JPS5939897A - 有機けい素化合物 - Google Patents
有機けい素化合物Info
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- JPS5939897A JPS5939897A JP14900782A JP14900782A JPS5939897A JP S5939897 A JPS5939897 A JP S5939897A JP 14900782 A JP14900782 A JP 14900782A JP 14900782 A JP14900782 A JP 14900782A JP S5939897 A JPS5939897 A JP S5939897A
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- JP
- Japan
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- formula
- compound
- group
- temperature
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- Pending
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- Sealing Material Composition (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な有機けい素化合物を提供しようとするも
のである。
のである。
即ち、本発明は一般式
%式%(
で示される有機けい素化合物に関する。
上記(:)式中、Rは炭素原子数1〜eの一価炭化水素
基から選択される同種もしくは異種の基、雪 Rは炭素原子数1〜4の二価炭化水素基、2は式 で示されるオルガノンリル基から選択される基である。
基から選択される同種もしくは異種の基、雪 Rは炭素原子数1〜4の二価炭化水素基、2は式 で示されるオルガノンリル基から選択される基である。
前記式+17または(町中、R,RおよびRは炭素原子
数1〜6の一価炭化水素基から選択される同種もしくは
異種の基 R6は炭素原子数1〜6の一価炭化水素基お
よびトリへイドロ力ルビルシロキシ基から選択される同
種もしくは異種の基、aは1.2または3である。
数1〜6の一価炭化水素基から選択される同種もしくは
異種の基 R6は炭素原子数1〜6の一価炭化水素基お
よびトリへイドロ力ルビルシロキシ基から選択される同
種もしくは異種の基、aは1.2または3である。
R1,R3、R4、R11およびR6で示される炭素原
子数1〜6の一価炭化水素基としては、具体的にはメチ
ル基、エチル基Jプロピル基あるいはブチル基等のアル
キル基、シクロヘキシル基あるいはシクロペンチル基等
のシクロアルキル基、ビニル基あるいはアリル基等のア
ルケニル基、フェニル基あるいはキンリル基等のアリー
ル基、アラルキル基、あるいはこれらの基の水素原子が
部分的にへロゲン原子等で置換された基等tあげること
ができる。
子数1〜6の一価炭化水素基としては、具体的にはメチ
ル基、エチル基Jプロピル基あるいはブチル基等のアル
キル基、シクロヘキシル基あるいはシクロペンチル基等
のシクロアルキル基、ビニル基あるいはアリル基等のア
ルケニル基、フェニル基あるいはキンリル基等のアリー
ル基、アラルキル基、あるいはこれらの基の水素原子が
部分的にへロゲン原子等で置換された基等tあげること
ができる。
さらに、Rで示される炭素原子数1へ4の二価炭化水素
基としてはメチレン基、エチレン基。
基としてはメチレン基、エチレン基。
プロとレン基、インブチレン基等tあげることができる
。
。
本発明の新規有機けい素化合物の具体例を下記に示す〇
ただし、以下の記載においてMeは0H3−1Prは0
3H,−1PhはCト、vi ハOH,=OH−’rツ
レツレ示したものである。
3H,−1PhはCト、vi ハOH,=OH−’rツ
レツレ示したものである。
(Me、 N−)20=N−Oa拘−8iMa 。
(Mo2N−)、0−N−CH20−N−CH2−8I
N−)20=N−OH2−8i (Me )、 −P
h(Mo2N−)、 0=N−OH,−8i (Me
)、I”Vi(Mo2N−)20=N−03H,−81
−0−81Me 8、Me Me (M13. N−)、l0=N−0,H,−81(−0
−81Mes )2、本発明に係る有機けい素化合物は
大別して二つの方法により合成することができ、第1の
方法としては例えば式 %式%(1] (ここにRは上記と同じ意味である)で示されるグアニ
ジン誘導体と 式 %式%(1 (ここにRおよび2は上記と同じ意味であり、Xはハロ
ゲン原子を表わす)で示されるハロゲン化有機けい素化
合物とをテトラアルキルグアニジン過剰啜の配合系で混
合した後、加熱を行いながら5〜30時間反応させる方
法をあげることができる。
N−)20=N−OH2−8i (Me )、 −P
h(Mo2N−)、 0=N−OH,−8i (Me
)、I”Vi(Mo2N−)20=N−03H,−81
−0−81Me 8、Me Me (M13. N−)、l0=N−0,H,−81(−0
−81Mes )2、本発明に係る有機けい素化合物は
大別して二つの方法により合成することができ、第1の
方法としては例えば式 %式%(1] (ここにRは上記と同じ意味である)で示されるグアニ
ジン誘導体と 式 %式%(1 (ここにRおよび2は上記と同じ意味であり、Xはハロ
ゲン原子を表わす)で示されるハロゲン化有機けい素化
合物とをテトラアルキルグアニジン過剰啜の配合系で混
合した後、加熱を行いながら5〜30時間反応させる方
法をあげることができる。
上記グアニジン誘導体(1)とハロゲン化有機けい素化
合物(わとの反応モル比(+1)/+11 >は2以上
、好ましくは2.5〜3.5とすることがよく、また反
応温度は50〜150℃の範囲とすることが望ま畳しい
。
合物(わとの反応モル比(+1)/+11 >は2以上
、好ましくは2.5〜3.5とすることがよく、また反
応温度は50〜150℃の範囲とすることが望ま畳しい
。
また該反応は溶媒の存在下で行うこともでき、ここで使
用することができる溶媒としては、トルエン、キシレン
、ベンゼンあるいはへキチン等ヲあげることができる。
用することができる溶媒としては、トルエン、キシレン
、ベンゼンあるいはへキチン等ヲあげることができる。
また、他の合成方法としては1例えば
式
%式%
(ここにR1は上記と同じ意味である)で示されるアリ
ル基含有グアニジン誘導体と 式 %式%(1) (ここに2は上記と同じ意味である)で示される〉5i
−H結合含有有機けい素化合物とを、適当な触媒の存在
下で付加反応させる方法をあげることができる。
ル基含有グアニジン誘導体と 式 %式%(1) (ここに2は上記と同じ意味である)で示される〉5i
−H結合含有有機けい素化合物とを、適当な触媒の存在
下で付加反応させる方法をあげることができる。
上記グアニジン誘導体tllljと有機けい素化合物(
1v)との反応モル比は該有機けい素化合物に対してグ
アニジン誘導体を等モル以上、好ましくは1.2倍モル
以上とすることがよく、また反応温度は26〜200℃
好ましくは50〜150℃の範囲とすることが望ましい
。
1v)との反応モル比は該有機けい素化合物に対してグ
アニジン誘導体を等モル以上、好ましくは1.2倍モル
以上とすることがよく、また反応温度は26〜200℃
好ましくは50〜150℃の範囲とすることが望ましい
。
この反応の実施に際し使用することができる反応触媒と
しては例えば周期表第vI族に属する金属元素の錯化合
物乞あげることができ、これ(:は公知の種々のものを
使用することができ、具体的には塩化白金酸、アルコー
ル変性塩化白金酸(米国特許第3,220,972号明
細書参照)、塩化白金酸とオレフィンとのコンプレック
ス(米国特許第3.159,601号、同第3,159
.662号あるいは同第3.77へ452号明細書参照
)、白金黒あるいはアルミナ、シリカ等の担体に固体白
金全担持させたもの、ロジウム−オレフィンコンプレッ
クス等が例示され、これらコンプレックス等はアルコー
ル系溶料、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤。
しては例えば周期表第vI族に属する金属元素の錯化合
物乞あげることができ、これ(:は公知の種々のものを
使用することができ、具体的には塩化白金酸、アルコー
ル変性塩化白金酸(米国特許第3,220,972号明
細書参照)、塩化白金酸とオレフィンとのコンプレック
ス(米国特許第3.159,601号、同第3,159
.662号あるいは同第3.77へ452号明細書参照
)、白金黒あるいはアルミナ、シリカ等の担体に固体白
金全担持させたもの、ロジウム−オレフィンコンプレッ
クス等が例示され、これらコンプレックス等はアルコー
ル系溶料、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤。
炭化水素系溶剤等に溶解したのち使用することが好まし
い。
い。
なお、こCt>反応を行うにあたってもベンゼン。
トルエン、キシレンあるいはへキチン等の適当な溶媒を
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明の有機けい素化合物は種々の用途に応用すること
ができ1例えば従来公知の室温硬化型オルガノポリシロ
キチンに添加配合するとその表面特性の向上を図ること
ができ、内でも撥水性を有する室温硬化型オルガノポリ
シロキサンについてはこれから得られる硬化物の表面!
親水性とすることができ、硬化物の表面!営装可能なも
のとし汚れの付着を防止することができる。
ができ1例えば従来公知の室温硬化型オルガノポリシロ
キチンに添加配合するとその表面特性の向上を図ること
ができ、内でも撥水性を有する室温硬化型オルガノポリ
シロキサンについてはこれから得られる硬化物の表面!
親水性とすることができ、硬化物の表面!営装可能なも
のとし汚れの付着を防止することができる。
また、室温硬化型オルガノポリシロキチンは建築用シー
リング材として汎用され、近年に至っては高層建築物の
シーリング材としてその需要を増し、他方ではンリコー
ンンーリング材による大理石1石、ガラス、アルミサツ
シ等の汚れが問題となっているが、本発明に係る有機け
い素化合物の適当敏乞それらに添υ口配合することによ
り汚れ得を著しく防止することができる。
リング材として汎用され、近年に至っては高層建築物の
シーリング材としてその需要を増し、他方ではンリコー
ンンーリング材による大理石1石、ガラス、アルミサツ
シ等の汚れが問題となっているが、本発明に係る有機け
い素化合物の適当敏乞それらに添υ口配合することによ
り汚れ得を著しく防止することができる。
さらに1本発明の宵礪けい素化合物は、室温礒化型オル
ガノボリンロキチンの内でもアセトンを放出して硬化す
る(脱アセトン型)タイプの硬化用触媒(架ffR剤)
としてきわめてすぐれた作用な示す。
ガノボリンロキチンの内でもアセトンを放出して硬化す
る(脱アセトン型)タイプの硬化用触媒(架ffR剤)
としてきわめてすぐれた作用な示す。
なお、これらは本発明に係る有機けい素化金銭の代表的
応用例であり、これらに限定されるものではない。
応用例であり、これらに限定されるものではない。
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例1゜
テトラメチルグアニジン103.8gおよびトルエン6
9.2.PY還流冷却器、かくはん棒1滴下ロートおよ
び温度#tを付した内容積500−の四つロフラスコに
仕込み、温度1130’ccm持し、3−クロロプロピ
ルビス(トリメチルンロキV)メチルシラン95.31
i1Y1時間を要して滴下した滴下終了後、130℃で
14時間加熱かくはんし、ついで生成する塩Y濾過によ
り除去し、F辰を減圧蒸留したところ、沸点が122〜
124℃72朋HIで屈折率が1.4420(25℃)
の物性を有丁ふ留分が51.2N得られた。この化合物
はIR,NMR,Go−M8および元素分析から下記分
子式に相当するものであること?確認した。
9.2.PY還流冷却器、かくはん棒1滴下ロートおよ
び温度#tを付した内容積500−の四つロフラスコに
仕込み、温度1130’ccm持し、3−クロロプロピ
ルビス(トリメチルンロキV)メチルシラン95.31
i1Y1時間を要して滴下した滴下終了後、130℃で
14時間加熱かくはんし、ついで生成する塩Y濾過によ
り除去し、F辰を減圧蒸留したところ、沸点が122〜
124℃72朋HIで屈折率が1.4420(25℃)
の物性を有丁ふ留分が51.2N得られた。この化合物
はIR,NMR,Go−M8および元素分析から下記分
子式に相当するものであること?確認した。
Me
(Me、N−)、 O”N−0,H,−Si (−0S
iMe、 )2o IRlNMR,IGo−Mk3分析
値* 0HOI3 内部標準(以下同じ)計算値
47.7 10.4 22.3分析値 4
7.9 10,1 22.2実施例2゜ テトラメチルグアニジン103.7.pおよびトルエン
69.21iを還流冷却器、かくはん棒、滴ドロートお
よび温度針を付した内容FiI50QIIjを四ツロフ
ラスコに仕込み、温度t130℃に維持し、3−クロロ
プロピルトリメチルシロキシジメチルシラン67.5.
P’PI11v間を要して滴下した。滴下終了後、13
0℃で14*1iJj加熱かくはんし、ついで生成する
塩w濾過により除去しIP液を減圧蒸留したところ、沸
点が100へ102/2龍IJ。
iMe、 )2o IRlNMR,IGo−Mk3分析
値* 0HOI3 内部標準(以下同じ)計算値
47.7 10.4 22.3分析値 4
7.9 10,1 22.2実施例2゜ テトラメチルグアニジン103.7.pおよびトルエン
69.21iを還流冷却器、かくはん棒、滴ドロートお
よび温度針を付した内容FiI50QIIjを四ツロフ
ラスコに仕込み、温度t130℃に維持し、3−クロロ
プロピルトリメチルシロキシジメチルシラン67.5.
P’PI11v間を要して滴下した。滴下終了後、13
0℃で14*1iJj加熱かくはんし、ついで生成する
塩w濾過により除去しIP液を減圧蒸留したところ、沸
点が100へ102/2龍IJ。
屈折率力1.4494 (25℃)の物性を有する留分
が51.4.9得られた。この化合物は、rR,NMR
。
が51.4.9得られた。この化合物は、rR,NMR
。
()O−MSおよび元素分析から下記分子式(=相当す
るものであることを確認した。
るものであることを確認した。
Me
(Me、 N−−0−N−0,H6−81−0−81M
e。
e。
e
o IR,NMR,Go−MS分析値
計算値 51.4 11.0 18.5分析値
51,7 10.8 18.4実施例3゜ テトラメチルグアニジン101.2.9およびトルエン
67.81IY還流冷却器、かくはん棒、滴下ロートお
よび温度計を付した内容積50011Ijの四ツロフラ
スコに仕込み、温度g130℃ζ二維持し、3−クロロ
プロピルトリメチルシラン45.2I!v1峙riIJ
を要して滴下した。滴下終了後、130℃で8時間加熱
かくはんし、ついで生成する塩をf過l二より除去し、
f’aw減圧蒸留したところ、沸点が97〜98℃74
顛HII、屈折率が1.4625(25℃)の物性乞有
する留分が44.5.P得られた。この化合物は、IR
,NMR,Go−MSおよび元素分析から下記分子式に
相当するものであることを確d忍した。
51,7 10.8 18.4実施例3゜ テトラメチルグアニジン101.2.9およびトルエン
67.81IY還流冷却器、かくはん棒、滴下ロートお
よび温度計を付した内容積50011Ijの四ツロフラ
スコに仕込み、温度g130℃ζ二維持し、3−クロロ
プロピルトリメチルシラン45.2I!v1峙riIJ
を要して滴下した。滴下終了後、130℃で8時間加熱
かくはんし、ついで生成する塩をf過l二より除去し、
f’aw減圧蒸留したところ、沸点が97〜98℃74
顛HII、屈折率が1.4625(25℃)の物性乞有
する留分が44.5.P得られた。この化合物は、IR
,NMR,Go−MSおよび元素分析から下記分子式に
相当するものであることを確d忍した。
(Me、N−)20=N−011H,−81Me。
o IRlNMR,GO−MS 分析値0(%)
H(%)Sl(%) 計算値 57.6 11.9 12.2分析値
57.7 11.8 12.0実施例4゜ テトラメチルグアニジン103.0.9およびトルエン
77.0 Nを還流冷却器、かくはん欅、滴下ロートお
よび温度計を付した内容積5001の四ツロフラスコに
仕込み、温度’&90℃(二維持し、クロロメチルトリ
メチルシラン36゜81Iを1時間を要して滴下した。
H(%)Sl(%) 計算値 57.6 11.9 12.2分析値
57.7 11.8 12.0実施例4゜ テトラメチルグアニジン103.0.9およびトルエン
77.0 Nを還流冷却器、かくはん欅、滴下ロートお
よび温度計を付した内容積5001の四ツロフラスコに
仕込み、温度’&90℃(二維持し、クロロメチルトリ
メチルシラン36゜81Iを1時間を要して滴下した。
滴下終了後、90℃で24時間加熱かくはんし、ついで
生成する塩をr過により除去しfPgY減圧蒸留したと
ころ、沸点が65〜67℃15朋Hg、屈折率が1.4
60(25℃)の物性を有する留分が30.5 g得ら
れた。この化合物はIR,NMR,C)O−MSおよび
元素分析から下記分子式(二相当するものであることを
確認した。
生成する塩をr過により除去しfPgY減圧蒸留したと
ころ、沸点が65〜67℃15朋Hg、屈折率が1.4
60(25℃)の物性を有する留分が30.5 g得ら
れた。この化合物はIR,NMR,C)O−MSおよび
元素分析から下記分子式(二相当するものであることを
確認した。
(Me N−)O=N−OH−8iMe。
2 2 2
o IRlNMR,GO−MS8分析
値(%) H(%) siへ)H1算値
53.7 11.5 13.9分析値 53
.6 11.3 13.7゜実施例5゜ テトラメチルグアニジン103.211およびトルエン
67.2.FY還流冷却器、かくはん棒、滴Fロートお
よび温度#′を全件した内容噴5001の四ツロフラス
コに仕込み、温度viao℃に維持し。
53.7 11.5 13.9分析値 53
.6 11.3 13.7゜実施例5゜ テトラメチルグアニジン103.211およびトルエン
67.2.FY還流冷却器、かくはん棒、滴Fロートお
よび温度#′を全件した内容噴5001の四ツロフラス
コに仕込み、温度viao℃に維持し。
グロロメテルフェニルジメチルシラン55.4#’21
時間で滴下した。滴下終了7%、130℃で7時間加熱
かくはんし、ついで生成する塩w濾過C:より除去しF
液を減圧蒸留したところ、沸点が126〜b の物性な有する留分が65.4#得られた。この化合物
ハI R,NMR,Go−MSおよび元素分析から下記
分子式に相当するものであることを確認した。
時間で滴下した。滴下終了7%、130℃で7時間加熱
かくはんし、ついで生成する塩w濾過C:より除去しF
液を減圧蒸留したところ、沸点が126〜b の物性な有する留分が65.4#得られた。この化合物
ハI R,NMR,Go−MSおよび元素分析から下記
分子式に相当するものであることを確認した。
e
(MθN−)O=N−OH−8i−Ph2 1
e
OIR,NMRおよびGo−M88分析値元素分析値
0(%) H(%)Sl(%)
計算値 63.8 9.6 10.7分析値
63.6 9.3 10.8実施例6゜ テトラメチルグアニジン103.6pおよびトルエン6
9.311’還流冷却器、かくはん棒1滴下ロートおよ
び温度計を付した内容積500dの四ツロフラスコに仕
込み、温度vloO’cc維持し、クロロメチルビニル
ジメチルンラン40.4.9i1時間を要して滴下した
。滴F終了後、100℃で24時間かくはんし、ついで
生成する塩をf過により除去し、P液を減圧蒸留したと
ころ、沸点が74〜75℃/ 5 mx HFI、屈折
率が1.4556(25℃)の物性を有する留分が32
.6.9得られた。
63.6 9.3 10.8実施例6゜ テトラメチルグアニジン103.6pおよびトルエン6
9.311’還流冷却器、かくはん棒1滴下ロートおよ
び温度計を付した内容積500dの四ツロフラスコに仕
込み、温度vloO’cc維持し、クロロメチルビニル
ジメチルンラン40.4.9i1時間を要して滴下した
。滴F終了後、100℃で24時間かくはんし、ついで
生成する塩をf過により除去し、P液を減圧蒸留したと
ころ、沸点が74〜75℃/ 5 mx HFI、屈折
率が1.4556(25℃)の物性を有する留分が32
.6.9得られた。
この化合物はIR,NMR,Go−MS および元素分
析から下記分子式に相当するものであることを確認した
。
析から下記分子式に相当するものであることを確認した
。
e
o IR%NMRおよびGo−M88分析値元索分析値
0(%) H(%)Sl(%)
計算値 56.3 10.9 13.2分析値 5
6.6 10.7 13.1実施例7゜ 1、 i、 3.3.5.5.7−へブタメチルシクロ
テトラシロキチン296.7#および白金−オクタノー
ル錯体 2%オクタツール溶H2gを遠流冷却器、かく
はん棒1滴下ロートおよび温度計を付した内容積500
1の四ツロフラスコC二仕込み。
6.6 10.7 13.1実施例7゜ 1、 i、 3.3.5.5.7−へブタメチルシクロ
テトラシロキチン296.7#および白金−オクタノー
ル錯体 2%オクタツール溶H2gを遠流冷却器、かく
はん棒1滴下ロートおよび温度計を付した内容積500
1の四ツロフラスコC二仕込み。
温度′1に一100〜110℃に維持し、アリルテトラ
メチルグアニジン155.2JFY1時間を要して滴下
した。滴下終了後、100〜110℃で30分間加熱か
くはんし、ついで50℃まで冷却し、さらにベンゾチア
ゾール2.S’Y適下した。この反応混合物を減圧蒸留
したところ、沸点が148〜b の物性を有する留分が332.7Ii得られた。この化
合物はIR,NMR,Go−MS および元素分析から
下記分子式に相当するものであることを確認した。
メチルグアニジン155.2JFY1時間を要して滴下
した。滴下終了後、100〜110℃で30分間加熱か
くはんし、ついで50℃まで冷却し、さらにベンゾチア
ゾール2.S’Y適下した。この反応混合物を減圧蒸留
したところ、沸点が148〜b の物性を有する留分が332.7Ii得られた。この化
合物はIR,NMR,Go−MS および元素分析から
下記分子式に相当するものであることを確認した。
o IRlNMRおよびGo−M8分析値0元素分析値
O(%) H(%) 81(%)
計算値 41.1 9.0 25.7分析値
41.3 8.7 25.4実施例8゜ 1、3.5.7−チトラメチルー1.3.5−)ジ−n
−プロピルシクロテトラシロキサン384.39および
白金−オクタノール錯体 2%オクタツール溶液2.0
.1−還流冷却器、かくはん棒、滴下ロートおよび温度
計を付した内容1fIIIIの四ツロフラスコに仕込み
、温度を100℃に維持し、アリルテトラメチルグアニ
ジン155.ON’21時間を要して滴下した。滴下終
了後、100℃で30分加熱かくはんし、ついで50℃
まで冷却し、さらにベンゾチアゾール2gを滴下した。
41.3 8.7 25.4実施例8゜ 1、3.5.7−チトラメチルー1.3.5−)ジ−n
−プロピルシクロテトラシロキサン384.39および
白金−オクタノール錯体 2%オクタツール溶液2.0
.1−還流冷却器、かくはん棒、滴下ロートおよび温度
計を付した内容1fIIIIの四ツロフラスコに仕込み
、温度を100℃に維持し、アリルテトラメチルグアニ
ジン155.ON’21時間を要して滴下した。滴下終
了後、100℃で30分加熱かくはんし、ついで50℃
まで冷却し、さらにベンゾチアゾール2gを滴下した。
この反応混合物を減圧蒸留したところ、沸点が143〜
145℃70.8朋HE、屈折率が1.449(25℃
)の反応生成物が536.OII得られた。この化合物
はIRlNMR,Go−MSおよび元素分析から下記分
子式(;相当するものであることを確認した・o X
R,NMRlGo−M8分析値0元累分析値 0(%) H(%)Sl(%) 計算値 48.3 9.8 21.5分析値
48.5 9’、8 21.7実施例9゜ 1. 3. 5.7−チトラメチルー1. 3.5−ト
リス(トリメチルシロキシ)ンクロテトラシロキチン5
05.3.9および白金−オクタノール錯体2%オクタ
ツール溶fi2.0.9を還流冷却器、かくはん棒1滴
下ロートおよび温度計を付した内容積Iノの四ツロフラ
スコに仕込み、i度を100℃に維持し、アリルテトラ
メチルグアニジン155.3.9を1時間を要して滴下
した。滴ド終了後、100℃で30分加熱かくはんし、
ついで50℃まで冷却し、さらにベンゾチアゾール2.
9Y滴下した。
145℃70.8朋HE、屈折率が1.449(25℃
)の反応生成物が536.OII得られた。この化合物
はIRlNMR,Go−MSおよび元素分析から下記分
子式(;相当するものであることを確認した・o X
R,NMRlGo−M8分析値0元累分析値 0(%) H(%)Sl(%) 計算値 48.3 9.8 21.5分析値
48.5 9’、8 21.7実施例9゜ 1. 3. 5.7−チトラメチルー1. 3.5−ト
リス(トリメチルシロキシ)ンクロテトラシロキチン5
05.3.9および白金−オクタノール錯体2%オクタ
ツール溶fi2.0.9を還流冷却器、かくはん棒1滴
下ロートおよび温度計を付した内容積Iノの四ツロフラ
スコに仕込み、i度を100℃に維持し、アリルテトラ
メチルグアニジン155.3.9を1時間を要して滴下
した。滴ド終了後、100℃で30分加熱かくはんし、
ついで50℃まで冷却し、さらにベンゾチアゾール2.
9Y滴下した。
この反応混合物を減圧蒸留したところ、沸点が146−
148℃/ 0.8 mxH7/、屈折率が1.442
(25℃)の物性を有する留分が526.3N得られた
。この化合物はIR,NMR,Go−MSおよび元素分
析から下記分子式に相当するものであることを確認した
。
148℃/ 0.8 mxH7/、屈折率が1.442
(25℃)の物性を有する留分が526.3N得られた
。この化合物はIR,NMR,Go−MSおよび元素分
析から下記分子式に相当するものであることを確認した
。
o IR,NMRおよびGo−MS分析値°元素分析
C(%) H(%)Sl(%)計算値 37
.1 8.9 30.3分析値 37.3
8.9 30.6手続補正書 昭和58年6月15日 特許庁長官若杉和夫 殿 ■、小事件表示 昭和57年特許lI’!第149007号2、発明の名
称 有機けい素化合物 3、補正をする者 事件との関係 竺許ai願人 名称 (206) 信越化学工業株式会社4、代 理
人 1)明細書第11ページ5〜6行における[硬化用触媒
(架橋剤NYrl+1!化助触媒」と補助触媒。
C(%) H(%)Sl(%)計算値 37
.1 8.9 30.3分析値 37.3
8.9 30.6手続補正書 昭和58年6月15日 特許庁長官若杉和夫 殿 ■、小事件表示 昭和57年特許lI’!第149007号2、発明の名
称 有機けい素化合物 3、補正をする者 事件との関係 竺許ai願人 名称 (206) 信越化学工業株式会社4、代 理
人 1)明細書第11ページ5〜6行における[硬化用触媒
(架橋剤NYrl+1!化助触媒」と補助触媒。
2)明細書第17ページ表中の2行目にと補正する。
3)明細書第19ページの表金体を下記のとおりに補正
する。
する。
−1+」
4)明細書第20ページ7行の次にある化学式を下記の
とおりC;補正する。
とおりC;補正する。
r Me
(Me N−) 0=N−OH−81−Ph22
21 Y8」 5)明細書第22ページ1行の化学式を下記のとお番月
二補正する。
21 Y8」 5)明細書第22ページ1行の化学式を下記のとお番月
二補正する。
[Me
■
(Me N−) 0=N−OH−8i −Vi2
2 2 Me3 」 6)明細書第22ページにある表金体を下記のとおり(
二補正する。
2 2 Me3 」 6)明細書第22ページにある表金体を下記のとおり(
二補正する。
7)明細書弔24ページにある表金体を下記のとおりに
補正する。
補正する。
8)明細書第26ページにある表金体を下記のとおりに
補正する。
補正する。
」
9)明細沓第28ページにある表金体を下記のとおり≦
二補正する。
二補正する。
[
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 %式% 2、一般式中のR1の全てが0H1−であり、Wが一0
H−1+OH+ または 2 23 一0H−OH−OH−から選択される基であり、 1
3 OH3 2が 一8iRまたは (ここにR3は0H3−1OH,=OH−またはαから
選択される基、R6はOH1−1OH−、OH−または
(OH3)、 8i0−から選択1111 1
7 される基である)で示されるンリル基である特許請求の
範囲第1項に記載の有機けい素化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14900782A JPS5939897A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | 有機けい素化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14900782A JPS5939897A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | 有機けい素化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5939897A true JPS5939897A (ja) | 1984-03-05 |
Family
ID=15465625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14900782A Pending JPS5939897A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | 有機けい素化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5939897A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6339960A (ja) * | 1986-08-05 | 1988-02-20 | Nippon Mining Co Ltd | 油付着防止用被膜形成剤 |
JPH03203980A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | プライマー組成物 |
DE4243399C2 (de) * | 1991-12-28 | 2003-07-17 | Mitsubishi Materials Corp | Eine Guanidylgruppe enthaltende antibakterielle Verbindungen |
JP2015057475A (ja) * | 2013-08-23 | 2015-03-26 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | グアニジン基を有し、半有機ケイ素基を含有する化合物 |
WO2015052859A1 (ja) | 2013-10-10 | 2015-04-16 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性樹脂組成物 |
WO2016209165A1 (en) * | 2015-06-22 | 2016-12-29 | Agency For Science, Technology And Research | A modified layered clay material and composites containing the same |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5444699A (en) * | 1977-07-13 | 1979-04-09 | Bristol Banyu Res Inst Ltd | Antibiotic compound |
-
1982
- 1982-08-27 JP JP14900782A patent/JPS5939897A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5444699A (en) * | 1977-07-13 | 1979-04-09 | Bristol Banyu Res Inst Ltd | Antibiotic compound |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0347672B2 (ja) * | 1986-08-05 | 1991-07-22 | Nippon Kogyo Kk | |
JPH03203980A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | プライマー組成物 |
DE4243399C2 (de) * | 1991-12-28 | 2003-07-17 | Mitsubishi Materials Corp | Eine Guanidylgruppe enthaltende antibakterielle Verbindungen |
JP2015057475A (ja) * | 2013-08-23 | 2015-03-26 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | グアニジン基を有し、半有機ケイ素基を含有する化合物 |
WO2015052859A1 (ja) | 2013-10-10 | 2015-04-16 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性樹脂組成物 |
US9434817B2 (en) | 2013-10-10 | 2016-09-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Room-temperature-curable resin composition |
WO2016209165A1 (en) * | 2015-06-22 | 2016-12-29 | Agency For Science, Technology And Research | A modified layered clay material and composites containing the same |
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