JPWO2006011404A1 - 接着フィルムおよびその利用 - Google Patents
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Abstract
Description
〔特許文献1〕
特開平9−199830号公報(平成9年(1997)7月31日公開)
〔特許文献2〕
特開2002−326280号公報(平成14年(2002)11月12日公開)
〔特許文献3〕
特開2002−326308号公報(平成14年(2002)11月12日公開)
〔特許文献4〕
特開平10−77353号公報(平成10年(1998)3月24日公開)
〔特許文献5〕
特開2001−270034号公報(平成13年(2001)10月2日公開)
〔特許文献6〕
特開2003−335874号公報(平成15年(2003)11月28日公開)
しかしながら、上記従来の技術では、何れも、熱ロールラミネート処理を経たフレキシブル配線板において、エッチング時や加熱時に、MD方向が収縮しTD方向が膨張する点を考慮していないため、実用上、不十分な点が残っているという問題が生じている。
本発明にかかる接着フィルムは、各種処理工程に伴う加熱によっても寸法変化の発生を良好に抑制することができるものであり、高耐熱性ポリイミドを含有する耐熱層の表面に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層が積層された構成を有している。接着フィルム全体として見た場合、幅方向(TD方向)の加熱収縮率が+0.01%以上かつ長手方向(MD方向)の加熱収縮率が−0.02%以下である。
<耐熱層>
本発明にかかる接着フィルムが備える耐熱層は、ポリイミドを含有しており、その接着フィルムを用いて加工する際の工程、または最終製品の形態で通常さらされる温度において、容易に熱変形しないものであればよく、用いられるポリイミドの具体的な種類は特に限定されるものではないが、高耐熱性ポリイミドを含有することが好ましい。なお、高耐熱性であるとは、当該ポリイミドをフィルム状に成形した状態で450〜500℃程度の温度範囲に加熱した際に熔融し、フィルムの形状を保持しているものを指す。
耐熱層の高耐熱性ポリイミドとして用いられる非熱可塑性ポリイミドは、ポリアミド酸を前駆体として製造し、これをイミド化することにより製造することができる。
1)ジアミン成分を有機極性溶媒に溶解させた後、ジアミン成分と実質的に等モルの酸二無水物成分を添加して撹拌・反応させて重合する。
2)酸二無水物成分と、これに対し過小モル量となるジアミン成分とを有機極性溶媒に溶解して撹拌・反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを有機極性溶媒の溶液として得る。続いて、全工程において酸二無水物成分とジアミン成分とが実質的に等モルとなるように、プレポリマーの溶液にジアミン成分を添加して撹拌・重合する。
3)酸二無水物成分と、これに対し過剰モル量となるジアミン成分とを有機極性溶媒に溶解して撹拌・反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを有機極性溶媒の溶液として得る。続いて、全工程において酸二無水物成分とジアミン成分とが実質的に等モルとなるように、プレポリマーの溶液に酸二無水物成分を添加して撹拌・重合する。
4)酸二無水物成分を有機極性溶媒に溶解させた後、酸二無水物成分と実質的に等モルとなるようにジアミン成分を添加して撹拌・反応させる。
5)実質的に等モルの酸二無水物成分およびジアミン成分の混合物を、有機極性溶媒に溶解して撹拌・反応させ重合する。
で表されるものを挙げることができる。
で表されるものを挙げることができる。
本発明にかかる接着フィルムが備える接着層は、熱可塑性ポリイミドを含有しており、所定の条件で接着性を発揮できる層であれば特に限定されるものではない。
本発明にかかる接着フィルムは、上記耐熱層と、当該耐熱層の少なくとも一方の表面に上記接着層が形成された構成を有している。したがって、本発明にかかる接着フィルムとしては、耐熱層/接着層の2層構造、接着層/耐熱層/接着層の3層構造を挙げることができる。さらには、2層構造のものを複数積層した構成となっていてもよいし、必要に応じて耐熱層および接着層以外の層を含んでいてもよい。
ここで、本発明にかかる接着フィルムの諸物性のうち、少なくとも加熱収縮率については、TD方向についてはMD方向よりも大きくなるように設定されている。なお、本発明に係る加熱収縮率とは、以下の方法により得られる値である。
上記加熱収縮率についてより具体的に説明すると、TD方向の加熱収縮率は+0.01%以上であればよく、+0.03%以上が好ましく、+0.05%以上がより好ましい。一方、MD方向の加熱収縮率は−0.02%以下であればよく、−0.05%以下が好ましい。したがって、加熱収縮率をTD方向とMD方向との組み合わせで規定すれば、TD方向が+0.01%以上かつMD方向が−0.02%以下であればよく、TD方向が+0.03%以上かつMD方向が−0.05%以下であることが好ましく、TD方向が+0.05%以上かつMD方向が−0.05%以下であることがより好ましい。
本発明にかかる接着フィルムの他の物性については特に限定されるものではないが、その引張弾性率も所定の範囲内に規定することが好ましい。具体的には、MD方向およびTD方向の何れの方向であっても、その引張弾性率は5.0〜11GPaの範囲内であることが好ましく、5.5〜10GPaの範囲内であることがより好ましい。なお、引張弾性率は、例えば、島津製作所社製オートグラフS−100−Cを用いて、ASTM D882に準じて測定することができる。
本発明にかかる接着フィルムでは、熱膨張係数も所定の範囲内に規定することが好ましい。後述するように、本発明にかかる接着フィルムは、金属箔を少なくとも一方の表面に接着させた形態、すなわちフレキシブル金属張積層板に加工する用途に好適に用いることができるが、フレキシブル金属張積層板に加工した際の寸法安定性を考慮すれば、接着フィルムの熱膨張係数を積層する金属箔の熱膨張係数に合わせることが好ましい。
(II−1)ゲル塗布法を用いた接着フィルムの製造方法
本発明にかかる接着フィルムの製造方法は、上記耐熱層および接着層を備える接着フィルムを製造することができる方法であれば特に限定されるものではないが、上記接着層は、「ゲル塗布法」により耐熱層の片面または両面に形成される方法であってもよい。
本発明の製造方法におけるゲルフィルム形成工程は、高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を含有する有機溶媒溶液(説明の便宜上、「高耐熱性ポリイミド前駆体溶液」と称する)をフィルム状に形成してゲルフィルムとする工程であれば特に限定されるものではない。換言すれば、上記ゲルフィルム形成工程は、耐熱層形成工程と言うこともできる。
本発明にかかる製造方法の積層工程は、上記ゲルフィルム形成工程で得られたゲルフィルムの少なくとも一方の表面に、熱可塑性ポリイミドを含有する有機溶媒溶液(説明の便宜上、「熱可塑性ポリイミド溶液」と称する)、または熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を含有する有機溶媒溶液(説明の便宜上、「熱可塑性ポリイミド前駆体溶液」と称する)を塗布して加熱する工程であれば特に限定されるものではない。
本発明にかかる製造方法の延伸イミド化工程は、積層工程で得られた積層フィルムのTD方向の両端を固定し、延伸倍率が1.0倍を超えるようにTD方向に延伸しながらイミド化する工程であれば特に限定されるものではない。
本発明にかかる接着フィルムの製造方法は、上記「(II−1)ゲル塗布法を用いた接着フィルムの製造方法」の他、共押出−流延塗布法を用いた方法であってもよい。上記「共押出−流延塗布法」とは、高耐熱性ポリイミドの前駆体溶液と、熱可塑性ポリイミドを含有する溶液若しくは熱可塑性ポリイミドの前駆体を含有する溶液とを、二層以上の押出し成形用ダイスを有する押出成形機へ同時に供給して、前記ダイスの吐出口から両溶液を少なくとも二層の薄膜状体として押出す工程を含むフィルムの製造方法である。二層以上の押出し成型用ダイスから押出された前記の両溶液を、平滑な支持体上に連続的に押し出し、次いで、前記支持体上の多層の薄膜状体の溶媒の少なくとも一部を揮散せしめることで、自己支持性を有する多層フィルムが得られる。さらに、当該多層フィルムを前記支持体上から剥離し、最後に、当該多層フィルムを高温(250−600℃)で充分に加熱処理することによって、溶媒を実質的に除去すると共にイミド化を進行させることで、目的の接着フィルムが得られる。また、接着層の熔融流動性を改善する目的で、意図的にイミド化率を低くする、および/または溶媒を残留させてもよい。
本発明にかかる接着フィルムは、ポリイミド層を含む積層体の製造に好適に用いることができる。すなわち、本発明には、上記接着フィルムを用いて製造される積層体が含まれる。上記積層体の具体的な構成は特に限定されるものではないが、代表的な構成として、接着フィルムの表面に金属層を積層してなる構造を有する積層体を挙げることができる。
まず、得られた接着フィルムから、二辺はMD方向に残り二辺はTD方向に沿うような、一辺の長さが約20cmの正方形を切り抜き、これを加熱収縮率測定用サンプルとした。
〔寸法変化率〕
金属箔除去前後の寸法変化率は、JIS C6481を参考にして、以下のように測定および算出を行った。すなわちフレキシブル金属張積層板から、一辺が約20cmの正方形のサンプルを切り出し、このサンプル表面の一辺が約15cmの正方形の四隅に相当する部分に、直径1mmの穴を形成した。なお、一辺が約20cmの正方形のサンプルおよび一辺が約15cmの正方形の二辺はMD方向に、残り二辺はTD方向に沿うようにした。また、これら2つの正方形の中心が、だいたい一致するようにした。次に、このサンプル(4つの穴の開いたフレキシブル金属張積層板)にエッチングを実施して金属箔を除去した後に、23℃、55%RHの恒温室に24時間放置した。それからこのサンプルを250℃で30分間加熱した後、23℃、55%RHの恒温室に24時間放置した。エッチング前のフレキシブル金属張積層板の4つの穴のうち、隣接する穴どうしの距離の測定値をD1、エッチングおよび加熱処理後のサンプルにおける隣接する穴どうしの距離の測定値をD2として、次式(2)により加熱前後の寸法変化率を算出し、評価を行った。なお、上記寸法変化率は、MD方向及びTD方向の双方について測定した。
〔ポリアミド酸の合成例1:高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸〕
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(以下、適宜「DMF」という)239kgに4,4’−オキシジアニリン(以下、適宜「ODA」という)6.9kg、p−フェニレンジアミン(以下、適宜「p−PDA」という)6.2kg、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(以下、適宜「BAPP」という)9.4kgを溶解した後、ピロメリット酸二無水物(以下、適宜「PMDA」という)10.4kgを添加し1時間撹拌して溶解させた。得られた溶液に対して、さらに、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下、適宜「BTDA」という)20.3kgを添加し1時間撹拌させて溶解させ、反応液を調製した。
10℃に冷却したDMF239kgにODAを12.6kg、p−PDAを6.8kg溶解した後、PMDAを15.6kg添加し1時間撹拌させて溶解させた。得られた溶液に対して、BTDAを12.2kg添加し、さらに1時間撹拌させて溶解させた。得られた溶液に対して、さらにp−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(以下、適宜「TMHQ」という)5.8kgを添加し、2時間撹拌して溶解させ、反応液を調製した。
容量300リットルの反応槽にDMFを78kg、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン(以下、適宜「BAPS」という)を11.72kg加え、窒素雰囲気下で撹拌しながら、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下、適宜「BPDA」という)を7.17kg徐々に添加した。続いて、3,3’,4,4’−エチレングリコールジベンゾエートテトラカルボン酸二無水物(以下、適宜「TMEG」という)を0.56kg添加し、氷浴下で30分間撹拌した。0.55kgのTMEGを2kgのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が1×102Pa・secに達したところで添加を止め、DMFを146.3kg加えてさらに十分な時間撹拌することによりポリアミド酸(b1)の有機溶媒溶液(便宜上、「ポリアミド酸溶液(b1)」と称する)を得た。
容量300リットルの反応槽にDMFを78kg、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)を11.56kg加え、窒素雰囲気下で撹拌しながら、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を7.87kg徐々に添加した。続いて、TMEGを0.38kg添加し、氷浴下で30分間撹拌した。0.2kgのTMEGを2kgのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が1×102Pa・secに達したところで添加を止め、DMFを146.3kg加えてさらに十分に撹拌することによりポリアミド酸(b2)の有機溶媒溶液(便宜上、「ポリアミド酸溶液(b2)」と称する)を得た。
容量2000mlのガラス製フラスコにDMFを780g、BAPSを117.2g加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、BPDAを71.7g徐々に添加した。続いて、TMEGを5.6g添加し、氷浴下で30分間撹拌した。5.5gのTMEGを20gのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が1×102Pa・secに達したところで添加、撹拌をやめ、熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液(便宜上、「ポリアミド酸溶液(b3)」と称する)を得た。
容量2000mlのガラス製フラスコにDMFを780g、BAPPを115.6g加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、BPDAを78.7g徐々に添加した。続いて、TMEGを3.8g添加し、氷浴下で30分間撹拌した。2.0gのTMEGを20gのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が1×102Pa・secに達したところで添加、撹拌をやめ、熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液(便宜上、「ポリアミド酸溶液(b4)」と称する)を得た。
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液(a1)に対して、化学脱水剤として無水酢酸を、触媒としてイソキノリンを添加した。添加量は、ポリアミド酸(a1)のアミド酸ユニット1モルに対して、無水酢酸を2モル、イソキノリンを0.5モルとなるように添加した。
高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸として、ポリアミド酸溶液(a1)に代えて、ポリアミド酸溶液(a2)を用いたこと以外は、実施例1と同様の手順で、本発明にかかる接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸として、ポリアミド酸溶液(b1)に代えて、ポリアミド酸溶液(b2)を用いたこと以外は、実施例1と同様の手順で接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸として、ポリアミド酸溶液(b1)に代えて、ポリアミド酸溶液(b2)を用いたこと以外は、実施例2と同様の手順で接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
得られたフィルムをテンタークリップに固定してTD方向に延伸するときに、その延伸倍率を1.0倍としたこと以外は、実施例1と同様の手順で接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
得られたフィルムをテンタークリップに固定してTD方向に延伸するときに、その延伸倍率を1.0倍としたこと以外は、実施例2と同様の手順で接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液(a1)に、以下の化学脱水剤及び触媒を含有せしめた。
高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸として、ポリアミド酸溶液(a1)に代えて、ポリアミド酸溶液(a2)を用いたこと以外は、実施例5と同様の手順で、本発明にかかる接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸として、ポリアミド酸溶液(b3)に代えて、ポリアミド酸溶液(b4)を用いたこと以外は、実施例5と同様の手順で接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液(a1)と、合成例5で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液(b3)を、3層マルチマニホールドダイスから、熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液(b3)、高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液(a1)、熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液(b3)の順で、溶液を連続的に吐出せしめた。吐出した溶液を、ステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×600秒で加熱した後、エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がしてテンタークリップに固定し、テンタークリップ間を広げることでTD方向の延伸倍率1.1倍で延伸しながら、200℃×300秒、300℃×300秒、400℃×300秒、450℃×60秒で乾燥・イミド化させた。これにより、各熱可塑性ポリイミド層4μm、高耐熱性ポリイミド層17μmの接着フィルムを得た。
得られたフィルムをテンタークリップに固定してTD方向に延伸するときに、その延伸倍率を1.0倍としたこと以外は、実施例5と同様の手順で接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
得られたフィルムをテンタークリップに固定してTD方向に延伸するときに、その延伸倍率を1.0倍としたこと以外は、実施例8と同様の手順で接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板を製造した。
Claims (13)
- 高耐熱性ポリイミドを含有する耐熱層と、当該耐熱層の少なくとも一方の表面に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層とを有しており、
TD方向の加熱収縮率が+0.01%以上となっており、かつ、MD方向の加熱収縮率が−0.02%以下となっていることを特徴とする接着フィルム。 - 上記接着フィルムは、共押出−流延塗布法により、上記耐熱層の少なくとも一方の表面に上記接着層が形成されてなる接着フィルムであることを特徴とする請求の範囲1に記載の接着フィルム。
- 上記接着フィルムは、ゲル塗布法により、上記耐熱層の少なくとも一方の表面に上記接着層が形成されてなる接着フィルムであることを特徴とする請求の範囲1に記載の接着フィルム。
- TD方向の加熱収縮率が+0.03%以上となっており、かつ、MD方向の加熱収縮率が−0.05%以下となっていることを特徴とする請求の範囲1〜3のいずれか1項に記載の接着フィルム。
- 上記接着層は、上記耐熱層の両面に形成されていることを特徴とする請求の範囲1〜4のいずれか1項に記載の接着フィルム。
- 上記耐熱層は、高耐熱性ポリイミドとして非熱可塑性ポリイミド樹脂を90重量%以上含有していることを特徴とする請求の範囲1〜5のいずれか1項に記載の接着フィルム。
- TD方向およびMD方向の引張弾性率が5.0〜11GPaの範囲内であることを特徴とする請求の範囲1〜6のいずれか1項に記載の接着フィルム。
- 請求の範囲1〜7のいずれか1項に記載の接着フィルムを用いて製造される積層体。
- 接着フィルムの表面に金属層を積層してなる請求の範囲8に記載の積層体。
- 請求の範囲1〜7のいずれか1項に記載の接着フィルム、あるいは、請求の範囲8または9に記載の積層体を用いて形成されるフレキシブル配線板。
- 請求の範囲2に記載の接着フィルムの製造方法であって、
高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を含有する有機溶媒溶液と、熱可塑性ポリイミドを含有する有機溶媒溶液または熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を含有する有機溶媒溶液とを、二層以上の押出し成形用ダイスを有する押出成形機へ同時に供給して、前記ダイスの吐出口から前記の両有機溶媒溶液を少なくとも二層の薄膜状体として押出す工程と、
二層以上の押出し成型用ダイスから押出された前記の両有機溶媒溶液を、平滑な支持体上に連続的に押し出し、次いで、前記支持体上の少なくとも二層の薄膜状体の有機溶媒の少なくとも一部を揮散せしめて、自己支持性を有する積層フィルムを得る工程と、
得られた積層フィルムのTD方向の両端を固定し、延伸倍率が1.0倍を超えるようにTD方向に延伸しながらイミド化する工程と、を含むことを特徴とする接着フィルムの製造方法。 - 請求の範囲3に記載の接着フィルムの製造方法であって、
高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を含有する有機溶媒溶液をフィルム状に形成してゲルフィルムとするゲルフィルム形成工程と、
得られたゲルフィルムの少なくとも一方の表面に、熱可塑性ポリイミドを含有する有機溶媒溶液、または熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を含有する有機溶媒溶液を塗布して加熱する積層工程と、
得られた積層フィルムのTD方向の両端を固定し、延伸倍率が1.0倍を超えるようにTD方向に延伸しながらイミド化する延伸イミド化工程とを含むことを特徴とする接着フィルムの製造方法。 - 請求の範囲1〜7のいずれか1項に記載の接着フィルム、あるいは、請求の範囲8または9に記載の積層体を用いて形成されるフレキシブル配線板の製造方法であって、
熱ロールラミネート法により、金属箔を接着フィルムに積層することを特徴とするフレキシブル配線板の製造方法。
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KR20150104635A (ko) * | 2006-03-01 | 2015-09-15 | 가부시키가이샤 가네카 | 다층 폴리이미드 필름의 제조 방법 |
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JP5355993B2 (ja) * | 2008-11-04 | 2013-11-27 | 株式会社カネカ | 接着フィルム |
JP5595376B2 (ja) * | 2009-03-04 | 2014-09-24 | 三井化学株式会社 | ポリアミド酸およびポリイミド、それらの製造方法、組成物ならびに用途 |
US20120028061A1 (en) * | 2009-04-14 | 2012-02-02 | Ube Industries, Ltd. | Polyimide film for metallizing, method for producing same, and metal-laminated polyimide film |
TWI481645B (zh) * | 2009-04-14 | 2015-04-21 | Ube Industries | 聚醯亞胺膜及其製造方法與金屬疊層聚醯亞胺膜 |
CN102729561A (zh) * | 2012-07-19 | 2012-10-17 | 宜兴市高拓高分子材料有限公司 | 一种用于制造无胶系柔性线路板的聚酰亚胺薄膜及其制备方法 |
WO2014084306A1 (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | 株式会社カネカ | フィルムの製造方法、フィルム製造装置および治具 |
US9087777B2 (en) * | 2013-03-14 | 2015-07-21 | United Test And Assembly Center Ltd. | Semiconductor packages and methods of packaging semiconductor devices |
JP2015156460A (ja) * | 2014-02-21 | 2015-08-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 重合膜の成膜方法および成膜装置 |
KR101686402B1 (ko) | 2015-04-27 | 2016-12-15 | 자원전자 주식회사 | 고주파유도가열방식을 이용한 고효율 에너지 절감형 오버코팅기 |
KR101718537B1 (ko) | 2015-04-27 | 2017-04-18 | 자원전자 주식회사 | 오버코팅기 가열용 유도가열코일 어셈블리의 무빙 장치 |
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JP2019121774A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社フジクラ | 金属片付き配線基板および金属片付き配線基板の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56118421A (en) * | 1980-02-25 | 1981-09-17 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Heat-shrinkable polyimide film and production thereof |
JP2001164006A (ja) * | 1999-12-09 | 2001-06-19 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフィルム |
JP2001270034A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-02 | Ube Ind Ltd | フレキシブル金属箔積層体 |
JP2003335874A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-28 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフィルム |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6039137B2 (ja) | 1980-08-26 | 1985-09-04 | 新日本製鐵株式会社 | 鋼帯の予熱装置 |
JP3351265B2 (ja) | 1995-10-03 | 2002-11-25 | 宇部興産株式会社 | 芳香族ポリイミドフィルム及び銅箔積層フィルム |
US5849397A (en) * | 1995-10-03 | 1998-12-15 | Ube Industries, Ltd. | Aromatic polyimide film and polyimide/copper foil composite sheet |
JPH09199830A (ja) | 1996-01-17 | 1997-07-31 | Hosiden Corp | フレキシブル配線基板の製造方法 |
US6541122B2 (en) * | 2000-03-28 | 2003-04-01 | Ube Industries, Ltd. | Roll of metal film/aromatic polyimide film composite web |
JP2002326308A (ja) | 2001-04-27 | 2002-11-12 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 耐熱性フレキシブル積層板およびその製造方法 |
JP4774162B2 (ja) | 2001-04-27 | 2011-09-14 | 株式会社カネカ | 耐熱性フレキシブルの製造方法 |
US7267883B2 (en) * | 2002-09-25 | 2007-09-11 | Kaneka Corporation | Polyimide film and laminate having metal layer and same |
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2005
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JP2001270034A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-02 | Ube Ind Ltd | フレキシブル金属箔積層体 |
JP2003335874A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-28 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフィルム |
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