JPS59217640A - 光フアイバの製造方法 - Google Patents
光フアイバの製造方法Info
- Publication number
- JPS59217640A JPS59217640A JP9354683A JP9354683A JPS59217640A JP S59217640 A JPS59217640 A JP S59217640A JP 9354683 A JP9354683 A JP 9354683A JP 9354683 A JP9354683 A JP 9354683A JP S59217640 A JPS59217640 A JP S59217640A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- base material
- refractive index
- porous glass
- glass preform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ＶＡＤ法（Ｖａｐｏｕｒ Ｐｈａｓｅ Ａ
ｘｉａｌＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ；気相軸付は法）によ
りグレーデッド型光ファイバを製造する方法に関する。
ｘｉａｌＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ；気相軸付は法）によ
りグレーデッド型光ファイバを製造する方法に関する。
ＶＡＤ法によると、ガラスの原料ガスを、屈折率制御用
ドープ剤（金属酸化物）となる金属ハロゲンガスや燃焼
ガスとともにバーナに送って、熱酸化反応あるいは加水
分解反応により火炎中でガラス微粉末を生成し、これを
棒状基材の先端に軸方向に堆積形成して多孔質ガラス母
材を作る。次にこのガラス母材をＣ１，などのハロゲン
ガスを含むＨｅ雰囲気中で加熱することにより脱水処理
してＯＨ基を除いたのち透明ガラス化処理し、さらに延
伸する。その後ジャケラティング及び紡糸の各工程を経
て光ファイバが製造される。
ドープ剤（金属酸化物）となる金属ハロゲンガスや燃焼
ガスとともにバーナに送って、熱酸化反応あるいは加水
分解反応により火炎中でガラス微粉末を生成し、これを
棒状基材の先端に軸方向に堆積形成して多孔質ガラス母
材を作る。次にこのガラス母材をＣ１，などのハロゲン
ガスを含むＨｅ雰囲気中で加熱することにより脱水処理
してＯＨ基を除いたのち透明ガラス化処理し、さらに延
伸する。その後ジャケラティング及び紡糸の各工程を経
て光ファイバが製造される。
ところでグレーデッド型光ファイバにおいては光が通過
する領域はコアの部分が殆どであり、クラッド厚はシン
グルモード型光ファイバはどの厚さを要求されない。し
かし低損失化を図るためには５０舊ｍのコア径に対し、
クラッドの厚さはｌＯｐｍ程が必要と推定される。しか
るに現在、厚さ１０ｇｍの低損失なりラッドを形成する
方法は確立されていない。というのは、コア形成用バー
ナの他にクラッド形成用にもう１本のバーナを設けて、
コアとなる多孔質ガラス母材の表面にりラッドとなる多
孔質ガラス層を形成することが考えられているが、この
場合、グレーデッド型光ファイバではコア領域に多量の
（シングルモード型光ファイバに比べて３倍程度の）ド
ープ剤が含まれており、コアとなる母材表面がクラッド
形成用バーナで加熱されるときこのドープ剤が一部還元
されたり、あるいは局所で結晶化したりしてしまい、そ
の後こうして得られた多孔質母材を加熱して透明ガラス
化した場合に気泡となって残って損失の原因になるから
である。そのためコアの多孔質ガラス母材上にクラッド
の多孔質ガラス層を形成することは困難である。そこで
従来普通には、脱水処理工程においてＯＨ基を除去する
処理に伴なって起るコアの母材表面部におけるドープ剤
の揮発あるいは酸化物からハロゲン化ガスへの逆反応に
より表面部に低屈折率層が形成されるので、これをクラ
ッドとして用いるようにしている。ところが、ドープ剤
の揮発あるいは酸化物のハロゲン化ガスへの反応は、加
熱温度やハロゲンガス濃度が他の理由により固定されて
いるため、れるクラッドの厚みは数ｐｍ程度にしかなら
ないという問題がある。
する領域はコアの部分が殆どであり、クラッド厚はシン
グルモード型光ファイバはどの厚さを要求されない。し
かし低損失化を図るためには５０舊ｍのコア径に対し、
クラッドの厚さはｌＯｐｍ程が必要と推定される。しか
るに現在、厚さ１０ｇｍの低損失なりラッドを形成する
方法は確立されていない。というのは、コア形成用バー
ナの他にクラッド形成用にもう１本のバーナを設けて、
コアとなる多孔質ガラス母材の表面にりラッドとなる多
孔質ガラス層を形成することが考えられているが、この
場合、グレーデッド型光ファイバではコア領域に多量の
（シングルモード型光ファイバに比べて３倍程度の）ド
ープ剤が含まれており、コアとなる母材表面がクラッド
形成用バーナで加熱されるときこのドープ剤が一部還元
されたり、あるいは局所で結晶化したりしてしまい、そ
の後こうして得られた多孔質母材を加熱して透明ガラス
化した場合に気泡となって残って損失の原因になるから
である。そのためコアの多孔質ガラス母材上にクラッド
の多孔質ガラス層を形成することは困難である。そこで
従来普通には、脱水処理工程においてＯＨ基を除去する
処理に伴なって起るコアの母材表面部におけるドープ剤
の揮発あるいは酸化物からハロゲン化ガスへの逆反応に
より表面部に低屈折率層が形成されるので、これをクラ
ッドとして用いるようにしている。ところが、ドープ剤
の揮発あるいは酸化物のハロゲン化ガスへの反応は、加
熱温度やハロゲンガス濃度が他の理由により固定されて
いるため、れるクラッドの厚みは数ｐｍ程度にしかなら
ないという問題がある。
本発明は上記に鑑み、低損失の厚いクラッドの形成など
所望の屈折率分布を得ることのできる光ファイバの製造
方法を提供することを目的とする。
所望の屈折率分布を得ることのできる光ファイバの製造
方法を提供することを目的とする。
すなわち本発明によると、従来のＶＡＤ法による光ファ
イバの製造方法において、多孔質ガラス母材の生成工程
と脱水処理工程との間に還元処理工程を設ける。ガラス
母材にはたとえばＧ ｅ Ｏ２なとの屈折率を高めるた
めのドープ剤が含まれているが、これが、上記の還元処
理工程（たとえば水素による）において、 Ｇ ｅ Ｏ２＋ ２ Ｈ２→Ｇ ｅ ＋ ２ Ｈ２０の
反応で還元されて離脱してしまう。この還元反応はガラ
ス母材゛の表層部より生じるため、表層部を低屈折率層
とすることができ、これをクラッドとして用いることが
できる。反応量は処理温度、Ｈ２６度、処理時間あるい
は処理対象領域の制限などにより自由に変えることがで
きるので、図に示すように、処理前の屈折率分布（点線
（イ）で示す）を、実線（ロ）のような屈折率分布に変
えることができ、クラッドとなる低屈折率層の厚さＴを
大きくすることが可能となる。
イバの製造方法において、多孔質ガラス母材の生成工程
と脱水処理工程との間に還元処理工程を設ける。ガラス
母材にはたとえばＧ ｅ Ｏ２なとの屈折率を高めるた
めのドープ剤が含まれているが、これが、上記の還元処
理工程（たとえば水素による）において、 Ｇ ｅ Ｏ２＋ ２ Ｈ２→Ｇ ｅ ＋ ２ Ｈ２０の
反応で還元されて離脱してしまう。この還元反応はガラ
ス母材゛の表層部より生じるため、表層部を低屈折率層
とすることができ、これをクラッドとして用いることが
できる。反応量は処理温度、Ｈ２６度、処理時間あるい
は処理対象領域の制限などにより自由に変えることがで
きるので、図に示すように、処理前の屈折率分布（点線
（イ）で示す）を、実線（ロ）のような屈折率分布に変
えることができ、クラッドとなる低屈折率層の厚さＴを
大きくすることが可能となる。
なお、還元処理、工程の後に酸化処理工程を行なえば、
還元処理工程において還元が不完全に行なわれている分
子の安定化を図ることができ有効である。
還元処理工程において還元が不完全に行なわれている分
子の安定化を図ることができ有効である。
次に本発明の一実施例について詳細に説明する。まず、
下記の第１表に示す条件で１本の多層バーナに原料ガス
を送り、ＶＡＤ法によりコアをなす多孔質ガラス母材を
長さ３００ｍｍ、直径５５ｍｍの大きさに生長させる。
下記の第１表に示す条件で１本の多層バーナに原料ガス
を送り、ＶＡＤ法によりコアをなす多孔質ガラス母材を
長さ３００ｍｍ、直径５５ｍｍの大きさに生長させる。
第１表
こうして得た多孔質ガラス母材を電気炉内に入れて次の
第２表の条件で還元処理を施した。この処理の後、第３
表の条件で酸素を含むＨｅ雰囲気中で酸化処理を施した
。
第２表の条件で還元処理を施した。この処理の後、第３
表の条件で酸素を含むＨｅ雰囲気中で酸化処理を施した
。
第２表
第３表
こうして還元及び酸化処理した多孔質カラス母材を、脱
水処理、透明ガラス化処理、延伸、ジャケラティング及
び紡糸の通常の各工程で処理することによって、ファイ
バ径１２５ ｐＬｍ、コア径５０ｐｍの光ファイバを得
た。この光ファイバの特性を調べたところ第４表の結果
が得られた。したがって低損失で充分な厚さのクラッド
を有するグレーデッド型光ファイバを製造できたことが
分る。
水処理、透明ガラス化処理、延伸、ジャケラティング及
び紡糸の通常の各工程で処理することによって、ファイ
バ径１２５ ｐＬｍ、コア径５０ｐｍの光ファイバを得
た。この光ファイバの特性を調べたところ第４表の結果
が得られた。したがって低損失で充分な厚さのクラッド
を有するグレーデッド型光ファイバを製造できたことが
分る。
以上述べたように、本発明によれば、従来の製、
造工程に還元処理工程を加えるだけという
簡単な構成で、低損失なりラッドの厚さを大きくするこ
となど屈折率分布を制御することができる。
造工程に還元処理工程を加えるだけという
簡単な構成で、低損失なりラッドの厚さを大きくするこ
となど屈折率分布を制御することができる。
第４表
（註）本実施例と同一条件で還元、酸化処理のみ行なわ
ない場合
ない場合
図は本発明によって得られる屈折率分布の一例を示すグ
ラフである。 （イ）・・・還元処理前の特性 （ロ）・・・還元処理、後の特性 出願人 藤倉電線株式会社 日本電信電話公社
ラフである。 （イ）・・・還元処理前の特性 （ロ）・・・還元処理、後の特性 出願人 藤倉電線株式会社 日本電信電話公社
Claims (2)
- （１）ＶＡＤ法により多孔質ガラス母材を生成し、この
ガラス母材を脱水処理したのち透明ガラス化処理し、次
に延伸し、さらにジャケラティング及び紡糸の各工程を
経てなる光ファイバの製造方法において、前記ＶＡＤ法
による多孔質ガラス母材の生成工程と、脱水処理工程と
の間において前記ガラス母材の還元処理を行なうように
したことを特徴とする光ファイバの製造方法。 - （２）前記還元処理工程の後に酸化処理工程を加えるよ
うにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9354683A JPS59217640A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9354683A JPS59217640A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 光フアイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59217640A true JPS59217640A (ja) | 1984-12-07 |
Family
ID=14085255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9354683A Pending JPS59217640A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59217640A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56109833A (en) * | 1980-01-30 | 1981-08-31 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacture of base material for optical fiber |
-
1983
- 1983-05-26 JP JP9354683A patent/JPS59217640A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56109833A (en) * | 1980-01-30 | 1981-08-31 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacture of base material for optical fiber |
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