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JPS5998127A - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

Info

Publication number
JPS5998127A
JPS5998127A JP20691282A JP20691282A JPS5998127A JP S5998127 A JPS5998127 A JP S5998127A JP 20691282 A JP20691282 A JP 20691282A JP 20691282 A JP20691282 A JP 20691282A JP S5998127 A JPS5998127 A JP S5998127A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
epoxy resin
aluminum
compound
anhydride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20691282A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuji Hayase
修二 早瀬
Yasunobu Onishi
康伸 大西
Shiyuichi Suzuki
鈴木 脩一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP20691282A priority Critical patent/JPS5998127A/en
Publication of JPS5998127A publication Critical patent/JPS5998127A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a photopolymerizable composition having excellent photo- setting property and giving a cured product having excellent electrical characteristics such as high dielectric loss tangent, etc., by compounding an epoxy resin with an acid anhydride and a catalyst composed of an aluminum compound and a specific silicon compound. CONSTITUTION:The objective composition is prepared by compounding (A) an epoxy resin with (B) an acid anhydride (e.g. methyl tetrahydrophthalic anhydride) and (C) a catalyst composed of (i) preferably 1-5wt% of an aluminum compound (preferably an organic aluminum compound such as trispropylacetoacetato aluminum) and (ii) preferably 1-10wt% of a silicon compound having o-nitrobenzyl group [e.g. di(o-nitrobenzyloxy)diphenylsilane]. The composition is cured e.g. by heating at 60-100 deg.C under irradiation with light having a wavelength of 300-400nm for 1-60min.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は新規な光重合組成物に関し、更に詳しくは、電
気機器用の絶縁材料及びレジスト材料等さして使用する
のに適した電気的特性を有する硬化物を与える光重合組
成物に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a novel photopolymerizable composition, and more particularly, it has electrical properties suitable for use as insulating materials and resist materials for electrical equipment. The present invention relates to a photopolymerizable composition that provides a cured product.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

近年、省エネルギーや作業性に関連して、光によって樹
脂を硬化させるプロセスに関心がもたれている。その中
でも、エポキシ樹脂を光硬化させるプロセスは応用範囲
が広く、重要である。現在エポキシ樹脂を光硬化させる
ために用いられているプロセスきしては、2種類あるう その一つは、エポキシ樹脂を、光重合性を有するアクリ
ルなどのビニル基含有化合物で変成し、このビニル基を
介して光重合させるものである。
In recent years, there has been interest in the process of curing resins with light in connection with energy savings and workability. Among these, the process of photocuring epoxy resins has a wide range of applications and is important. One of the two lies about the process currently used to photocure epoxy resins is that the epoxy resin is modified with a photopolymerizable vinyl group-containing compound such as acrylic, and this vinyl It is photopolymerized via the group.

しかし、このエポキシ樹脂の変成物はエポキシ樹脂自体
よりも耐熱性がかなり劣る。
However, this modified epoxy resin has considerably lower heat resistance than the epoxy resin itself.

他の一つは、エポキシ樹脂自体を光分解型の触媒で硬化
させるものである。このときに用いる触媒としては、次
式; %式% (式中、A「はフェニル基等を表わし、Xは、ヨウ素原
子、イオウ原子、ジアゾ基等を表わし、YはBF4. 
PF6.ASF6. SbF6等を表わす。)で示され
る、錯体を挙げることができる〔マクロモレキー一ルス
、第10巻、 1307頁、 1977年(Macro
+nolecules。
The other method is to cure the epoxy resin itself using a photodegradable catalyst. The catalyst used at this time has the following formula;
PF6. ASF6. Represents SbF6 etc. ) [Macromolecules, Vol. 10, p. 1307, 1977 (Macro
+Nocleles.

隻、 1307 (1977) ) ; ジャーナル・
オブ・ラジェーション・キユアリング、第5巻、2頁、
1978年(Journal of Hadia−ti
on Curing 、 5 、2 (1978));
ジャーナル・オプ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・
ケミストリイ・エディジョン、第17巻。
Ship, 1307 (1977)); Journal
Of Radiation Curing, Volume 5, Page 2,
1978 (Journal of Hadia-ti
on Curing, 5, 2 (1978));
Journal of Polymer Science Polymers
Chemistry Edition, Volume 17.

2877頁、 1979年(Journal of p
olymer Sciencepolymer Che
mistry Bdition 、 17 、2877
(1979));同と、第17巻、 1047頁、 1
979年(同上、豆。
2877 pages, 1979 (Journal of p.
polymer
Mistry Bdition, 17, 2877
(1979); Vol. 17, p. 1047, 1
979 (ibid., beans.

1047(1979));ジャーナル・オブ・ポリマー
・サイエンス・ポリマー・レターズ・エディジョン。
1047 (1979)); Journal of Polymer Science Polymer Letters Edition.

第17巻、759頁、 1979年(、Tournal
 of polymerSeience Polyme
r Letters ’Edition 、 17 、
759(1979)) ;特開昭55−65219号明
細書;米国・特許第4069054号明、iJl侵;英
国特許i 1516511号明細書;英国特許第151
8141号明細書等参照〕0 しかし、エポキシ樹脂を、これらの触媒成分(でよって
硬化させた場合、得られた硬化物は、良好な(・幾械的
特性及び耐熱性を有する反面、触媒成分力Sイオン性不
純物となるだめ、この硬化物を電気機器に用いた場合、
心気絶縁性が劣化するといった電気的特性の劣下及び腐
食現象を生ずるしそれがあろう 〔発明の目的〕 本発明は、光硬化性が良好で、しかも得られた硬化物が
電気的特性に優れたエポキシ樹脂系の光重合組成物を提
供することを目的とするものである。
Volume 17, page 759, 1979 (Tournal
of polymerSience Polymer
r Letters' Edition, 17,
759 (1979)); JP-A-55-65219; U.S. Patent No. 4069054, iJl Invasion; British Patent I 1516511; British Patent No. 151
8141 specification, etc.] 0 However, when an epoxy resin is cured with these catalyst components, the resulting cured product has good geometrical properties and heat resistance; If this cured product is used in electrical equipment, it will cause ionic impurities.
[Objective of the Invention] The present invention provides a cured product that has good photocurability and has good electrical properties. The object of the present invention is to provide an epoxy resin-based photopolymerizable composition with excellent properties.

〔発明のiは雪〕[i in invention is snow]

本発明の光重合組成物は、エポキシ樹脂、酸無水物、ア
ルミニウム化合物及び・〕−二トロペンジルオキン基を
有するケイ素化合物から成ることを4’z徴吉するもの
である。
The photopolymerizable composition of the present invention is comprised of an epoxy resin, an acid anhydride, an aluminum compound, and a silicon compound having a .

本発明において用いられろエポキシ樹脂は、通常、エポ
キシ樹脂組成物として用いられるものであればいかなる
ものでも良く、具体例としては、例えば、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂;ビスフェノールF 7jQエポキ
シ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;脂環式
エポキシi対脂;トリグリシジルイソシアネートやヒダ
ントインエポキシの如き含復素環エポキシ樹脂;水添ビ
スフェノ−n、 A Wエポキシ411脂; フロピレ
ンゲリコール−ジグリシジルエーテルやペンタエリスリ
トール−ポリ・グリシジルエーテルなどの脂肪族系エポ
キン街脂;芳香族、脂肪族もしくは脂環式のカルボン酸
とエピクロルヒドリンとの反応〈よって1;↓ら丸るエ
ポキシ樹脂;スピロ環含有エポキシ(み↑脂;O−アリ
ルフェノールノボラック化合物とエピクロルヒドリンと
の反応生成物であるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂
;ビスフェノールAのそレソレの水酸基のオルト位にア
リル基を有するジアリルビスフェノール化合物とエピク
ロルヒドリンとの反応生成物であるグリシジルエーテル
型エポキシ樹脂などが挙げられる。
The epoxy resin used in the present invention may be any resin as long as it is normally used as an epoxy resin composition, and specific examples include bisphenol A epoxy resin; bisphenol F 7jQ epoxy resin; phenol novolac type. Epoxy resin; alicyclic epoxy resin; heterocyclic epoxy resin such as triglycidyl isocyanate and hydantoin epoxy; hydrogenated bisphenol, AW epoxy 411 resin; fluoropylene gellicol diglycidyl ether and pentaerythritol Aliphatic epoxy resin such as polyglycidyl ether; Reaction of aromatic, aliphatic or alicyclic carboxylic acid with epichlorohydrin <Thus 1; Glycidyl ether type epoxy resin which is a reaction product of an O-allylphenol novolac compound and epichlorohydrin; a glycidyl ether which is a reaction product of a diallylbisphenol compound having an allyl group at the ortho position of the hydroxyl group of bisphenol A and epichlorohydrin Examples include molded epoxy resin.

本発明で用いられる酸無水物としては、無水フタル酸、
ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸
、メチル−テトラヒドロ無水フタル酸、メチルへキサヒ
ドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック
酸無水物、クロレンデイック酸無水物、ドデシニル無水
コノ・り酸、メチル無水コノ・り酸、ベンゾフェノンテ
トラカルポン酸無水物、ピロメリット酸無水物、無水マ
レイン酸などが挙げられる。
The acid anhydrides used in the present invention include phthalic anhydride,
Hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl-tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methylnadic anhydride, chlorendic anhydride, dodecynylconophosphate anhydride, methyl Examples include cono-phosphoric anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, pyromellitic anhydride, and maleic anhydride.

本発明の一成分であるアルミニウム化合物は、アルキル
基、フェニル基、ノーロアルキル基、アルコキン基、フ
ェノキシ■、アシルオキシ基、β−ジケトナト基、〇−
カルポニルフヱノラト基などの群から選択された有機基
を結合して成る化合物である。
The aluminum compound that is a component of the present invention includes an alkyl group, a phenyl group, a noroalkyl group, an alkoxy group, a phenoxy group, an acyloxy group, a β-diketonato group, an 〇-
It is a compound formed by bonding an organic group selected from the group such as carbonyl phenolate group.

上記有機基中、アルキル基としては、例えば、メチル基
、エチルIM %  n−プロピル基、イソプロピル基
、n−ブチル基、5ec−ブチル基、t−)゛チル基、
n−ペンチル基が挙げられ;フェニル基としては、例え
ば、フェニル基、p−メトキシフェニル基、0−メトキ
シフェニル71.  p−エトキシフェニル基が挙げら
れ;・・ロアルキル基としては、例えば、クロルメチル
基、クロルエチル基、クロルプロピル基が挙げられ;ア
ルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキノ、ベントオキシが挙げられ;フ
ェノキシ基としては、例えば、フェノキシ基、O−メチ
ルフェノキシ基、O−メトキシフェノキシ基、p−ニト
ロフェノキシ基、2,6−シメチルフエノキシ基h1挙
げられ;アシルオキシ基としては、例えば、アセタト、
プロピオナト、インプロピオナト、ブチラド、ステアラ
ド、エチルアセトアセタト、プロビルアセトアセタト、
プチルアセトアセタト、ジエチルマラト、ジピバロイル
メタナトウ5挙げられ;β−ジケトナト基としては、例
えば、アセチルアセトナト、トリフルオロアセチルアセ
トナト、ヘキサフルオロアセチルアセトナト、H3CH
3 0−カルボニルフェノラド基としては、例えば、サリチ
ルアルデヒダトが挙げられるっ アルミニウム化合物の具体例としては、トリスメトキシ
アルミニウム、トリスエトキシアルミニウム、トリスイ
ソプロポキシアルミニウム、トリスフェノキシアルミニ
ウム、トリスパラメチルフェノキシアルミニウム、イソ
プロポキシジェトキシアルミニウム、トリスブトキンア
ルミニウム、トリスアセトキシアルミニウム、トリスス
テアラドアルミニウム、トリスブチラドアルミニウム、
トリプロピオナトアルミニウム、トリスイソプロピオナ
トアルミニウム、トリスアセチルアセトナドアルミニウ
ム、トリストリフルオロアセチルアセトナドアルミニウ
ム、トリスペンタフルオロアセチルアセトナドアルミニ
ウム、トリスエチルアセトアセタトアルミニウム、トリ
スサリチルアルデヒダトアルミニウム、トリスジエチル
マロラドアルミニウム、トリスプロピルアセトアセタト
アルミニウム、トリスブチルアセトアセタトアルミニウ
ム、トリスジピバロイルメタナトアルミニウム、ジアセ
チルアセトナトジピバロイルメタナトアルミニウム、 これらのアルミニウム化合物は、1種もしくは2種以北
の混合系で用いてもよく、その添加配合量は、エポキシ
樹脂に対し重量比で、0.001〜10%、好ましくは
1〜5俤の範囲である。配合量が0.001重量%に満
たない場合は、十分な硬化特性が得られず、また、10
重量%を超えると、コスト高や電気的特性悪化の原因と
なる。
Among the above organic groups, examples of the alkyl group include methyl group, ethyl IM% n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, 5ec-butyl group, t-)ethyl group,
Examples of the phenyl group include phenyl group, p-methoxyphenyl group, and 0-methoxyphenyl71. p-Ethoxyphenyl group; Examples of the loalkyl group include chloromethyl group, chloroethyl group, and chloropropyl group; Examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, isopropoxy, butoquino, and bentoxy. Examples of the phenoxy group include phenoxy group, O-methylphenoxy group, O-methoxyphenoxy group, p-nitrophenoxy group, and 2,6-dimethylphenoxy group h1; Examples of the acyloxy group include , acetato,
Propionate, Impropionate, Butyrad, Stearad, Ethylacetoacetate, Provylacetoacetate,
Examples of the β-diketonato group include acetylacetoacetato, diethylmalato, and dipivaloylmetanato; examples include acetylacetonato, trifluoroacetylacetonato, hexafluoroacetylacetonato, H3CH
Examples of the 30-carbonylphenolad group include salicylaldehydate. Specific examples of aluminum compounds include trismethoxyaluminum, trisethoxyaluminum, trisisopropoxyaluminum, trisphenoxyaluminum, trisparamethylphenoxyaluminum, isopropoxyjethoxyaluminum, trisbutquinaluminum, trisacetoxyaluminum, trisstearadoaluminum, trisbutyradoaluminum,
Aluminum tripropionato, aluminum trisisopropionato, aluminum aluminum trisacetylacetonado, aluminum aluminum trifluoroacetylacetonado, aluminum aluminum trispentafluoroacetylacetonado, aluminum aluminum trisethylacetoacetato, aluminum aluminum trissalicylaldehyda, aluminum aluminum trisdiethylmalorado , trispropylacetoacetatoaluminum, trisbutylacetoacetatoaluminum, trisdipivaloylmethanatoaluminum, diacetylacetonatodipivaloylmethanatoaluminum, These aluminum compounds are one type or a mixed system of two or more types. The amount added is in the range of 0.001 to 10%, preferably 1 to 5 wt., based on the weight of the epoxy resin. If the blending amount is less than 0.001% by weight, sufficient curing properties may not be obtained;
Exceeding this percentage by weight causes increased costs and deterioration of electrical characteristics.

本発明の一成分である。−二トロベンジルオキシ基を有
するケイ素化合物は、次式; 1〜5のアルキル基又は了り−ル基を表わし R2はハ
ロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基を表わし、mは
O〜4の整数を表わし、nは0〜3の整数を表わす。複
数個の0−ニトロベンジルオキシ基、R1及びR2はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。尚、mが3以下の
整数のとき、上記。
It is a component of the present invention. The silicon compound having -nitrobenzyloxy group has the following formula; represents an alkyl group of 1 to 5 or an alkyl group, R2 represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents O-4 represents an integer of 0 to 3, and n represents an integer of 0 to 3. The plurality of 0-nitrobenzyloxy groups, R1 and R2, may be the same or different. In addition, when m is an integer of 3 or less, the above.

−ニトロベンジルオキシ糸のベンゼン環には、水素原子
が結合している。) 上記式中、炭素数1〜5のアルキル基としては加重t%
を超えて用いることは可能であるが、コスト高や触媒成
分の分解生成物が問題になる場合がある。
- A hydrogen atom is bonded to the benzene ring of the nitrobenzyloxy thread. ) In the above formula, as the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, weighted t%
Although it is possible to use the catalyst in excess of 100%, high cost and decomposition products of the catalyst components may become a problem.

本発明の光重合組成物は、常温光硬化、加熱光硬化、光
硬化後アフターキュアーなどの方法により、硬化さ亡て
実用に供される。光硬化に必要な波艮は、組成l吻の成
分によって異なるが、通常180〜600nm、好まし
くは300〜4000m ;光照射時間は、エポキシ樹
脂の組成、および触媒の種類によって異なるが、通常1
〜180分、好ましくは1〜60分;加熱光硬化する場
合の加熱温度は、エポキシ樹脂の組成および触媒の種類
によって異なるが、通常20〜200°C1好ましくは
60〜100′Cテ、ある。光源としては、高圧水銀ラ
ンプ、カーボンアークランプ、キセノンランプ、アルゴ
ングロー放電管等を使用できる。光硬化後アフターキー
アー(は、エポキシ樹脂の組成および触媒の種類によっ
て異なるが、通常50〜20σC1好ましくは100〜
180°OKて、通常1〜10時間、好ましくは2〜5
時間行なう。
The photopolymerizable composition of the present invention is put into practical use after curing by methods such as room temperature photocuring, heating photocuring, and after-curing after photocuring. The wave length required for photocuring varies depending on the components of the composition, but is usually 180 to 600 nm, preferably 300 to 4000 nm; the light irradiation time varies depending on the composition of the epoxy resin and the type of catalyst, but is usually 1
-180 minutes, preferably 1-60 minutes; The heating temperature for photocuring varies depending on the composition of the epoxy resin and the type of catalyst, but is usually 20-200°C, preferably 60-100°C. As a light source, a high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, an argon glow discharge tube, etc. can be used. The after-key after photocuring varies depending on the composition of the epoxy resin and the type of catalyst, but is usually 50 to 20σC1, preferably 100 to
180° OK, usually 1 to 10 hours, preferably 2 to 5 hours
Do time.

得られた硬化物は、極めて優れた電気的特性を有するも
のである。
The obtained cured product has extremely excellent electrical properties.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

実施例 1 石英重合管に、ERL4221  (商品名、UCC社
製;下式(1)の化合物、エポキシ当量130、分子量
260)100g、エビクロンB 570 (下式(2
)の酸無水物、大日本インキ製)8g、トリスブロビル
アセトアセタトアルミニウム0.5g及びジ(O−ニト
ロベンジルオキシ)ジフェニルシラン0.5gを入れ、
40’Oにおいて、高圧水銀ランプ(400W)80w
/CIILを用い5分間光を照射した吉ころ、反応系は
すでにゲル化していた。また、光を照射しなかった場合
は、ゲυ 実施例 2 チッソノックス206(商品名、チッソ(株)製;下式
(3)の化合物、エポキシ当量70.分子−1i139
)12 g、エピコート828 (商品名、シェル化学
社製;ビスフェノールA型、エポキシ当ff119Q〜
210、分子量380 ) 8 g、エピクロンB57
020g、)リスエチルアセトアセタトアルミニウム0
.5g及びトリフェニルO−ニトロベンジルオキシシラ
ン0.25gを用いて、実施例1と同様に操作し、5分
間、光を照射したところ、反応系はすでにゲル化して実
施例 3 1L4221 : 100 g、エピコート154(商
品名、シェル化学社;フェノールノボラック型、エポキ
シ当Q172〜180 ) 100 g、 エヒクoン
B570100g 、エピコート828:30g、 )
リスサリチルアルデヒダトアルミニウム30g及びジ(
2,6−シニトロペンジルオキノ)ジフェニルシラン4
gを混合し、この混合物をアルミニウム板石に流した。
Example 1 In a quartz polymer tube, 100 g of ERL4221 (trade name, manufactured by UCC; compound of the following formula (1), epoxy equivalent weight 130, molecular weight 260) and Evicron B 570 (compound of the following formula (2)
), 8 g of acid anhydride (manufactured by Dainippon Ink), 0.5 g of trisbrobyl acetoacetatoaluminum, and 0.5 g of di(O-nitrobenzyloxy)diphenylsilane,
At 40'O, high pressure mercury lamp (400W) 80w
When the reaction system was irradiated with light for 5 minutes using /CIIL, the reaction system had already turned into a gel. In addition, when no light was irradiated, Ge υ Example 2 Chissonox 206 (trade name, manufactured by Chisso Corporation; compound of the following formula (3), epoxy equivalent: 70. Molecule -1i139
) 12 g, Epicoat 828 (trade name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.; bisphenol A type, epoxy ff119Q~
210, molecular weight 380) 8 g, Epicron B57
020g,) Lisethylacetoacetatoaluminum 0
.. When the same procedure as in Example 1 was carried out using 5 g of 1L4221 and 0.25 g of triphenyl O-nitrobenzyloxysilane and irradiation with light for 5 minutes, the reaction system was already gelled. Epicoat 154 (trade name, Shell Chemical Company; phenol novolac type, epoxy weight Q172-180) 100 g, Ehikun B570 100g, Epicoat 828: 30g, )
Lissalicylaldehydatoaluminum 30g and di(
2,6-sinitropendyloquino)diphenylsilane 4
g and the mixture was poured onto aluminum slabs.

次に、この板トに水銀ランプ(400W)のUV光を6
0°Cにて10分間照射したところ、良好な硬化樹脂面
が得られた。この硬化樹脂面の誘電正接値(tanδ)
を測定すると、100°Cにおいて、2.0%であった
Next, apply UV light from a mercury lamp (400W) to this plate for 6 hours.
When irradiated for 10 minutes at 0°C, a good cured resin surface was obtained. Dielectric loss tangent value (tanδ) of this cured resin surface
When measured, it was 2.0% at 100°C.

ついで、この硬化樹脂面を130°Cにて7時間アフタ
ーキーアした後に、再びtanδを測定すると、180
℃において3.6壬であった。
Next, after the cured resin surface was after-keyed at 130°C for 7 hours, the tan δ was measured again, and it was found to be 180
It was 3.6 mm at ℃.

実施例 4 エピコー) 828 : 100 g、  エピコート
152(商品名、シェル化学社製;フェノールノボラッ
ク型、エポキシ当+?t 172〜179)50g、 
ビスフェノールF 20 g 、ヘキサヒドロフタル酸
無水物150g、)リスサリチルアルデヒダトアルミニ
ウム4g及びジ(0−ニトロベンジルオキシ)ジフェニ
ルシラン10 gを用いて、実施例3と同様に操作し、
30分光を照射し、硬化樹脂面を得た。ついで、この硬
化樹脂面を150°Cにて5時間アフターキーアした後
に、tanδを測定すると、180°Cにおいて4.0
係であった。
Example 4 Epicor) 828: 100 g, Epicort 152 (trade name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.; phenol novolac type, epoxy weight +?t 172-179) 50 g,
Proceed as in Example 3 using 20 g of bisphenol F, 150 g of hexahydrophthalic anhydride, 4 g of lissalicyaldehydatoaluminum and 10 g of di(0-nitrobenzyloxy)diphenylsilane,
A cured resin surface was obtained by irradiating light for 30 minutes. Next, after keying this cured resin surface at 150°C for 5 hours, the tan δ was measured to be 4.0 at 180°C.
He was in charge.

比較例 l E几L4221 :10 g 、エビクロンB 570
10 g及びジ(0−ニトロベンジルオキシ)ジフェニ
ルシランを用いて、実施例1と同様に操作しだが、ゲル
化しなかった。
Comparative example l E-L4221: 10 g, Ebikuron B 570
The same procedure as in Example 1 was carried out using 10 g and di(0-nitrobenzyloxy)diphenylsilane, but no gelation occurred.

比較例 2 ER,L4221 : 100 g 、−1−ビコート
154:30g、エピコ−ト828:30g、エピクo
 ンB 570100g  及びジフェニルヨードニウ
ムテトラフルオロホウf俊塩0.3gを用いて、実施例
3と同様に操作した。アフターキーア後に得られた硬化
樹脂面のtanδは、180°Cにおいて測定不能であ
った。
Comparative Example 2 ER, L4221: 100 g, -1-Biquat 154: 30 g, Epicoat 828: 30 g, Epico
The procedure was carried out in the same manner as in Example 3 using 100 g of 570g of B and 0.3 g of diphenyliodonium tetrafluoroborate salt. The tan δ of the cured resin surface obtained after after-keying could not be measured at 180°C.

以トの一古里から、明らか、なように本発明のP!1成
′吻は、光照射によって速やかに硬化し、得られた硬化
物の電気絶縁特性が極めて優れている。
From the above, it is clear that the P of the present invention! The first proboscis is rapidly cured by light irradiation, and the resulting cured product has extremely excellent electrical insulation properties.

〔発明の効果〕 本発明の光重合組成物は、触媒成分としてアル゛ミニウ
ム化合物及び0−ニトロベンジルオキシ基を有するケイ
素化合物を用いているだめに、光照射によって短時間に
硬化する。また、得られた硬化物は、イオン性不純物を
含まないため(て、誘電+E接値等の電気的特性が極め
て優れており、しかも、この硬化物が電気機器知用いら
れた場合に電気機器を腐食させるおそれはない。そのた
め硬化物は、レジスト材料、電気機器、とくにコイルの
絶縁物等の幅広い用途に適用することができ、その工業
的価値は極めて犬なるものである。
[Effects of the Invention] Because the photopolymerizable composition of the present invention uses an aluminum compound and a silicon compound having an 0-nitrobenzyloxy group as catalyst components, it is cured in a short time by light irradiation. In addition, the obtained cured product does not contain ionic impurities (and has extremely excellent electrical properties such as dielectric + E contact value). Therefore, the cured product can be applied to a wide range of applications such as resist materials, electrical equipment, and especially coil insulators, and its industrial value is extremely high.

代理人 弁理士  則 近 憲 佑 (シ牙か1名)Agent: Patent Attorney Noriyuki Chika (Shiga or one person)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)エポキシ樹脂、酸無水物、アルミニウム化合物及
びオルトニトロベンジルオキシ基を有するケイ素化合物
からなることを特徴とする光重合組成物。
(1) A photopolymerizable composition comprising an epoxy resin, an acid anhydride, an aluminum compound, and a silicon compound having an orthonitrobenzyloxy group.
(2)アルミニウム化合物が有機アルミニウム化合物で
ある特許請求の範囲第1項記載の光重合組成物。
(2) The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the aluminum compound is an organic aluminum compound.
(3)アルミニウム化合物及びO−ニトロベンジルオキ
シ基を有するケイ素化合物の配合量が、それぞれエポキ
シ樹脂に対して、0.001〜10重ffi%及び0.
1〜20重計チである特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の光重合組成物。
(3) The amounts of the aluminum compound and the silicon compound having an O-nitrobenzyloxy group are 0.001 to 10% by weight and 0.00% to the epoxy resin, respectively.
The photopolymerizable composition according to claim 1 or 2, which has a weight of 1 to 20 weights.
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