JPS62141517A - Liquid crystal element - Google Patents
Liquid crystal elementInfo
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- JPS62141517A JPS62141517A JP28220685A JP28220685A JPS62141517A JP S62141517 A JPS62141517 A JP S62141517A JP 28220685 A JP28220685 A JP 28220685A JP 28220685 A JP28220685 A JP 28220685A JP S62141517 A JPS62141517 A JP S62141517A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶表示素子牛液晶−光シャツターアレイ等
の液晶素子に関し、更に詳しくは、液晶分子の初期配向
状態を改善することkよυ表示ならびに駆動特性を改善
した液晶素子に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a liquid crystal display device such as a liquid crystal optical shutter array, and more particularly, to a method for improving the initial alignment state of liquid crystal molecules. This invention relates to a liquid crystal element with improved display and driving characteristics.
従来の液晶素子としては、例えばエム・シャット(M、
8chadt)とダブりニー、ヘル7リッと(’if、
H・1frich) ”IF ”了ブライド・フイジイ
ツクス・レターズゴリエーム18、ナンバー4(197
1゜2.15)、ページ127〜128(“ムppli
・dPhysics Lett@rs ’ To、18
.44(1971,2゜15)?、127〜128)の
1ボルテージ・ディペンダント・第1テイカル・アクテ
ィビティ−・。As a conventional liquid crystal element, for example, M-Shut (M,
8chadt) and double knee, hell 7ritto ('if,
H.1frich) "IF" Ryo Bride Physics Letters Goliame 18, Number 4 (197
1゜2.15), pages 127-128 (“Muppli
・dPhysics Lett@rs' To, 18
.. 44 (1971, 2°15)? , 127-128) 1 voltage dependent 1st tical activity.
オプ・了・ツィステッド・ネマチック・リキッドS−リ
スタル’ (@Vo1tage DepeM@ntOp
laalムatlvity of a TwistM
Nemati。DepeM@ntOp
Laalmu atlvity of a TwistM
Nemati.
Liquil Crysta1″)K示されたティー、
zヌ(’rN) (ツィステッド・ネマチック(twi
ateLnematta))液晶を用いたものが知られ
ている。Liquil Crysta1'') K shown tee,
znu ('rN) (twisted nematic (twi)
ateLnematta)) Those using liquid crystal are known.
ヒのTN液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極構
造を用いた時分割駆動の時、クロストークを発生する問
題点がある丸め、画素数が制限されていえ。TN liquid crystals have problems such as rounding, which can cause crosstalk when time-division driving is performed using a matrix electrode structure with high pixel density, and the number of pixels is limited.
又、各画素に薄膜トランジスタによるスイッチング素子
を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素子
が知られているが、基板上に薄膜トランジスタを形成す
る工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素子を作成する
ことが錐かしい問題点がある。Furthermore, a display element is known in which a switching element using a thin film transistor is connected to each pixel, and each pixel is switched. However, the process of forming the thin film transistor on the substrate is extremely complicated, and it is difficult to use a display element with a large area. There are some problems that make it difficult to create.
これらの問題点を解決するものとして、クラークらによ
シ米国特許第434$7924号公報で強誘電性液晶素
子が発表された。しかしながら、この強誘電性液晶素子
が所定の駆動特性を発揮するためには、一対の平行基板
間に配置される強誘電性液晶が、電界の印加状態とは無
関係に。In order to solve these problems, a ferroelectric liquid crystal device was disclosed by Clark et al. in US Pat. No. 4,340,7924. However, in order for this ferroelectric liquid crystal element to exhibit predetermined driving characteristics, the ferroelectric liquid crystal placed between a pair of parallel substrates must be placed between a pair of parallel substrates, regardless of the state of application of an electric field.
上記2つの安定状態の間での変換が効果的に起るような
分子配列状態にあることが必要である。It is necessary that the molecules be in such a state that conversion between the above two stable states occurs effectively.
たとえばカイラルスメクチック相を有する強誘電性液晶
については、カイラルスメクチック相の液晶分子層が基
板面に対して垂直で、したがって液晶分子軸が基板面に
ほぼ千行く配列し九領域(モノドメイン)が形成される
必要がある。For example, in a ferroelectric liquid crystal having a chiral smectic phase, the liquid crystal molecular layer of the chiral smectic phase is perpendicular to the substrate surface, and therefore the liquid crystal molecular axes are aligned approximately 1,000 times along the substrate surface, forming nine domains (monodomains). need to be done.
しかしながら、これまでの強誘電性液晶素子においては
、このようなモノドメイン構造を有する液晶の配向状態
が、必ずしも満足に形成されなかったために、充分な特
性が得られなかったのが実情である。However, in the conventional ferroelectric liquid crystal elements, the alignment state of the liquid crystal having such a monodomain structure was not always formed satisfactorily, so that sufficient characteristics could not be obtained.
!#に、下述する様に基板上く形成したマトリクス電極
が高密度で配線されると、電極線の低抵抗化のためIC
,[極線が比較的厚い(例えば5ooX〜soooX)
IIg厚となるため、基板自体の面と電極面との間でa
oof以上の大きな段差を形成し、この段差が強誘電性
液晶に対する配向欠陥を発生させる原因となっていると
とヵζ本尭明者の実験によシ明らかとなった。! #, when the matrix electrodes formed on the substrate are wired with high density as described below, the resistance of the electrode wires is reduced and the IC
, [Polar lines are relatively thick (e.g. 5ooX to soooX)
Since the thickness is IIg, there is a gap between the surface of the substrate itself and the electrode surface.
It has become clear through experiments by Akira Moto that a large step larger than 00 is formed, and that this step is the cause of alignment defects in the ferroelectric liquid crystal.
〔問題点を解決するための手段〕・及び〔作用〕従って
、本発明の目的は配向欠陥の発生を防止した強誘電性液
晶素子を提供することにある。[Means for Solving the Problems] and [Operation] Accordingly, an object of the present invention is to provide a ferroelectric liquid crystal element in which the occurrence of alignment defects is prevented.
又、本発明の別の目的は、高密度で画素を形成し九強騎
電性液晶素子を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a liquid crystal device with high chirality by forming pixels at high density.
さらに、本発明の他の目的はこれまで9強誘電性液晶素
子で問題となっていた。モノドメイン形成性ないしは初
、期配向性を改善することによシ1強誘電性液晶素子が
本来もって込る高速応答性とメそり一効果特性を光分に
発揮させ得るt4誘電性液、晶素子を提供することにあ
る。Furthermore, another object of the present invention has hitherto been a problem in ferroelectric liquid crystal devices. By improving the monodomain formation property or the initial phase orientation, the T4 dielectric liquid and crystal can exhibit the high-speed response and mesori effect characteristics inherent in the ferroelectric liquid crystal element. The purpose is to provide devices.
本発明者らは、上述の目的で更に研究した結果、とくに
液晶が等労相(高温状態)より液晶相(低温状tl!4
)へ移行する降温過程に於ける初期配向性1ull目し
、液晶の双安定性IC基づく素子の作動特性と液晶層の
モノドメイン性を両立し得る構造を有する液晶素子を提
供することが可能となった。すなわち、本発明の液晶素
子は、このような知見に基づくものであり、よシ詳しく
は、液晶層と接する面に段差がなく、つまシ液晶層の膜
厚に急flR″&変化を生じさせなくするととくよシ降
漏過程に於ける初期配向性が良好々状態をなしておシ、
配向欠陥のないそ/ドメインを形成している点に特徴を
有している。As a result of further research for the above-mentioned purpose, the present inventors found that the liquid crystal phase (low temperature state tl!4
), it is possible to provide a liquid crystal element having a structure that can achieve both the operating characteristics of an element based on a bistable IC and the monodomain property of a liquid crystal layer. became. That is, the liquid crystal element of the present invention is based on such knowledge, and more specifically, there is no step on the surface in contact with the liquid crystal layer, and the liquid crystal element of the present invention does not cause a sudden change in the thickness of the liquid crystal layer. If it is eliminated, the initial orientation during the leakage process will be in good condition.
It is characterized by the formation of domains without orientation defects.
従って、本発明は、一対の平行基板間に強誘電性液晶を
有する液晶素子において、前記一対の平行基板のうち少
なくとも一方の基板が複数の透明電極セグメントを有し
ているとともに、隣り合う前記透明電極セグメント間に
絶縁膜で形成した平担化膜を有している液晶素子に特徴
を有している。Therefore, the present invention provides a liquid crystal element having a ferroelectric liquid crystal between a pair of parallel substrates, in which at least one of the pair of parallel substrates has a plurality of transparent electrode segments, and the adjacent transparent The liquid crystal element is characterized by having a flattening film formed of an insulating film between electrode segments.
このように平面性のよい基板に挾持された液晶層は等労
相より、液晶相に移行する降湛遇穆において、徐冷する
ことKより、(0,1℃/時間〜5℃/時間)、液晶相
領域が次第に広がりモノドメインの液晶相を形成するよ
うになる。In this way, the liquid crystal layer sandwiched between substrates with good planarity is gradually cooled (0.1°C/hour to 5°C/hour) during the transition period from the uniform phase to the liquid crystal phase. , the liquid crystal phase region gradually expands to form a monodomain liquid crystal phase.
例えば、液晶として強誘電液晶相を示す下述のDOBA
MBOを例にあげて説明すると、DOBAMBOの等労
相よシ徐冷していくとき約115℃でスメクチック人相
(8mA相)に相転移する。このとき、基板にラビング
あるいは810.斜め蒸着などの配向処理が施されてい
ると、液晶分子の分子軸が基板に平行で、かつ一方向に
配向したモノドメインが形成される。さらに%冷却を進
めていくと、液晶層の厚みに依存する約90〜75℃の
間の特定温度でカイラルスメクチックC相(8mO’相
)に相転移する。又、液晶層の厚みを約2μ以下とした
場合は、8mO’相のらせんが解け、双安定性を示す。For example, DOBA shown below exhibits a ferroelectric liquid crystal phase as a liquid crystal.
Taking MBO as an example, when slowly cooling the DOBAMBO phase, it undergoes a phase transition to a smectic human phase (8 mA phase) at about 115°C. At this time, the substrate is rubbed or 810. When alignment treatment such as oblique vapor deposition is performed, monodomains are formed in which the molecular axes of liquid crystal molecules are parallel to the substrate and aligned in one direction. When the cooling is further progressed, a phase transition occurs to a chiral smectic C phase (8 mO' phase) at a specific temperature between about 90 and 75° C., which depends on the thickness of the liquid crystal layer. Further, when the thickness of the liquid crystal layer is about 2 μm or less, the helix of the 8 mO' phase is unraveled and exhibits bistability.
本発明で用いる液晶材料とくに適したものは双安定性を
有する液晶であって、強誘電性を有するものであシ、具
体的には前述の8mC!’の他に、カイラルスメクチッ
クH相(8mH”)、X相(8ml町、J相(8mff
町、K相(8mK”)、G相(8mG※)又は?相(8
mF”)の液晶を用いることができる。A particularly suitable liquid crystal material for use in the present invention is a liquid crystal having bistability and ferroelectricity, specifically, the above-mentioned 8mC! 'In addition to chiral smectic H phase (8 mH"),
Town, K phase (8mK”), G phase (8mG*) or ? phase (8
mF") liquid crystal can be used.
強誘電性液晶の詳細については、例えばル・ジェルナー
ル・ド・フィシツク・レットル(L!Ii 、TOUR
NAL DI P)IY81Q、UICLITTffi
R) 36 (L−69) 1975. rフェロエレ
クトリック・リキッド・クリスタルスJ (「Farr
oelectricLiqued 0ryatalsJ
) ; ”アプライド・フイジイツクス・レターズ(
” Applied PhysicsLettert″
) 315(11)、1980 rザブミクo、セカン
ド・バイスティプル・エレクトロオプティック・スイッ
チング・イン・リキッド・クリスタA/スJ (Snb
micro 8eaond B15table n1e
at−rooptic Switchingin Li
quii Crystals J ) ;“固体物理”
16(141)1981「液晶」等に記載されており、
本発明ではこれらに開示された強誘電性液晶を用いるこ
とができる。For more information on ferroelectric liquid crystals, see, for example, Le Gernard de Fissique L'Etre (L!Ii, TOUR
NAL DI P)IY81Q,UICLITTffi
R) 36 (L-69) 1975. r Ferroelectric Liquid Crystals J (Farr
oelectric Liked 0ryatalsJ
) ; “Applied Physics Letters (
”Applied Physics Letter”
) 315 (11), 1980 r Zabumiku O, Second Bistiple Electro-Optic Switching in Liquid Crysta A/SJ (Snb
micro 8eaond B15table n1e
at-rooptic Switching Li
Quii Crystals J); “Solid State Physics”
16 (141) 1981 "Liquid Crystal" etc.
In the present invention, the ferroelectric liquid crystal disclosed in these documents can be used.
強誘電性液晶化合物の具体例としては、デシロキシベン
ジリデン−y−了ミノー2−メチルブチルシンナメート
(DOBAMBCり 、ヘキシルオキシベンジリデン−
y−アミノ−2−クロロプロビルシンナメー) (HO
BACPCり、4−O−(2−メチル)−プチルレゾル
シリデンー4′−オクチルアニリン(MBRA 8 ’
)が挙げられる。Specific examples of ferroelectric liquid crystal compounds include decyloxybenzylidene-y-minor 2-methylbutylcinnamate (DOBAMBC), hexyloxybenzylidene-y-
y-amino-2-chloroprovir cinname) (HO
BACPC, 4-O-(2-methyl)-butyl resol cylidene-4'-octylaniline (MBRA 8'
).
これらの材料を用いて素子を構成する場合、液晶化合物
がカイラルスメクテイツク相となるような温度状態に保
持する為、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれた
ブロック等により支持することができる。When constructing an element using these materials, the element can be supported by a block with a heater embedded, etc., if necessary, in order to maintain the temperature at which the liquid crystal compound enters the chiral smectate phase. .
以下、本発明を図面忙従って説明する。The present invention will be explained below with reference to the drawings.
第1図は従来の強誘電性液晶素子の断面図を表わし、8
g2図は従来の強誘電性液晶素子に現われた配向欠陥の
状態を表わす図面である。Figure 1 shows a cross-sectional view of a conventional ferroelectric liquid crystal element.
Figure g2 is a diagram showing the state of alignment defects that appear in a conventional ferroelectric liquid crystal element.
すなわち、第1図に示す従来の強誘電性液晶素子10は
、一対の平行基板11と12を有しておシ、基板11と
12にはそれぞれマトリクス電極構造をなすストライブ
状の透明電極セグメント13と14が設けられている。That is, the conventional ferroelectric liquid crystal device 10 shown in FIG. 1 has a pair of parallel substrates 11 and 12, and each of the substrates 11 and 12 has strip-shaped transparent electrode segments forming a matrix electrode structure. 13 and 14 are provided.
このストライプ状の透明電極セグメント13と14は、
一般に工To (Indium Tin 0xide)
などの透明導電膜によって形成されているが、例えば電
極線を16Pe/(16本/mm)で配線する場合では
、電極線の線幅が極端に細くなって高抵抗となるため、
通常の電卓やウォッチなどで使用されているセグメント
電極に較べ肉厚に、具体的には800X〜!l O00
X程度好ましくは、10G0Å〜1sooXとすること
が、低抵抗化とする上で必要となっている。These striped transparent electrode segments 13 and 14 are
Generally used (Indium Tin Oxide)
For example, when wiring electrode wires at 16 Pe/(16 wires/mm), the line width of the electrode wires becomes extremely thin and the resistance becomes high.
Thicker than the segment electrodes used in regular calculators and watches, specifically 800X~! l O00
It is necessary to set it to about X, preferably 10G0Å to 1sooX, in order to lower the resistance.
従って、高密度画素の液晶素子では、基板の面と電極の
面との間に透明電極セグメントの膜厚外(aooX〜5
oOar)の段差ムが形成されて、降温過穐を利用して
配向制御を行なう時、上述の役差ムが原因とな゛つて、
そめ段差ムを堺にして強誘電性液晶17に配向欠陥を生
じることになる。又、この段差ムが存在する基板11と
12の上にそれぞれ配向制御膜15と16を設けると、
との配向制御膜にも段差ムに応じて形成された段差Bが
電極のほぼ膜厚外で生じ、上述の同様に強誘電性液晶1
7iC配向欠陥を生じていた。Therefore, in a liquid crystal device with high-density pixels, the thickness of the transparent electrode segment between the substrate surface and the electrode surface (aooX~5
When a step gap (oOar) is formed and orientation control is performed using temperature cooling, the above-mentioned difference gap becomes the cause.
This causes alignment defects in the ferroelectric liquid crystal 17 due to the unevenness. Furthermore, if the alignment control films 15 and 16 are provided on the substrates 11 and 12, respectively, where the step exists,
Also in the alignment control film of the ferroelectric liquid crystal 1, a step B formed in accordance with the step difference occurs almost outside the film thickness of the electrode.
7iC orientation defects were produced.
第2図は、下達の比較例で示す強誘電性液晶素子をクロ
スニコルの(1元顕微鏡で観察した時のスケッチで、図
中の白線21は液晶素子に使用したスペーナ(第1図の
18)のラインに対応し、@22は第1図の基板11上
の段差BK。Figure 2 is a sketch of the ferroelectric liquid crystal element shown in the comparative example below when observed with a crossed Nicol (one-source microscope). ), and @22 is the step BK on the substrate 11 in FIG.
線23は第1゛図の基板12上の段差Bに対応して観察
されている。又1図中の部分24は対向電極間に111
!まれ九強誘電性液晶である。偏光顕微鏡中に多数現出
した刃状線25は、強訴電性液晶の配向欠陥な表わして
いる。Line 23 is observed corresponding to step B on substrate 12 in FIG. Also, the portion 24 in Figure 1 is 111 between the opposing electrodes.
! It is a rare ferroelectric liquid crystal. A large number of edge-like lines 25 appearing in the polarizing microscope represent alignment defects of the strongly electrostatic liquid crystal.
この様に強誘電性液晶の接する面で8ooX以上の段差
が存在すると、その段差から配向欠陥を生じ、強誘電性
液晶のモノドメイン形成は阻害される。If a step of 8ooX or more exists on the surface in contact with the ferroelectric liquid crystal as described above, alignment defects will occur from the step and the formation of monodomains of the ferroelectric liquid crystal will be inhibited.
第3図は、本発明の好ましい強誘電性液晶素子の断面図
である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a preferred ferroelectric liquid crystal element of the present invention.
第3図で示された素子30は、ガラス板又はプラスチッ
ク板などの透明板を用いた基板31と32を有し、その
間に強誘電性液晶33が挾まれている。各基板31と3
28Cはマトリクス電極構造を形成するストライプ形状
の透明電極セグメント34と35がそれぞれ配線されて
いる。The device 30 shown in FIG. 3 has substrates 31 and 32 made of transparent plates such as glass plates or plastic plates, and a ferroelectric liquid crystal 33 is sandwiched between them. Each board 31 and 3
28C, stripe-shaped transparent electrode segments 34 and 35 forming a matrix electrode structure are wired, respectively.
基板31には、隣シ合うストライプ状透明電極セグメン
) 34aとsabとの間には絶縁膜で形成した平担化
膜38が配置されている。基板32に4、゛隣グ合うス
トヅイプ状透明電極セグメント350間にも、前述と同
様の絶縁膜で形成した平担化膜(図示せず)を設けるこ
とができる。A flattening film 38 made of an insulating film is disposed on the substrate 31 between adjacent striped transparent electrode segments 34a and sab. A flattening film (not shown) made of the same insulating film as described above can also be provided between adjacent strip-shaped transparent electrode segments 350 on the substrate 32.
前述した平担化膜水8は、以下の様にして調製するとと
ができる。゛ ′ □ ″まず、基板s1とな
るガラス板やプラスチレフフィルムの上1/CZTO膜
をメパッタリン゛グ蒸着法やイオンプレーティンj蒸着
法によって被膜形成させた後、!Tollの上に一1i
iKクロム膜などの金属膜をZTO@の3〜5倍程度め
膜厚で□形成し、次らで通常のフォトリシグラフイー技
術とエツチング技術によってM4図(a) K示すパタ
ーニングされたfTo膜34と金属膜41を形成する。The above-mentioned leveled membrane water 8 can be prepared as follows.゛ ′ □ ″First, a CZTO film was formed on the glass plate or Plastyref film, which will become the substrate s1, by a metal puttering deposition method or an ion plating deposition method.
A metal film such as an iK chromium film is formed □ to a thickness approximately 3 to 5 times that of ZTO@, and then a patterned fTo film as shown in M4 (a) K is formed by ordinary photolithography and etching techniques. 34 and a metal film 41 are formed.
次いで、第4図(1)) K示す機にパターニングされ
たKTO膜34とマスクとして機能する金属膜41が形
成されている基板31の上に一面IIc′810、θ1
0@ 、 Ti01 、 ra!oI 、 gro、
+A/! O@などノ無磯絶縁物質の蒸着層42番前述
のZTOIj134と同程度の膜厚で形成し、その後第
4図cc)に示す様に金Ji1@41をエツチングする
ことによ凱その上K[接形成されている無機絶縁物質の
蒸着層42m)を同時に除去し、平担化膜38となる無
接絶縁物質の蒸R膜42aが@シ合うX’l’OIll
S4間に形成される。Next, on the substrate 31 on which the patterned KTO film 34 shown in FIG.
0@, Ti01, ra! oI, gro,
+A/! A vapor deposited layer 42 of a solid insulating material such as O@ is formed to have a thickness similar to that of the ZTOIj 134 described above, and then the gold JI1@41 is etched as shown in FIG. [The evaporated layer 42m of an inorganic insulating material which has been formed in contact is removed at the same time, and the evaporated R film 42a of a non-contacted insulating material, which becomes the flattened film 38, is brought together.
It is formed during S4.
本発明の液晶素子では、透明電極セグメント34の膜厚
(tl A)と絶縁膜で形成した平担化膜380膜厚(
tta)との間で一500ム≦11−1.≦50OAの
関係を瀾たす必要があシ、好ましくは一300ムぶt、
、=−tj≦300;とすることが必要である。すなわ
ち、本発明者らの知見によれば、素子内における強誘電
性液晶33が基板31又は32に接する時、基板31又
は32で生じる段差が500A以下であればM2図に示
す様な配向欠陥の発生を笑用範囲内に抑制することがで
きる。従って、本発明では1m−1,を−5ooX〜5
ooX、好ましくは一3ooX〜300Xと設定する点
に第2の特徴を有している。In the liquid crystal element of the present invention, the thickness of the transparent electrode segment 34 (tlA) and the thickness of the flattening film 380 formed of an insulating film (
tta) 1500mm≦11-1. It is necessary to satisfy the relationship of ≦50 OA, preferably 1300 MB,
, =-tj≦300; That is, according to the findings of the present inventors, when the ferroelectric liquid crystal 33 in the device comes into contact with the substrate 31 or 32, if the step difference generated on the substrate 31 or 32 is 500A or less, an alignment defect as shown in the M2 diagram occurs. The occurrence of this can be suppressed to within a reasonable range. Therefore, in the present invention, 1 m-1 is -5ooX~5
The second feature is that it is set to ooX, preferably -3ooX to 300X.
かかる1t、−t、1の値が5ooXを越えると、下達
の比較例でも明らかにする様に第2図に示す如き配向欠
陥が多数発生し、モノドメインの8mO※が形成されな
い。When the values of 1t, -t, and 1 exceed 5ooX, a large number of orientation defects as shown in FIG. 2 occur as shown in the comparative example below, and the monodomain 8mO* is not formed.
レーティング蒸着法によって被膜形成させて得ることが
できるが、有機絶縁物質を蒸着法によって被り形成させ
た蒸着膜も使用することができる。この方法に使用でき
る有機絶縁物質としてポリ7ツ化エチレンなどのポリフ
ッ化オレフィンが適している。Although it can be obtained by forming a film by a rating vapor deposition method, a vapor deposited film formed by covering an organic insulating material by a vapor deposition method can also be used. Polyfluorinated olefins such as poly7tethylene are suitable as organic insulating materials that can be used in this method.
本発明の液晶素子は、透明電極セグメント34と平坦化
膜38との上に配向制御膜36を設けることが好ましい
。又、もう一方の基板32の側にも同様に配向制御膜3
7を設けることかで゛きるが、配向制@h156と37
のうち一方の配向制御膜は省略することも可能である。In the liquid crystal element of the present invention, it is preferable that an alignment control film 36 is provided on the transparent electrode segment 34 and the planarization film 38. Further, the alignment control film 3 is similarly formed on the other substrate 32 side.
7, but the orientation control @h156 and 37
It is also possible to omit one of the alignment control films.
#に、強誘電性液晶33が少なくとも2つの安定配向状
態をもつカイラルスメクチック液晶、特に双安定性カイ
ラルスメクチック液晶の時、第1の安定配向状態と第2
の安定配向状態の安定化エネルギーを等しくする(第1
の安定配向状態の閾値電圧と第2の安定配向状態の閾値
電圧の差を少なくする)ために1配向制御膜を一方のみ
の基板に設けるのがよい。#, when the ferroelectric liquid crystal 33 is a chiral smectic liquid crystal having at least two stable orientation states, especially a bistable chiral smectic liquid crystal, the first stable orientation state and the second stable orientation state
Equalize the stabilization energies of the stable orientation states (first
In order to reduce the difference between the threshold voltage of the stable orientation state and the threshold voltage of the second stable orientation state, it is preferable to provide one orientation control film on only one substrate.
この配向制御@36と37の材料としては、例えば、ポ
リビニルアルコール、ボリイミ)II、ポリアミドイミ
ド、ポリエステルイミド、ポリバラキシリレン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポ
リ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチ
レン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリャ樹脂、ア
クリル樹脂などの樹脂類、あるいは感光性ポリイミド、
感光性ポリアミド、衰化ゴム系フォトレジスト、フェノ
ールノボラック系フォトレジストあるいは電子線フォト
レジスト(ポリメチルメタクリレート、エポキシ化−1
,4−ポリブタジェンなど)などから選択して用いるこ
とが好ましい。そして、この膜に一方向にラビング処理
などによる一軸性配向処理を施すことによって、基板3
1と52に対して垂直に形成したスメクチック分子層を
一方向に優先して配向させることができる。Materials for this orientation control@36 and 37 include, for example, polyvinyl alcohol, polyimide II, polyamideimide, polyesterimide, polyvaraxylylene, polyester, polycarbonate, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyamide, polystyrene, Resins such as cellulose resin, melamine resin, urea resin, acrylic resin, or photosensitive polyimide,
Photosensitive polyamide, weakened rubber photoresist, phenol novolak photoresist or electron beam photoresist (polymethyl methacrylate, epoxidized-1)
, 4-polybutadiene, etc.). Then, by subjecting this film to uniaxial alignment treatment such as rubbing treatment in one direction, the substrate 3
The smectic molecular layer formed perpendicular to 1 and 52 can be preferentially oriented in one direction.
第5図は、強誘電性液晶の動作説明のために、セルの例
を模式的に描いたものである。51aと51bは、/n
、O!、SnO,あるいは工To(工ndium−Ti
nOxle’)等の薄膜からなる透明電極で被覆された
基板(ガラス板)であシ、その間にスメクチック分子層
52がガラス面に垂直になるよう配向した8mO”相又
は8mH’相の液晶が封入されている。太線で示した線
53が液晶分子を表わしておシ、この液晶分子53はそ
の分子に直交し念方向に双極子モーメント(P工)54
を有している。FIG. 5 schematically depicts an example of a cell for explaining the operation of a ferroelectric liquid crystal. 51a and 51b are /n
, O! , SnO, or ndium-Ti
A substrate (glass plate) coated with a transparent electrode made of a thin film such as nOxle') is used, and a liquid crystal of 8 mO" phase or 8 mH' phase in which the smectic molecular layer 52 is oriented perpendicular to the glass surface is sealed between the substrates (glass plates). A thick line 53 represents a liquid crystal molecule, and this liquid crystal molecule 53 has a dipole moment (P) 54 in the optical direction perpendicular to the molecule.
have.
基板51aと511)上の電極間に一定の閾値以上の電
圧を印加すると、液晶分子53のらせん構造がほどけ、
双隋子モーメン) (P工)54がすべて電界方向に向
くよう、液晶分子53は配向方向を変えることができる
。液晶分子53は、細長い形状を有しており、その長軸
方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例えばガ
ラス面の上下に互いにクロスニコルの偏光子を電けば、
電田印710極性によって光学特性が変わる液晶光学変
調素子となることは、容易に理解される。When a voltage higher than a certain threshold is applied between the electrodes on the substrates 51a and 511), the helical structure of the liquid crystal molecules 53 is unraveled.
The alignment direction of the liquid crystal molecules 53 can be changed so that all of the liquid crystal molecules 54 are oriented in the direction of the electric field. The liquid crystal molecules 53 have an elongated shape and exhibit refractive index anisotropy in the long axis direction and short axis direction. Therefore, for example, if crossed Nicol polarizers are placed above and below the glass surface,
It is easily understood that the electronic mark 710 is a liquid crystal optical modulation element whose optical characteristics change depending on the polarity.
本発明の液晶素子で好ましく用いられる液晶セルは、そ
の厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)することがで
きる。このように液晶層が薄くなるにしたがい、第6M
に示すように電界を印加していない状態でも液晶分子の
らせん構造がほどけ、非らせん構造となシ、その双極子
モーメン) PaまたはPI)は上向き(64a)又は
下向き(64b)のどちらかの状態をとる。このような
セルに、第6図に示す如く一定の1:閾値以上の極性の
異る電界ga又はg’bを電圧印加手段61aと61b
によシ付与すると、双極子モーメントは、電界ga又は
Etllの電界ベクトルに対応して上向き64a又は下
向き641)と向きを変え、それに応じて液晶分子は、
第1の安定状態65aか、あるいは第2の安定状態63
に+の何れか1方に配向する。The liquid crystal cell preferably used in the liquid crystal element of the present invention can have a sufficiently thin thickness (for example, 10 μm or less). As the liquid crystal layer becomes thinner, the 6th M
As shown in Figure 3, even when no electric field is applied, the helical structure of the liquid crystal molecules unwinds and becomes a non-helical structure.The dipole moment (Pa or PI) is either upward (64a) or downward (64b). take a state. Voltage applying means 61a and 61b are applied to such cells with electric fields ga or g'b having different polarities of a constant 1:threshold value or more as shown in FIG.
When the force is applied, the dipole moment changes its direction upward 64a or downward 641) in response to the electric field ga or the electric field vector of Etll, and accordingly, the liquid crystal molecules
Either the first stable state 65a or the second stable state 63
Orient in either direction of +.
このよう3強誘電性を液晶素子として用いることの利点
は、先に述べたが2つある。その第1は、応答速度が極
めて速いことであり、第2は液晶分子の配向が双安定性
を有することである。@2の点を、例えば第6図によっ
て更に説明すると、電界11!aを印児すると液晶分子
は第1の安定状態65aに配向するが、この状態は電界
を切っても安定である。又、逆向きの電界ibを印加す
ると、液晶分子は第2の安定状態65bに配向してその
分子の向きを変えるが、やはシミ界を切ってもこの状態
に留っている。又、与える電界E&が一定の閾値を越え
々い限)、それぞれの配向状態にやは)維持されている
。このような応答速度の速さと、双安定性が有効に笑現
されるにはセルとしては出来るだけ薄い方が好ましい。As mentioned above, there are two advantages to using such triferroelectricity as a liquid crystal element. The first is that the response speed is extremely fast, and the second is that the alignment of liquid crystal molecules has bistability. To further explain the point @2 using, for example, FIG. 6, the electric field 11! When a is applied, the liquid crystal molecules are oriented in a first stable state 65a, and this state remains stable even when the electric field is turned off. When an electric field ib in the opposite direction is applied, the liquid crystal molecules are oriented to a second stable state 65b and change their orientation, but they remain in this state even after the spot field is turned off. Further, as long as the applied electric field E& exceeds a certain threshold value, each orientation state is maintained. In order to effectively realize such fast response speed and bistability, it is preferable that the cell be as thin as possible.
以下、本発明を実施例に従って説明する。Hereinafter, the present invention will be explained according to examples.
実施例 1
ガラス基板上&C,高周波スパッタリング法によ3+1
o’aoXの工TO膜を蒸着形成した。しかる後、同一
の蒸着膜f!tKよジターゲットを工↑0がらクロム(
Or)に変えることによυ%3000Xのクロム膜を蒸
着形成した。Example 1 On glass substrate &C, 3+1 by high frequency sputtering method
A TO film of o'aoX was deposited. After that, the same deposited film f! tK change the target ↑0 while chromium (
A chromium film of υ% 3000X was formed by vapor deposition.
次に1このガラス基板上にポジ型レジスト(”AZ−1
370”Hoechat社製)をスピンナーを用いて膜
厚1μmとなる様に塗布し、プレベークした。このレジ
スト層上にマスク巾80μmでマスク部のピッチ100
μmのストライプ状iスクを用いて露光した。次いで、
現像、水洗してストライプパターンのマスクを形成し九
。ポストヘ−/後、 硝el第2セリウムアンモニウム
と過塩素酸と水の混合液でクロム膜をエツチングした後
、塩化第2鉄と塩酸と水の混合液でXTO膜をエツチン
グによるバターニングを行なった。Next, a positive resist ("AZ-1") was placed on this glass substrate.
370" (manufactured by Hoechat) was applied using a spinner to a film thickness of 1 μm and prebaked. On this resist layer, a mask width of 80 μm and a mask part pitch of 100 were applied.
Exposure was performed using a μm striped i-screen. Then,
Develop and wash with water to form a striped pattern mask. After post-etching, the chromium film was etched with a mixture of ceric ammonium nitrate, perchloric acid, and water, and then the XTO film was buttered by etching with a mixture of ferric chloride, hydrochloric acid, and water. .
次いでポジ型レジストを剥離して、第4図(a)の態様
とした後、高周波スパッタ法によシ81o!を1ooo
Xの膜厚で蒸着して、81o!の蒸着膜を形成した(第
4図(b))。その後、前記と同様のクロム用エツチン
グ液に浸漬するととkよシ、残シのクロム膜とその上の
slo、膜間時に除去し、第4図(c)の態様とした。Next, the positive type resist is peeled off to form the embodiment shown in FIG. 1ooo
Vapor deposited with a film thickness of X, 81o! A vapor-deposited film was formed (FIG. 4(b)). Thereafter, it was immersed in the same etching solution for chromium as described above, and the remaining chromium film and the slo layer on it were removed between the films, resulting in the embodiment shown in FIG. 4(c).
さらにζこ儂板上にポリイζド第1oooXを塗設した
後、先にバターニングされたストライプ状ZTO膜のス
トライプ長手方向に沿って布によるラビング処理を行な
った。次いで、この基板上1c1μm径のアルミナピー
ズを全面均一に塗布して(A) 11を極板を作製した
。Further, after coating polyide ζ No. 1oooX on the ζ-sheet, rubbing treatment with a cloth was performed along the stripe longitudinal direction of the striped ZTO film that had been patterned. Next, alumina beads having a diameter of 1 μm were uniformly applied to the entire surface of this substrate to prepare an electrode plate (A) 11.
尚、ポリイミド膜はピロメリット酸二無水物ト4,4I
−ジアミノジフェニルエーテルとの脱水縮合体であるポ
リアミック酸のN−メチルピロリドン溶液を塗布した後
、180℃加熱による脱水閉環反応によシポリイミド展
を形成した。In addition, the polyimide film is made of pyromellitic dianhydride 4,4I
After applying an N-methylpyrrolidone solution of polyamic acid, which is a dehydrated condensate with -diaminodiphenyl ether, a cypolyimide compound was formed by a dehydration ring-closing reaction by heating at 180°C.
別途、(AI電極板を作成した時に用いたラビング方向
をストライプ状ITO膜のストライプ長手方向に対して
垂直方向としたほかは全く同様にして(B)電極板を作
製した。但し、アルミナピーズの散布は省略した。Separately, an electrode plate (B) was prepared in exactly the same manner except that the rubbing direction used when creating the AI electrode plate was set perpendicular to the stripe longitudinal direction of the striped ITO film. Spraying was omitted.
ri+電極板と(Bl電極板のストライプ状パターン電
極が直交する様(それぞれのラビング方向が平行となる
様K)Kセル組し、DOBAMBOをia。Assemble K cells with the ri+ electrode plate (so that the striped pattern electrodes of the Bl electrode plate are perpendicular (so that their rubbing directions are parallel), and apply DOBAMBO ia.
tropio相になるまで加熱して、上記セルに封入し
な。セルの温度を徐々(0,5℃/時間)に冷却し、モ
ノドメイン液晶素子を作製した。Heat it until it reaches the tropio phase and seal it in the cell. The temperature of the cell was gradually cooled (0.5° C./hour) to produce a monodomain liquid crystal device.
この液晶素子をクロスニコルの偏光顕微鏡で観察したと
ころ、下達の比較例で現われ、ていた刃状線の配向欠陥
を全く生じていないことが判明した。When this liquid crystal element was observed with a crossed Nicol polarizing microscope, it was found that there was no alignment defect of edge lines that appeared in the comparative example below.
比較例 1
ガラス基板上に、高周波スパッタリング法によシロ00
ムのXTO@を蒸着形成し、この上に実施例1と同様の
ポジ型レジスト膜を形成し、同様のマスクを用いてレジ
スト膜を露光し、現像し、水洗し死後、!To膜をエツ
チングにょシバターニングした。次いで、実施例1と同
様のポリイミド膜を1000ムの膜厚で塗設した後、バ
ターニングされたストライプ状fTo膜の長手方向に沿
ってうぎング処理を施して、(C)電極板を作成し九。Comparative Example 1 White 00 was deposited on a glass substrate by high frequency sputtering method.
A positive resist film similar to that in Example 1 was formed on this by vapor deposition, and the resist film was exposed using the same mask, developed, and washed with water. The To film was etched and patterned. Next, a polyimide film similar to that in Example 1 was applied to a film thickness of 1000 μm, and then subjected to a scratching process along the longitudinal direction of the patterned striped fTo film to form (C) an electrode plate. Create nine.
別途、(C)電極板を作成した時に用いたラビング方向
をストライプ状工TO膜のストライプ長手方向く対して
WI:W方向としたほかに全く同様にして(功電葎板を
作成した。Separately, the rubbing direction used when creating the electrode plate (C) was changed to the WI:W direction with respect to the stripe longitudinal direction of the striped TO film, but in exactly the same manner as the above (Konden wafer plate was created).
rat電極板とC切電極板を実施例1と同様にしてセル
組みした後、同様の液晶を同様の方法で注入して液晶素
子としてから、同様の評価を行表ったところ、第2図に
示す様な刃状線の配向欠陥部が多数形成されていること
が判明した。After assembling the rat electrode plate and the C-cut electrode plate into a cell in the same manner as in Example 1, the same liquid crystal was injected in the same manner to form a liquid crystal element, and the same evaluation was performed. It was found that many alignment defects of the edge-like lines were formed as shown in the figure.
実施例2〜7と比較例2〜5
実施例1の液晶素子を作成した時に用い九810、膜の
膜厚を下記第1表の如く変更したほかは、実施例1と全
く同様の方法で液晶素子を作成し、同様の評価を行なっ
た。その結果を第1表に示す。Examples 2 to 7 and Comparative Examples 2 to 5 The liquid crystal device of Example 1 was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that the 9810 was used and the film thickness was changed as shown in Table 1 below. A liquid crystal device was created and evaluated in the same way. The results are shown in Table 1.
第 1 表
実施例2 1500 0u
5 1soo OII 4
1100 OII 5
900 ◎” 6 70
0 Qn 7 soo
O比較例2 1800
X# S 1600
Δ# 4 400 Δ#
5 200
X(表中、◎は配向欠陥が皆無の状態、Oは
配向欠陥がわずかに見られるが実用上問題とはならない
状態、Δは配向欠陥が電極間に発生しており、実用上問
題となる状態、×は配向欠陥が多数発生している状態を
それぞれ示している。)
実施例 8
実施例1の液晶素子を作成した時に用いた(Bl電極板
に形成したポリイミド膜及びそのラビング処理の使用を
省略したほかは、5J!施例1と全く同様の方法で液晶
素子を作成し、評価を行なったところ、配向欠陥は全く
観察されない上、液晶駆動時(20ボルトの矩形パルス
、300μsecで駆動)K、良好な双安定性が観察さ
れた。Table 1 Example 2 1500 0u
5 1soo OII 4
1100 OII 5
900 ◎” 6 70
0 Qn 7 soo
O Comparative Example 2 1800
X#S 1600
Δ# 4 400 Δ#
5 200
X (In the table, ◎ indicates a state in which there are no orientation defects, O indicates a state in which a few orientation defects are observed but does not pose a practical problem, and Δ indicates a state in which an orientation defect occurs between the electrodes, which poses a practical problem. (X indicates a state in which a large number of alignment defects have occurred.) Example 8 Used when creating the liquid crystal element of Example 1 (Using the polyimide film formed on the Bl electrode plate and its rubbing treatment) A liquid crystal element was fabricated and evaluated in exactly the same manner as in 5J! Example 1, except that 5J! was omitted, and no alignment defects were observed. ) K, good bistability was observed.
本発明によシ強籾電性液晶素子の全面に渡って均一な配
向制御が可能となり、液晶の完全な0N−OFF動作を
行なうようになった。このた3従来の段差による配向欠
陥があるものに比較して見映がよくなるだけではなく見
掛上のコントラストもよくなる効果もあった。According to the present invention, it has become possible to control uniform alignment over the entire surface of a strongly conductive liquid crystal element, and it has become possible to perform complete ON-OFF operation of the liquid crystal. In addition, not only the appearance was improved, but also the apparent contrast was improved compared to the conventional one with alignment defects due to steps.
第1図は、従来の強誘電性液晶素子の断面図である。第
2図は、従来の強誘電性液晶素子をクロスニコルの偏光
顕微愛で観察した時のスケッチを示す説明図である。第
3図は本発明の強誘電性液晶素子の断面図である。第4
図(al〜(clは、本発明で用いる平担化膜を形成す
るプロセスを表わす断面図である。第5図及び第6図は
、本発明で用いる強誘電性液晶素子を模式的に表わす説
明図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a conventional ferroelectric liquid crystal element. FIG. 2 is an explanatory diagram showing a sketch of a conventional ferroelectric liquid crystal element observed under a crossed Nicol polarization microscope. FIG. 3 is a cross-sectional view of the ferroelectric liquid crystal element of the present invention. Fourth
Figures (al to (cl) are cross-sectional views showing the process of forming the flattened film used in the present invention. Figures 5 and 6 schematically represent the ferroelectric liquid crystal element used in the present invention. It is an explanatory diagram.
Claims (10)
子において、前記一対の平行基板のうち少なくとも一方
の基板が複数の透明電極セグメント有しているとともに
、隣り合う前記透明電極セグメント間に絶縁膜で形成し
た平担化膜を有していることを特徴とする液晶素子。(1) In a liquid crystal element having a ferroelectric liquid crystal between a pair of parallel substrates, at least one of the pair of parallel substrates has a plurality of transparent electrode segments, and between the adjacent transparent electrode segments A liquid crystal element characterized by having a flattening film formed of an insulating film.
記絶縁膜の膜厚(t_2Å)との間で−500Å≦t_
1−t_2≦500Åの関係を有している特許請求の範
囲第1項記載の液晶素子。(2) If the thickness of the transparent electrode segment (t_1 Å) and the thickness of the insulating film (t_2 Å) are -500 Å≦t_
The liquid crystal element according to claim 1, which has a relationship of 1-t_2≦500 Å.
00Å〜3000Åである特許請求の範囲第2項記載の
液晶素子。(3) The film thickness (t_1 Å) of the transparent electrode segment is 8
The liquid crystal element according to claim 2, which has a thickness of 00 Å to 3000 Å.
500Åである特許請求の範囲第2項記載の液晶素子。(4) The film thickness of the transparent electrode segment is 1000 Å to 1
The liquid crystal element according to claim 2, which has a thickness of 500 Å.
である特許請求の範囲第1項記載の液晶素子。(5) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the insulating film is a film obtained by forming a film of an inorganic insulating material.
_2、Ta_2O_5、Al_2O_3及びZrO_2
からなる群より選択された少なくとも1種の物質である
特許請求の範囲第5項記載の液晶素子。(6) The inorganic insulating material is SiO, SiO_2, TiO
_2, Ta_2O_5, Al_2O_3 and ZrO_2
6. The liquid crystal element according to claim 5, which is at least one substance selected from the group consisting of:
求の範囲第1項記載の液晶素子。(7) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the insulating film is a vapor deposited film of an inorganic insulating material.
範囲第7項記載の液晶素子。(8) The liquid crystal element according to claim 7, wherein the inorganic insulating material is SiO_2.
ある特許請求の範囲第1項記載の液晶素子。(9) The liquid crystal element according to claim 1, wherein the ferroelectric liquid crystal is a chiral smectic liquid crystal.
状態をもつカイラルスメクチツク液晶である特許請求の
範囲第1項記載の液晶素子。(10) The liquid crystal device according to claim 1, wherein the ferroelectric liquid crystal is a chiral smectic liquid crystal having at least two stable orientation states.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28220685A JPS62141517A (en) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | Liquid crystal element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28220685A JPS62141517A (en) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | Liquid crystal element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62141517A true JPS62141517A (en) | 1987-06-25 |
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ID=17649446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP28220685A Pending JPS62141517A (en) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | Liquid crystal element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62141517A (en) |
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- 1985-12-16 JP JP28220685A patent/JPS62141517A/en active Pending
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