JPS6315815Y2 - - Google Patents
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- JPS6315815Y2 JPS6315815Y2 JP16669282U JP16669282U JPS6315815Y2 JP S6315815 Y2 JPS6315815 Y2 JP S6315815Y2 JP 16669282 U JP16669282 U JP 16669282U JP 16669282 U JP16669282 U JP 16669282U JP S6315815 Y2 JPS6315815 Y2 JP S6315815Y2
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- Japan
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- sample
- laser beam
- axis
- reflecting mirror
- plane reflecting
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Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は光励起ルミネツセンス(無熱光又は
冷光)による分光分析装置において試料の一平面
内の物質の分布、偏析などを測定するために試料
平面をスキヤニングする装置に関する。
冷光)による分光分析装置において試料の一平面
内の物質の分布、偏析などを測定するために試料
平面をスキヤニングする装置に関する。
従来、半導体に用いられるシリコン材料等は高
純度を要求されるが、その試験研究その他におい
て僅かに含まれた不純物を検出するために、光励
起ルミネツセンスによる分光分析装置が用いられ
ている。その装置は極低温に保たれた試料にレー
ザ光線を照射し、そこに発する光励起ルミネツセ
ンスによる発光特性を光分析法によつて分析する
ことにより、不純物の質や量を検出するようにな
つている。従来の最も一般的な光励起ルミネツセ
ンスによる分光分析装置としては、第1図に示す
ような原理のものがある。同図において、1はレ
ーザ光線、2は測定する試料、3は集光レンズ、
4は分光器、5は検知器であり、光源1から出る
レーザ光線1aは資料2に当てられ、そのレーザ
光線により励起されたルミネツセンス30を集光
レンズ3により分光器4に導き、検知器5で検知
するようになつている。このほかに第2図及び第
3図に示すような構成のものもある。同図におい
て、3′は集光レンズ、6はハーフミラー、7は
レーザ光線の通過する細孔7aを穿設した反射鏡
であり、第1図と同等部分は同一図面符号で示し
てある。これら第2図及び第3図のものは、第1
図の装置を改良した最近のものである。すなわ
ち、極低温測定のため、試料2は液体窒素又は液
体ヘリウムによる低温環境に保持されるために、
冷却液体の保冷、蒸発防止のため一般に真空容器
内に保持し、入射発光光線共に複数の透明ガラス
を通過することになる。従つて、第1図の装置で
は入射レーザ光線は通過するガラス表面における
反射損失、試料に対する投入角による損失が多
く、発光特性が減殺されるが、これをある程度改
良したのが第2図及び第3図に示す装置である。
第3図のものは第2図のものよりもハーフミラー
6の透過損失が改良されている点でより秀れてい
る。
純度を要求されるが、その試験研究その他におい
て僅かに含まれた不純物を検出するために、光励
起ルミネツセンスによる分光分析装置が用いられ
ている。その装置は極低温に保たれた試料にレー
ザ光線を照射し、そこに発する光励起ルミネツセ
ンスによる発光特性を光分析法によつて分析する
ことにより、不純物の質や量を検出するようにな
つている。従来の最も一般的な光励起ルミネツセ
ンスによる分光分析装置としては、第1図に示す
ような原理のものがある。同図において、1はレ
ーザ光線、2は測定する試料、3は集光レンズ、
4は分光器、5は検知器であり、光源1から出る
レーザ光線1aは資料2に当てられ、そのレーザ
光線により励起されたルミネツセンス30を集光
レンズ3により分光器4に導き、検知器5で検知
するようになつている。このほかに第2図及び第
3図に示すような構成のものもある。同図におい
て、3′は集光レンズ、6はハーフミラー、7は
レーザ光線の通過する細孔7aを穿設した反射鏡
であり、第1図と同等部分は同一図面符号で示し
てある。これら第2図及び第3図のものは、第1
図の装置を改良した最近のものである。すなわ
ち、極低温測定のため、試料2は液体窒素又は液
体ヘリウムによる低温環境に保持されるために、
冷却液体の保冷、蒸発防止のため一般に真空容器
内に保持し、入射発光光線共に複数の透明ガラス
を通過することになる。従つて、第1図の装置で
は入射レーザ光線は通過するガラス表面における
反射損失、試料に対する投入角による損失が多
く、発光特性が減殺されるが、これをある程度改
良したのが第2図及び第3図に示す装置である。
第3図のものは第2図のものよりもハーフミラー
6の透過損失が改良されている点でより秀れてい
る。
しかしながら、このような従来の装置を、同一
試料の一平面内の物質の分布偏析を測定する面内
分布測定に適用しようとすると、かなり問題があ
る。そのような装置としては、試料2と、光源
1、集光レンズ3、分光器4、検知器5などのグ
ループとの相対位置を試料面に沿つて移動させる
構成となる。光源1その他の部分を夫々の関係位
置を保つたまま微動させることは困難であり、大
掛りな設備となる。また、試料2のみを移動させ
る構成とするならば、試料2が大気と遮断された
低温雰囲気内にあるため、これも容易なことでは
ない。低温槽と共に試料2を移動させる構成とす
るのが比較的容易なようであるが、低温槽は真空
ポンプとのパイプ連絡があつたり、槽内での試料
保持の不安定性等の難題がある。これは液体ヘリ
ウム又は液体窒素で冷却するには液体の蒸発損失
を少くするために冷却物体の熱容量を極力小さく
することが望まれるため試料の保持装置は極力簡
単にする必要があるからである。
試料の一平面内の物質の分布偏析を測定する面内
分布測定に適用しようとすると、かなり問題があ
る。そのような装置としては、試料2と、光源
1、集光レンズ3、分光器4、検知器5などのグ
ループとの相対位置を試料面に沿つて移動させる
構成となる。光源1その他の部分を夫々の関係位
置を保つたまま微動させることは困難であり、大
掛りな設備となる。また、試料2のみを移動させ
る構成とするならば、試料2が大気と遮断された
低温雰囲気内にあるため、これも容易なことでは
ない。低温槽と共に試料2を移動させる構成とす
るのが比較的容易なようであるが、低温槽は真空
ポンプとのパイプ連絡があつたり、槽内での試料
保持の不安定性等の難題がある。これは液体ヘリ
ウム又は液体窒素で冷却するには液体の蒸発損失
を少くするために冷却物体の熱容量を極力小さく
することが望まれるため試料の保持装置は極力簡
単にする必要があるからである。
このようなことから、この考案は試料もしくは
試料保持部又はその他の装置全体を動かすことな
く、試料面を微細にスキヤニングすることができ
る分光分析装置におけるスキヤニング装置を提供
しようとするものである。
試料保持部又はその他の装置全体を動かすことな
く、試料面を微細にスキヤニングすることができ
る分光分析装置におけるスキヤニング装置を提供
しようとするものである。
以下この考案を第3図に示す実施例に基いて説
明する。同図において、1は光源としてのレーザ
光線発射装置、2は測定すべき試料、3及び3′
は試料に当てられたレーザ光線により励起された
ルミネツセンスを分光器に導く集光レンズ、4は
分光器、5は検知器である。これらの各部は第
1,2,3図におけるものと同等である。7はレ
ーザ光線の通過する細孔7aを穿設した平面反射
鏡で第3図のものと同等である。従来の装置と異
る主な点は、上記に付加して、スキヤニング装置
を構成する第1の平面反射鏡8と第2の平面反射
鏡9とを設けた点及びその設け方にある。
明する。同図において、1は光源としてのレーザ
光線発射装置、2は測定すべき試料、3及び3′
は試料に当てられたレーザ光線により励起された
ルミネツセンスを分光器に導く集光レンズ、4は
分光器、5は検知器である。これらの各部は第
1,2,3図におけるものと同等である。7はレ
ーザ光線の通過する細孔7aを穿設した平面反射
鏡で第3図のものと同等である。従来の装置と異
る主な点は、上記に付加して、スキヤニング装置
を構成する第1の平面反射鏡8と第2の平面反射
鏡9とを設けた点及びその設け方にある。
第1の平面反射鏡8は、光源1から水平に発射
されるレーザ光線の光路20を屈折させ垂直上方
へ向う光路21とするように設けてある。
されるレーザ光線の光路20を屈折させ垂直上方
へ向う光路21とするように設けてある。
第2の平面反射鏡9は、光路21をさらに水平
かつ上記光路20に直角な方向に沿う方向に屈折
させて光路22とするように設けてある。以下の
説明のために、第1の平面反射鏡8の表面中央部
を原点とするX,Y,Z軸に対応させて光路2
0,21,22を説明すると、光路20をX軸に
一致させた場合、光路21がZ軸に、光路22が
Y軸に平行なY2軸に、対応する。
かつ上記光路20に直角な方向に沿う方向に屈折
させて光路22とするように設けてある。以下の
説明のために、第1の平面反射鏡8の表面中央部
を原点とするX,Y,Z軸に対応させて光路2
0,21,22を説明すると、光路20をX軸に
一致させた場合、光路21がZ軸に、光路22が
Y軸に平行なY2軸に、対応する。
同図において、10はレンズ3及び第2の平面
反射鏡9を取付けられ垂直にすなわちZ軸方向に
上下移動する台、11は台10を上下移動させる
送りねじ11aの駆動装置、12は台10、駆動
装置11及び第1の平面反射鏡8を取付けられ水
平方向すなわちX軸方向に移動する台、13は台
12を水平に移動させる送りねじ13aの駆動装
置、14は台12のガイドレール、15はロング
パスフイルタ、Y1はY軸に平行な軸で図示のよ
うにY1軸上にレンズ3′、フイルタ15、分光器
4、検知器5が設けられている。なお、試料2の
保持装置は図示していないが、試料2の被測定平
面がレンズ3からその焦点距離だけ離れた位置に
ありレンズ3側に向いかつY2軸に直交するよう
な位置関係で保持する構成とする。
反射鏡9を取付けられ垂直にすなわちZ軸方向に
上下移動する台、11は台10を上下移動させる
送りねじ11aの駆動装置、12は台10、駆動
装置11及び第1の平面反射鏡8を取付けられ水
平方向すなわちX軸方向に移動する台、13は台
12を水平に移動させる送りねじ13aの駆動装
置、14は台12のガイドレール、15はロング
パスフイルタ、Y1はY軸に平行な軸で図示のよ
うにY1軸上にレンズ3′、フイルタ15、分光器
4、検知器5が設けられている。なお、試料2の
保持装置は図示していないが、試料2の被測定平
面がレンズ3からその焦点距離だけ離れた位置に
ありレンズ3側に向いかつY2軸に直交するよう
な位置関係で保持する構成とする。
このように構成された分光分析装置では次のよ
うに分光分析が行われる。光源1より発射された
例えば直径1.5mmのレーザ光線はX軸に沿つて平
面反射鏡7の細孔7aを通過し、第1の平面反射
鏡8によりZ軸方向に直角に屈折反射され、第2
の平面反射鏡9によりさらにY2軸方向に屈折反
射され、レンズ3で集光されて試料2の面をシヤ
ープに照射する。試料面におけるレーザ光線の直
径は100μ程度である。レーザ光線の照射により
励起発光したルミネツセンスのイメージは、レン
ズ3により捕捉され、平行光線となつてY2軸に
沿つて進み、第2の平面反射鏡9によりZ軸方向
に屈折され、第1の平面反射鏡8によりX軸方向
に屈折され、さらに平面反射鏡7によりY1軸方
向に屈折され、集光レンズ3′により集光され、
フイルタ15によつて試料2の表面で反射された
レーザ光線及び周辺より侵入する可視光線を除去
されて分光器4に投入される。分光器に投入され
た光は光の波長別に分光されて夫々の波長の光量
を検知器により測定されることにより照射された
試料表面の各種原子特有の発光情報を提供する。
うに分光分析が行われる。光源1より発射された
例えば直径1.5mmのレーザ光線はX軸に沿つて平
面反射鏡7の細孔7aを通過し、第1の平面反射
鏡8によりZ軸方向に直角に屈折反射され、第2
の平面反射鏡9によりさらにY2軸方向に屈折反
射され、レンズ3で集光されて試料2の面をシヤ
ープに照射する。試料面におけるレーザ光線の直
径は100μ程度である。レーザ光線の照射により
励起発光したルミネツセンスのイメージは、レン
ズ3により捕捉され、平行光線となつてY2軸に
沿つて進み、第2の平面反射鏡9によりZ軸方向
に屈折され、第1の平面反射鏡8によりX軸方向
に屈折され、さらに平面反射鏡7によりY1軸方
向に屈折され、集光レンズ3′により集光され、
フイルタ15によつて試料2の表面で反射された
レーザ光線及び周辺より侵入する可視光線を除去
されて分光器4に投入される。分光器に投入され
た光は光の波長別に分光されて夫々の波長の光量
を検知器により測定されることにより照射された
試料表面の各種原子特有の発光情報を提供する。
次にスキヤニング装置の作用を説明する。駆動
装置11により台10を上下に移動させると、
Y2軸が上下に移動し、レーザ光線は試料面を上
下にスキヤニングする。また、駆動装置13によ
り台12を水平方向に移動させると、第1、第2
の平面反射鏡8,9及びレンズ3が各々の位置関
係を保つたまま移動するので、Y2軸が水平に移
動し、レーザ光線は試料2を横方向にスキヤニン
グする。
装置11により台10を上下に移動させると、
Y2軸が上下に移動し、レーザ光線は試料面を上
下にスキヤニングする。また、駆動装置13によ
り台12を水平方向に移動させると、第1、第2
の平面反射鏡8,9及びレンズ3が各々の位置関
係を保つたまま移動するので、Y2軸が水平に移
動し、レーザ光線は試料2を横方向にスキヤニン
グする。
このように駆動装置11,13を適宜操作する
ことによりこのスキヤニング装置は試料2の表面
をレーザ光線によつてくまなくスキヤニングする
ことできると共に、そのレーザ光線による光励起
ルミネツセンスを分光器4へ導くことができる。
ことによりこのスキヤニング装置は試料2の表面
をレーザ光線によつてくまなくスキヤニングする
ことできると共に、そのレーザ光線による光励起
ルミネツセンスを分光器4へ導くことができる。
従つて、このスキヤニング装置によれば、試料
もしくは試料保持部又はその他の装置全体を動か
すことなく、試料面上をスキヤニングすることが
できる。なお、このスキヤニング装置では、平面
反射鏡7と第1の平面反射鏡8との間の距離及び
第1の平面反射鏡8と第2の平面反射鏡9との間
の距離が増減するが、その間の入射光、反射光共
平行光線であるから、光量は理論上増減しない。
又反射鏡間の空間が増減するため、光の通過空間
の媒体(空気)の増減による光量損失の増減は今
日要求されている試料の大きさ程度の移動量に対
しては測定精度に影響しない。
もしくは試料保持部又はその他の装置全体を動か
すことなく、試料面上をスキヤニングすることが
できる。なお、このスキヤニング装置では、平面
反射鏡7と第1の平面反射鏡8との間の距離及び
第1の平面反射鏡8と第2の平面反射鏡9との間
の距離が増減するが、その間の入射光、反射光共
平行光線であるから、光量は理論上増減しない。
又反射鏡間の空間が増減するため、光の通過空間
の媒体(空気)の増減による光量損失の増減は今
日要求されている試料の大きさ程度の移動量に対
しては測定精度に影響しない。
上記実施例は第3図に示した従来の装置にスキ
ヤニング装置を設けたものであるが、場合によつ
ては、すなわち測定の範囲精度が許せば、細孔付
平面反射鏡7をハーフミラーに変更してもよい。
その場合は第2図に示した従来の装置にスキヤニ
ング装置を設けた構成となる。
ヤニング装置を設けたものであるが、場合によつ
ては、すなわち測定の範囲精度が許せば、細孔付
平面反射鏡7をハーフミラーに変更してもよい。
その場合は第2図に示した従来の装置にスキヤニ
ング装置を設けた構成となる。
上記実施例において、駆動装置11,13を手
動式のものとして図示したが、実用上はパルスモ
ータを使用し、コンピユータ制御すれば、微細に
精度よくスキヤニングすることができる。
動式のものとして図示したが、実用上はパルスモ
ータを使用し、コンピユータ制御すれば、微細に
精度よくスキヤニングすることができる。
上記実施例では試料2を水平方向に照射する構
成を示したが、冷却槽の構造により試料面が水平
になる場合は、台12,11等をそのままX軸の
周りに90度回転させた構成とすればよい。
成を示したが、冷却槽の構造により試料面が水平
になる場合は、台12,11等をそのままX軸の
周りに90度回転させた構成とすればよい。
以上のように、この考案によれば、2枚の平面
反射鏡を設けて、その各々を移動させる簡単な構
成によつて、試料もしくは試料保持部又はこの他
の装置全体を動かすことなく、試料平面をスキヤ
ニングすることができる装置を提供できる。
反射鏡を設けて、その各々を移動させる簡単な構
成によつて、試料もしくは試料保持部又はこの他
の装置全体を動かすことなく、試料平面をスキヤ
ニングすることができる装置を提供できる。
第1図、第2図、第3図は各々異る従来の光励
起ルミネツセンスによる分光分析装置の原理的説
明図、第4図はこの考案の実施例の概略の構成を
示す斜視図である。 1……レーザ光源、2……試料、3,3′……
集光レンズ、4……分光器、5……検知器、7…
…細孔付平面反射鏡、8……第1の平面反射鏡、
9……第2の平面反射鏡、10……台、11,1
3……駆動装置、12……台、14……ガイドレ
ール。
起ルミネツセンスによる分光分析装置の原理的説
明図、第4図はこの考案の実施例の概略の構成を
示す斜視図である。 1……レーザ光源、2……試料、3,3′……
集光レンズ、4……分光器、5……検知器、7…
…細孔付平面反射鏡、8……第1の平面反射鏡、
9……第2の平面反射鏡、10……台、11,1
3……駆動装置、12……台、14……ガイドレ
ール。
Claims (1)
- レーザ光線を試料に照射し、発生する光励起ル
ミネツセンスを分光器に導く構成の分光分析装置
において、上記レーザ光線の光路の所定区間をX
軸に対応させてその光路をX軸に直角なZ軸に沿
う方向に屈折させる第1の平面反射鏡をX軸に沿
う方向に移動操作可能な台に設け、第1の平面反
射鏡から反射するレーザ光線の光路をX軸及びZ
軸に直角なY軸に沿う方向に屈折させる第2の平
面反射鏡をZ軸に沿う方向に移動操作可能に上記
台に設け、第2の平面反射鏡から反射するレーザ
光線が上記試料の平面を直角に照射する位置関係
に試料支持部を設けたことを特徴とするスキヤニ
ング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16669282U JPS5971157U (ja) | 1982-11-02 | 1982-11-02 | 分光分析装置におけるスキヤニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16669282U JPS5971157U (ja) | 1982-11-02 | 1982-11-02 | 分光分析装置におけるスキヤニング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5971157U JPS5971157U (ja) | 1984-05-15 |
JPS6315815Y2 true JPS6315815Y2 (ja) | 1988-05-06 |
Family
ID=30364874
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16669282U Granted JPS5971157U (ja) | 1982-11-02 | 1982-11-02 | 分光分析装置におけるスキヤニング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5971157U (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100396954B1 (ko) * | 2001-03-27 | 2003-09-03 | 임채헌 | 광원의 파장 분석용 필터박스 및 필터박스를 이용한 세포분석 장치 |
JP2011013167A (ja) * | 2009-07-06 | 2011-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 分光蛍光光度計及び試料セル |
-
1982
- 1982-11-02 JP JP16669282U patent/JPS5971157U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5971157U (ja) | 1984-05-15 |
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