ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬＷは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬ^Ｗが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
Ｙは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基又は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくはＹはＰ^Ｙ−（Ｓｐ^Ｙ−Ｘ^Ｙ）_ｋＹ−で表される基を表しても良く、Ｐ^Ｙは重合性基を表し、好ましい重合性基は上記Ｐ^０で定義したものと同一のものを表し、Ｓｐ^Ｙはスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基は上記Ｓｐ^０で定義したものと同一のものを表し、Ｓｐ^Ｙが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｙが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｙ−（Ｓｐ^Ｙ−Ｘ^Ｙ）_ｋＹ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＹは０から１０の整数を表すが、Ｗ^１及びＷ^２は一緒になって環構造を形成しても良い。）から選ばれる基を表す。）から選ばれる基を表すことがより好ましい。溶媒への溶解性、合成の容易さの観点から、Ｇ^１は上記の式（Ｍ−１）、式（Ｍ−３）、式（Ｍ−４）、式（Ｍ−７）、式（Ｍ−８）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、式（Ｍ−１）、式（Ｍ−７）、式（Ｍ−８）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、式（Ｍ−７）、式（Ｍ−８）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。より具体的には、式（Ｍ−１）で表される基としては下記の式（Ｍ−１−１）から式（Ｍ−１−６）

（式中、Ｔ^１は前記と同様の意味を表し、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｍ−１−４）又は式（Ｍ−１−５）から選ばれる基を表すことがより好ましく、式（Ｍ−１−５）で表される基を表すことが特に好ましい。式（Ｍ−３）で表される基としては下記の式（Ｍ−３−１）から式（Ｍ−３−６）

（式中、Ｔ^１は前記と同様の意味を表し、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｍ−３−４）又は式（Ｍ−３−５）から選ばれる基を表すことがより好ましく、式（Ｍ−３−５）で表される基を表すことが特に好ましい。式（Ｍ−４）で表される基としては下記の式（Ｍ−４−１）から式（Ｍ−４−６）

（式中、Ｔ^１は前記と同様の意味を表し、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｍ−４−４）又は式（Ｍ−４−５）から選ばれる基を表すことがより好ましく、式（Ｍ−４−５）で表される基を表すことが特に好ましい。式（Ｍ−７）から式（Ｍ−１４）で表される基としては、下記の式（Ｍ−７−１）から式（Ｍ−１４−１）

（式中、Ｔ^２は前記と同様の意味を表す。）で表される基を表すことが好ましく、式（Ｍ−７−１）から式（Ｍ−１２−１）から選ばれる基を表すことがより好ましく、式（Ｍ−７−１）又は式（Ｍ−８−１）で表される基を表すことが特に好ましい。

また、式（Ｍ−１）から式（Ｍ−６）において、波長分散性、合成の容易さの観点から、Ｔ^１は式（Ｔ１−１）、式（Ｔ１−２）、式（Ｔ１−３）、式（Ｔ１−６）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｔ１−３）、式（Ｔ１−５）から選ばれる基を表すことがより好ましく、式（Ｔ１−３）を表すことが特に好ましい。より具体的には、式（Ｔ１−１）で表される基としては、下記の式（Ｔ１−１−１）から式（Ｔ１−１−７）

（式中、任意の位置に結合手を有して良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｔ１−１−２）、式（Ｔ１−１−４）、式（Ｔ１−１−５）、式（Ｔ１−１−６）、式（Ｔ１−１−７）から選ばれる基を表すことがより好ましい。式（Ｔ１−２）で表される基としては、下記の式（Ｔ１−２−１）から式（Ｔ１−２−８）

（式中、任意の位置に結合手を有して良い。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｔ１−２−１）で表される基を表すことがより好ましい。式（Ｔ１−３）で表される基としては、下記の式（Ｔ１−３−１）から式（Ｔ１−３−８）

（式中、任意の位置に結合手を有して良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｔ１−３−２）、式（Ｔ１−３−３）、式（Ｔ１−３−６）、式（Ｔ１−３−７）で表される基を表すことがより好ましい。式（Ｔ１−４）で表される基としては、下記の式（Ｔ１−４−１）から式（Ｔ１−４−６）

（式中、任意の位置に結合手を有して良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましい。式（Ｔ１−５）で表される基としては、下記の式（Ｔ１−５−１）から式（Ｔ１−５−９）

（式中、任意の位置に結合手を有して良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましい。式（Ｔ１−６）で表される基としては、下記の式（Ｔ１−６−１）から式（Ｔ１−６−７）

（式中、任意の位置に結合手を有して良い。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｇによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｌ^Ｇはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＧはＰ^ＬＧ−（Ｓｐ^ＬＧ−Ｘ^ＬＧ）_ｋＬＧ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^ＬＧは重合性基を表し、好ましい重合性基は上記Ｐ^０で定義したものと同一のものを表し、Ｓｐ^ＬＧはスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基は上記Ｓｐ^０で定義したものと同一のものを表しＳｐ^ＬＧが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^ＬＧは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^ＬＧが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^ＬＧ−（Ｓｐ^ＬＧ−Ｘ^ＬＧ）_ｋＬＧ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬＧは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬ^Ｇが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌ^Ｇはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、チオイソシアノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−又は−Ｓ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から８の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、チオイソシアノ基、炭素原子数１から８の直鎖状アルキル基又は炭素原子数１から８の直鎖状アルコキシ基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１から８の直鎖状アルキル基又は炭素原子数１から８の直鎖状アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

上記の式（Ｔ２−１）又は式（Ｔ２−２）において、液晶性及び合成の容易さの観点からＹは水素原子、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基又は基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくはＰ^Ｙ−（Ｓｐ^Ｙ−Ｘ^Ｙ）_ｋＹ−で表される基を表すことが好ましく、Ｙは水素原子又は基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、Ｙは水素原子又は基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、Ｙは水素原子又は炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことが特に好ましい。

上記の式（Ｔ２−１）又は式（Ｔ２−２）において、液晶性及び合成の容易さの観点からＷ^１は置換されていても良い炭素原子数１から８０の芳香族及び／又は非芳香族の炭素環又は複素環を含む基を表すが、当該炭素環又は複素環の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良い。Ｗ^１に含まれる芳香族基は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１）から式（Ｗ−１８）

（式中、環構造には任意の位置に結合手を有して良く、これらの基から選ばれる２つ以上の芳香族基を単結合で連結した基を形成しても良く、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｔ−（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）、−ＣＳ−又は−ＣＯ−に置き換えられても良いが、−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましい。上記の式（Ｗ−１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１−１）から式（Ｗ−１−７）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２−１）から式（Ｗ−２−８）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３−１）から式（Ｗ−３−６）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４−１）から式（Ｗ−４−９）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５−１）から式（Ｗ−５−１３）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−６）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−６−１）から式（Ｗ−６−１２）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−７−１）から式（Ｗ−７−８）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−８）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−８−１）から式（Ｗ−８−１９）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−９）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−９−１）から式（Ｗ−９−７）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−１０）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１０−１）から式（Ｗ−１０−１６）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−１１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１１−１）から式（Ｗ−１１−１０）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−１２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１２−１）から式（Ｗ−１２−４）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−１３）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１３−１）から式（Ｗ−１３−１０）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−１７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１７−１）から式（Ｗ−１７−１６）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−１８）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１８−１）から式（Ｗ−１８−４）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましい。

Ｗ^１に含まれる炭素環又は複素環を含む基は、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されていても良い式（Ｗ−１−１）、式（Ｗ−１−２）、式（Ｗ−１−３）、式（Ｗ−１−４）、式（Ｗ−１−５）、式（Ｗ−１−６）、式（Ｗ−２−１）、式（Ｗ−６−９）、式（Ｗ−６−１１）、式（Ｗ−６−１２）、式（Ｗ−７−２）、式（Ｗ−７−３）、式（Ｗ−７−４）、式（Ｗ−７−６）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−７−８）、式（Ｗ−９−１）、式（Ｗ−１２−１）、式（Ｗ−１２−２）、式（Ｗ−１２−３）、式（Ｗ−１２−４）、式（Ｗ−１３−７）、式（Ｗ−１３−９）、式（Ｗ−１３−１０）、式（Ｗ−１４）、式（Ｗ−１８−１）、式（Ｗ−１８−４）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されていても良い式（Ｗ−２−１）、式（Ｗ−７−３）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−１４）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されていても良い式（Ｗ−７−３）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−１４）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されていても良い式（Ｗ−７−７）で表される基を表すことがさらにより好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されていても良い下記の式（Ｗ−７−７−１）

で表される基を表すことが特に好ましい。

上記の式（Ｔ−１）又は式（Ｔ−２）において、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｗ^２は水素原子、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは、Ｐ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表すことがより好ましく、Ｗ^２は水素原子、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは、Ｐ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表すことがさらに好ましく、Ｗ^２は水素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基、若しくは、Ｐ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表すことがさらにより好ましい。

また、Ｗ^２が無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い、少なくとも１つの芳香族基を有する炭素原子数２から３０の基を表す場合、Ｗ^２は無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い上記の式（Ｗ−１）から式（Ｗ−１８）から選ばれる基を表すことが好ましい。その場合、より好ましい構造としては上記と同様である。

また、Ｗ^２がＰ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表す場合、Ｐ^Ｗ、Ｓｐ^Ｗ、Ｘ^Ｗ、ｋＷで表される基の好ましい構造は、Ｐ^０、Ｓｐ^０、Ｘ^０、ｋ０で表される基の好ましい構造と同様である。

また、Ｗ^１及びＷ^２は一緒になって環構造を形成しても良いが、その場合、−ＮＷ^１Ｗ^２で表される環状基は無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１９）から式（Ｗ−４０）

（式中、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｔ−（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）、−ＣＳ−又は−ＣＯ−に置き換えられても良いが、−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましい。上記の式（Ｗ−１９）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１９−１）から式（Ｗ−１９−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２０）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２０−１）から式（Ｗ−２０−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２１−１）から式（Ｗ−２１−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２２−１）から式（Ｗ−２２−４）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２３）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２３−１）から式（Ｗ−２３−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２４）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２４−１）から式（Ｗ−２４−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２５）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２５−１）から式（Ｗ−２５−３）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２６）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２６−１）から式（Ｗ−２６−７）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２７−１）から式（Ｗ−２７−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２８）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２８−１）から式（Ｗ−２８−６）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−２９）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２９−１）から式（Ｗ−２９−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３０）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３０−１）から式（Ｗ−３０−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３１−１）から式（Ｗ−３１−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３２−１）から式（Ｗ−３２−５）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３３）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３３−１）から式（Ｗ−３３−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３４）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３４−１）から式（Ｗ−３４−５）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３５）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３５−１）

を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３６）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３６−１）から式（Ｗ−３６−６）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３７−１）から式（Ｗ−３７−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３８）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３８−１）から式（Ｗ−３８−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−３９）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−３９−１）から式（Ｗ−３９−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４０）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４０−１）

を表すことが好ましい。

原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、−ＮＷ^１Ｗ^２で表される環状基は無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い式（Ｗ−１９−１）、式（Ｗ−２１−２）、式（Ｗ−２１−３）、式（Ｗ−２１−４）、式（Ｗ−２３−２）、式（Ｗ−２３−３）、式（Ｗ−２５−１）、式（Ｗ−２５−２）、式（Ｗ−２５−３）、式（Ｗ−３０−２）、式（Ｗ−３０−３）、式（Ｗ−３５−１）、式（Ｗ−３６−２）、式（Ｗ−３６−３）、式（Ｗ−３６−４）、式（Ｗ−４０−１）から選ばれる基を表すことがより好ましい。

また、Ｗ^１及びＷ^２は一緒になって環構造を形成しても良いが、その場合、＝ＣＷ^１Ｗ^２で表される環状基は無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４１）から式（Ｗ−６２）

（式中、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｔ−（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表す。）、−ＣＳ−又は−ＣＯ−に置き換えられても良いが、−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。また、これらの基は無置換又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましい。上記の式（Ｗ−４１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４１−１）から式（Ｗ−４１−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４２−１）から式（Ｗ−４２−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４３）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４３−１）から式（Ｗ−４３−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４４）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４４−１）から式（Ｗ−４４−４）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４５）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４５−１）から式（Ｗ−４５−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４６）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４６−１）から式（Ｗ−４６−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４７−１）から式（Ｗ−４７−３）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４８）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４８−１）から式（Ｗ−４８−７）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−４９）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−４９−１）から式（Ｗ−４９−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５０）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５０−１）から式（Ｗ−５０−６）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５１−１）から式（Ｗ−５１−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５２−１）から式（Ｗ−５２−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５３）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５３−１）から式（Ｗ−５３−８）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５４）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５４−１）から式（Ｗ−５４−５）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５５）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５５−１）から式（Ｗ−５５−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５６）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５６−１）から式（Ｗ−５６−５）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５７−１）

を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５８）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５８−１）から式（Ｗ−５８−６）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−５９）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−５９−１）から式（Ｗ−５９−３）

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−６０）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−６０−１）から式（Ｗ−６０−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−６１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−６１−１）から式（Ｗ−６１−４）

（式中、Ｒ^Ｔは水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ｗ−６２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い下記の式（Ｗ−６２−１）

を表すことが好ましい。

原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、＝ＣＷ^１Ｗ^２で表される環状基は無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い式（Ｗ−４２−２）、式（Ｗ−４２−３）、式（Ｗ−４３−２）、式（Ｗ−４３−３）、式（Ｗ−４５−３）、式（Ｗ−４５−４）、式（Ｗ−５７−１）、式（Ｗ−５８−２）、式（Ｗ−５８−３）、式（Ｗ−５８−４）、式（Ｗ−６２−１）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い式（Ｗ−５７−１）、式（Ｗ−６２−１）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上述の置換基Ｌ^Ｗによって置換されても良い式（Ｗ−５７−１）で表される基を表すことがさらにより好ましい。

Ｗ^１及びＷ^２に含まれるπ電子の総数は、波長分散特性、保存安定性、液晶性及び合成の容易さの観点から４から２４であることが好ましい。

液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌ^Ｗはフッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｇ^１は下記の式（Ｇ−１）から式（Ｇ−２２）

（式中、Ｌ^Ｇ、Ｌ^Ｗ、Ｙ、Ｗ^２は前述と同じ意味を表し、ｒは０から５の整数を表し、ｓは０から４の整数を表し、ｔは０から３の整数を表し、ｕは０から２の整数を表し、ｖは０又は１を表す。また、これらの基は、左右が反転していても良い。）から選ばれる基を表すことがより好ましい。上記の式（Ｇ−１）から式（Ｇ−１０）において、式（Ｇ−１）、式（Ｇ−３）、式（Ｇ−５）、式（Ｇ−６）、式（Ｇ−７）、式（Ｇ−８）、式（Ｇ−１０）から選ばれる基がさらに好ましく、ｕが０である場合がさらにより好ましく、下記の式（Ｇ−１−１）から式（Ｇ−１０−１）

（式中、これらの基は左右が反転していても良い。）から選ばれる基が特に好ましい。また、上記の式（Ｇ−１１）から式（Ｇ−２２）において、Ｙが水素原子を表すことがより好ましく、ｓ、ｔ、ｕ、ｖが０を表すことがさらに好ましく、下記の式（Ｇ−１１−１）から式（Ｇ−２０−１）

（式中、これらの基は左右が反転していても良い。）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物において、逆分散性及び液晶性の観点から下記の一般式（ＩＡ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＧ^１は一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^２１及びＡ^２２は一般式（Ｉ）におけるＡ^１及びＡ^２と同じ意味を表し、Ｚ^１１及びＺ^１２は一般式（Ｉ）におけるＺ^１と同じ意味を表し、Ｚ^２１及びＺ^２２は一般式（Ｉ）におけるＺ^２と同じ意味を表すが、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^２１及びＺ^２２のうち少なくとも１つは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合から選ばれる基を表す。）で表される化合物であることが好ましい。各々の基の好ましい形態としては前記一般式（Ｉ）における場合と同様である。

前記式（ＩＡ）で表される化合物において、逆分散性及び液晶性の観点からＡ^１１、Ａ^１２、Ａ^２１及びＡ^２２は、各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基を表すことがより好ましく、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１１）

から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。逆分散性の観点から、Ａ^１２及びＡ^２１は各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−シクロヘキシレン基を表すことが好ましく、上記の式（Ａ−２）で表される基を表すことがより好ましい。また、屈折率異方性、合成の容易さ、溶媒への溶解性の観点から、Ａ^１１及びＡ^２２は各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基を表すことが好ましく、各々独立して上記の式（Ａ−１）、式（Ａ−３）から式（Ａ−１１）から選ばれる基を表すことがより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）、式（Ａ−３）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（Ａ−１）、式（Ａ−３）、式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、式（Ａ−１）で表される基が特に好ましい。

前記式（ＩＡ）で表される化合物において、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点からＺ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^２１及びＺ^２２は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合を表すことがさらに好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらにより好ましく、逆分散性及び液晶性の観点からＺ^１１及びＺ^２２は各々独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましく、Ｚ^１２及びＺ^２１は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。

なお、液晶性の観点から、一般式（Ｉ）で表される化合物に含まれる１，４−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基はシス体及びトランス体のいずれか一方のみであっても、両方の混合物であっても良いが、液晶性の観点からトランス体が主成分であることが好ましく、トランス体のみであることが特に好ましい。

本願発明の混合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましい。本願発明の混合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。

本願発明の混合物と混合して使用される他の重合性化合物としては、例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ（Ｄ．Ｄｅｍｕｓ，Ｊ．Ｗ．Ｇｏｏｄｂｙ，Ｇ．Ｗ．Ｇｒａｙ，Ｈ．Ｗ．Ｓｐｉｅｓｓ，Ｖ．Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ社発行，１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編，１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１１６５３８号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、等に記載されているような、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキレン基等の構造が複数繋がったメソゲン基である剛直な部位と、ビニル基、アクリロイル基、（メタ）アクリロイル基といった重合性官能基を有する棒状重合性液晶化合物、あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物が挙げられる。

本願発明の混合物と混合して使用される他の重合性化合物としては、具体的には一般式（Ｘ−１１）

及び／又は一般式（Ｘ−１２）

（式中、Ｐ^１１、Ｐ^１２及びＰ^１３は各々独立して重合性基を表し、Ｓｐ^１１、Ｓｐ^１２及びＳｐ^１３は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^１１、Ｘ^１２及びＸ^１３は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^１３及びＡ^１４は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^１３及びＡ^１４は各々独立して無置換であるか又は置換基Ｌ^１１によって置換されていても良く、Ａ^１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ^１３が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｌ^１１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^１１はＰ^Ｌ１１−（Ｓｐ^Ｌ１１−Ｘ^Ｌ１１）_ｋＬ１１−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌ１１は重合性基を表し、好ましい重合性基は前記Ｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^Ｌ１１はスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基は前記Ｓｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^Ｌ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌ１１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｌ１１−（Ｓｐ^Ｌ１１−Ｘ^Ｌ１１）_ｋＬ１１−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬ１１は０から１０の整数を表すが、化合物内にＬ^１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｒ^１１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｍ１１及びｍ１２は各々独立して０から３の整数を表す。）で表される化合物が好ましく、Ｐ^１１、Ｐ^１２及びＰ^１３がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。一般式（Ｘ−１１）で表される化合物として具体的には下記の式（Ｘ−１１−Ａ）から式（Ｘ−１１−Ｆ）

（式中、Ｗ^１１及びＷ^１２は各々独立して水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、Ｓｐ^１４及びＳｐ^１５は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表し、Ｚ^１３及びＺ^１４は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｌ^１１は前記と同様の意味を表し、ｓ１１は０から４の整数を表す。）で表される化合物が挙げられる。上記式（Ｘ−１１−Ａ）から式（Ｘ−１１−Ｆ）において、Ｗ^１１及びＷ^１２は各々独立して水素原子又はメチル基を表すことがより好ましく、Ｚ^１３及びＺ^１４は各々独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−を表すことがより好ましく、各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことがさらに好ましく、Ｌ^１１はフッ素原子、塩素原子、メチル基又はメトキシ基を表すことがより好ましい。

一般式（Ｘ−１１）で表される化合物としてより具体的には下記の式（Ｘ−１１−Ｂ−１）から式（Ｘ−１１−Ｆ−２）

（式中、Ｗ^１１、Ｗ^１２、Ｓｐ^１４及びＳｐ^１５は各々独立して前記と同様の意味を表す。）で表される化合物が挙げられる。

また、一般式（Ｘ−１２）で表される化合物として具体的には、下記の一般式（Ｘ−１２−Ａ）から式（Ｘ−１２−Ｅ）

（式中、Ｗ^１３は各々独立して水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、Ｓｐ^１６は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表し、Ｚ^１５及びＺ^１６は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｌ^１１は前記と同様の意味を表し、ｓ１１は０から４の整数を表し、Ｒ^１２は水素原子、フッ素原子、シアノ基、炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数１から１０のアルコキシ基を表す。）で表される化合物が挙げられる。上記式（Ｘ−１２−Ａ）から式（Ｘ−１２−Ｅ）において、Ｗ^１３は各々独立して水素原子又はメチル基を表すことがより好ましく、Ｚ^１５及びＺ^１６は各々独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、各々独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、Ｌ^１１はフッ素原子、塩素原子、メチル基又はメトキシ基を表すことがより好ましい。

一般式（Ｘ−１２）で表される化合物としてより具体的には下記の式（Ｘ−１２−Ａ−１）から式（Ｘ−１２−Ｅ−６）

（式中、Ｗ^１３、Ｓｐ^１６、Ｒ^１２は各々独立して前記と同様の意味を表す。）で表される化合物が挙げられる。

本発明の液晶組成物には、重合性基を有さないメソゲン基を含有する化合物を添加しても良く、通常の液晶デバイス、例えばＴＦＴ液晶等に使用される化合物が挙げられる。重合性基を有さないメソゲン基を含有する化合物としては、下記の一般式（Ｘ−２１）

（式中、Ｒ^２１及びＲ^２２は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状アルキル基又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ａ^２１及びＡ^２２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^２１によって置換されても良いが、Ａ^２１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｌ^２１はフッ素原子、塩素原子、シアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｚ^２１は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合で表される基を表すが、Ｚ^２１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ２１は０から６の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。

一般式（Ｘ−２１）で表される化合物として具体的には下記の式（Ｘ−２１−１）から式（Ｘ−２１−８）

（式中、Ｒ^２１及びＲ^２２は各々独立して前記と同じ意味を表すが、Ｒ^２１及びＲ^２２は各々独立してフッ素原子、シアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−が−Ｏ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−によって置換されても良い炭素原子数１から８の直鎖状アルキル基を表すことが好ましい。）から選ばれる化合物がより好ましい。

一般式（Ｘ−１２）で表される化合物の合計含有量は、重合性組成物の総量に対して５．０質量％以上であることが好ましく、１０．０質量％以上であることが好ましく、１５．０質量％以上であることが好ましく、また、９０．０質量％以下であることが好ましく、８５．０質量％以下であることが好ましい。

本発明における重合性液晶組成物には、キラルネマチック相又はキラルスメクチック相を得ることを目的としてキラル化合物を配合してもよい。キラル化合物のなかでも、分子中に重合性官能基を有する化合物が特に好ましい。尚、本発明のキラル化合物は液晶性を示してもよく、非液晶性であってもよい。

本発明に使用するキラル化合物としては、重合性官能基を１つ以上有することが好ましい。このような化合物としては、例えば、特開平１１−１９３２８７号公報、特開２００１−１５８７８８号公報、特表２００６−５２６６９号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−２６９６４０号公報、２００９−８４１７８号公報等に記載されているような、イソソルビド、イソマンニド、グルコシド等のキラルな糖類を含み、かつ、１，４−フェニレン基１，４−シクロヘキレン基等の剛直な部位と、ビニル基、アクリロイル基、（メタ）アクリロイル基、また、マレイミド基といった重合性官能基を有する重合性キラル化合物、特開平８−２３９６６６号公報に記載されているような、テルペノイド誘導体からなる重合性キラル化合物、ＮＡＴＵＲＥ ＶＯＬ３５ ４６７〜４６９ページ（１９９５年１１月３０日発行）、ＮＡＴＵＲＥ ＶＯＬ３９２ ４７６〜４７９ページ（１９９８年４月２日発行）等に記載されているような、メソゲン基とキラル部位を有するスペーサーからなる重合性キラル化合物、あるいは特表２００４−５０４２８５号公報、特開２００７−２４８９４５号公報に記載されているような、ビナフチル基を含む重合性キラル化合物が挙げられる。中でも、らせんねじれ力（ＨＴＰ）の大きなキラル化合物が、本発明の重合性液晶組成物に好ましい。

キラル化合物の配合量は、化合物の螺旋誘起力によって適宜調整することが必要であるが、重合性液晶組成物の内、０〜２５質量％含有することが好ましく、０〜２０質量％含有することがより好ましく、０〜１５質量％含有することが特に好ましい。

キラル化合物としては具体的には下記の式（Ｘ−３１）から式（Ｘ−３４）

（式中、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７及びＲ^３８は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表し、若しくはＲ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７及びＲ^３８は各々独立して下記の式（Ｘ−３０−Ｒ）

（式中、Ｐ^３１は重合性基を表し、好ましい重合性基は前記Ｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^３１はスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基は前記Ｓｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^３１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^３１−（Ｓｐ^３１−Ｘ^３１）_ｋ３１−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋ３１は０から１０の整数を表す。）で表される基を表すが、Ｒ^３７及びＲ^３８は水素原子以外の互いに異なる基を表し、Ａ^３１、Ａ^３２、Ａ^３３、Ａ^３４、Ａ^３５及びＡ^３６は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^３１によって置換されても良く、Ａ^３１、Ａ^３２、Ａ^３３、Ａ^３４、Ａ^３５及びＡ^３６が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｌ^３１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^３１はＰ^Ｌ３１−（Ｓｐ^Ｌ３１−Ｘ^Ｌ３１）_ｋＬ３１−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌ３１は重合性基を表し、好ましい重合性基は前記Ｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^Ｌ３１はスペーサー基又は単結合を表すが、好ましいスペーサー基は前記Ｓｐ^０の場合と同じのものを表し、Ｓｐ^Ｌ３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌ３１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌ３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｌ３１−（Ｓｐ^Ｌ３１−Ｘ^Ｌ３１）_ｋＬ３１−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬ３１は０から１０の整数を表すが、化合物内にＬ^３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^３１、Ｚ^３２、Ｚ^３３、Ｚ^３４、Ｚ^３５及びＺ^３６は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は単結合で表される基を表すが、Ｚ^３１、Ｚ^３２、Ｚ^３３、Ｚ^３４、Ｚ^３５及びＺ^３６が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ３１、ｍ３２、ｍ３３、ｍ３４、ｍ３５及びｍ３６は各々独立して０から６の整数を表す。）から選ばれることが好ましい。

キラル化合物としてはより具体的には下記の式（Ｘ−３１−１）から式（Ｘ−３４−６）

（式中、Ｗ^３１及びＷ^３２は各々独立して水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、Ｓｐ^３２及びＳｐ^３３は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表し、Ｒ^３９及びＲ^４０は水素原子、炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数１から１０のアルコキシ基を表す。）で表される化合物がより好ましい。
（有機溶剤）
本発明における組成物に有機溶剤を添加してもよい。用いる有機溶剤としては特に限定はないが、重合性化合物が良好な溶解性を示す有機溶剤が好ましく、１００℃以下の温度で乾燥できる有機溶剤であることが好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン、クロロベンゼン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできるが、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン系溶剤のうちのいずれか１種類以上を用いることが好ましい。

本発明に用いられる組成物は有機溶媒の溶液とすると基板に対して塗布することができ、用いる有機溶剤の比率は、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、組成物溶液中に含有する有機溶剤の合計量が１〜６０質量％であることが好ましく、３〜５５質量％であることが更に好ましく、５〜５０質量％であることが特に好ましい。

有機溶剤に組成物を溶解する際には、均一に溶解させるために、加熱攪拌することが好ましい。加熱攪拌時の加熱温度は、用いる組成物の有機溶剤に対する溶解性を考慮して適宜調節すればよいが、生産性の点から１５℃〜１１０℃が好ましく、１５℃〜１０５℃がより好ましく、１５℃〜１００℃がさらに好ましく、２０℃〜９０℃とするのが特に好ましい。

また、溶媒を添加する際には分散攪拌機により攪拌混合することが好ましい。分散攪拌機として具体的には、ディスパー、プロペラ、タービン翼等攪拌翼を有する分散機、ペイントシェイカー、遊星式攪拌装置、振とう機、シェーカー又はロータリーエバポレーター、スターラー等が使用できる。その他には、超音波照射装置が使用できる。

溶媒を添加する際の攪拌回転数は、用いる攪拌装置により適宜調整することが好ましいが、均一な重合性組成物溶液とするために攪拌回転数を１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍとするのが好ましく、５０ｒｐｍ〜８００ｒｐｍとするのがより好ましく、１５０ｒｐｍ〜６００ｒｐｍとするのが特に好ましい。
（重合禁止剤）
本発明における重合性組成物には、重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤としては、フェノール系化合物、キノン系化合物、アミン系化合物、チオエーテル系化合物、ニトロソ化合物、等が挙げられる。

フェノール系化合物としては、ｐ−メトキシフェノール、クレゾール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４−メトキシ−１−ナフトール、４，４’−ジアルコキシ−２，２’−ビ−１−ナフトール、等が挙げられる。

キノン系化合物としては、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、メチル−ｐ−ベンゾキノン、ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジフェニルベンゾキノン、２−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン等が挙げられる。

アミン系化合物としては、ｐ−フェニレンジアミン、４−アミノジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン、４，４’−ジクミル−ジフェニルアミン、４，４’−ジオクチルジフェニルアミン等が挙げられる。

チオエーテル系化合物としては、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。

ニトロソ系化合物としては、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ−ニトロソジナフチルアミン、ｐ−ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、α−ニトロソ−β−ナフトール等、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−ニトロソアニリン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−ニトロソアニリン、Ｎ−ニトロソエタノールアミン、Ｎ−ニトロソジブチルアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−ブチル−４−ブタノールアミン、１，１’−ニトロソイミノビス（２−プロパノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチル−４−ブタノールアミン、５−ニトロソ−８−ヒドロキシキノリン、Ｎ−ニトロソモルホリン、Ｎ−二トロソーＮ−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルニトロソベンゼン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチルウレタン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−プロピルウレタン、１−ニトロソ−２−ナフトール、２−ニトロソ−１−ナフトール、１−ニトロソ−２−ナフトール−３，６−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−１−ナフトール−４−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩等が挙げられる。

重合禁止剤の添加量は重合性組成物に対して０．０１〜１．０質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。
（酸化防止剤）
本発明における重合性組成物の安定性を高めるため、酸化防止剤等を添加することが好ましい。そのような化合物として、ヒドロキノン誘導体、ニトロソアミン系重合禁止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤等が挙げられ、より具体的には、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、和光純薬工業社の「Ｑ−１３００」、「Ｑ−１３０１」、ＢＡＳＦ社の「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ＰＡ１４４」、「ＴＩＮＵＶＩＮ７６５」、「ＴＩＮＵＶＩＮ７７０ＤＦ」等が挙げられる。

酸化防止剤の添加量は重合性組成物に対して０．０１〜２．０質量％であることが好ましく、０．０５〜１．０質量％であることがより好ましい。
（光重合開始剤）
本発明における重合性組成物は光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は少なくとも１種類以上含有することが好ましい。具体的には、ＢＡＳＦ社製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１２７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア３７９」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア１８００」、「イルガキュア２５０」、「イルガキュア７５４」、「イルガキュア７８４」、「イルガキュアＯＸＥ０１」、「イルガキュアＯＸＥ０２」、「ルシリンＴＰＯ」、「ダロキュア１１７３」、「ダロキュアＭＢＦ」やＬＡＭＢＳＯＮ社製の「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「スピードキュアＢＥＭ」、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＭＢＰ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「スピードキュアＩＴＸ」、「スピードキュアＤＥＴＸ」、「スピードキュアＥＢＤ」、「スピードキュアＭＢＢ」、「スピードキュアＢＰ」や日本化薬社製の「カヤキュアＤＭＢＩ」、日本シイベルヘグナー社製(現ＤＫＳＨ社)の「ＴＡＺ−Ａ」、ＡＤＥＫＡ社製の「アデカオプトマーＳＰ−１５２」、「アデカオプトマーＳＰ−１７０」、「アデカオプトマーＮ−１４１４」、「アデカオプトマーＮ−１６０６」、「アデカオプトマーＮ−１７１７」、「アデカオプトマーＮ−１９１９」等が挙げられる。

光重合開始剤の使用量は重合性組成物に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもでき、また、増感剤等を添加しても良い。
（熱重合開始剤）
本発明における重合性組成物には、光重合開始剤とともに、熱重合開始剤を併用してもよい。具体的には、和光純薬工業社製の「Ｖ−４０」、「ＶＦ−０９６」、日本油脂社製の「パーへキシルＤ」、「パーへキシルＩ」等が挙げられる。

熱重合開始剤の使用量は重合性組成物に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。
（界面活性剤）
本発明における重合性組成物は、光学異方体とした場合の膜厚むらを低減させるために界面活性剤を少なくとも１種類以上含有してもよい。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類等をあげることができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。

具体的には、「メガファック Ｆ−１１０（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１１０）」、「メガファック Ｆ−１１３（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１１３）」、「メガファック Ｆ−１２０（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１２０）」、「メガファック Ｆ−８１２（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−８１２）」、「メガファック Ｆ−１４２Ｄ（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１４２Ｄ）」、「メガファック Ｆ−１４４Ｄ（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１４４Ｄ）」、「メガファック Ｆ−１５０（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１５０）」、「メガファック Ｆ−１７１（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１７１）」、「メガファック Ｆ−１７３（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１７３）」、「メガファック Ｆ−１７７（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１７７）」、「メガファック Ｆ−１８３（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１８３）」、「メガファック Ｆ−１９５（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１９５）」、「メガファック Ｆ−８２４（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−８２４）」、「メガファック Ｆ−８３３（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−８３３）」、「メガファック Ｆ−１１４（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１１４）」、「メガファック Ｆ−４１０（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４１０）」、「メガファック Ｆ−４９３（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４９３）」、「メガファック Ｆ−４９４（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４９４）」、「メガファック Ｆ−４４３（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４４３）」、「メガファック Ｆ−４４４（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４４４）」、「メガファック Ｆ−４４５（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４４５）」、「メガファック Ｆ−４４６（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４４６）」、「メガファック Ｆ−４７０（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４７０）」、「メガファック Ｆ−４７１（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４７１）」、「メガファック Ｆ−４７４（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４７４）」、「メガファック Ｆ−４７５（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４７５）」、「メガファック Ｆ−４７７（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４７７）」、「メガファック Ｆ−４７８（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４７８）」、「メガファック Ｆ−４７９（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４７９）」、「メガファック Ｆ−４８０ＳＦ（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４８０ＳＦ）」、「メガファック Ｆ−４８２（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４８２）」、「メガファック Ｆ−４８３（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４８３）」、「メガファック Ｆ−４８４（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４８４）」、「メガファック Ｆ−４８６（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４８６）」、「メガファック Ｆ−４８７（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４８７）」、「メガファック Ｆ−４８９（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４８９）」、「メガファック Ｆ−１７２Ｄ（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１７２Ｄ）」、「メガファック Ｆ−１７８Ｋ（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１７８Ｋ）」、「メガファック Ｆ−１７８ＲＭ（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−１７８ＲＭ）」、「メガファック Ｒ−０８（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｒ−０８）」、「メガファック Ｒ−３０（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｒ−３０）」、「メガファック Ｆ−４７２ＳＦ（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｆ−４７２ＳＦ）」、「メガファック ＢＬ−２０（ＭＥＧＡＦＡＣＥ ＢＬ−２０）」、「メガファック Ｒ−６１（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｒ−６１）」、「メガファック Ｒ−９０（ＭＥＧＡＦＡＣＥ Ｒ−９０）」、「メガファック ＥＳＭ−１（ＭＥＧＡＦＡＣＥ ＥＳＭ−１）」、「メガファック ＭＣＦ−３５０ＳＦ（ＭＥＧＡＦＡＣＥ ＭＣＦ−３５０ＳＦ）」（以上、ＤＩＣ株式会社製）、
「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェントＡ」、「フタージェント１００Ａ−Ｋ」、「フタージェント５０１」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「ＦＴＸ−４００Ｐ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２ＭＨ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ−２１８」、「ＦＴＸ−２０９Ｆ」、「ＦＴＸ−２１３Ｆ」、「ＦＴＸ−２３３Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「ＦＴＸ−２０８Ｇ」、「ＦＴＸ−２４０Ｇ」、「ＦＴＸ−２０６Ｄ」、「ＦＴＸ−２２０Ｄ」、「ＦＴＸ−２３０Ｄ」、「ＦＴＸ−２４０Ｄ」、「ＦＴＸ−２０７Ｓ」、「ＦＴＸ−２１１Ｓ」、「ＦＴＸ−２２０Ｓ」、「ＦＴＸ−２３０Ｓ」、「ＦＴＸ−７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ−７３０ＦＭ」、「ＦＴＸ−７３０ＦＬ」、「ＦＴＸ−７１０ＦＳ」、「ＦＴＸ−７１０ＦＭ」、「ＦＴＸ−７１０ＦＬ」、「ＦＴＸ−７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ−７３０ＬＳ」、「ＦＴＸ−７３０ＬＭ」、「ＦＴＸ−７３０ＬＬ」、「ＦＴＸ−７１０ＬＬ」（以上、ネオス社製）、
「ＢＹＫ−３００」、「ＢＹＫ−３０２」、「ＢＹＫ−３０６」、「ＢＹＫ−３０７」、「ＢＹＫ−３１０」、「ＢＹＫ−３１５」、「ＢＹＫ−３２０」、「ＢＹＫ−３２２」、「ＢＹＫ−３２３」、「ＢＹＫ−３２５」、「ＢＹＫ−３３０」、「ＢＹＫ−３３１」、「ＢＹＫ−３３３」、「ＢＹＫ−３３７」、「ＢＹＫ−３４０」、「ＢＹＫ−３４４」、「ＢＹＫ−３７０」、「ＢＹＫ−３７５」、「ＢＹＫ−３７７」、「ＢＹＫ−３５０」、「ＢＹＫ−３５２」、「ＢＹＫ−３５４」、「ＢＹＫ−３５５」、「ＢＹＫ−３５６」、「ＢＹＫ−３５８Ｎ」、「ＢＹＫ−３６１Ｎ」、「ＢＹＫ−３５７」、「ＢＹＫ−３９０」、「ＢＹＫ−３９２」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」（以上、ビックケミー・ジャパン社製）、
「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２１００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２３００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２５００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２６００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２７００」（以上、エボニック・インダストリーズ株式会社製）等の例を挙げることができる。

界面活性剤の添加量は重合性液晶組成物に対して０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

また、上記界面活性剤を使用することで、本発明の重合性液晶組成物を光学異方体とした場合、空気界面のチルト角を効果的に減じることができる。

本発明における重合性液晶組成物は、光学異方体とした場合の空気界面のチルト角を効果的に減じる効果を持つ、上記界面活性剤以外として、下記一般式（Ｘ−４１）

（式中、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４４は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から２０の直鎖状アルキル基又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上である化合物が挙げられる。

一般式（Ｘ−４１）で表される好適な化合物として、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、塩素化流動パラフィン等を挙げることができる。

一般式（Ｘ−４１）で表される化合物は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に光重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。

一般式（Ｘ−４１）で表される化合物の添加量は重合性液晶組成物溶液に対して、０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

本発明における重合性液晶組成物溶液は、光学異方体とした場合の基材との密着性をより向上させるため、連鎖移動剤を添加することも好ましい。連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、モノチオール、ジチオール、トリチオール、テトラチオール化合物がより好ましく、トリチオール化合物がさらに好ましい。具体的には下記の式（Ｘ−５１−１）から式（Ｘ−５１−１２）

（式中、Ｒ^５１は各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状アルキル基又は分岐状アルキル基を表し、Ｓｐ^５１は各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−によって置換されても良い炭素原子数２から２０の直鎖状アルキレン基又は分岐状アルキレン基を表す。）で表される化合物がより好ましい。

連鎖移動剤は、重合性液晶化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。

連鎖移動剤の添加量は重合性液晶組成物に対して、０．５〜１０質量％であることが好ましく、１．０〜５．０質量％であることがより好ましい。

物性調整のため、重合性でない液晶化合物、あるいは液晶性のない重合性化合物等も必要に応じて添加することも可能である。液晶性のない重合性化合物は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、重合性でない液晶化合物等は、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加しても良く、両方の工程において添加しても良い。これらの化合物の添加量は重合性液晶組成物に対して、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下がさらに好ましい。

本発明の混合物又は重合性組成物には、目的に応じて他の添加剤、例えば、チキソ剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。

重合性組成物における混合物の総含有量は、重合性組成物の総量に対して５．０質量％以上であることが好ましく、１０．０質量％以上であることがより好ましく、１５．０質量％以上であることがさらに好ましく、また、９０．０質量％以下であることが好ましく、８５．０質量％以下であることがより好ましい。
（（式１）を満たす混合物の製造方法）
上記（式１）を満たす混合物を得るためには、例えば、メソゲン基を有する化合物の精製度合を調節し、最終的に、上記式１を満たす混合物を得る方法が挙げられる。メソゲン基を有する化合物の精製度合は、メソゲン基を有する化合物の合成工程において必要に応じて精製を行うことにより調節することができる。より精製した化合物ほど、黄色度（ＹＩ）の値が小さくなる。精製は、合成の各工程において適宜行うことができ、精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理、分散洗浄等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。
（光学異方体の製造方法）
（光学異方体）
本発明の重合性組成物を用いて作製した光学異方体は、基材、必要に応じて配向膜、及び、重合性組成物の重合体を順次積層したものである。

本発明の光学異方体に用いられる基材は、液晶デバイス、ディスプレイ、光学部品や光学フィルムに通常使用する基材であって、本発明の重合性組成物の塗布後の乾燥時における加熱に耐えうる耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基材としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材やプラスチック基材等の有機材料が挙げられる。特に基材が有機材料の場合、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン又はポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネート等のプラスチック基材が好ましい。

本発明の重合性組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基材の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、シランカップリング処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基材表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設ける、あるいは、光学的な付加価値をつけるために、基材がピックアップレンズ、ロッドレンズ、光ディスク、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルター等であっても良い。中でも付加価値がより高くなるピックアップレンズ、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルターは好ましい。

また、上記基材には、本発明の重合性組成物を塗布乾燥した際に重合性組成物が配向するように、通常配向処理が施されている、あるいは配向膜が設けられていても良い。配向処理としては、延伸処理、ラビング処理、偏光紫外可視光照射処理、イオンビーム処理等が挙げられる。配向膜を用いる場合、配向膜は公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等の化合物が挙げられる。ラビングにより配向処理する化合物は、配向処理、もしくは配向処理の後に加熱工程を入れることで材料の結晶化が促進されるものが好ましい。ラビング以外の配向処理を行う化合物の中では光配向材料を用いることが好ましい。
（塗布）
本発明の光学異方体を得るための塗布法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、フレキソコーティング法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディップコーティング法、スリットコーティング法等、公知慣用の方法を行うことができる。重合性組成物を塗布後、乾燥させる。
（重合工程）
本発明の重合性液晶組成物の重合操作については、重合性液晶組成物中の液晶化合物が基材に対して水平配向、垂直配向、又はハイブリッド配向、あるいはコレステリック配向（平面配向）した状態で一般に紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合を光照射で行う場合は、具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。
（重合方法）
本発明の重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましく、中でも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物が液晶相を保持できる温度とし、重合性液晶組成物の熱重合の誘起を避けるため、可能な限り３０℃以下とすることが好ましい。尚、液晶組成物は、通常、昇温過程において、Ｃ（固相）−Ｎ（ネマチック）転移温度（以下、Ｃ−Ｎ転移温度と略す。）から、Ｎ−Ｉ転移温度範囲内で液晶相を示す。一方、降温過程においては、熱力学的に非平衡状態を取るため、Ｃ−Ｎ転移温度以下でも凝固せず液晶状態を保つ場合がある。この状態を過冷却状態という。本発明においては、過冷却状態にある液晶組成物も液晶相を保持している状態に含めるものとする。具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。紫外線照射強度は、０．０５ｋＷ／ｍ^２〜１０ｋＷ／ｍ^２の範囲が好ましい。特に、０．２ｋＷ／ｍ^２〜２ｋＷ／ｍ^２の範囲が好ましい。紫外線強度が０．０５ｋＷ／ｍ^２未満の場合、重合を完了させるのに多大な時間がかかる。一方、２ｋＷ／ｍ^２を超える強度では、重合性液晶組成物中の液晶分子が光分解する傾向にあることや、重合熱が多く発生して重合中の温度が上昇し、重合性液晶のオーダーパラメーターが変化して、重合後のフィルムのリタデーションに狂いが生じる可能性がある。

マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させた後、該未重合部分の配向状態を、電場、磁場又は温度等をかけて変化させ、その後該未重合部分を重合させると、異なる配向方向をもった複数の領域を有する光学異方体を得ることもできる。

また、マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させる際に、予め未重合状態の重合性液晶組成物に電場、磁場又は温度等をかけて配向を規制し、その状態を保ったままマスク上から光を照射して重合させることによっても、異なる配向方向をもった複数の領域を有する光学異方体を得ることができる。

本発明の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方体は、基板から剥離して単体で光学異方体として使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。
（用途）
本願発明の重合性液晶組成物を水平配向、垂直配向、又はハイブリッド配向、あるいはコレステリック配向した状態で重合して得られる重合体は、配向性能を有する光学異方体として、光学補償膜、位相差膜、視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム、反射フィルム、偏光フィルム、光情報記録材料として用いることができる。また、放熱性を有する接着剤、封止剤、放熱シート、セキュリティー印刷用インキとして用いることができる。

以下に本発明を合成例、実施例、及び、比較例によって説明するが、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。下記の式（Ｉ−Ａ−１）から式（Ｉ−Ａ−５）、式（Ｉ−Ｂ−１）から式（Ｉ−Ｂ−４）、式（Ｉ−Ｃ−１）から式（Ｉ−Ｃ−９）で表される化合物を評価対象の化合物とした。

特開２０１１−２０７７６５号公報に記載の方法によって式（Ｉ−Ａ−１）から式（Ｉ−Ａ−３）で表される化合物の精製前の粗体を、特開２０１０−０３１２２３号公報に記載の方法によって式（Ｉ−Ａ−４）及び式（Ｉ−Ａ−５）で表される化合物の精製前の粗体を、特開２００８−２７３９２５号公報に記載の方法によって式（Ｉ−Ｂ−１）で表される化合物の精製前の粗体を、特開２００８−１０７７６７号公報に記載の方法によって式（Ｉ−Ｂ−２）で表される化合物の精製前の粗体を、特開２０１６−０８１０３５号公報に記載の方法によって式（Ｉ−Ｂ−３）及び式（Ｉ−Ｂ−４）で表される化合物の精製前の粗体を、ＷＯ２０１４／０１０３２５Ａ１号公報に記載の方法によって式（Ｉ−Ｃ−１）で表される化合物の精製前の粗体を、ＷＯ２０１２／１４７９０４Ａ１号公報に記載の方法によって式（Ｉ−Ｃ−２）で表される化合物の精製前の粗体を製造した。本発明において、精製前の粗体とは、反応液から溶媒を留去したのみの精製前の物質を意味する。
（実施例０−１）式（Ｉ−Ｃ−３）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置、冷却器を備えた反応容器に式（Ｉ−Ｃ−３−１）で表される化合物７．００ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．９６ｇ、酢酸エチル６５ｍＬを加え加熱還流させた。途中、反応溶媒を適宜除去しながら、除去した溶媒と同量の溶媒を追加する操作を繰り返した。５％炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−３−２）で表される化合物９．０８ｇを得た。

ディーンスターク装置、冷却器を備えた反応容器に式（Ｉ−Ｃ−３−２）で表される化合物９．０８ｇ、パラホルムアルデヒド４．５６ｇ、塩化マグネシウム７．２４ｇ、アセトニトリル３６ｍＬ、トリエチルアミン１８ｍＬを加え加熱還流させた。途中、反応溶媒を適宜除去しながら、除去した溶媒と同量のアセトニトリル及びトリエチルアミンを追加する操作を繰り返した。酢酸エチルで希釈し、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−３−３）で表される化合物９．７１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−Ｃ−３−３）で表される化合物９．７１ｇ、メタノール２９ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液１５ｍＬを加え６０℃で加熱撹拌した。酢酸エチルで希釈し、１０％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−３−４）で表される化合物６．７７ｇを得た。

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｉ−Ｃ−３−４）で表される化合物１．４０ｇ、式（Ｉ−Ｃ−３−５）で表される化合物４．９３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．５０ｇ、ジクロロメタン７０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド２．５５ｇを滴下し室温で撹拌した。析出物を濾過し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−３−６）で表される化合物２．４１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−Ｃ−３−６）で表される化合物２．４１ｇ、式（Ｉ−Ｃ−３−７）で表される化合物０．５６ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．０１ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加え撹拌した。溶媒を留去することによって、式（Ｉ−Ｃ−３）で表される化合物の精製前の粗体１．７０ｇを得た。精製後の測定値を示す。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．５０（ｍ，８Ｈ），１．６５−１．８０（ｍ，４Ｈ），１．８０−１．９７（ｍ，４Ｈ），３．１５（ｔ，２Ｈ），４．０１（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．３１（ｔ，２Ｈ），４．４０（ｔ，２Ｈ），４．５７（ｔ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４２（ｄｄ，２Ｈ），６．８７（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），７．１２−７．１８（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，１Ｈ），７．４８（ｄ，１Ｈ），７．５８（ｄ，１Ｈ），７．９９−８．０２（ｍ，５Ｈ），８．１２（ｄ，２Ｈ）ｐｐｍ．
相転移温度（５℃／分昇温）Ｃ １１２ Ｉ
（実施例０−２）式（Ｉ−Ｃ−４）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置、冷却器を備えた反応容器に式（Ｉ−Ｃ−４−１）で表される化合物８．００ｇ、パラホルムアルデヒド３．３０ｇ、塩化マグネシウム５．２３ｇ、テトラヒドロフラン３９ｍＬ、トリエチルアミン２６ｍＬを加え加熱還流させた。途中、反応溶媒を適宜除去しながら、除去した溶媒と同量のテトラヒドロフラン及びトリエチルアミンを追加する操作を繰り返した。酢酸エチルで希釈し、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−４−２）で表される化合物８．９５ｇを得た。

特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法によって式（Ｉ−Ｃ−４−３）で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下反応容器に式（Ｉ−Ｃ−４−２）で表される化合物２．９４ｇ、式（Ｉ−Ｃ−４−３）で表される化合物５．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０２ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．８１ｇを滴下し室温で撹拌した。析出物を濾過し、溶媒を留去した。メタノールを加え固体を析出させ分散洗浄し、濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−４−４）で表される化合物４．７０ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−Ｃ−４−４）で表される化合物１．５０ｇ、式（Ｉ−Ｃ−４−５）で表される化合物０．３８ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．０１ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加え撹拌した。溶媒を留去することによって、式（Ｉ−Ｃ−４）で表される化合物の精製前の粗体１．２３ｇを得た。精製後の測定値を示す。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９２（ｔ，３Ｈ），１．０７（ｑ，２Ｈ），１．２４−２．０６（ｍ，２７Ｈ），２．３５（ｍ，２Ｈ），２．５５（ｔ，１Ｈ），３．９５（ｔ，２Ｈ），４．１８（ｔ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４２（ｄｄ，１Ｈ），６．８８（ｄ，２Ｈ），６．９８（ｍ，３Ｈ），７．１９−７．２６（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｍ，１Ｈ），７．５１（ｍ，１Ｈ），７．６８（ｍ，１Ｈ），７．８９（ｍ，１Ｈ），８．０８（ｍ，１Ｈ）ｐｐｍ．
相転移温度（５℃／分昇温）Ｃ １１７ Ｎ ２２０ Ｉ
（実施例０−３）式（Ｉ−Ｃ−５）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−１）で表される化合物２０．０ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール９．６ｇ、４−ジメチルアミノピリジン０．７ｇ、ジクロロメタン１６０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１６．３ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。析出物を濾過により除去し、５％塩酸及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−５−２）で表される化合物２４．７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−２）で表される化合物２４．７ｇ、メタノール２００ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液３３ｍＬを加え、室温で８時間撹拌した。５％塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥させることにより、式（Ｉ−Ｃ−５−３）で表される化合物２２．１ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−３）で表される化合物２０．０ｇ、テトラヒドロフラン１２０ｍＬを加えた。氷冷しながらボラン−テトラヒドロフラン錯体（１ｍｏｌ／Ｌ）１０５ｍＬを滴下し２時間撹拌した。５％塩酸１００ｍＬを滴下した後、酢酸エチル２００ｍＬで分液処理した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−Ｃ−５−４）で表される化合物１６．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−４）で表される化合物１６．９ｇ、ピリジン７．５ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらメタンスルホニルクロリド１０．８ｇを滴下し室温で２４時間撹拌した。５％塩酸に注いだ後、分液処理した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−５−５）で表される化合物２０．７ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−６）で表される化合物２０．０ｇ、４８％臭化水素酸６０ｍＬ、酢酸６０ｍＬを加え６時間加熱還流させた。冷却した後、酢酸エチル２００ｍＬで分液処理した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）により精製を行い式（Ｉ−Ｃ−５−７）で表される化合物１４．６ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−７）で表される化合物１．０ｇ、式（Ｉ−Ｃ−５−５）で表される化合物４．２ｇ、リン酸カリウム３．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加え９０℃で８時間加熱撹拌した。反応液を水１００ｍＬに注いだ後、析出した固体を濾過し、水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−５−８）で表される化合物３．１ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−８）で表される化合物３．１ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬ、ギ酸３０ｍＬを加え４０℃で８時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、ジイソプロピルエーテル３０ｍＬを加え撹拌し、析出物を濾過した。得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗浄することにより式（Ｉ−Ｃ−５−９）で表される化合物２．２ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−１０）で表される化合物１０．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム０．７ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン４．６ｇを滴下し、室温で７時間撹拌した。５％炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−５−９）で表される化合物１３．５ｇを得た。

耐圧容器に式（Ｉ−Ｃ−５−９）で表される化合物１３．５ｇ、５％パラジウム炭素０．１ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍＬ、エタノール５０ｍＬを加えた。水素圧０．５ＭＰａ、５０℃で８時間加熱撹拌した。触媒を濾過した後、溶媒を留去することにより、式（Ｉ−Ｃ−５−１２）で表される化合物８．８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−１２）で表される化合物１５．０ｇ、式（Ｉ−Ｃ−５−１３）で表される化合物１７．７ｇ、炭酸カリウム１６．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９０ｍＬを加え９０℃で２０時間加熱撹拌した。ジクロロメタン１５０ｍＬを加え分液処理した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−５−１４）で表される化合物２４．２ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−１４）で表される化合物２４．２ｇ、テトラヒドロフラン８０ｍＬ、メタノール８０ｍＬを加えた。濃塩酸１ｍＬを加え室温で１０時間撹拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチル１５０ｍＬで分液処理した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）及び再結晶（酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い式（Ｉ−Ｃ−５−１５）で表される化合物１７．４ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−９）で表される化合物１．９ｇ、式（Ｉ−Ｃ−５−１５）で表される化合物２．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０６ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながら１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２．２ｇを加え、室温で８時間撹拌した。反応液を５％塩酸及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−５−１６）で表される化合物３．３ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器にヒドラジン一水和物、エタノールを加えた。式（Ｉ−Ｃ−５−１７）で表される化合物を加え加熱撹拌した。溶媒を留去することにより、式（Ｉ−Ｃ−５−１８）で表される化合物を含有する混合物を得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−１９）で表される化合物、１，２−ジメトキシエタン、トリエチルアミン、式（Ｉ−Ｃ−５−１８）で表される化合物を含有する混合物を加え加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−５−２０）で表される化合物を得た。

窒素置換した反応容器に式（Ｉ−Ｃ−５−１６）で表される化合物３．３ｇ、式（Ｉ−Ｃ−５−２０）で表される化合物１．０ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で８時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−５）で表される化合物２．９ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ８５ Ｎ １２８ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２２−１．２８（ｍ，４Ｈ），１．４４−１．４７（ｍ，８Ｈ），１．６０−１．８２（ｍ，１２Ｈ），１．９０（ｍ，２Ｈ），２．０７（ｔ，４Ｈ），２．２４（ｄ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．６６（ｔ，２Ｈ），３．８５−３．８９（ｍ，６Ｈ），３．９３（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１３（ｑ，２Ｈ），６．４０（ｄ，２Ｈ），６．８３−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９５−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５２（ｔ，１Ｈ），７．６７（ｔ，２Ｈ），８．３３（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例０−４）式（Ｉ−Ｃ−６）で表される化合物の製造

窒素置換した反応容器にヒドラジン一水和物、エタノールを加えた。加熱しながら式（Ｉ−Ｃ−６−１）で表される化合物を滴下し撹拌した。濃縮することにより、式（Ｉ−Ｃ−６−２）で表される化合物を含む混合物を得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−６−３）で表される化合物、１，２−ジメトキシエタン、トリエチルアミン、式（Ｉ−Ｃ−６−２）で表される化合物を含有する混合物を加え加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−６−４）で表される化合物を得た。

反応容器に式（Ｉ−Ｃ−６−５）で表される化合物、式（Ｉ−Ｃ−６−４）で表される化合物、（±）−１０−カンファースルホン酸、テトラヒドロフラン、エタノールを加え加熱撹拌した。溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−６−６）で表される化合物を得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−Ｃ−６−６）で表される化合物、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、ジクロロメタンを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイルを加え撹拌した。通常の後処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−Ｃ−６）で表される化合物を得た。
転移温度（昇温５℃／分）Ｃ ７１ Ｎ １１５ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．１９−１．２９（ｍ，４Ｈ），１．４１−１．８２（ｍ，２２Ｈ），１．９１（ｍ，２Ｈ），２．０８（ｍ，４Ｈ），２．２４（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．６２（ｍ，３Ｈ），３．６７（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．９０（ｍ，５Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），４．１５−４．１９（ｍ，６Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．７６（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，２Ｈ），６．０８（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．３７（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，２Ｈ），６．８４−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９５−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ），７．６９（ｄ，１Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１２４４［Ｍ＋１］
（実施例０−５）式（Ｉ−Ｃ−７）で表される化合物の製造

ＷＯ２０１４−０１０３２５Ａ１号公報に記載の方法によって、式（Ｉ−Ｃ−７−１）で表される化合物を製造した。実施例０−３において式（Ｉ−Ｃ−５−１６）で表される化合物を式（Ｉ−Ｃ−７−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ−Ｃ−７）で表される化合物を製造した。
ＬＣＭＳ：１１８８［Ｍ＋１］
（実施例０−６）式（Ｉ−Ｃ−８）で表される化合物の製造

実施例０−４において式（Ｉ−Ｃ−６−５）で表される化合物を式（Ｉ−Ｃ−８−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ−Ｃ−８）で表される化合物を製造した。
ＬＣＭＳ：１２７２［Ｍ＋１］
（実施例０−７）式（Ｉ−Ｃ−９）で表される化合物の製造

特開２０１６−０８１０３５号公報に記載の方法によって、式（Ｉ−Ｃ−９−１）で表される化合物を製造した。実施例０−１において式（Ｉ−Ｃ−３−５）で表される化合物を式（Ｉ−Ｃ−９−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ−Ｃ−９−３）で表される化合物を製造した。次に、実施例０−３において式（Ｉ−Ｃ−５−１６）で表される化合物を式（Ｉ−Ｃ−９−３）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ−Ｃ−９）で表される化合物を製造した。
ＬＣＭＳ：１３３２［Ｍ＋１］
（実施例１〜３０、比較例１〜２０）
式（Ｉ−Ａ−１）から式（Ｉ−Ａ−４）、式（Ｉ−Ｂ−１）、式（Ｉ−Ｂ−２）、式（Ｉ−Ｃ−１）から式（Ｉ−Ｃ−４）で表される化合物を含有する混合物として、精製度の異なる混合物を準備した。前記の方法によって得られた粗体について、下記の精製方法から選ばれる１つ又は任意の複数の工程を１回又は複数回行い、また、精製剤や溶媒の使用量を適宜調節して、ＹＩの値がそれぞれ異なる混合物を得た。
（精製方法）
（精製法１）
精製対象の混合物にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾過しクロロホルムに再溶解させた。得られた溶液に活性炭を加え、室温で１時間撹拌した。濾過した後、溶媒を１／３まで留去し、撹拌しながらメタノールを加えた。析出した固体を濾過し乾燥させることにより混合物を得た。
（精製法２）
精製対象の混合物にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾過しクロロホルムに再溶解させた。得られた溶液を撹拌しながらメタノールを加え、析出した固体を濾過し乾燥させることにより混合物を得た。
（精製法３）
精製対象の混合物に酢酸エチルに溶解させ溶媒を留去した。メタノールを加え冷却し結晶化させた。析出した固体を濾過し乾燥させることにより混合物を得た。
（精製法４）
精製対象の混合物にジクロロメタン及びメタノールの混合溶媒を加え溶解させ、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行うことにより、混合物を得た。
（精製法５）
精製対象の混合物に酢酸エチルを加え溶解させ水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒に溶解させ、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行うことにより、混合物を得た。
（精製法６）
精製対象の混合物に酢酸エチルを加え溶解させ水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。ヘキサン及び酢酸エチルの混合溶媒に溶解させ、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行うことにより、混合物を得た。
（精製法７）
精製対象の混合物をジクロロメタンに溶解させ、活性炭を加え加熱撹拌させた。活性炭を濾過により除去し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル及びアルミナ）及び再結晶を行うことにより混合物を得た。
（精製法８）
精製対象の混合物をジクロロメタン及びヘキサンの混合溶媒に溶解させ、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル及びアルミナ）により精製を行うことにより、混合物を得た。
（精製法９）
精製対象の混合物をジクロロメタン及びアセトンの混合溶媒に溶解させ、活性炭を加え加熱撹拌させた。活性炭を濾過により除去し、溶媒を留去することにより混合物を得た。
（精製法１０）
精製対象の混合物をトルエンに溶解させ、シリカゲル及びアルミナを加え室温で１時間撹拌させた。シリカゲル及びアルミナを濾過により除去し、溶媒を留去することにより混合物を得た。
（精製法１１）
精製対象の混合物をメタノールに分散させ室温で１時間撹拌させた。濾過し乾燥させることにより混合物を得た。
（精製法１２）
精製対象の混合物をエタノールに分散させ室温で１時間撹拌させた。濾過し乾燥させることにより混合物を得た。
（精製法１３）
精製対象の混合物をヘキサンに分散させ室温で１時間撹拌させた。濾過し乾燥させることにより混合物を得た。
〈ＹＩ／Δｎの測定〉
前記の評価対象の化合物を含有する混合物の黄色度を、以下のようにして測定した。

測定対象物である混合物を、２０ｐｐｍ溶液となるようにアセトニトリルに溶解した。但し、アセトニトリルに溶解しない場合は、溶媒としてクロロホルム溶液を用いた。該溶液を光路長１ｃｍの透明セルに入れ、分光光度計を用いて黄色度を算出した。

化合物の屈折率異方性は、以下のように測定した。下記の式（ａ）で表される化合物（２５％）、式（ｂ）で表される化合物（２５％）、式（ｃ）で表される化合物（２５％）、式（ｄ）で表される化合物（２５％）

からなる母体液晶にメソゲン基を有する化合物（１０％、２０％又は３０％）を混合し液晶組成物とした。ポリイミド配向膜付きガラス基板を使用し、ポリイミド配向膜のラビング方向が平行になるように、２つのガラス基板を組み合わせ、ガラスセルを作成した。そのガラスセルに、前記液晶組成物を注入した後に、紫外線（照度８００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射して硬化させた後、ガラスセルからフィルムを剥がし取った。その後、アッベ屈折率計で、フィルムのｎe、ｎｏを測定し、メソゲン基を有する化合物が１００質量％となるよう外挿した屈折率異方性（Δｎ）を算出した。

得られた各混合物の黄色度を、各化合物のΔｎの値で割ることにより、ＹＩ／Δｎの値を算出した。
〈化合物含有量の測定〉
評価対象の化合物を含有する各混合物における、化合物の含有量を算出した。各混合物と内標準物質を各々精密に混ぜ合わせ、重水素溶媒に溶解した溶液を用いて^１Ｈ ＮＭＲを測定した。得られたスペクトルにおいて化合物に由来するピーク面積、サンプル質量、分子量と内標準物質に由来するピーク面積、サンプル質量、分子量との関係から、各混合物における化合物の含有量を算出した。内標準物質として、１，４−ＢＴＭＳＢ−ｄ_４標準物質又はＤＳＳ−ｄ_６標準物質（和光純薬工業株式会社製、ＴｒａｃｅＳｕｒｅ）を使用した。

比較例１、比較例３、比較例６においては、特開２０１１−２０７７６５号公報に記載の各々の化合物の製造方法と同一の精製方法を実施した。比較例８においては、特開２０１０−０３１２２３号公報に記載の当該化合物の製造方法と同一の精製方法を実施した。比較例９においては、特開２００８−２７３９２５号公報に記載の当該化合物の製造方法と同一の精製方法を実施した。比較例１１においては、特開２００８−１０７７６７号公報に記載の当該化合物の製造方法と同一の精製方法を実施した。比較例１３においては、ＷＯ２０１４／０１０３２５Ａ１号公報に記載の当該化合物の製造方法と同一の精製方法を実施した。比較例１５においては、ＷＯ２０１２／１４７９０４Ａ１号公報に記載の当該化合物の製造方法と同一の精製方法を実施した。評価対象の化合物を含有する各混合物についての、ＹＩ／Δｎ、粗体からの精製工程における収率及び化合物含有量を下表に示す。

表より、ＹＩ／Δｎの値が０．５より小さい、比較例１、比較例３、比較例５等においては、精製収率が低収率から中程度の収率であることがわかる。一方、ＹＩ／Δｎの値が０．５以上の実施例においては、ＹＩ／Δｎの値が大きくなるにつれて収率が高くなるが、ＹＩ／Δｎの値が５００より大きい、比較例２、比較例４、比較例６等においては、収率が低下することがわかる。上記いずれの混合物においても、ＹＩ／Δｎの値が０．５以上、５００以下の範囲のものは、収率の低下を抑えることができた。
（実施例３１〜５７、比較例２１〜３８）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。

評価対象の化合物を含有する各混合物に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を１％、４−メトキシフェノールを０．１％及びクロロホルムを８０％添加し塗布液を調製した。この塗布液をラビングしたガラス基材にスピンコート法により塗布した。下表に記載の温度で２分間乾燥させた後、さらに高圧水銀ランプを用いて、紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で２５秒間照射することにより、評価対象のフィルムを各混合物につき２０枚作製した。作製した２０枚のフィルムのうち１０枚を使用し、はじき度合いについて評価した。

次に、作製した２０枚のフィルムのうち残りの１０枚の各フィルムに対し、キセノンランプ照射テスト機（アトラス社製サンテストＸＬＳ）を用い、５０ｍＷ／ｃｍ^２、２５℃で１００Ｊの光照射を行った。得られた各フィルムについて、配向欠陥を評価した。
〈はじき度合いの評価〉
作製した１０枚の各フィルムについて、１０マス×１０マスの領域に区分し、偏光顕微鏡観察ではじきの生じた目の数（％）を測定し、１０枚の平均値を算出した。
〈配向欠陥〉
作製した１０枚の各フィルムにおいて、偏光顕微鏡観察で生じた配向欠陥の数を測定し、その合計を算出した。

式（Ｉ−Ｃ−３）で表される化合物については、単独で液晶相を示さなかったため評価を行わなかった。ＹＩ／Δｎ値は上記の〈ＹＩ／Δｎの測定〉に記載の測定方法によって測定した、評価対象の化合物を含有する混合物のものである。結果を下表に示す。

上記表より、本願発明のフィルムははじきが生じにくく、光照射後の配向欠陥が少ないことがわかる。
〈母体液晶の調製〉
下記の式（Ｘ−１−１）から式（Ｘ−１−６）、式（Ｘ−２−１）から式（Ｘ−２−４）で表される化合物を下表に示す比率で混合し、母体液晶（Ｘ−Ａ）から母体液晶（Ｘ−Ｅ）を調製した。各母体液晶の黄色度は、母体液晶を、２０ｐｐｍ溶液となるようにアセトニトリルに溶解した。該溶液を光路長１ｃｍの透明セルに入れ、分光光度計を用いて黄色度を算出した。測定して得られた値を、母体液晶の屈折率異方性（Δｎ）で割ることにより、母体液晶のＹＩ／Δｎを算出した。

（実施例５８〜７２、比較例３９〜４８）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。

母体液晶（Ｘ−Ａ）に、上記式（Ｉ−Ａ−１）で表される化合物を含む混合物を３０％、式（Ｉ−Ａ−２）で表される化合物を含む混合物を５０％、式（Ｉ−Ａ−３）で表される化合物を含む混合物を３０％、式（Ｉ−Ｂ−１）で表される化合物を含む混合物を４０％、又は式（Ｉ−Ｃ−１）で表される化合物を含む混合物を１５％各々添加し、下記の液晶組成物を得た。得られた液晶組成物各々に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を３％、４−メトキシフェノールを０．１％及びクロロホルムを８０％添加し塗布液を調製した。この塗布液をラビングしたガラス基材にスピンコート法により塗布した。下表に記載の温度で２分間乾燥させた後、さらに高圧水銀ランプを用いて、紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で２５秒間照射することにより、評価対象のフィルムを作製した。得られたフィルムについて、前記と同様の方法によってはじき度合い及び配向欠陥を評価した。ＹＩ／Δｎ値は上記の〈ＹＩ／Δｎの測定〉に記載の測定方法によって測定した、評価対象の化合物を含有する混合物のものである（以下同様）。結果を下表に示す。

表より、本願発明のフィルムははじきが生じにくく、光照射後の配向欠陥が少ないことがわかる。
（実施例７３〜８７、比較例４９〜５８）
母体液晶（Ｘ−Ｂ）に、上記式（Ｉ−Ａ−４）で表される化合物を含む混合物を５％、式（Ｉ−Ｂ−２）で表される化合物を含む混合物を１０％、式（Ｉ−Ｃ−２）で表される化合物を含む混合物を２０％、式（Ｉ−Ｃ−３）で表される化合物を含む混合物を６０％、又は式（Ｉ−Ｃ−４）で表される化合物を含む混合物を３０％各々添加し、下記の液晶組成物を得た。前記と同様の方法によって評価対象のフィルムを作製し、はじき度合い及び配向欠陥を評価した。結果を下表に示す。

表より、本願発明のフィルムは、はじきが生じにくく、光照射後の配向欠陥が少ないことがわかる。
（実施例８８〜１０２、比較例５９〜６８）
母体液晶（Ｘ−Ｃ）に、上記式（Ｉ−Ａ−２）で表される化合物を含む混合物を３０％、式（Ｉ−Ａ−３）で表される化合物を含む混合物を１０％、式（Ｉ−Ｂ−１）で表される化合物を含む混合物を５０％、式（Ｉ−Ｃ−１）で表される化合物を含む混合物を１０％、又は式（Ｉ−Ｃ−２）で表される化合物を含む混合物を５５％各々添加し、下記の液晶組成物を得た。前記と同様の方法によって評価対象のフィルムを作製し、はじき度合い及び配向欠陥を評価した。結果を下表に示す。

表より、本願発明のフィルムははじきが生じにくく、光照射後の配向欠陥が少ないことがわかる。
（実施例１０３〜１１７、比較例６９〜７８）
母体液晶（Ｘ−Ｄ）に、上記式（Ｉ−Ａ−４）で表される化合物を含む混合物を７０％、式（Ｉ−Ｂ−２）で表される化合物を含む混合物を５０％、式（Ｉ−Ｃ−１）で表される化合物を含む混合物を９０％、式（Ｉ−Ｃ−３）で表される化合物を含む混合物を５％、又は式（Ｉ−Ｃ−４）で表される化合物を含む混合物を２５％各々添加し、下記の液晶組成物を得た。前記と同様の方法によって評価対象のフィルムを作製し、はじき度合い及び配向欠陥を評価した。結果を下表に示す。

表より、本願発明のフィルムははじきが生じにくく、光照射後の配向欠陥が少ないことがわかる。
（実施例１１８〜１３２、比較例７９〜８８）
母体液晶（Ｘ−Ｅ）に、上記式（Ｉ−Ａ−２）で表される化合物を含む混合物を５０％、式（Ｉ−Ａ−３）で表される化合物を含む混合物を４０％、式（Ｉ−Ａ−４）で表される化合物を含む混合物を６０％、式（Ｉ−Ｃ−３）で表される化合物を含む混合物を１５％、又は式（Ｉ−Ｃ−４）で表される化合物を含む混合物を５％各々添加し、下記の液晶組成物を得た。前記と同様の方法によって評価対象のフィルムを作製し、はじき度合い及び配向欠陥を評価した。結果を下表に示す。

表より、本願発明のフィルムははじきが生じにくく、光照射後の配向欠陥が少ないことがわかる。
（実施例１３３〜１５６、比較例８９〜１０４）
実施例３１〜５７及び比較例２１〜３８と同様の方法で、はじき度合いの評価及び配向欠陥の評価を行った。結果を下表に示す。

上記表より、本願発明のフィルムははじきが生じにくく、光照射後の配向欠陥が少ないことがわかる。
（実施例１５７〜１８０、比較例１０５〜１２０）
母体液晶（Ｘ−Ｅ）に、上記式（Ｉ−Ａ−５）で表される化合物を含む混合物を５０％、式（Ｉ−Ｂ−３）で表される化合物を含む混合物を４０％、式（Ｉ−Ｂ−４）で表される化合物を含む混合物を６０％、式（Ｉ−Ｃ−５）で表される化合物を含む混合物を１５％、式（Ｉ−Ｃ−６）で表される化合物を含む混合物を５％、式（Ｉ−Ｃ−７）で表される化合物を含む混合物を１５％、式（Ｉ−Ｃ−８）で表される化合物を含む混合物を５％、式（Ｉ−Ｃ−９）で表される化合物を含む混合物を１５％、各々添加し、下記の液晶組成物を得た。前記と同様の方法によって評価対象のフィルムを作製し、はじき度合い及び配向欠陥を評価した。結果を下表に示す。

表より、本願発明のフィルムははじきが生じにくく、光照射後の配向欠陥が少ないことがわかる。

以上の結果から、ＹＩ／Δｎの値が０．５以上、５００以下の範囲の混合物は、はじきの発生が抑制され、光照射後の配向性が良好であることがわかる。

Claims (13)

1. 少なくとも１つのメソゲン基を有する逆波長分散性又は低波長分散性化合物を含有し、下記の式（式１）
   ０．５≦ＹＩ／Δｎ≦５００ （式１）
   （式中、ＹＩは化合物の黄色度を表し、Δｎはフィルムにした場合の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性を表す。）を満たす混合物。
2. メソゲン基を有する化合物が重合性基を有する請求項１に記載の混合物。
3. 請求項１又は請求項２に記載の混合物を含有する組成物。
4. 請求項１又は請求項２に記載の混合物の総含有量が５．０質量％〜９０．０質量％である組成物。
5. 請求項１又は請求項２に記載の混合物を含有する液晶組成物。
6. 請求項１又は請求項２に記載の混合物を含有する重合性組成物を重合することにより得られる重合体。
7. 請求項１又は請求項２に記載の混合物を含有する重合性組成物を重合することにより得られる光学異方体。
8. 請求項１又は請求項２に記載の混合物を含有する重合性組成物を重合することにより得られる位相差膜。
9. 請求項７に記載の光学異方体を有する表示装置。
10. 請求項７に記載の光学異方体を有する光学素子。
11. 請求項７に記載の光学異方体を有する発光装置。
12. 請求項７に記載の光学異方体を有する印刷物。
13. 請求項７に記載の光学異方体を有する光情報記録装置。