JPS61183111A - Preparation of silane - Google Patents
Preparation of silaneInfo
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- JPS61183111A JPS61183111A JP2080285A JP2080285A JPS61183111A JP S61183111 A JPS61183111 A JP S61183111A JP 2080285 A JP2080285 A JP 2080285A JP 2080285 A JP2080285 A JP 2080285A JP S61183111 A JPS61183111 A JP S61183111A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はクロロ水素化シランの不均化および/または再
分配によるシラン、特にモノシランおよびクロロシラン
の製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a process for producing silanes, particularly monosilanes and chlorosilanes, by disproportionation and/or redistribution of chlorohydrogenated silanes.
シラン、特にモノシランは半導体、アモルファス太陽電
池、ICデバイスや感光体等に有用な素原料である。ク
ロロシランあるいはモノシランは次式のようにクロロシ
ランを原料に不均化もしくは再分配反応によシ得られる
ことが知られている。そしてこれらの反応に有用な触媒
の開発が行われている。Silane, especially monosilane, is a raw material useful for semiconductors, amorphous solar cells, IC devices, photoreceptors, and the like. It is known that chlorosilane or monosilane can be obtained by disproportionation or redistribution reaction using chlorosilane as a raw material as shown in the following formula. Catalysts useful for these reactions are being developed.
28 l HOIs d 8 LH*04 + 81
CLa281シO1,、=Th El 1TIO13+
Si H30t2 BiHlOl g ssH
,+ S ta、Ctt上記の触媒としては、アミノ
基等を含む不溶性の固体陰イオン交換樹脂(%開昭50
−119798号公報)、トリメチルアミンまたはジメ
チルエチルアミン(特開昭59−121110号公報)
、パラジウム(特開昭54−59230号公報)、無機
固体塩基(特開昭59−174515号公報)、α−オ
キンアミン基を含む化合物(特開昭59−54617号
公報)、テトラアルキル尿素(特公昭55−14045
号公報)、炭火水素基でN−置換し九α−ピロリドン(
%公昭55−14045号公報)、スルホン酸基を有す
る陽イオン交換体(特開昭59−164614号公報)
、アミノアルコールとシリカの反応生成物(特開昭59
−156907号公報)などがあシ、不均一系触媒が注
目されている。28 l HOIs d 8 LH*04 + 81
CLa281shiO1,,=Th El 1TIO13+
Si H30t2 BiHlOl g ssH
, + S ta, Ctt As the above catalyst, an insoluble solid anion exchange resin containing an amino group etc. (%
-119798), trimethylamine or dimethylethylamine (JP-A-59-121110)
, palladium (JP-A-54-59230), inorganic solid bases (JP-A-59-174515), compounds containing α-oquinamine groups (JP-A-59-54617), tetraalkylureas (JP-A-59-54617), Kosho 55-14045
Publication No. 2), N-substituted with a hydrocarbon group and nine α-pyrrolidone (
% Publication No. 55-14045), a cation exchanger having a sulfonic acid group (Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-164614)
, reaction product of amino alcohol and silica (Unexamined Japanese Patent Publication No. 1983
156907), etc., heterogeneous catalysts are attracting attention.
クロロ水素化シランの不均化および/または再分配反応
に有用な触媒として提案されている前記の触媒、特に固
体陰イオン交換樹脂系の触媒は耐熱性2機械的強度に劣
シ又、イオン交換樹脂特有の膨潤等の問題があり、触媒
寿命も満足するものではなかった。一方、ルイス酸やア
ミン類等の均一系触媒は生成物と触媒の分離に多大のエ
ネルギーを要する。The aforementioned catalysts that have been proposed as useful catalysts for disproportionation and/or redistribution reactions of chlorohydrogenated silanes, especially those based on solid anion exchange resins, have poor heat resistance, poor mechanical strength, and ion exchange There were problems such as swelling peculiar to the resin, and the catalyst life was also unsatisfactory. On the other hand, homogeneous catalysts such as Lewis acids and amines require a large amount of energy to separate the product from the catalyst.
発明の要旨
本発明者らはクロロシランの不均化または再分配反応に
関する有用な触媒を研究開発する中で、特に多孔質無機
固体の表面を炭素に結合するホスフィノ基またはホスホ
ニウム基を含有する有機珪素基で化学修飾したものが高
活性でかつ耐熱性の良好な触媒となることを見出し、本
発明を完成させたものである。SUMMARY OF THE INVENTION In researching and developing useful catalysts for disproportionation or redistribution reactions of chlorosilanes, the present inventors have particularly focused on organic silicon containing phosphino or phosphonium groups that bond the surface of porous inorganic solids to carbon. The present invention was completed based on the discovery that a catalyst chemically modified with a group has high activity and good heat resistance.
すなわち、本発明は多孔性の無機固体の表面を炭素に結
合した第1級ないし第3級ホスフィノ基または第1級な
いし第4級ホスホニウム基を含有する有機珪素基で化学
修飾した触媒の存在下、s 1ancz4−n (ただ
し1≦n≦′5)で表わされるクロロシランを不均化お
よび/lたは再分配させることを特徴とするシラン類、
特にモノシランおよび/lたはクロロシランの製造方法
に関するものである。That is, the present invention provides a catalyst in which the surface of a porous inorganic solid is chemically modified with an organosilicon group containing a primary to tertiary phosphino group or a primary to quaternary phosphonium group bonded to carbon. , s 1ancz4-n (where 1≦n≦'5), silanes characterized by disproportionation and /l or redistribution of chlorosilane,
In particular, it relates to a method for producing monosilane and/or chlorosilane.
固体表面への化学修飾の技術自体はシランがプリング剤
による処理方法などで既に公知である。すなわち、シラ
ンがプリング剤で無機質表面を処理することによシ、各
種複合材料の有機質と無機質の接着性を向上させたシ、
強度、電気的特性を′改良することができることは当業
界において既に公知であるが、本発明にかかる方法で化
学修飾した物質が優れた触媒作用を示すことは驚くべき
ことである。Techniques for chemically modifying solid surfaces are already well known, such as the treatment of silane with a pulling agent. In other words, silane improves the adhesion between organic and inorganic materials in various composite materials by treating the inorganic surface with a pulling agent.
Although it is already known in the art that strength and electrical properties can be improved, it is surprising that materials chemically modified by the method of the present invention exhibit excellent catalytic activity.
表面修飾用試剤による表面修飾
多孔質無機固体の表面を炭素に結合するホスフィノ基ま
たはホスホニウム基を含有する有機珪素基で修飾するの
に用いることのでき表わされ、Yは第1級ないし第3級
のホスフィノ基、−P/R1あるいは第1級ないし第4
\R1
にリン原子を含む有機グループであっても良いし、置換
反応または付加反応によシリン原子含有基に変換可能な
官能基でも良い。置換または付加反応によって、リン原
子含有基に変換可能な官能基の中で代表的なものとして
は、塩素、臭素、ヨウ素の様なハロゲン原子、あるいは
アセテ−) (−o−g−aH* )で代表されるカル
ボンキシレートの様な脱離基、そして付加反応に有用な
不飽和結合を有する炭化水素基がある。この場合、ビニ
ルトリエトキシシランのように、Y−R−がビニル基で
あっても良い。Surface Modification with a Surface Modification Reagent It can be used to modify the surface of a porous inorganic solid with an organosilicon group containing a phosphino group or a phosphonium group bonded to carbon, and Y is a primary to tertiary group. phosphino group, -P/R1 or primary to quaternary
\R1 may be an organic group containing a phosphorus atom, or may be a functional group that can be converted into a syringe atom-containing group by a substitution reaction or an addition reaction. Typical functional groups that can be converted into phosphorus atom-containing groups through substitution or addition reactions are halogen atoms such as chlorine, bromine, and iodine, or acetate (-o-g-aH*) There are leaving groups such as carboxylate represented by , and hydrocarbon groups having unsaturated bonds useful for addition reactions. In this case, Y-R- may be a vinyl group as in vinyltriethoxysilane.
上記の一般式中でRは01〜C8゜の有機グループであ
シ、酸素原子あるいはノ10ゲン原子を含んでいてもよ
く、飽和でも不飽和でもよく、直鎖でも側鎖を有してい
てもよく、環式でも非環式でもよい。Yがリン原子含有
基の場合 R1,R1はC1〜C1゜の炭化水素基であ
シ、ハロゲンを酸素原子等の原子を含有していてもよく
、R1とR1はつながっていても良い。R3−R5はR
1、R1と同様の炭化水素基あるいは水素原子(但しH
M 、 R4、R1のうち1つのみ水素原子であってよ
い)であυ、互いにつながっていても曳い。ホスホニウ
ム基のX−はフッ素、塩素、臭素。In the above general formula, R is an organic group of 01 to C8°, and may contain an oxygen atom or a 10-gen atom, and may be saturated or unsaturated, and may be linear or have a side chain. may be cyclic or acyclic. When Y is a phosphorus atom-containing group, R1 and R1 are C1 to C1° hydrocarbon groups, and may contain atoms such as halogen and oxygen atoms, and R1 and R1 may be connected. R3-R5 is R
1. Hydrocarbon group or hydrogen atom similar to R1 (however, H
Only one of M, R4, and R1 may be a hydrogen atom), even if they are connected to each other. X- of the phosphonium group is fluorine, chlorine, or bromine.
ヨウ素+ B1’4 、 Cl0a + ON、 OH
,カルボキシレート等のアニオンである。z’、 z”
、 z”は少くとも1つが加水分解基であシ、ここで加
水分解基とは多孔性無機固体表面と反応して、脱離し、
表面と結合を作るか、珪素試剤どうしを互いに’;8t
−t)−st6 結合によりつなぐ機能を有する基を意
味する。代表的には、クロライド。Iodine + B1'4, Cl0a + ON, OH
, carboxylate, etc. z', z”
, z'' has at least one hydrolyzable group, where the hydrolyzable group reacts with the surface of the porous inorganic solid, leaves it,
Create a bond with the surface or bond the silicon reagents to each other.
-t)-st6 means a group having the function of connecting through a bond. A typical example is chloride.
ブロマイド、アイオダイド、アルコキシド。Bromides, iodides, alkoxides.
アミン基、アセトキシ基などである。加水分解基以外の
Zl、 Zl、 ZlはRと同様c、 〜Cto +7
)酸素原子あるいはハロゲン原子を含んでいても良い炭
化水素基でH、R1〜R’と同じかあるいは異っていて
もよい。Yがすでに炭素に結合するリン原子を有してい
る場合、すなわち、Yがホスフィノ基、ホスホニウム基
である場合は表面処理した多孔性無機固体はそのままク
ロロシランの不均化および/−!たは再分配反応の触媒
として使用できる。またYが炭素に結合するリン原子、
すなわち、ホスフィノ基またはホスホニウム基を有しな
いハロゲン原子、カルボキシレートあるいは不飽和結合
を有する炭化水素基などのリン原子含有基に変換可能な
官能基の場合には、該有機珪素修飾試剤を多孔質無機固
体の表面に化学結合(シリル化)する前あるいはした後
にリン化合物を付加あるいは置換せしめることによ)、
目的とする炭素に結合したホスフィノ基またはホスホニ
ウム基を含有する有機珪素基で修飾した多孔質無機固体
触媒をつくることがセきる。These include amine groups and acetoxy groups. Zl, Zl, Zl other than the hydrolyzable group are c, ~Cto +7 as in R
) A hydrocarbon group which may contain an oxygen atom or a halogen atom, which may be the same as or different from H and R1 to R'. When Y already has a phosphorus atom bonded to carbon, that is, when Y is a phosphino group or a phosphonium group, the surface-treated porous inorganic solid can be directly used to disproportionate chlorosilane and /-! or as a catalyst for redistribution reactions. In addition, Y is a phosphorus atom bonded to carbon,
That is, in the case of a functional group that can be converted into a phosphorus atom-containing group such as a halogen atom, a carboxylate, or a hydrocarbon group having an unsaturated bond that does not have a phosphino group or a phosphonium group, the organosilicon modification reagent is (by adding or substituting a phosphorus compound before or after chemical bonding (silylation) to the surface of a solid),
It is possible to prepare a porous inorganic solid catalyst modified with an organosilicon group containing a phosphino group or a phosphonium group bonded to the desired carbon.
上記、ホスフィノ基は第1級ないし第3級のものでよい
が、第3級が好ましい。また、ホスホニウム基は、第1
級表いし第4級のものでよいが、第3級または第4級が
好ましい・上記リン化合物としては、トリメチルホスフ
ィン、トリエチルホスフィン、トリn−プロピルホスフ
ィン、トリn−ブチルホスフィン、トリシクロへキシル
ホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフ
ェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、トリ
フェニルホスフィン、トリス(2,6−シメトキシフエ
ニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、ジメチルホ
スフィン、ジエチルホスフィン、ジシクロへキシルホス
フィン、ビス(2,6−’)メトキシフェニル)ホスフ
ィルなどがあげられる。The above-mentioned phosphino group may be primary to tertiary, but tertiary is preferable. In addition, the phosphonium group is the first
The phosphorus compounds may be quaternary, but tertiary or quaternary are preferable. Examples of the above phosphorus compounds include trimethylphosphine, triethylphosphine, tri-n-propylphosphine, tri-n-butylphosphine, and tricyclohexylphosphine. , methyldiphenylphosphine, dimethylphenylphosphine, dimethylphenylphosphine, triphenylphosphine, tris(2,6-cymethoxyphenyl)phosphine, diphenylphosphine, dimethylphosphine, diethylphosphine, dicyclohexylphosphine, bis(2,6- ') methoxyphenyl) phosphyl, etc.
上記表面修飾試剤としては、トリフェニル(r−トリメ
トキシシリルメチル)ホスホニウムクロリド、トリメチ
ル(トリメトキシシリルメチル)ホスホニウムクロリド
、トリフェニル(トリメトキシシリルメチル)ホスホニ
ウムクロリド、ジエチル(トリメトキシシリルメチル)
ホスフィン、トリフェニル゛(p−)リメトキシフェニ
ル)ホスホニウムクロリド等の既にホスフィノ基または
ホスホニウム基を有するものの他、r−クロロプロピル
トリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ヒニル
トリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリス(β−メFキシエトキシ)シラン、ビニルメチ
ルジクロロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、アセ
トキシエチルトリクロロシラン、4−クロロフェニルト
リクロロシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、2
−クロロエチルトリクロロシラン、クロロメチルトリク
ロロシラン、クロロメチルメトキシジメチルシラン。The above surface modification reagents include triphenyl(r-trimethoxysilylmethyl)phosphonium chloride, trimethyl(trimethoxysilylmethyl)phosphonium chloride, triphenyl(trimethoxysilylmethyl)phosphonium chloride, and diethyl(trimethoxysilylmethyl)phosphonium chloride.
In addition to those that already have a phosphino group or a phosphonium group such as phosphine, triphenyl(p-)rimethoxyphenyl)phosphonium chloride, r-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, hinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, Vinyltris(β-MeFoxyethoxy)silane, vinylmethyldichlorosilane, vinyldimethylchlorosilane, acetoxyethyltrichlorosilane, 4-chlorophenyltrichlorosilane, chloromethyltrimethoxysilane, 2
-Chloroethyltrichlorosilane, chloromethyltrichlorosilane, chloromethylmethoxydimethylsilane.
8−ブロモオクチルトリクロロシラ/、p−(クロロメ
チル)フェニルトリクロロシラン7−オクチニルトリク
ロロ7ラン、1−トリメトキシシリル−2−(p y
m−クロロメチル)フェニルエタン等のリン原子含有基
に変換可能な官能基を有する有機珪素化合物を用いるこ
とができる。また、多孔質無機固体の表面への化学修飾
方法(シリル化)はその両者を室温または室温以上の温
度、好ましくは30〜300℃で接触させるだけでよく
、加水分解基の加水分解を促進するために、水を共存さ
せても良いし、水に対する溶解性を改良する為に水−ア
ルコール系の溶媒を使用することもできる。8-bromooctyltrichlorosila/, p-(chloromethyl)phenyltrichlorosilane 7-octynyltrichloro7rane, 1-trimethoxysilyl-2-(p y
An organosilicon compound having a functional group convertible into a phosphorus atom-containing group such as m-chloromethyl)phenylethane can be used. In addition, the method of chemically modifying the surface of a porous inorganic solid (silylation) requires only contacting the two at room temperature or a temperature higher than room temperature, preferably 30 to 300°C, which promotes hydrolysis of the hydrolyzable group. Therefore, water may be present together, or a water-alcohol solvent may be used to improve solubility in water.
多孔性無機固体
本発明に使用できる多孔性無機固体としてはシリカ、石
英、ツバキュライト、湿式法シリカ、コロイダルシリカ
、シリカエアロゲル。Porous inorganic solid Porous inorganic solids that can be used in the present invention include silica, quartz, tubaculite, wet process silica, colloidal silica, and silica aerogel.
珪砂、珪石、珪そう土、トリジマイト、クリストバライ
ト等の酸化珪素含有物、カオリン。Silicon oxide-containing substances such as silica sand, silica stone, diatomaceous earth, tridymite, cristobalite, and kaolin.
マイカ、タルク、ウオラストナイト、石綿。Mica, talc, wollastonite, asbestos.
珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、ゼオライト、ベン
トナイト、活性白土、多孔質ガラス、珪酸マグネシウム
、珪酸ジルコニウム等の珪酸塩、炭酸カルシウム、炭酸
マグネシウム等の炭酸塩、水酸化マグネシウム、水酸化
アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化チタニウム等
の水酸化物、酸化亜鉛、液化鉄。Calcium silicate, aluminum silicate, zeolite, bentonite, activated clay, porous glass, silicates such as magnesium silicate and zirconium silicate, carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, calcium hydroxide, water Hydroxides such as titanium oxide, zinc oxide, and liquefied iron.
アルミナ、酸化マグネシウム、チタニア、シリカ・アル
ミナ、ジルコニア、酸化クロム。Alumina, magnesium oxide, titania, silica/alumina, zirconia, chromium oxide.
酸化カルシウム、酸化バナジウム、酸化スズ。Calcium oxide, vanadium oxide, tin oxide.
酸化ビスマス等の金属酸化物、炭化珪素、炭化チタニウ
ム、炭化ジルコニウム、炭化はう素等の炭化物、窒化珪
素、窒化はう素、窒化チタニウム、窒化ジルコニウム等
の窒化物。Metal oxides such as bismuth oxide, carbides such as silicon carbide, titanium carbide, zirconium carbide, and boron carbide, and nitrides such as silicon nitride, boron nitride, titanium nitride, and zirconium nitride.
アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン。Aluminum, copper, iron, nickel, titanium.
ジルコニウム、タングステン等の金属が使用でき、また
その表面積は1rr?/1以上2通常2〜100oy/
Iのものが用いられる。Metals such as zirconium and tungsten can be used, and the surface area is 1rr? /1 or more 2 usually 2-100oy/
I is used.
クロロシランの不均化および/または再分配反応は液相
でも気相でも良く、また、流通式でも回分式でもよいが
、気相の方が低圧でおこなえ、かつ触媒と生成物の分離
が容易な気相の方が好ましく、流通式が好ましい。夏応
温度は0〜300℃、好ましくは20〜200℃であり
、圧力は常圧〜s o kg/cd (ゲージ圧)、接
触時間0.1〜20秒の範囲で行うことができる。The disproportionation and/or redistribution reaction of chlorosilane may be carried out in the liquid phase or gas phase, and may also be carried out in a flow or batch manner, but the gas phase allows for lower pressure and easier separation of the catalyst and products. A gas phase is preferable, and a flow type is preferable. The summer temperature is 0 to 300°C, preferably 20 to 200°C, the pressure is normal pressure to so kg/cd (gauge pressure), and the contact time is 0.1 to 20 seconds.
また原料のクロロシランは81HnCtn−n (但し
1≦n≦3)で表わされるクロロ水素化シランである。The raw material chlorosilane is a chlorohydrogenated silane represented by 81HnCtn-n (1≦n≦3).
すなわちモノクロロシラン、ジクロロシランまたはトリ
クロロシランの中の1種類あるいは2種類以上の任意の
組成の混合物を用いることができ、窒素ガス等の不活性
流体で希釈してもよい。That is, one type of monochlorosilane, dichlorosilane, or trichlorosilane, or a mixture of two or more types of arbitrary composition can be used, and it may be diluted with an inert fluid such as nitrogen gas.
多孔性無機固体表面を炭素に結合したホスフィノ基ある
いはホスホニウム基を有する有機珪素基で化学修飾した
触媒の存在下に、クロロクランの不均化および/または
再分配反応を行うに際し、従来の陰イオン交換樹脂系の
触媒より高温で行え、モノシランおよび/または原料と
異なるクロロシランを収率良く得ることができる。In the presence of a catalyst in which the surface of a porous inorganic solid is chemically modified with an organosilicon group having a phosphino group or a phosphonium group bonded to carbon, conventional anions are It can be carried out at higher temperatures than exchange resin catalysts, and monosilane and/or chlorosilane different from the raw material can be obtained in good yield.
実施例
以下、実施例により、更に詳細に説明するが本発明を限
定するものではない。実施例において反応生成物の分析
は全てヘリウムをキャリアーガスとしたガスクロマトグ
ラフ(2罵のQV−1カラム、カラム温度160℃のT
CD )により行った。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In the Examples, all reaction products were analyzed using a gas chromatograph using helium as a carrier gas (QV-1 column with a column temperature of 160°C).
CD).
実施例−1
窒素置換した100−のコンデンサー付フラスコに5.
711のγ−クロロプロピルトリメトキシシラン(日本
ユニカー−裂 商品名A−143)。Example-1 5.
711 γ-chloropropyltrimethoxysilane (Nippon Unicar-Shiba trade name A-143).
7.5gのトリフェニルホスフィン(小寒化学製)。7.5 g of triphenylphosphine (manufactured by Kokan Kagaku).
[L2pの塩化ニッケル(Ntct、・6H,O)およ
び40%lのジメチルホルムアミド(以下DM’Fと略
す)を入れ、常圧下、4時間還流加熱した。次に1 m
HEに減圧し、150℃に加熱して揮発性成分を除去
し1sgの粘稠なトリフェニル・r−()リメトキシシ
リルブロピル)ホスホニウムクロリドを得た。このホス
ホニウム塩五〇Nと5.57Nのシリカ(フジダヒソン
社製 IDタイプシリカゲル、30〜60メツシユ、細
孔容積1、04 cclI #表面積 550 n17
g 、を空気中120℃で24時間乾燥したもの)を窒
素置換したコンデンサー付15ONlフラスコに入れ、
8G−のモノクロロベンゼンを加えて常圧下、3時間還
流加熱した。次に不溶性固体成分をろ過によって集め、
これを100りのメタノールで3回、100−のクロロ
ホルムで2回洗浄した後、風乾し、次に空気中120℃
で12時間乾燥し、&86.9の第4級ホスホニウム基
含有有機珪素修飾シリカを得た。この固体成分α721
(1,92cc )をガラス製気相常圧流過反応装置
(内径10 M )に充てんし、窒素気流中110℃で
1時間加熱した後、反応層を所定温度に保ちながら、ク
ロ田シランの不均化反応を行った。[L2p of nickel chloride (Ntct, .6H,O) and 40% liter of dimethylformamide (hereinafter abbreviated as DM'F) were added and heated under reflux for 4 hours under normal pressure. then 1 m
The pressure was reduced to HE and volatile components were removed by heating to 150° C. to obtain 1 sg of viscous triphenyl.r-()rimethoxysilylpropyl)phosphonium chloride. This phosphonium salt 50N and 5.57N silica (ID type silica gel manufactured by Fujida Hisson Co., Ltd., 30-60 mesh, pore volume 1,04 cclI #surface area 550 n17
g, dried in air at 120°C for 24 hours) was placed in a 15 ONl flask with a condenser purged with nitrogen,
8G of monochlorobenzene was added, and the mixture was heated under reflux for 3 hours under normal pressure. The insoluble solid components are then collected by filtration,
This was washed three times with 100% methanol and twice with 100% chloroform, air-dried, and then heated to 120°C in the air.
was dried for 12 hours to obtain a quaternary phosphonium group-containing organosilicon-modified silica of &86.9. This solid component α721
(1,92 cc) was filled into a glass vapor phase normal pressure flow reactor (inner diameter 10 M) and heated at 110°C in a nitrogen stream for 1 hour.Then, while keeping the reaction layer at a predetermined temperature, An equalization reaction was performed.
トリクロロシランは窒素との混合ガス(81[Ot。Trichlorosilane is a mixed gas with nitrogen (81[Ot.
/Nz:モル比3/7)を、またジクロロシランは純ガ
スを反応器に連続的に供給した。各反応条件呼定後へ時
間の生成物をガスクロマトグラフによシ分析した。結果
を表−1に示す。/Nz: molar ratio 3/7) and pure dichlorosilane gas were continuously supplied to the reactor. After each reaction condition was specified, the products were analyzed by gas chromatography. The results are shown in Table-1.
表−1
B1mt3/N、 120 47 − Q、9
1[L7 74.4 14.0# 62 15
− α6 &7 737 12.0#
24 15 − Q、4 7.6 82.1
9.9BiEI、OL、 103 28 1五5
12.0 3&8 3&7 (L9# 65
40 14.5 11.0 3&0 37.9 12
# 25 .36 7.0 1&7 46.8
29.4 α1実施例−2
窒素雰囲気下、コンデンサー付100−フラスコ中、2
Iiのr−クロロプロピルトリメトキシシランを251
1のトルエンに溶かし、これに7.0Iのシリカ(フジ
ダビソン社製 マクロビーズシリカゲル5D、30〜6
0メツシユ、細孔容積t2 S cc/、9 、表面積
260 rr?/ I #空気中 120℃。Table-1 B1mt3/N, 120 47 - Q, 9
1[L7 74.4 14.0# 62 15
- α6 &7 737 12.0#
24 15 - Q, 4 7.6 82.1
9.9BiEI, OL, 103 28 155
12.0 3&8 3&7 (L9# 65
40 14.5 11.0 3&0 37.9 12
#25. 36 7.0 1&7 46.8
29.4 α1 Example-2 Under nitrogen atmosphere, in a 100-flask with a condenser, 2
Ii r-chloropropyltrimethoxysilane at 251
Dissolve 1 in toluene and add 7.0 I of silica (Fuji Davison Macrobead Silica Gel 5D, 30-6
0 mesh, pore volume t2 S cc/, 9, surface area 260 rr? / I #In air 120℃.
12時間乾燥したもの)を加え、110℃で4時間加熱
した。空冷後ろ過し、固体成分を50セのトルエンで5
回洗浄し風乾後、空気中100℃で8時間乾燥し、7.
41!のγ−クロロプロピルトリメトキシシラン修飾シ
リカを得た。この修飾シリカ5.0 g、!: (L
5−のメチルジフェニルホスフィン、25−のDMF
、および11gの塩化ニッケル(NICt、・6H,O
)を50−フラスコに入れ、窒素雰囲気下150℃で3
時間加熱した。(dried for 12 hours) was added and heated at 110°C for 4 hours. After cooling in the air, filter, and remove the solid components with 50 C of toluene.
After washing twice and air drying, dry in air at 100°C for 8 hours.7.
41! γ-chloropropyltrimethoxysilane modified silica was obtained. 5.0 g of this modified silica! : (L
5-methyldiphenylphosphine, 25-DMF
, and 11 g of nickel chloride (NICt, .6H,O
) was placed in a 50° flask and heated at 150°C under a nitrogen atmosphere.
heated for an hour.
空冷後、ろ過し、固体成分を504のメタノールで3回
洗浄し、風乾後、空気中100℃で10時間乾燥し、7
.6Ilのメチルジフェニル(r−トリメトキシシリル
プロピル)ホスホニウム、クロリド修飾シリカを得た。After cooling in the air, it was filtered, the solid component was washed three times with 504 methanol, and after air drying, it was dried in the air at 100°C for 10 hours.
.. 6Il of methyldiphenyl(r-trimethoxysilylpropyl)phosphonium, chloride-modified silica was obtained.
この修飾シリカ175J(1,9cc) を用いて実
施例−1と同じ要領でトリクロロシラン(BIHc1m
/Nteモル比3/7)の不均化反応を行った。Using this modified silica 175J (1.9 cc), trichlorosilane (BIHc1m
/Nte molar ratio 3/7).
結果を表−2に示す。The results are shown in Table-2.
表−2
日1TIC43/’Hz 12 Q 40
αB 11.0 74゜6 1
五6# 6255 (1444
8五9 ρ3# 25 12
(L2 !L5 87.7
46実施例−3
実施例−1で合成したトリフェニル・γ−(トリメトキ
シシリル)プロピルホスホニウムクロリドasIIにz
sIIのチタニア(ダイヤキャタリスト■製、商品名D
C−312420〜60メツシユを空気中100℃24
時間乾燥したもの)および20−の七ノクロロベンゼン
を加え、窒素置換されたコンデンサー付フラスコ中で常
圧下還流加熱した。次にろ過によって不溶性固体を分離
し、100sjのクロロホルムで2回洗浄し、風乾後、
空気中で100℃12時間乾燥して、第4級ホスホニウ
ムクロリドが表面に化学結合したチタニア2.8Iを得
た。この修飾チタニアt3J(2,0cc)を触媒とし
て、トリクロロシラン(’ 8 i HOL@ / N
* ;モル比3/7)の不均化反応を実施例−1と同じ
要領で行った。Table-2 1 TIC43/'Hz 12 Q 40 per day
αB 11.0 74°6 1
56# 6255 (1444
859 ρ3# 25 12
(L2 !L5 87.7
46 Example-3 Z to triphenyl γ-(trimethoxysilyl)propylphosphonium chloride asII synthesized in Example-1
sII Titania (manufactured by Diamond Catalyst ■, product name D)
C-312420~60 mesh in air at 100℃24
) and 20-7-chlorobenzene were added, and the mixture was heated under reflux under normal pressure in a nitrogen-purged condenser flask. Next, insoluble solids were separated by filtration, washed twice with 100 sj of chloroform, and after air drying,
It was dried in air at 100° C. for 12 hours to obtain titania 2.8I with quaternary phosphonium chloride chemically bonded to the surface. Using this modified titania t3J (2,0 cc) as a catalyst, trichlorosilane (' 8 i HOL@/N
*; molar ratio 3/7) disproportionation reaction was carried out in the same manner as in Example-1.
結果を表−3に示す。The results are shown in Table-3.
表−3
(’C) (m1n−1) stu、cz stH,
cz、 81304 BICL4S1wts/H* 9
9 !18 α1 016 711L9 1
α3# 61 4ONO34,57,
5# 215 4G
4.7 9G、9 4.4実施例−
4
窒素雰囲気下、コンデンサー付フラスコにγ−クロロプ
ロピルトリエトキシシランh q I #屯ローのトリ
ーn−ブチルホスフィン、204のD M 1’ *及
びα04gの塩化ニッケル(NiC4,・6F[、O)
を入れ、12時間還流加熱した。次に減圧蒸留によシ、
揮発性成分を除去し、7.711の粘稠なトリーn−ブ
チルγ−(トリエトキシシリルプロビル)ホスホニウム
クロリドを得り。Table-3 ('C) (m1n-1) stu, cz stH,
cz, 81304 BICL4S1wts/H*9
9! 18 α1 016 711L9 1
α3# 61 4ONO34,57,
5# 215 4G
4.7 9G, 9 4.4 Example-
4 Under a nitrogen atmosphere, in a flask with a condenser, γ-chloropropyltriethoxysilane h q I
and heated under reflux for 12 hours. Next, by vacuum distillation,
Removal of volatile components yielded 7.711 viscous tri-n-butyl γ-(triethoxysilylprobyl)phosphonium chloride.
このホスホニウム塩α45,9とシリカ(実施例−1で
使用したものと同じ)五8gをコンデンサー付フラスコ
に入れ、20りのモノクロロベンゼンを加え、窒素雰囲
気下で還流加熱した。This phosphonium salt α45,9 and 58 g of silica (same as that used in Example 1) were placed in a flask equipped with a condenser, 20 g of monochlorobenzene was added, and the mixture was heated under reflux under a nitrogen atmosphere.
空冷後、ろ過により不溶性固体成分を分離し、100り
のメタノールで3回洗浄した後風乾し、空気中100℃
で12時間乾燥し、4.211のテトラアルキルホスホ
ニウム型有機珪素修飾シリカを得た。該修飾シリカを触
媒として実施例−1の要領に従ってトリクロロシラン(
81HO4/N3モル比3/7)の不均化反応を行った
。After cooling in air, insoluble solid components were separated by filtration, washed three times with 100 methanol, air-dried, and heated to 100°C in air.
The mixture was dried for 12 hours to obtain 4.211 tetraalkylphosphonium-type organosilicon-modified silica. Using the modified silica as a catalyst, trichlorosilane (
A disproportionation reaction was carried out at a molar ratio of 81HO4/N3 (3/7).
結果を表−4に示す。The results are shown in Table 4.
表−4
!31H(:!4/)I、 99 40 CL
5 9.5 8[L7 9.6# 61 5
7 α2 44 8z3&1s 23
57 2.7 9482.5実施例−5
窒素雰囲気下、コンデンサー付100−フラスコ中で、
679のγ−クロロプロピルトリメトキシシランを50
−のトルエンに溶かし、これに16.5M+のシリカ(
実施例−1で使用したと同じもの)を加え、常圧下5時
間還流加熱した。Table-4! 31H(:!4/)I, 99 40 CL
5 9.5 8[L7 9.6# 61 5
7 α2 44 8z3&1s 23
57 2.7 9482.5 Example-5 In a 100-flask with a condenser under a nitrogen atmosphere,
679 γ-chloropropyltrimethoxysilane to 50
- dissolved in toluene and added 16.5M+ silica (
The same material used in Example 1) was added thereto, and the mixture was heated under reflux for 5 hours under normal pressure.
空冷後ろ過して得られた固体成分を50−のトルエンで
3回洗浄し、風乾した後、空気中120℃で12時間乾
燥し、17.7 、?のT−クロロプロピルトリメトキ
シシラン修飾シリカを得た。After cooling in air, the solid component obtained by filtration was washed three times with 50-g of toluene, air-dried, and then dried in air at 120°C for 12 hours. T-chloropropyltrimethoxysilane modified silica was obtained.
この修飾シリカ15.O,i9を250−フラスコに入
れ、50.−R1のテトラヒドロフラン溶液を加えて窒
素雰囲気下撹拌しながら、0℃でビス(O−メトキシフ
ェニル)ホスフィノリチウムのテトラヒドロフラン溶液
100d()リス(0−メトキシフェニル)ホスフィン
五2Iと金属リチウムLL3gをテトラヒドロフラン中
で反応させて得る。1004中ビス(0−メトキシフェ
ニル)ホスフィノリチウムとして2−311存在)を徐
々に30分間かけて加え、この温度で1時間反応させた
。次に11の塩化アンモニウムを含む水溶液20−を加
えて、過剰のビス(〇−メトキシフェニル)ホスフィノ
リチウムヲ分解した後、不溶性固体な分離し、窒素雰囲
気下、100づのテトラヒドロフランで2回、100m
のメタノールで2回洗浄し、風乾後、減圧下100℃で
2時間乾燥し、ジアリルホスフィノ基の結合した有機珪
素化合物修飾シリカ1&8Iを得た。この修飾シリカ2
. OCQ (Q、79g)を用いて、実施例−1と同
じ要領でトリクロロシラン(5tucLs/L 、モル
比5/7)の不均化反応を行った。This modified silica15. O, i9 into a 250-flask, 50. - Add the tetrahydrofuran solution of R1 and stir under nitrogen atmosphere, and add 100 d of the tetrahydrofuran solution of bis(O-methoxyphenyl)phosphinolithium ()lis(0-methoxyphenyl)phosphine 52I and 3 g of metal lithium LL in tetrahydrofuran at 0°C. It is obtained by reacting inside. 2-311 bis(0-methoxyphenyl)phosphinolithium present in 1004) was gradually added over 30 minutes and reacted at this temperature for 1 hour. Next, an aqueous solution 20- containing ammonium chloride of No. 11 was added to decompose the excess bis(〇-methoxyphenyl)phosphinolithium, and then the insoluble solid was separated and treated twice with 100 No. of tetrahydrofuran under a nitrogen atmosphere. 100m
The resulting product was washed twice with methanol, air-dried, and then dried under reduced pressure at 100° C. for 2 hours to obtain organosilicon compound-modified silica 1&8I to which diallylphosphino groups were bonded. This modified silica 2
.. Using OCQ (Q, 79 g), a disproportionation reaction of trichlorosilane (5 tucLs/L, molar ratio 5/7) was carried out in the same manner as in Example-1.
結果を表−5に示す。The results are shown in Table-5.
表−5
B’H”As/’Hz 110 42 a4
a8 8a6 1a262 38 0.1 4.
4 9α64.9# 35 41 0
2.2 95.4 2.4手続補正書
昭和60年 3 月 y 日Table-5 B'H"As/'Hz 110 42 a4
a8 8a6 1a262 38 0.1 4.
4 9α64.9# 35 41 0
2.2 95.4 2.4 Procedural Amendment Written March y, 1985
Claims (1)
たはホスホニウム基を含有する有機珪素基で化学修飾し
た触媒の存在下SiHnCl_4_−_n(但し1≦n
≦3)で表わされるクロロシランを不均化および/また
は再分配させることを特徴とするシランの製造方法。In the presence of a catalyst in which the surface of a porous inorganic solid is chemically modified with an organic silicon group containing a phosphino group or a phosphonium group bonded to carbon,
≦3) A method for producing silane, which comprises disproportionation and/or redistribution of chlorosilane.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2080285A JPS61183111A (en) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | Preparation of silane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2080285A JPS61183111A (en) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | Preparation of silane |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61183111A true JPS61183111A (en) | 1986-08-15 |
JPH0413291B2 JPH0413291B2 (en) | 1992-03-09 |
Family
ID=12037178
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2080285A Granted JPS61183111A (en) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | Preparation of silane |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61183111A (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19544730A1 (en) * | 1995-11-30 | 1997-06-05 | Wacker Chemie Gmbh | Process for the preparation of SiH-containing organylchlorosilanes |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6060915A (en) * | 1983-09-12 | 1985-04-08 | Tokuyama Soda Co Ltd | Manufacture of slightly halogenated silane or monosilane |
-
1985
- 1985-02-07 JP JP2080285A patent/JPS61183111A/en active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6060915A (en) * | 1983-09-12 | 1985-04-08 | Tokuyama Soda Co Ltd | Manufacture of slightly halogenated silane or monosilane |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0413291B2 (en) | 1992-03-09 |
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