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JPS60202152A - 室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物及びその製造法 - Google Patents

室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物及びその製造法

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Publication number
JPS60202152A
JPS60202152A JP60026618A JP2661885A JPS60202152A JP S60202152 A JPS60202152 A JP S60202152A JP 60026618 A JP60026618 A JP 60026618A JP 2661885 A JP2661885 A JP 2661885A JP S60202152 A JPS60202152 A JP S60202152A
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General Electric Co
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は炭素−錯結合によつヤ錫に結合されたオルガノ
基を有しかつ錫の残りの原子価はβ−ジケトネート基に
よって満たされている錫縮合触媒、たとえばジ(n−ブ
チル)錫ビス(アセチルアセトネート)、の有効量を使
用することによって改善された保存安定性を付与された
室温加硫性オルガノポリシロキサ/組成物に関するもの
である。
従−来の技術 Brownらの米国特許第3.161.614号明細書
に示されるごとく、本発明以前においてポリアルコキシ
末端ポリシロキサン及びジブチル錫ジラウレートのごと
きモノカルボン酸金属塩を使用して安定な室温加硫性(
RTV )オルガノポリシロキサン組成物を製造する試
みがなされてきた。これらの組成物は満足に硬化しない
ものであった。改善された結果はBeeraの米国特許
第4.100.129号明細書において、縮合触媒とし
て金属−酸素−炭素結合によって金属に結合されたオル
ガノ基を有するシラノール反応性オルガノ金属エステル
を使用することによって達成された。錫−酸素−炭素結
合によって錫に結合されたオルガノ基を有するシラノー
ル反応性オルガノ錫化合物をRTv縮合触媒として使用
する場合には、得られる湿分硬化性組成物はしばしば不
安定になることが経験された。
本明細書を通じ、本発明の一液型ポリアルコキシ末端オ
ルガノポリシロキサンRTV組成物に対して使用される
場合の用語1安定な“とは大気湿分を排除している間は
実質的に変化することなく保持し得るものでありかつ長
期の貯蔵期間の後に不粘着性エラストマーに硬化する湿
分硬化性混合物を意味する。さらに、気安定なRTV 
’も大気圧条件下で新たに混合したRTV成分によって
示される不粘着時間とそれと同一の成分の混合物を耐湿
性のかつ湿分を含まない容器中に周囲条件下で長い貯蔵
期間又は高温における促進老化に基づいて等価期間の間
保持した後に大気湿分に暴露した際に示される不粘着時
間とが実質的に同一であることを意味する。
さらに、whtteらの米国特許第4.395.526
号明細書に示されるごとく、化学的に結合されたヒドロ
キシ基、水又はメタノールを除去するためにシランス力
べ/ジャー(脱除剤)を使用することによって優れた効
果が達成された。1−かじながら、メチルジメトキシ−
(N−メチルアセトアミド)シランのようなこれらのシ
ランスカベンジャーの製造はしばしば特別の技術を必要
と−しまた硬化中に望ましくない副生物を生成し得る。
−液型アルコキン官能性RTV組成物及び方法に対する
スカベンジャーについての別の改良はDgl ark 
の米国特許出願BN、 349695明細書(1982
年2月17日付出願)に示されている。
痕跡量の水、メタノール及びシラノールに対スル有機ス
カベンジャーはwhateらの米国特許出願SN、 4
81,524明細書(1985年4月1日出願)に−液
性の安定な湿分硬化性アルコキシ末端オルガノポリシロ
キサン組成物として示されている。化学的に結合された
ヒドロキシ官能基に対する別の脱除技術はLOCkh&
rt の米国特許出願8N。
481.529.8N、 481527.SN、481
528及びSN、 481550明細書(いずれも19
83年4月1日付出願)中に示されている。
錫縮合触媒を使用する室温加硫性オルガノポリシロキサ
ン組成物の安定性の改良のだめの上述した技術は安定な
、実質的に酸を含まない硬化性オルガノポリシロキサン
を与えることが認められたが、ヒドロキシ官能基に対し
て別の有機、無機又はオルガノシリコーンスカベンジャ
ーを必要とする。シラノール末端又はアルコキシ末端ポ
リジオルガノシロキサン及び錫縮合触媒を使用し、さら
にアルコキシシラン架橋剤を組合わせて使用することが
できかつ随意にアミン促進剤を使用してもよい安定ガ室
温加硫性オルガノポリシロキサン組成物をヒドロキシ官
能性物質に対するスカベンジャーのような追加の物質を
使用することなしに製造することが望ましい。
本発明は縮合触媒として炭素−錯結合によって錫に結合
された2個の一価オルガノ基を有しかつ錫の残りの原子
価はβ−ジケトネート基によって満たされている型の錫
化合物を用いることによってメタノール又はヒドロキシ
含有物質用のスカベンジャーを使用することなしに安定
な、実質的に酸を含まない室温加硫性オルガノポリシロ
キサン組成物を製造し得るという本発明者の知見に基づ
くものである。本発明の実施に使用される錫縮合触媒は
式 (式中、Rは0(1−1a)−価炭化水素基及び置換−
価炭化水素基から選んだ基であり R1、R2及びR3
は水素* i’t + −Ell(、R)s lアリー
ル、アシル及びニトリル基からなる群から選んだ同一で
も異なってもよい一価の基である)の範囲に包含される
ものである。
本発明の安定な、実質的に酸を含まない湿分硬化性オル
ガノポリシロキサン組成物を製造するために使用し得る
代表的なシラノール末端ポリジオルガノシロキサンは式 (式中、R4はC!(1−13)−価の置換又は非置換
炭化水素基、好ましくはメチル基であるか又は主割合の
メチル基と少割合のフェニル、シアノエチル。
トリフルオルプロピル、ビニル、水素及びそれらの混合
物との混合物であり、nは約5〜psoo。
の範囲の整数である)を有するものである。
本発明のRTV組成物を製造するために使用し得るポリ
アルコキシ末端オルガノポリシロキサンは式 (式中 R4及びnは前記定義したとおりであシ、R6
はC(+−1s)炭化水素基及び置換0(1−+3)炭
化水素基から選んだ一価の基であり 、R’はアルキル
基。
アルキルエーテル基、アルキルエステル基、アルキルシ
アノ基及びアルキルシアノ基から選んだC(+−a)脂
肪族有機基又はC(7−13)アラルキル基であり、a
は0又は1に等しい整数である)を有するものである。
本発明のRTV組成物は式 %式%: (41 (式中 R5、H@及びaは前記の意義を有する)をも
つ架橋用ポリアルコキシシランを含有し得る。
本発明のRTV組成物はさらに式(1)の錫縮合触媒上
キレート化し得るβ−ジケトンを含有し得る。
か\るβ−ジケトンを以下1キレ一ト形成配位子lと称
する。キレート形成配位子は式 (式中 R1、R2及びR3は上記の意義を有する)に
包含されるものであり、有効量で使用される場合にはR
TV組成物に改良された安定性を付与することが認めら
五た。
発明の開示 本発明によれば、重量基準で、 に)化学的に結合されだジオルガノシロキシ単位から本
質的に構成されかつポリアルコキシシロキシ単位を末端
基とするオルガノポリシロキサン100部; (ロ)式(4)のポリアルコキシシラン0〜10部:(
0)アミン促進剤0〜5部; (ロ)式(1)の錫縮合触媒の有効量;及び(6)式(
5)のキレート形成配位子0〜5部:からな′る室温加
硫性オルガノポリシロキサン組成物が提供される。
さらに本発明は、重量基準で、つぎの成分:(i)式(
3)のアルコキシ末端オルガノポリシロキサン100部
; (ii)式(4)のポリアルコキシシラン0〜10部:
(iii>アミン促進剤0〜5部: 6■)式(1)の錫縮合触媒の有効量:及び(v)式(
5)のキレート形成配位子0〜5部;を実質的に無水の
条件下で一緒に混合することからなる室温加硫性オルガ
ノポリシロキサン組成物の製造法を提供する。
さらに本発明は、つぎの工程: (1)重量基準で、つぎの成分: (i)式12)のシラノール末端ポリジオルガノシロキ
サン100部: (11)式(4)のアルコキシシラン0.1〜10部:
(ii)アミン促進剤0〜5部: (iV)充填剤0〜−700部;及び (V) 式(51のβ−ジケトンをアルコキシ末端ポリ
ジオルガノシロキサン100部当Jo〜5部; ゛を実
質的に無水の条件下で攪拌し: (2)工程(1)の混合物を平衡化してポリアルコキシ
末端ポリジオルガノシロキサンを生成させ:そして (3)工程(2)の混合物を実質的に無水の条件下で式
(1)の錫縮合触媒の有効量及び式(5)のキレート形
成配位子0〜5部とともにさらに攪拌する;工程からな
る室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物の製造法を
提供するものである。
式(1)のRの範囲内に包含される基は、たとえハ、フ
ェニル、トリル、クロルフェニル、 す7fルのような
C(6−13>アリール基及びハロゲン化アリール基:
 C(+−18)脂肪族基、脂環族基及びそれらのハロ
ゲン化誘導体基、たとえばシクロヘキシル、シクロブチ
ル;メチル、エチル、プロピル。
クロルプロピル、フチルアペンチル、ヘキシル。
ヘプチル、オクチル、ビニル、アリル及ヒドリフルオル
プロピルのようなアルキル及びアルケニル基である。R
皿 R2及びR3は水素、 R、−81(R)3゜アリ
ール、アシル及びニトリル基から選んだ゛同一でも異な
ってもよい一価の基である。R4及びR5はR基から選
ばれた一価の基である。R6に包含される基はたとえば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルのような
C(1−’8 )アルキル基;ベンジル、フェニルエチ
ルのようなC(7−13)アラルキル基;2−メトキシ
エチルのようなアルキルエーテル基:2−アセトキシエ
チルのようなアルキルエステル基:1−ブタン−5−オ
ニルのようなアルキルケトン基:2−シアンエチルのよ
うなアルキルシアノ基である。
式(1)に包含される錫縮合触媒の若干の具体例を以下
に示す。
ジ(n−ブチル)錫ビス(アセチルアセトネート)ニ ジ(n−ブチル)錫ビス(ベンゾイルアセト ネ − 
ト ) ニ ジ(エチル)錫ビス(ラウロイルアセトネート); ジ(メチル)錫ビス(ピバロイルアセトネート)ニ ジ(n−オクチル)錫ビス(アセチルアセトネート):
及び ジ(n−プロピル)錫ビス(1,1,1−トリフルオル
アセチルアセトネート)。
式(4)の架橋用ポリアルコキシシランの若干の具体例
はメチルトリメトキシシラン:メチルトリエトキシシラ
ン;エチルトリメトキシシラン;テトラエトキシシラン
:ビニルトリメトキシシラン等を包含する。
本発明の実施に使用し得るアミン硬化促進剤としては式 %式%[6) 〔式中、R6は前記の意義を有し:2は式(式中、R9
は二価のC(2−8)アルキレン基であり、R7及びR
$は水素及びC(1−8)アルキル基から選ばれる)の
グアニジン基であシ;gは1〜5に等しい ゞ整数であ
る〕をもつシリル置換グアニジンがあげられる。さらに
式 (式中、R7及びR8は前記の意義を有し; BIG 
はC(+−8)アルキル基である)をもつアルキル置換
グアニジンも同様に使用し得る。式(6)に包含される
シリル置換グアニジンのいくつかはTa、kago の
米国特許第”4.180.642号及び同第4.24a
993号明細書に示されている。
上述した置換グアニジンのほかに、種々のアミン、たと
えばジ−n−ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン
、ジ−n−オクチルアミン、ヘキサメトキシメチルメラ
ミン等及びシリル化アミン、たとえばγ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン及びメチルジメトキシ−ジーn−
へキシルアミノシラン等を使用することができる。メチ
ルジメトキシ−ジーn−へキシルアミノシランは架橋剤
及び硬化促進剤としての両方の作用を有する〇第1級ア
ミン、第2級アミン、シリル化第2級アミンが好ましく
、第2級アミン及びシリル化第2級アミンが特に好まし
い。アルキルジアルコキシ−n−ジアルキルアミノシラ
ンのようなシリル化第2級アミン及びアルキルジアルコ
キシアルキルグアニジルシランのようなグアニジンは硬
化促進剤として有用である。
上述したアミン促進剤に加えて、ある種の立体障害型ジ
アミンの使用も本発明の実施に包含される。か\るジア
ミンは前述したごとき有効量で使用した場合に本発明の
RTV組成物の速やかな硬化を達成させることが認めら
れた。これらの窒素含有塩基はたとえばジ−t−ブチル
エチレンジアミン(DBEDA ’) +’ 1.5−
ジアザビシクロ〔4,ミ0〕ノンー5−エン(DBN 
)及び1.8−ジアザビシクロ(s、4.o〕タウンク
−7−エン(DBU )を包含する。
さらに、式 %式%(7) (式中、R11は0(3−+8)分岐鎖アルキル基から
選ばれる)によって示される立体障害性第2級アミンを
使用する本発明のRTV組成物は密閉条件下で長期貯蔵
期間にわたって黄変に対し改善された耐性を有すること
も認められた。さらk、式(力のアミンを式(5)のキ
レート形成配位子(ただしR1とR3の合計炭素数は8
個より多い)とともに使用する場合如は一層のRTVの
改善が達成される。
式(5)に包含されるキレート形成配位子の若干の例を
あげればつぎのとおりである。
2.4−ペンタンジオン: 2、2.6.6−テトラメチル−45−ヘプタンジオン
: 1、1.1−トリフルオル−2,4−ペンタンジオン 
、・・ 1−フェニル−1,yr −’に’タンジオン:2.4
−ヘキサンジオン; 5.7−7ナンジオン。
式(2)のシラノール末端ポリジオルガノシロキサンは
周知でありかつ好ましくは約25℃で測定して約100
〜約400.000センチボイズの範囲、より好ましく
は約1.000〜約250.000センチポイズの範囲
の粘度をもつ。これらのシラノール末端ポリジオルガノ
シロキサン液体はジメチルポリシロキサンのようなより
高分子量のオルガノポリシロキサンを無機酸又は塩基触
媒の存在下で水で処理して該重合体の粘度を所望の範囲
に調整することによって製造し得る。式(2)のシラノ
ール末端ポリジオルガノシロキサンの製造に使用される
か\るより高分子量のオルガノポリシロキサンの製造法
も周知である。たとえば、ジメチルジクロルシラン、ジ
フェニルジクロルシラン、メチルビニルジクロルシラン
又はそれらの混合物のようなジオルガ7ノ・ロシランの
加水分解は低分子量加水分解物の製造のために使用し得
る。その後の平衡化処理はより高分子量のオルガノポリ
シロキサンを与え得る。オクタメチルシクロテトラシロ
キサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン又はそ
れらの混合物のようなシクロポリシロキサンの平衡化も
よシ高分子量の重合体を与えるであろう。か\る重合体
は、Boot の米国特許第へ153,007号明細書
に示されるごとく、使用前に標準的方法によって平衡化
触媒の失活化を行なうことが好ましい。
1.200センチポイズ以下の粘度をもつシラノール末
端オルガノポリシロキサンは化学的に結合されだジオル
ガノシロキシ単位から本質的に構成されるオルガノポリ
シロキサンを加圧下に水蒸気で処理することによって製
造することができる。
シラノール末端ポリジオルガノシロキサンの製造に使用
し得る他の方法は特にWarrlckの米国特許第2.
60スフ92号及び英国特許第83翫790号明細書に
記載されている。
本発明のRTV組成物の硬化を促進するためには、式(
1)の錫縮合触媒をシラノール末端又はアルコキシ末端
ポリジオルガノシロキサン100部当り錫触媒01〜1
0部、好ましくは該ポリジオルガノシロキサン100部
当り0.1〜1.0部の量で使用し得る。
種々の充填剤、顔料、接着促進剤等、たとえは二酸化チ
タン、珪酸ジルコニウム、シリカエーロゾル、酸化鉄、
珪藻土、ヒー−ムドシリカ、カーボンブラック、沈降シ
リカ、ガラス繊維、ポリ塩化ヒニル、粉砕石英、炭酸カ
ルシウム、β−シアノエチルトリメトキシシラン等をシ
ラノール−又はアルコキシ−末端オルガノポリシロキサ
ン中に配合し得る。充填剤の使用量は意図する用途に応
じて広範囲に変え得ることは明らかである。たとえば、
ある種のシーラントとしての用途においては、本発明の
硬化性組成物は充填剤なしで使用し得る。結合用材料の
製造に硬化性組成物を使用する場合のような他の用途に
おいては、重量基準でオルガノポリシロキサン100部
当り700部又はそれ以上のごとき多量の充填剤を使用
し得る。
か\る用途においては、充填剤は主割合の増量剤、好ま
しくは約1〜10ミクロンの範囲の平均粒度をもつ粉砕
石英、ポリ塩化ビニル又はそれらの混合物から構成し得
る。
本発明の組成物はまた建築用シルラント及びコーキング
材としても使用し得る。したがつズ、充填剤の正確な使
用量はオルガノポリシロキサン組成物が意図される用途
、使用される充填剤の型(すなわち充填剤の密度及び粒
度)のような因子に応じて決まるであろう。好ましくは
、シラノール末端オルガノポリシロキサン1oo部当り
10〜300部の割合の充填剤−それは約55部までの
補強用充填剤、たとえばヒユームドシリカ充填剤を含有
し得る−が使用される。
本発明の実施において、室温加硫性組成物は錫縮合触媒
及びアルコキシ末端ポリジオルガノシロキサンから構成
され得る混合物を湿分不存在の条件下で攪拌することに
よって製造し得る。随意に架橋用ポリアルコキシシラン
及びアミン促進剤を使用し得る。
アルコキシ末端ポリジオルガノシロキサンの代りにシラ
ノール末端ポリジオルガノシロキサンを使用する場合に
は、充填剤、たとえばヒユームドシリカ、シラノール末
端ポリジオルガノシロキサン及び架橋用ポリアルコキシ
シランの混合を錫縮合触媒の不存在下で行なうことが好
ましい。錫縮合触媒は得られる混合物を室温で約24時
間攪拌した後に有利に導入し得る。
以下本明細書において、本発明のRTV組成物の製造に
関連して使用される表現1湿券不存在の条件1及びゝ実
質的に無水の条件lは乾燥したボックス中で又は真空を
適用して空気を除去し、その後に窒素のような乾燥不活
性ガスに入れ替えた密閉容器中で混合することを意味す
るものとすん □温度は混合の度合、充填剤の型及び量
に応じて約り℃〜約180℃の範囲で変動し得る。 ・
本発明のRTV組成物の好ましい製造法はシラノール末
端ポリジオルガノシロキサン又はアルコキシ末端ポリジ
オルガノシロキサ/、充填剤及び有効量の錫縮合触媒の
混合物を実質的に無水の条件下で混合することである。
この混合物に架橋用シラン又はそれと他の成分、たとえ
ば硬化促進剤 ゛及び顔料との混合物を添加し得る。
当業者に本発明の実施をよりよく理解せしめるために、
以下本発明を実施例によってさらに説明するが、これら
は単に例証のためであって何等本発明を限定するもので
はない。実施例中、すべての部は重量による。
実施例1 室温加硫性組成物を25℃で約4500センチホイズの
粘度をもつメチルジメトキシシロキシ鎖を末端基とする
ポリジメチルシロキサン100部及びジ(n−ブチル)
錫ビス(アセチルアセトネー) ) 0.2部を用いて
実質的に無水の条件下で製造した。別の室温加硫性組成
物をジ(n−ブチル)錫ビス(アセチルアセトネート)
の代りにジプチル錫ジアセテート0.2部を用いて同様
の方法に従って製造した。
上記二種の室温加硫性混合物をついで促進加熱老化試験
後の該混合物の安定性を測定するために100℃で0〜
48時間老化させた。つぎの結果が得られた。表中、B
u28n(acac)1は本発明のジ(n−ブチル)錫
ビス(アセチルアセトネート)であり、B ul 8 
n (0ムC)−は従来技術のジブチル錫ジアセテート
である。
第1表 触媒(0,2部)oh24h48h Bu2Sn (OAc、)2 ’ 180. 12On
、c、*Bu28n(acac % 20 30 60
*n、 c、 =硬化せず、試料は加熱中にゲル化して
しまった。
上記の結果は本発明のRTV組成物が従来技術の錫触媒
を含むFtTV組成物と比較して優れた安定性及び硬化
速度を有することを示している。
実施例2 RTV縮合触媒としてのジ(n−ブチル)錫ビス(アセ
チルアセトネート)の評価を行なった。
25℃でへ500センチポイズの粘度をもつメチルジメ
トキシ鎖を末端基とするポリジメチルシロキサン100
部、アミン触媒O,S重量部及びジ(n−ブチル)錫ビ
ス(アセチルアセトネート)01〜1部を用いて5種類
の組成物を製造した。これらのRTV組成物に乾燥した
ボックス中で触媒を配合しそしてセムコ(Sθmco 
)ミキサー中で十分に混合した。不粘着時間(TPT 
、分)をt=o、25℃でt=5日及び100℃でt=
24時間において測定した。つぎの結果が得られた。
第1表 0.1 50 30 、 40 0.25 12 12 20 0510102゜ 0.75 8 8 20 1、0 7 7 20 上記の結果は本発明のRTV組成物の硬化特性は周囲条
件下で長期間にわたって安定であることを示している。
さらに、この錫触媒の濃度を増加するとより速い硬化速
度が達成される。
実施例5 実施例2で用いたメチルジメトキシ鎖を末端に有するポ
リジメチルシロキサン100部及びジ(n−ブチル)錫
ビス(アセチルアセトネート)0.7部を用いてRTV
組成物を製造した。このジブチル錫塩はジプチル錫ジメ
トキシ、ド及び2当量のアセチルアセトネートをその場
で反応させて得られた生成物である。この組成物は周囲
条件下で大気湿分に暴露すると5分後に不粘着性である
ことが認められた。このRTv組成物をついで無水条件
下で100℃で24時間熱老化させた後、同じく5分の
不粘着時間が得られた。
実施例4 得られる組成物の硬化時間を低減させるだめの錫触媒濃
度の影響及びある種のアミン促進剤の使用効果を判定す
るだめに一連のRTV組成物を実質的に無水あ条件下で
製造した。室温加硫性混合物は実施例1のメチルジメト
キシシロキシ鎖を末端に有するポリジメチルシロキサ7
100部、ジ(n−ブチル)錫ビス(アセチルアセトネ
ート)02〜2.0部及びアミン促進剤05〜1.0部
から製造した。これら一連のRTV組成物は実質的に無
水の条件下ゴ製造しそして周囲温度で硬化させた。
つぎの結果が得られた。表中、触媒はジ(n−ブチル)
錫ビス(アセチルアセトネート)を示し、%DBU ’
は1.8−ジアザビシクロ(5,4,0]−ウンデク−
7−エンであり ’ DBl’DA ’はジブチルエチ
レンジアミンである。
第■表 02 15 2.0 2−2.5 0.2 DBU、0.6 5 2、ODBU、0.5 1.5 1、0 DB?!DA 、 1.0 2−5上記の結果
は錫触媒の濃度を増加するか又はアミン促進剤を使用す
ることによってよシ速やかな硬化が達成されることを示
している。
実施例5 実施例2のジメ+キシメチルシロiシ末端ポリジメチル
シロキサン重合体100部、ヒユームドシリカ10部、
ジブチルアミン0,5部及び有効量の錫触媒から別のR
TV混合物を製造した。ジプチル錫ジアセテートを使用
した場合には、ヘキサメチルジシラザン2部をさらに使
用した。上記充填剤含有室温加硫性組成物を周囲条件下
で硬化せしめた場合、つぎの結果が得られた。
第■表 Bu18n(OAC)1 0.25 17Bu28n(
aCaC)t o、 25 10Bu28n(acac
)1 0.30 、5上記の結果は本発明に従って製造
された充填剤含有室温加硫性組成物は従来技術のRTV
組成物よりも速やかに硬化することを示している。
実施例6 25℃で124.000センチポイズの粘度をもつシラ
ノール末端ポリジメチルシロキサン100部、メチルト
リメトキシシラン2部、ジブチルアミン03部及びアセ
チルアセトネー)0.085部の混合物を乾燥したボッ
クス中で十分混合しそして室温で4日間反応させた。製
造法及びNMRスペクトルに基づいてメチルジメトキシ
シロキシ末端ポリジメチルシロキサンが得られた。
上記シリコーン重合体にジ(n−ブチル)錫ビス(アセ
チルアセトネー) ) 0.4部を添加すると、′、に
1′)(lt’vv組成物を製x’t t、た4、(l
 C)れるRTV組成物の一部を大気条件に暴露すると
それは20分で不粘着状態に硬化した。このRTV組成
物の残部を100℃で48時間熱老化処理した。得られ
るRTV組成物をついで大気湿分に暴露した□100℃
で48時間老化処理した後も、不粘着時間に変化はなか
ったことが認められた。これらの結果は、当初シラノー
ル末端ポリジメチールシロキサンから製造された本発明
の室温加硫性組成物は安定であったことを示している。
実施例7 25℃で266.000センチ−ボイズの粘度をもつジ
メトキシメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン1
00部、メチルトリメトキシシラン0.6部、シブチル
アミン0.3部、トリメチルシロキシ末端ポリジメチル
シロキサンs o 部、sto。
充填剤15部、シアンエチルトリメトキシシラン1.4
部、ジ(n−ブチル)錫ビス(ベンゾイルアセトネート
)05部及びベンゾイルアセトン0.5部の混合物をセ
ムコミキサー中で十分に混合した。
得られるRTV組成物は周囲条件下で大気湿分に暴露す
ると50分で不粘着状態まで硬化した。このRTV組成
物をついで無水条件下で100℃で48時間熱老化処理
した。得られるRTV組成物は40分の不粘着時間をも
つことが認められた。
実施例8 25℃で264000センチポイズの粘度をもつメチル
ジメトキシシロキシ末端ポリジメチルシロキサン100
部、ジ(n−ブチル)錫ビス(アセチルアセトネート)
 0.25部、β−シアノエチルトリメトキシシラン1
.4部、25℃で100センチボイズの粘度をもつトリ
メチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン!10部及
びt、−ムドシリカ17部からRTV組成物を製造した
。この組成物の半量にアセチルアセトン[1,075部
を゛添加した。得られる混合物は、15分の不粘着時間
(TPT )をもつことが認められた。同じ組成物を1
00℃で48時間熱老化処理した後にはTPTは90分
であった。最初の組成物の他の半量にはアセチルアセト
ノ0.20部を添加した。このRTV組成物は熱老化処
理前及び処理後のいずれも15分のTPTを有していた
錫縮合触媒としてジ(n−ブチル゛)錫ビス(アセチル
アセトネート)の代りにジ(n−ブチル)錫ジメトキシ
ドを用いたことを除いて上記の方法を反復した。得られ
るRTV組成物は20分のTPTをもつことが認められ
、また100℃で1一時間熱老化処理後は45分のTP
Tを有していた。このRTV組成物は100℃で15時
間処理後は硬化しなかった。
上記の結果はβ−ジケトネート基以外に錫−酸素−炭素
結合により錫に結合されたオルガノ基をもたない本発明
の錫縮合触媒は錫−酸素−炭素結合により錫原子に結合
された一価オルガノ基を含む錫縮合触媒と比較計て優れ
た安定性を与えることを示している。
実施例9 式(5)の範囲内の3種類のキレート形成配位子〔たソ
しR2は三つの場合とも水素でありそしてR1及びR3
はそれぞれエチル及びエチル(キレート配位子1)、フ
ェニル及びメチル(キレート配位子2)及びフェニル及
びプロピル(キレート配位子3)である〕を用いて一連
の錫縮合触媒を製造した、 乾燥したボックス中で25℃でジブチル錫ジメトキシド
1当量当り上記3種のキレート配位子それぞれ2当量を
添加することによって5種類の錫縮合触媒を別々に製造
した。各場合に、各キレート配位子とジプチル錫ジメト
キシドとを接触させると直ちに反応して所望の錫キレー
ト錯体を生成する仁とが観察された。真空下で揮発分を
除去した後、各錫縮合触媒はいずれもはソ定量的収率で
単離された。キレート配位子1の反応から得られた錫縮
合触媒1(たソし式(5)のR1及びR3がそれぞれエ
チルであl) 、R*が水素である場合)及゛びキレー
ト配位子6の反応から得られた錫縮合触、媒3(たyし
式(5)のR】がフェニル、R3がn−プロピルtR2
が水素の場合)はいずれも黄色液体であり、それ以上精
製しなかった。キレート配位子2の反応から得られた錫
縮合触媒2(たyし式(5)のR1がフェニル、′R3
がメチル R2が水素の場合)はオフホワイトの結晶状
固体の形の錫縮合触媒を与え、それはペンタンから再結
晶化された。これらの錫縮合触媒の各々の構成はIJM
Hによって確認された。
25℃で150.000センチボイズの粘度をもつメチ
ルジメトキシシロキシ末端シリコーン重合体100部、
ジイソブチルアミン0.3部、メチルトリメトキシシラ
ン15部、2−エチルヘキサン酸007部、ヒユームド
シリカ17部及びβ−シアノエチルトリメトキシシラン
1.4部を乾燥したボックス中でセムコミキサーを用い
て15分間混合することによって基本のRTV組成物を
製造した。
上記基本のRTV組成物を用い、つぎの処方に従って4
種類のRTV組成物を製造゛した。
対照組成物: 基本の組成物 100 部 ジプチル錫アセチルアセトネート 025部アセチルア
セトン 0.25部 RTV 1 : 基本の組成物 100 部 錫縮合触媒1 03 部 キレート配位子1 0.2部 (R1=R3=エチル、R2=水素) RTV 2 : 基本の組成物 100 部 錫縮合触媒2 03 部 キレート配位子2 0.3 部 (4tl=フエニル、R3=メチル 12−水素)RT
V 3 : 基本の組成物 100 部 錫縮合触媒3 036部 キレート配位子5 &46部 (11=フエニル、 R”=n−7’o1%ル、R2=
水素)これら4種類のRTV組成物の各々につい゛て当
初に混合した際及び未硬化RTV組成物を100℃で4
8時間加熱した後の不粘着時間を測定した。
つぎの結果が得られた。
第7表 対照 20 30 1 20 60 2.50 40 3 20 20 上述した実施例は本発明の室温加硫性組成物の製造にお
いて使用し得るきわめて多数の方凍のうちの若干の代表
的方法のみを示したものであるが、本発明はこれらの実
施例に先立つ一般的説明に示されたごとき著しくより広
範囲のRTV組成物及びそれらの製造法を包含するもの
であることを理解すべきである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、重量基準で、 に) 化学的に結合されたジオルガノシロキシ単位から
    本質的に構成されかつポリアルコキシシロキシ単位を末
    端基とするオルガノポリシロキサン100部; (ロ)式 () %式% (式中、R5はc(1−+3)炭化水素基及び置換0(
    1−13)炭化水素基から選んだ一価の基であり、R6
    はアルキル基、アルキルエルチル基、アルキルエステル
    基、アルキルシアノ基及びアルキルシアノ基から選んだ
    O(1〜8)脂肪族布−機基又はC(713)アラルキ
    ル基であり、aは0又は1に等しい整数である)のポリ
    アルコキシシラン0〜10部; (0) アミン促進剤0〜5部; (ロ)式 (式中、RはO(、−18)−価炭化水素基及び置換−
    価炭化水素基から選んだ基であり、R1、R2及びR3
    は水素、Rp −”(R)s pアリール、アシル及び
    ニトリル基から選んだ同一でも異なってもよい一価の基
    である)の錫縮合触媒の有効量; (6)式 (式中、R1、R*及びR3は前記の意義を有する)の
    β−ジケトン0〜5部:及び (6)充填剤0〜700部; からなる室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物。 2、錫触媒がジ(n−ブチル)錫ビス(アセチルアセト
    ネート)である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 3、アルコキシシランがメチルトリメトキシシランであ
    る特許請求の範囲第1項記載の組成物。 4、オルガノポリシロキサンがポリジメチルシロキサン
    である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 5、 アミン促進剤がジイソブチルアミンである特許請
    求の範囲第1項記載の組成物。 6、 β−ジケトンがアセチルアセトンである特許請求
    の範囲第1項記載の組成物。 7、重量基準で、 に) シラノール末端ポリジオルガノシロキサン100
    部; (ロ)ポリアルコキシシラン0.1〜10部;(C) 
    アミン促進剤0〜5部: (ロ)式 (式中、RはC(118)−価炭化水素基及び置換−価
    炭化水素基から選んだ基であf) 、R1、R2及びR
    3は水素+ Rr −旧(R)s +アリール、アシル
    及びニトリル基から選んだ同一でも異なってもよい一価
    の基である)の錫縮合触媒の有効il:及び 0(6)
    式 (式中 R1、H*及びR3は前記の意義を有する)の
    β−ジクトン0〜5部; からなる室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物。 8、錫触媒がジ(n−ブチル)錫ビス(アセチルアセト
    ネート)である特許請求の範囲第7項記載の組成物。 9、アルコキシシランがメチルトリメトキシシランであ
    る特許請求の範囲第7項記載の組成物。 10、シラノール末端ポリジオルガノシロキサンがシラ
    ノール末端ポリジメチルシロキサンである特許請求の範
    囲第7項記載の組成物。 11、アミン促進剤がジイソブチルアミンである特許請
    求の範囲第7項記載の組成物。 12、β−ジケトンがアセチルアセトンである特許請求
    の範囲第7項記載の組成物。 13、重量基準で、 (i)アルコキシ末端オルガノポリシロキサン100部
    ; (11)式 () %式% (式中、R5はC(、−+3)炭化水素基及び置換0(
    1−13)炭化水素基から選んだ一価の基であり、R6
    はアルキル基、アルキルエマチル基、アルキルエステル
    基、アルキルケトン基及びアルキルシアノ基から選んだ
    C(+−a)脂肪族有機基又はC(7−13)アラルキ
    ル基であシ、aは0又は1に等しい整数である)のポリ
    アルコキシシラン0〜10部、 (iii)アミン促進剤0〜5部; (iV)式 (式中、Rは0(1−18)−価炭化水素基及び置換−
    価炭化水素基から選んだ基であり、R1、R2及びR3
    は水素+ R+ −8’(R)s +アリール、アシル
    及びニトリル基から選んだ同一でも異なってもよい一価
    の基である)の錫縮合触媒の有効量: (V)式 (式中 R1、R2及びR3は前記の意義を有する)の
    β−ジケトン0〜5部:及び (vi)充填剤0〜700部; からなる混合物を実質的に無水の条件下で一緒にa合一
    することからなる室温加硫性オルガノポリシロキサン組
    成物の製造法。 14、錫縮合触媒がジ(1:I−ブチル)錫ビス(アセ
    チルアセトネート)である特許請求の範囲第13項記載
    の製造法。 15、アルコキシシランがメチルトリメトキシシランで
    ある特許請求の範囲第13項記載の製造法。 16、オルガノポリシロキサンがポリジメチルシロキサ
    ンである特許請求の範囲第13項記載の製造法。 17、アミン促進剤がジインブチルアミンである特許請
    求の範囲第15項記載の製造法。 18、β−ジケトンがアセチルアセトンである特許請求
    の範囲第15項記載の製造法。 19、つぎの工程: (1)重量基準で、 (1)シラノール末端ポリジオルガノシロキサン100
    部; (ii)ポリアルコキシシラン(11〜10’部:(i
    ii)アミン促進剤0〜5部; (IV)充填剤0〜700部;及び (V)式 (式中、R1、R2及びR3は水素r RI −”’(
    R)s rアリール、アシル及びニトリル基から選んだ
    同一でも異なってもよい一価の基であり、RはC(+−
    18)−価炭化水素基及び置換−価炭化水素基から選ん
    だ基である)のβ−ジケトンをアルコキシ末端ポリジオ
    ルガノシロキサン100部当り0〜5部;からなる混合
    物を実質的に無水の条件下で一緒に混合し: (2)工程(1)で得られた混合物を平衡化してポリア
    ルコキシ末端ポリジオルガノシロキサンを形成させ:そ
    して (3)工程(2)の混合物を実質的に無水の条件下でさ
    らに攪拌し、その後に式 (式中、RI R’ l R”及びR3は前記の意義を
    有する)の錫縮合触媒の有効量を添加する: 工程からなる室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物
    の製造法。 20、重量基準で、 (i)アルコキシ末端オルガノポリシロキサン100部
    : (11)式 (5) %式% (式中、R5はC(1−13)炭化水素基及び置換c(
    1−1s>炭化水素基から選んだ一価の基であり 、R
    ’はアルキル基、アルキルエーテル基、アルキルエステ
    ル基、アルキルケトy基及びアルキルシアノ基から選ん
    だC(1−8)脂肪族有機基又は0(7−15)アラル
    キル基であり、aは0又は1に等しい整数である)のポ
    リアルコキシシラン0〜10部、 GiDアミン促進剤0〜5部; (iV)式 (式中、Rはc(1−1a)−価炭化水素基及び置換−
    価炭化水素基から選んだ基であり、R1、R”及びR3
    は水素p ” + −”(R)s +アリール、アシル
    及びニトリル基から選んだ同一でも異なってもよい一価
    Q基である)の錫縮合触媒の有効量; (V)式 (式中 R1、R2及びR3は前記の意義を有する)の
    β−ジクトン0〜5部:及び (vi)充填剤0〜700部: からなる混合物を実質的に無水の条件下で一緒に混合す
    ることからなる室温加硫性オルガノポリシロキサン組成
    物の製造法に従って製造されシリカ充填剤で補強された
    室温加硫性組成物。 21、 +・° ・ A 項記載の製造法に従って製造されシリカ充填剤で補強さ
    れた室温加硫性組成物。
JP60026618A 1984-02-24 1985-02-15 室温加硫性オルガノポリシロキサン組成物及びその製造法 Granted JPS60202152A (ja)

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