JPS6235814A - 成形装置 - Google Patents
成形装置Info
- Publication number
- JPS6235814A JPS6235814A JP17413985A JP17413985A JPS6235814A JP S6235814 A JPS6235814 A JP S6235814A JP 17413985 A JP17413985 A JP 17413985A JP 17413985 A JP17413985 A JP 17413985A JP S6235814 A JPS6235814 A JP S6235814A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cavity
- runners
- blocks
- mold
- heaters
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、成形技術、特に、トランスファ成形技術に関
し、例えば、半導体装置の製造において、非気密封止パ
ッケージを成形するのに利用して有効な技術に関する。
し、例えば、半導体装置の製造において、非気密封止パ
ッケージを成形するのに利用して有効な技術に関する。
半導体装置の製造において、非気密封止パッケージを成
形するトランスファ成形装置として、キャビティー、ゲ
ート、ランナ等が形成されているチェイスブロックが型
板に保持されているとともにこの型板にヒータが内蔵さ
れており、型板に内蔵された熱電対により型温を制御す
るように構成されているものがある。
形するトランスファ成形装置として、キャビティー、ゲ
ート、ランナ等が形成されているチェイスブロックが型
板に保持されているとともにこの型板にヒータが内蔵さ
れており、型板に内蔵された熱電対により型温を制御す
るように構成されているものがある。
しかし、このようなトランスファ成形装置においては、
ヒータの位置がキャビティーやランナの位置から遠いた
め、熱電対によってヒータが加熱を開始してもその熱が
キャビティーやランナに伝達するまでに時間がかかり、
温度制御に遅れが発生するという問題点があることが、
本発明者によって明らかにされた。
ヒータの位置がキャビティーやランナの位置から遠いた
め、熱電対によってヒータが加熱を開始してもその熱が
キャビティーやランナに伝達するまでに時間がかかり、
温度制御に遅れが発生するという問題点があることが、
本発明者によって明らかにされた。
なお、トランスファ成形技術を述べである例としては、
株式会社工業調査会発行「電子材料1983年11月号
別冊」昭和58年11月15日発行 P151〜P15
7、がある。
株式会社工業調査会発行「電子材料1983年11月号
別冊」昭和58年11月15日発行 P151〜P15
7、がある。
本発明の目的は、正確な温度制御を確保することができ
る成形技術を提供することにある。
る成形技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明m書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明m書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、ヒータが配されている型板の内部にキャビテ
ィー、ランナ、ゲートを組み込むことにより、キャビテ
ィー、ランナ、ゲートとヒータの距離を短くすることが
でき、熱伝達距離が短いことにより、熱伝達の遅延を小
さくし加熱遅れを解消するようにしたものである。
ィー、ランナ、ゲートを組み込むことにより、キャビテ
ィー、ランナ、ゲートとヒータの距離を短くすることが
でき、熱伝達距離が短いことにより、熱伝達の遅延を小
さくし加熱遅れを解消するようにしたものである。
第1図は本発明の一実施例であるトランスファ成形装置
を示す縦断面図、第2図は第1図■−■線に沿う部分平
面図である。
を示す縦断面図、第2図は第1図■−■線に沿う部分平
面図である。
本実施例において、この成形装置は半導体装置の非気密
封止パンケージを成形するものとして構成されており、
上型1と下型2とを備えている。
封止パンケージを成形するものとして構成されており、
上型1と下型2とを備えている。
上型1および下型2は上型取付ユニッ1〜3および下型
取付ユニット4にそれぞれ取り付けられており、型開閉
シリンダ装置(図示せず)により互いに型締めされるよ
うに構成されている。取付ユニット3.4は型板3a、
4aと、外枠3b、4bと、スペーサブロック3c、4
cとにより構成されている。
取付ユニット4にそれぞれ取り付けられており、型開閉
シリンダ装置(図示せず)により互いに型締めされるよ
うに構成されている。取付ユニット3.4は型板3a、
4aと、外枠3b、4bと、スペーサブロック3c、4
cとにより構成されている。
上型1および下型2は中央部のセンタブロックlaおよ
び2aと、複数のチェイスブロック1bおよび2bとか
らそれぞれ構成されており、上型1のセンタブロック1
aには、成形材料としての樹脂を圧送するためのプラン
ジャ5を挿入されるボット6が形成されており、下型2
のセンタブロック2bのボット6に対応する位置にはカ
ル7が形成されている。下型2のセンタブロック2bに
はカル7に連通するメインランナ8と、メインランナ8
と後記するキャビティーとを連絡するランナ9とが形成
されている。チェイスブロック1bと2bとの合わせ面
には複数のキャビティー1゜が形成されており、各キャ
ビティー10はサブランナ11およびゲート12を介し
てランナ9にそれぞれ連通されている。
び2aと、複数のチェイスブロック1bおよび2bとか
らそれぞれ構成されており、上型1のセンタブロック1
aには、成形材料としての樹脂を圧送するためのプラン
ジャ5を挿入されるボット6が形成されており、下型2
のセンタブロック2bのボット6に対応する位置にはカ
ル7が形成されている。下型2のセンタブロック2bに
はカル7に連通するメインランナ8と、メインランナ8
と後記するキャビティーとを連絡するランナ9とが形成
されている。チェイスブロック1bと2bとの合わせ面
には複数のキャビティー1゜が形成されており、各キャ
ビティー10はサブランナ11およびゲート12を介し
てランナ9にそれぞれ連通されている。
このように構成されている上型1および下型2は前記上
・下取付ユニット3.4における型板3aおよび4aの
接合面にそれぞれ埋め込まれている。
・下取付ユニット3.4における型板3aおよび4aの
接合面にそれぞれ埋め込まれている。
また、上・下型取付ユニット3.4にはエジェクタ機構
が取り付けられており、エジェクタ機構は樹脂成形後に
各キャビティー10から成形品をエジェクタピン13.
14で突き出すように構成されている。エジェクタピン
13.14はその後端頭部を上・下取付ユニット3.4
内に配設されるエジェクタピンプレート15.16およ
びリテーナブレート17.18によって1夾侍されてい
る。
が取り付けられており、エジェクタ機構は樹脂成形後に
各キャビティー10から成形品をエジェクタピン13.
14で突き出すように構成されている。エジェクタピン
13.14はその後端頭部を上・下取付ユニット3.4
内に配設されるエジェクタピンプレート15.16およ
びリテーナブレート17.18によって1夾侍されてい
る。
エジェクタピン13.14は型板3a、4aおよびセン
タブロック1a、2aおよびチェイスブロック1b、2
bを貫通してその先端をキャビティー10およびメイン
ランナ8ならびにサブランナ9.11の底に臨ませてい
る。上型のエジェクタピン13はばねによって型締め時
にはキャビティーlOの底面に位置しているが、型開き
後はばねの復元力によってキャビティー等の底面からキ
ャビティー10内に突入して成形品を押し出すように作
用する。下型のエジェクタピン14はばねによって型締
め時にはキャビティー等の底面に位置しているが、型開
き後はリテーナプレート18の他の機構による押し上げ
てキャビティー等内に上端を突入させて成形品の押し出
しを行う。
タブロック1a、2aおよびチェイスブロック1b、2
bを貫通してその先端をキャビティー10およびメイン
ランナ8ならびにサブランナ9.11の底に臨ませてい
る。上型のエジェクタピン13はばねによって型締め時
にはキャビティーlOの底面に位置しているが、型開き
後はばねの復元力によってキャビティー等の底面からキ
ャビティー10内に突入して成形品を押し出すように作
用する。下型のエジェクタピン14はばねによって型締
め時にはキャビティー等の底面に位置しているが、型開
き後はリテーナプレート18の他の機構による押し上げ
てキャビティー等内に上端を突入させて成形品の押し出
しを行う。
上下の型板3a、4aの内部には長い棒状のヒータ19
が複数本、略平行に並設されており、下側の型板4aに
は温度関節器としての熱電対20が温度を検出してヒー
タ19を制御することにより、型板3a、4aの温度を
調節するように構成されている。
が複数本、略平行に並設されており、下側の型板4aに
は温度関節器としての熱電対20が温度を検出してヒー
タ19を制御することにより、型板3a、4aの温度を
調節するように構成されている。
次に作用を説明する。
半導体装置のリードフレームが下型2の合わせ面上に、
封止対象物であるペレットおよびボンディングワイヤが
キャビティー10内に収容されるように位置決めされる
と、型開閉シリンダ装置により上型lと下型2とが合わ
せられてキャビティー10が形成される。
封止対象物であるペレットおよびボンディングワイヤが
キャビティー10内に収容されるように位置決めされる
と、型開閉シリンダ装置により上型lと下型2とが合わ
せられてキャビティー10が形成される。
所定の型締め力をもって上下型1と2とが合わせられる
と、成形材料としての樹脂を予備形成されてボット6内
に投入されたタブレットが移送シリンダ装置(図示せず
)により下降されるプランジャ5によってランナ8.9
に押し出される。タブレットはヒータ19によって加熱
熔融され、樹脂は溶融した状態でランナ8.9.11を
移送され、ゲート12からキャビティー10のそれぞれ
に注入充填される。キャビティー10に充填された樹脂
はさらに加熱されると、硬化してパンケージを形成する
。
と、成形材料としての樹脂を予備形成されてボット6内
に投入されたタブレットが移送シリンダ装置(図示せず
)により下降されるプランジャ5によってランナ8.9
に押し出される。タブレットはヒータ19によって加熱
熔融され、樹脂は溶融した状態でランナ8.9.11を
移送され、ゲート12からキャビティー10のそれぞれ
に注入充填される。キャビティー10に充填された樹脂
はさらに加熱されると、硬化してパンケージを形成する
。
ところで、移送初期の樹脂の温度は型温度(例えば、1
80℃)に比較して低温(80〜90℃〉であるため、
型は移送される樹脂により冷却されることになる。その
ため、型の温度を所定値に復帰させるようにヒータを制
御することが要望されると、考えられる。
80℃)に比較して低温(80〜90℃〉であるため、
型は移送される樹脂により冷却されることになる。その
ため、型の温度を所定値に復帰させるようにヒータを制
御することが要望されると、考えられる。
ここで、ヒータとキャビティーとが離れている場合には
、熱電対がキャビティーの近傍に配置されていたとして
も、熱電対が働いてヒータが加熱作動してからキャビテ
ィーに熱伝達するまでに時間がかかるため、キャビティ
ーが制御温度に達するまでに遅れが生じ、温度制御が不
十分になる。
、熱電対がキャビティーの近傍に配置されていたとして
も、熱電対が働いてヒータが加熱作動してからキャビテ
ィーに熱伝達するまでに時間がかかるため、キャビティ
ーが制御温度に達するまでに遅れが生じ、温度制御が不
十分になる。
本実施例においては、ヒータを内蔵されている型板にセ
ンタブロックおよびチェイスブロックが埋め込まれると
ともに、型板には熱電対が挿入されているため、熱伝達
の遅れが回避され、適正な温度制御が実現される。
ンタブロックおよびチェイスブロックが埋め込まれると
ともに、型板には熱電対が挿入されているため、熱伝達
の遅れが回避され、適正な温度制御が実現される。
すなわち、カル7からの樹脂がメインランナ8およびラ
ンナ9に流れ込むと、センタブロック1a、2aは相対
的に低温の41脂により冷却される。
ンナ9に流れ込むと、センタブロック1a、2aは相対
的に低温の41脂により冷却される。
センタブロック18%2aの温度が低下すると、熱電対
20がこれを検出してヒータ19をONさせるため、ヒ
ータ19がセンタブロック1a、2aを加熱する。この
とき、加熱手段としてのヒータ19と、被加熱物として
のセンタブロックla、2aとが共に、型板3a、4a
の内部に組み込まれているため、加熱手段と被加熱物間
の距離は短く、メインランナ8およびランナ9に対する
加熱はそれらが温度低下しないように迅速かつ有効に行
われることになる。
20がこれを検出してヒータ19をONさせるため、ヒ
ータ19がセンタブロック1a、2aを加熱する。この
とき、加熱手段としてのヒータ19と、被加熱物として
のセンタブロックla、2aとが共に、型板3a、4a
の内部に組み込まれているため、加熱手段と被加熱物間
の距離は短く、メインランナ8およびランナ9に対する
加熱はそれらが温度低下しないように迅速かつ有効に行
われることになる。
続いて、樹脂がセンタブロックのランナ9からチェイス
ブロック2bのサブランナ11に流れ、このサブランナ
11に沿って配置されている各キャビティー10にゲー
ト12から順次注入されて行くと、チェイスブロックl
b、2bの温度は各キャビティー10毎に冷却される。
ブロック2bのサブランナ11に流れ、このサブランナ
11に沿って配置されている各キャビティー10にゲー
ト12から順次注入されて行くと、チェイスブロックl
b、2bの温度は各キャビティー10毎に冷却される。
このとき、チェイスブロックlb、2bが熱電対20と
ヒータ19を内蔵した型板3a、4aに組み込まれてお
り、チェイスブロックlb、2bとヒータ19間が短い
ため、熱電対が温度低下を検出しヒータ20をONさせ
ると、ヒータ20からの熱は遅延なく各キャビティーを
加熱することより、各キャビティー10の加熱は迅速か
つ有効に行われる。このようにして、各キャビティー1
0は遅れることなく所定の温度にそれぞれ制御される。
ヒータ19を内蔵した型板3a、4aに組み込まれてお
り、チェイスブロックlb、2bとヒータ19間が短い
ため、熱電対が温度低下を検出しヒータ20をONさせ
ると、ヒータ20からの熱は遅延なく各キャビティーを
加熱することより、各キャビティー10の加熱は迅速か
つ有効に行われる。このようにして、各キャビティー1
0は遅れることなく所定の温度にそれぞれ制御される。
その後、型開閉シリンダ装置により上下型1.2が開か
れ、成形されたパンケージによってペレット等を封止さ
れている半導体装置がキャビティー10からエジェクタ
ピン13.14によって取り外される。
れ、成形されたパンケージによってペレット等を封止さ
れている半導体装置がキャビティー10からエジェクタ
ピン13.14によって取り外される。
(リ ヒータが配設されている型板の内部にキャビティ
ー、ランナ、ゲートを組み込むことにより、熱の伝達距
離を短くでき、熱伝達遅延による加熱の遅れを防止する
ことができるため、正確な温度制御を確保することがで
きる。
ー、ランナ、ゲートを組み込むことにより、熱の伝達距
離を短くでき、熱伝達遅延による加熱の遅れを防止する
ことができるため、正確な温度制御を確保することがで
きる。
(2)加熱の遅れを防止することにより、樹脂の溶融状
態をランナの移送中および各キャビティーへの注入全体
にわたって一定に維持することができるため、成形時間
を短縮化することができる。
態をランナの移送中および各キャビティーへの注入全体
にわたって一定に維持することができるため、成形時間
を短縮化することができる。
(3) 加熱の遅れを防止することにより、移送時に
一時的に低下したキャビティーの温度復帰を早めること
ができるため、樹脂の硬化不足を防止することができる
。
一時的に低下したキャビティーの温度復帰を早めること
ができるため、樹脂の硬化不足を防止することができる
。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、キャビティー、ゲート、ランナおよびボットは
、チェイスブロックやセンタブロックに形成して型板に
埋め込むように構成するに限らず、型板に直接的に形成
するようにしてもよい。
、チェイスブロックやセンタブロックに形成して型板に
埋め込むように構成するに限らず、型板に直接的に形成
するようにしてもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体装置における
パフケージを成形する成形装置に通用した場合について
説明したが、それに限定されるものではなく、他の製品
を成形する成形装置等についても通用することができる
。
をその背景となった利用分野である半導体装置における
パフケージを成形する成形装置に通用した場合について
説明したが、それに限定されるものではなく、他の製品
を成形する成形装置等についても通用することができる
。
第1図は本発明の一実施例であるトランスフプ成形装置
を示す縦断面図、 第2図は第1図n−n線に沿う部分平面図である。 1・・・上型、2・・・下型、1a、2a・・・センタ
ブロック、1b、2b・・・チェイスブロック、3.4
・・・取付ユニット、5・・・プランジ士、6・・・ボ
ット、7・・・カル、8・・・メインランナ、9・・・
ランナ、10・・・キャビティ、11・・・サブランナ
、12・・・ゲート、13.14・・・エジェクタピン
、15.16・・・エジェクタピンプレート、17.1
8・・・リテーナプレート、19・・・ヒータ、20・
・・熱電対(温度関節器)。
を示す縦断面図、 第2図は第1図n−n線に沿う部分平面図である。 1・・・上型、2・・・下型、1a、2a・・・センタ
ブロック、1b、2b・・・チェイスブロック、3.4
・・・取付ユニット、5・・・プランジ士、6・・・ボ
ット、7・・・カル、8・・・メインランナ、9・・・
ランナ、10・・・キャビティ、11・・・サブランナ
、12・・・ゲート、13.14・・・エジェクタピン
、15.16・・・エジェクタピンプレート、17.1
8・・・リテーナプレート、19・・・ヒータ、20・
・・熱電対(温度関節器)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ヒータを配されている型板の内部にキャビティー、
ランナ、ゲートおよびポットが組み込まれていることを
特徴とする成形装置。 2、キャビティー、ゲートが形成されたチェイスブロッ
ク、およびランナを形成されたセンタブロックが、型板
の内部にそれぞれ埋設されていることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の成形装置。 3、キャビティー、ゲート、ランナが、型板に直接的に
形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の成形装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17413985A JPS6235814A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 成形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17413985A JPS6235814A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 成形装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6235814A true JPS6235814A (ja) | 1987-02-16 |
Family
ID=15973343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17413985A Pending JPS6235814A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 成形装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6235814A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03249943A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | メタノール改質用触媒 |
JPH0426503A (ja) * | 1990-05-23 | 1992-01-29 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | メタノールの改質方法 |
-
1985
- 1985-08-09 JP JP17413985A patent/JPS6235814A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03249943A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | メタノール改質用触媒 |
JPH0426503A (ja) * | 1990-05-23 | 1992-01-29 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | メタノールの改質方法 |
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