JPS5911340B2 - 改良された窒素酸化物浄化用成型触媒 - Google Patents
改良された窒素酸化物浄化用成型触媒Info
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- JPS5911340B2 JPS5911340B2 JP52136187A JP13618777A JPS5911340B2 JP S5911340 B2 JPS5911340 B2 JP S5911340B2 JP 52136187 A JP52136187 A JP 52136187A JP 13618777 A JP13618777 A JP 13618777A JP S5911340 B2 JPS5911340 B2 JP S5911340B2
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Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は排ガス中の窒素酸化物(一酸化窒素、二酸化窒
素など、以下NOxとする)除去用成型触媒の改良に関
する。
素など、以下NOxとする)除去用成型触媒の改良に関
する。
詳しく述べると、本発明は重油焚き、石炭焚きボイラー
の排ガス、セメント工場あるいは焼結炉排ガスなどダス
トを多量に含有する排ガス中のNOxを、アンモニアな
どの還元剤を用いて、無害な窒素に還元するためのダス
ト吹き抜け(ダストフリー)型成型触媒の改良に関する
。
の排ガス、セメント工場あるいは焼結炉排ガスなどダス
トを多量に含有する排ガス中のNOxを、アンモニアな
どの還元剤を用いて、無害な窒素に還元するためのダス
ト吹き抜け(ダストフリー)型成型触媒の改良に関する
。
さらに詳しく述べると、本発明は、上記NOx浄化用触
媒を、該触媒ガス入口側接触部のガス流れ方向に対面す
る端面部に触媒活性を有する物質の溶融物を溶着担持せ
しめて、ダストによる損耗を軽微ならしめてなるNOx
浄化用成型触媒の改良に関するものである。
媒を、該触媒ガス入口側接触部のガス流れ方向に対面す
る端面部に触媒活性を有する物質の溶融物を溶着担持せ
しめて、ダストによる損耗を軽微ならしめてなるNOx
浄化用成型触媒の改良に関するものである。
重油焚き、石炭焚きボイラーの排ガス、またはセメント
工場あるいは焼結炉よりの排ガス中には多量のダストが
含有され、これらの排ガス中に含まれるNOxを浄化す
るには、このダスト対策が先決課題である。
工場あるいは焼結炉よりの排ガス中には多量のダストが
含有され、これらの排ガス中に含まれるNOxを浄化す
るには、このダスト対策が先決課題である。
とくにダストを可及的に排ガスより除去してのち、NO
xを浄化処理することは種々の経済的不利益を余儀なく
されるため、近年はダストを含有した排ガスをそのまま
触媒層に通し、NOx浄化反応せしめるプロセスが支配
的となってきている。
xを浄化処理することは種々の経済的不利益を余儀なく
されるため、近年はダストを含有した排ガスをそのまま
触媒層に通し、NOx浄化反応せしめるプロセスが支配
的となってきている。
そのために適した触媒プロセスとしては、その粒子径を
大きくすることによる触媒充填層内部の空間部分を大き
くさせ、ダスト類を通過させる方法、触媒充填層を移動
することで触媒表面に付着しているダストを吹き飛ばす
かまたはふるい落とす方法、排ガスの流れる方向を切り
替えることで触媒に付着しているダストを逆流除去する
方法などが提案されているが、いずれもプロセス的に複
雑となるが、えられる効果が不十分なものばかりである
。
大きくすることによる触媒充填層内部の空間部分を大き
くさせ、ダスト類を通過させる方法、触媒充填層を移動
することで触媒表面に付着しているダストを吹き飛ばす
かまたはふるい落とす方法、排ガスの流れる方向を切り
替えることで触媒に付着しているダストを逆流除去する
方法などが提案されているが、いずれもプロセス的に複
雑となるが、えられる効果が不十分なものばかりである
。
そこで触媒形状を変えることによりダストの通過を容易
にし触媒表面へのダスト付着を減少せしめる方法がいろ
いろと試みられている。
にし触媒表面へのダスト付着を減少せしめる方法がいろ
いろと試みられている。
たとえば、代表径5〜40閣、長さ200〜2000問
の棒状触媒、内径5〜30Nn,外径10〜40關、長
さ200〜2.000問の円筒状触媒、相当直径3〜2
0rrvn,流通孔を隔てる隔壁の厚さが0.5〜4
rran−,断面の開孔比が30〜90チ、ガス流れ方
向の長さ200〜2.000rrrIrLのハニカム状
触媒、一辺の長さが200〜2.000Tran1厚さ
3〜10mmの正方形もしくは長方形の板状触媒といっ
た各形状に触媒を成型し、これらの成型触媒を棒状、円
筒状触媒の場合はその外周面を、ハニカム触媒の場合は
その隔壁面を、また板状触媒の場合はその板表面を各々
ガス流れ方向に並行に、適当な充填ピッチで配置してダ
ストによる閉塞をみることなく高い脱NOx(脱硝)性
能を得ることが出来るプロセスである。
の棒状触媒、内径5〜30Nn,外径10〜40關、長
さ200〜2.000問の円筒状触媒、相当直径3〜2
0rrvn,流通孔を隔てる隔壁の厚さが0.5〜4
rran−,断面の開孔比が30〜90チ、ガス流れ方
向の長さ200〜2.000rrrIrLのハニカム状
触媒、一辺の長さが200〜2.000Tran1厚さ
3〜10mmの正方形もしくは長方形の板状触媒といっ
た各形状に触媒を成型し、これらの成型触媒を棒状、円
筒状触媒の場合はその外周面を、ハニカム触媒の場合は
その隔壁面を、また板状触媒の場合はその板表面を各々
ガス流れ方向に並行に、適当な充填ピッチで配置してダ
ストによる閉塞をみることなく高い脱NOx(脱硝)性
能を得ることが出来るプロセスである。
この様なプロセスで使用されるダストフリー型触媒の場
合、上記各形状を呈した基体をコージエライト、ムライ
ト、シリコンカーバイド、α−アルミナ、γ−アルミナ
等のセラミック材料を用いて予め成型調整し、この基体
上に触媒物質を塗布するか、含浸する方法が考えられる
が、基体と触媒物質両者の熱膨張係数の違いとか、基体
上への触媒物質の相持強度の弱さなど、根本的な欠点が
あるため、長時間の使用に耐えず、最も問題の少い方法
としては、触媒物質を或は場合によっては担体基体原料
と触媒物質とを混合して上記形状にする方法が考えられ
ている。
合、上記各形状を呈した基体をコージエライト、ムライ
ト、シリコンカーバイド、α−アルミナ、γ−アルミナ
等のセラミック材料を用いて予め成型調整し、この基体
上に触媒物質を塗布するか、含浸する方法が考えられる
が、基体と触媒物質両者の熱膨張係数の違いとか、基体
上への触媒物質の相持強度の弱さなど、根本的な欠点が
あるため、長時間の使用に耐えず、最も問題の少い方法
としては、触媒物質を或は場合によっては担体基体原料
と触媒物質とを混合して上記形状にする方法が考えられ
ている。
一般に、触媒活性は触媒の表面積、細孔容積と比例関係
にあり、低温高活性の成型触媒を得るためには、あまり
高圧をかけずに押し出すとか、予め調製された型に流し
込むなどして成型し、触媒の細孔容積を高める方法が好
ましい。
にあり、低温高活性の成型触媒を得るためには、あまり
高圧をかけずに押し出すとか、予め調製された型に流し
込むなどして成型し、触媒の細孔容積を高める方法が好
ましい。
したがって、この様に低温高空間速度でも高性能を示す
高活性触媒を得んとする場合、成型触媒の強度が弱く、
特に磨耗に弱いという欠点が避けられない。
高活性触媒を得んとする場合、成型触媒の強度が弱く、
特に磨耗に弱いという欠点が避けられない。
従って、排ガス中に25〜3 0 ?/rrlと云った
多量のダストを含む石炭焚きボイラー排ガスを処理する
場合は触媒のガス入口側接触部のガス流れ方向に対面す
る端面は多量のダストが2〜30メートル/秒といった
速い流速で衝突するために非常に激しく磨耗し、長時間
の反応中には触媒が著しく損耗し、経済的な運転が不能
になる事態を招くこととなる。
多量のダストを含む石炭焚きボイラー排ガスを処理する
場合は触媒のガス入口側接触部のガス流れ方向に対面す
る端面は多量のダストが2〜30メートル/秒といった
速い流速で衝突するために非常に激しく磨耗し、長時間
の反応中には触媒が著しく損耗し、経済的な運転が不能
になる事態を招くこととなる。
この磨耗現象は触媒端面均一に起るとはかぎらず、押し
出し圧力のわづかな違い等で生じた触媒成型体の基質の
強度の不均一音医即ち強度の弱い個所を中心に浸触的に
損耗が進行し、均一に磨耗が進む場合に比べて著しく短
時間の内に甚大な損耗を与えると云った実用上大きな問
題点が残されていた。
出し圧力のわづかな違い等で生じた触媒成型体の基質の
強度の不均一音医即ち強度の弱い個所を中心に浸触的に
損耗が進行し、均一に磨耗が進む場合に比べて著しく短
時間の内に甚大な損耗を与えると云った実用上大きな問
題点が残されていた。
これらの問題点を解決するために本発明者らは脱硝触媒
活性成分として用いられている金属成分、たとえばVX
W,Mo XCu,Fe,Cr,Mn,Cei Sn,
Zn,Pb1Ti,Ni,CosNb,TaXpX B
XBiXAl% Sb%アルカリ金属及びアルカリ士類
金属の一種または二種以上の複合系を溶融状態にし、こ
の溶融物を前記成型触媒の端面部、とくに端面先端から
中心部へ2〜20rrrm深さの範囲で担持せしめ、そ
の部分の触媒基材の強度を上げることにより前記問題点
に対して卓越した効果が得られることを知見し本発明を
完成した。
活性成分として用いられている金属成分、たとえばVX
W,Mo XCu,Fe,Cr,Mn,Cei Sn,
Zn,Pb1Ti,Ni,CosNb,TaXpX B
XBiXAl% Sb%アルカリ金属及びアルカリ士類
金属の一種または二種以上の複合系を溶融状態にし、こ
の溶融物を前記成型触媒の端面部、とくに端面先端から
中心部へ2〜20rrrm深さの範囲で担持せしめ、そ
の部分の触媒基材の強度を上げることにより前記問題点
に対して卓越した効果が得られることを知見し本発明を
完成した。
上記触媒物質の溶融体を触媒端面に担持せしめる場合、
成型触媒を所定の方法で成型し、焼成した後で担持して
もよく、また成型品を乾燥後、焼成する前に担持しても
よい。
成型触媒を所定の方法で成型し、焼成した後で担持して
もよく、また成型品を乾燥後、焼成する前に担持しても
よい。
溶融は通常法、例えば電気炉、重油バーナー加熱炉を用
いて容易に実施出来る。
いて容易に実施出来る。
この溶融体中に触媒成型物端而を機械的に含浸せしめて
担持することも可能であるが、溶射法の利用も出来る。
担持することも可能であるが、溶射法の利用も出来る。
溶射法とは、化合物粉末、もしくは金属粉末を溶射法装
置に連続的に供給し、炎中に入れて、溶融と噴出を同時
に行い、成型体端部に溶射担持せしめる。
置に連続的に供給し、炎中に入れて、溶融と噴出を同時
に行い、成型体端部に溶射担持せしめる。
一般の溶射法の装置としては粉末式ガス溶射装置(例:
サーモスプレイ)やプラズマ炎溶射装置(例:プラズマ
ジェット式)などがある。
サーモスプレイ)やプラズマ炎溶射装置(例:プラズマ
ジェット式)などがある。
前装置ではアセチレンー酸素炎使用の場合に約3,10
0℃、水素一酸素炎使用の場合に約2,7 0 0℃の
高温度で粉末を溶融、噴出できる。
0℃、水素一酸素炎使用の場合に約2,7 0 0℃の
高温度で粉末を溶融、噴出できる。
後装置ではアルゴン、窒素などを用いてプラズマ炎をつ
くり、5,0 0 0℃以上の高温度で化合物を溶融す
ることができる。
くり、5,0 0 0℃以上の高温度で化合物を溶融す
ることができる。
いずれの装置も金属も勿論溶射することができ、金属溶
射はすでに工業的規模で実施されている。
射はすでに工業的規模で実施されている。
本発明において、溶融にか\る前記成分は金属、酸化物
、炭化物、窒化物、硫酸塩、硫化物、硝酸塩、塩化物、
リン酸塩、炭酸塩、有機酸塩などの何れでもよく、また
その2種以上の混合物でもよい0 実施例 1 酸化チタン一酸化ケイ素の複合相体(Ti02−Si0
2)を以下に述べる方法で調製した。
、炭化物、窒化物、硫酸塩、硫化物、硝酸塩、塩化物、
リン酸塩、炭酸塩、有機酸塩などの何れでもよく、また
その2種以上の混合物でもよい0 実施例 1 酸化チタン一酸化ケイ素の複合相体(Ti02−Si0
2)を以下に述べる方法で調製した。
水80tVfC四塩化fタ/ ( T i C 14
) 1 1.4Kgヲ水冷攪拌下、徐々に滴下し、次に
スノーテックス一〇(日産化学製シリカゾルsio2と
して20〜21重量係含有)4.5Kgを加えた。
) 1 1.4Kgヲ水冷攪拌下、徐々に滴下し、次に
スノーテックス一〇(日産化学製シリカゾルsio2と
して20〜21重量係含有)4.5Kgを加えた。
これを温度約30℃ニ維持しつつ、よく攪拌しながらア
ンモニア水を徐々に滴下し、PHが7になるまで加え、
さらにそのま\放置して2時間熟成した。
ンモニア水を徐々に滴下し、PHが7になるまで加え、
さらにそのま\放置して2時間熟成した。
かくして得られたTi02−Si02ゲルを沢過、水洗
後120℃で10時間乾燥し、さらに水洗した後500
℃にて3時間焼成した。
後120℃で10時間乾燥し、さらに水洗した後500
℃にて3時間焼成した。
得られた粉体の組成は、酸化物としてTi02/Si0
2=4(モル比)で、BET表面積は220rr?/?
であった。
2=4(モル比)で、BET表面積は220rr?/?
であった。
ここで得られた粉体を以後1−TSjと呼ぶ。
シュウ酸140fIを水60−に溶解し、これにメタバ
ナジン酸アンモニウム7 1.5 rを加え溶解した液
に、上記のTS500fを加え、よく混合し、ニーダー
でよく練り合わせた。
ナジン酸アンモニウム7 1.5 rを加え溶解した液
に、上記のTS500fを加え、よく混合し、ニーダー
でよく練り合わせた。
さらに適量の水を加えつつ練った後、外径30rIrr
rL1内径20關、長さ500wnの円筒状に押出機で
成型し、120℃で6時間乾燥した後空気中400℃で
5時間焼成した。
rL1内径20關、長さ500wnの円筒状に押出機で
成型し、120℃で6時間乾燥した後空気中400℃で
5時間焼成した。
得られた円筒状触媒の組成は酸化物としての重量百分率
でTS:V205=90=10であった。
でTS:V205=90=10であった。
次に、磁製ルツボに入れたメタバナジン酸アンモニウム
を電気炉で750℃に加熱し溶融状態とし、この溶融物
中に上記の円筒状触媒の端面部を含浸し、和持せしめた
。
を電気炉で750℃に加熱し溶融状態とし、この溶融物
中に上記の円筒状触媒の端面部を含浸し、和持せしめた
。
金属バナジウムを担持された部分は触媒の端面部より中
心部に5閣の深さであった。
心部に5閣の深さであった。
得られた触媒につき、次のような方法で机上活性試験を
行った。
行った。
円筒状触媒1本を溶融塩浴に浸漬された内径38.87
lEll1のステンレス製反応管に充填し、ボイラー排
ガスに近似した下記組成の合成ガスにNH3を下記の通
り添加しつつ、14.7t/分の流速(SV3,000
hr” )で触媒層に導入し、反応温度とNOx還元
率(チ)の関係を求めた(NOx分析は柳本製ケミルミ
弐CLD/S型を使用した)。
lEll1のステンレス製反応管に充填し、ボイラー排
ガスに近似した下記組成の合成ガスにNH3を下記の通
り添加しつつ、14.7t/分の流速(SV3,000
hr” )で触媒層に導入し、反応温度とNOx還元
率(チ)の関係を求めた(NOx分析は柳本製ケミルミ
弐CLD/S型を使用した)。
NO 200ppm
So 2 80 0 p pQl02
4容量係 CO2 10 tt H20 10 〃 N2 残 り さらに NH3 200 ppm 得られたNOx還元率は200℃の時70チ、250℃
の時76%、300℃の時83%、350℃の時84%
、400℃の時86%であって、溶融酸化バナジウムの
担持の有無による差異は認められなかった。
4容量係 CO2 10 tt H20 10 〃 N2 残 り さらに NH3 200 ppm 得られたNOx還元率は200℃の時70チ、250℃
の時76%、300℃の時83%、350℃の時84%
、400℃の時86%であって、溶融酸化バナジウムの
担持の有無による差異は認められなかった。
触媒の硬度は鉛筆引かき試験機によって試験した(JI
S−K−5400 )。
S−K−5400 )。
溶融酸化バナジウムを担持しない触媒の端面部の硬度は
2Hで、溶融酸化バナジウムを担持した触媒の端面部の
硬度は9H以上であった。
2Hで、溶融酸化バナジウムを担持した触媒の端面部の
硬度は9H以上であった。
実施例 2
リン酸チタンを以下に述べる方法で調製した。
水6tに98q6硫酸300vを加え四塩化チタン76
0グを氷冷攬拌下徐々に溶解した。
0グを氷冷攬拌下徐々に溶解した。
これを温度8.0℃に保った後、水3.5tに薄めた8
5%オルトリン酸46 1fIを滴下し、そのまま80
℃で5時間熟成した。
5%オルトリン酸46 1fIを滴下し、そのまま80
℃で5時間熟成した。
かくして得られたリン酸チタンゲルを沢過、水洗後11
0℃で乾燥し、さらに水洗後570℃にて3時間焼成し
た。
0℃で乾燥し、さらに水洗後570℃にて3時間焼成し
た。
得られた粉末の組成は酸化物としてT i 02 /P
2 05 =2 (モル比)で嵩比重は0.1 5 5
f/C.C. 、細孔容積は4.14C.C./7,
表面積は6 3.37?Z2/S’であった。
2 05 =2 (モル比)で嵩比重は0.1 5 5
f/C.C. 、細孔容積は4.14C.C./7,
表面積は6 3.37?Z2/S’であった。
なおX線回折分析の結果は不定形であった。
一方、シュウ酸6001を水260rnlに溶解し、こ
れにメタバナジン酸アンモニウム276S’を加え溶解
した液に、上記のリン酸チタン5001を加え、よく混
合し、ニーダーでよく練り合わせた。
れにメタバナジン酸アンモニウム276S’を加え溶解
した液に、上記のリン酸チタン5001を加え、よく混
合し、ニーダーでよく練り合わせた。
さらに適量の水を加えつつ練った後、外殻80mm角、
ピッチ7 .7 mm、セルの肉厚i .7 mm (
外壁2−3rrrIrL)のハニカム状に押出機で成
型し、120℃で6時間乾燥した後、空気中400℃で
5時間焼成した。
ピッチ7 .7 mm、セルの肉厚i .7 mm (
外壁2−3rrrIrL)のハニカム状に押出機で成
型し、120℃で6時間乾燥した後、空気中400℃で
5時間焼成した。
得られた・・ニカム状触媒の組成は酸化物としての重量
百分率でリン酸チタン:v205=70:30であった
。
百分率でリン酸チタン:v205=70:30であった
。
上記のハニカム状触媒の端面部にCuO粉のプラズマ溶
射を施こした。
射を施こした。
溶射するCuO粉は100〜300メッシュのものを用
い、プラズマガスとしてはアルゴンtoo(SCPH)
に対し水素4(SCPH)の割合(体積)とし、60V
,400Aの直流電流を用いた。
い、プラズマガスとしてはアルゴンtoo(SCPH)
に対し水素4(SCPH)の割合(体積)とし、60V
,400Aの直流電流を用いた。
溶射された部分は5咽の深さまでに金属銅が担持された
。
。
得られた触媒につき、触媒のNOx還元性能試験を実施
例1に準じて行ねった結果、CuOの担持の有無による
差異は認められなかった。
例1に準じて行ねった結果、CuOの担持の有無による
差異は認められなかった。
また、触媒の硬度は実施例1に準じて試験した結果、C
uOを担持しない触媒の端面部の硬度は2Hで、CuO
を担持した触媒の端面部の硬度は9H以上であった。
uOを担持しない触媒の端面部の硬度は2Hで、CuO
を担持した触媒の端面部の硬度は9H以上であった。
実施例 3
メタバナジン酸アンモニウム7 5.6 f% 硝酸銅
8 9.3 fを含む水溶液60mA!に、実施例1で
用いたと同じTS500fを加え、よく混合し、ニーダ
ーでよく練り合わせた。
8 9.3 fを含む水溶液60mA!に、実施例1で
用いたと同じTS500fを加え、よく混合し、ニーダ
ーでよく練り合わせた。
さらに適量の水を加えつつ練った後、厚さ5 rran
,幅160喘、長さ450圏の板状に押出機で成型し、
その成型物を金型に入れ60K4/cr!の圧力でプレ
スし、120℃で6時間乾燥した後、空気中400℃で
5時間焼成した。
,幅160喘、長さ450圏の板状に押出機で成型し、
その成型物を金型に入れ60K4/cr!の圧力でプレ
スし、120℃で6時間乾燥した後、空気中400℃で
5時間焼成した。
得られた板状触媒の組成は酸化物としての重量百分率で
TS :V2 05 :CuO= 85:10:5で
あった。
TS :V2 05 :CuO= 85:10:5で
あった。
次に、上記の板状触媒の端面部にCu粉のプラズマ溶射
を施こした。
を施こした。
溶射するCu粉は100〜300メッシュのものを用い
、プラズマ溶射条件および担持深さは実施例2と同様で
あった。
、プラズマ溶射条件および担持深さは実施例2と同様で
あった。
得られた触媒につき、触媒のNOx還元性能試験を実施
例1に準じて行なった結果、Cuの担持の有無による差
異は認められなかった。
例1に準じて行なった結果、Cuの担持の有無による差
異は認められなかった。
また、触媒の硬度は実施例1に準じて試験した結果、C
uを担持しない触媒の端面部の硬度は3HでCuを担持
した触媒の端面部の硬度は9H以上であった。
uを担持しない触媒の端面部の硬度は3HでCuを担持
した触媒の端面部の硬度は9H以上であった。
実施例 4
メタバナジン酸アンモニウム75.6f,タングステン
酸アンモニウム33.11を含むシュウ酸酸性水溶液6
0−に、実施例1で用いたTS 50 02を加え、よ
く混合し、ニーダーでよく練り合わせた。
酸アンモニウム33.11を含むシュウ酸酸性水溶液6
0−に、実施例1で用いたTS 50 02を加え、よ
く混合し、ニーダーでよく練り合わせた。
さらに適量の水を加えつつ練った後、実施例1に準じて
円筒状触媒を調製した。
円筒状触媒を調製した。
得られた円筒状触媒の組成は酸化物としての重量百分率
でTS:V205 :WO3二85 :10 :5であ
った。
でTS:V205 :WO3二85 :10 :5であ
った。
次に、二酸化マンガンをガス溶射法によって上記円筒状
触媒の端面部に担持せしめた。
触媒の端面部に担持せしめた。
炎にはアセチレンー酸素炎(アセチレン:13PSI、
酸素:20PSI)を使用した。
酸素:20PSI)を使用した。
マンガンの担持深さは約5咽であった。
得られた触媒につき、触媒のNOx還元性能試験を実施
例1に準じて行なった結果、MnO2の担持の有無によ
る差異は認められなかった。
例1に準じて行なった結果、MnO2の担持の有無によ
る差異は認められなかった。
また、触媒の硬度は実施例1に準じて試験した結果、M
nO2を担持しない触媒の端面部の硬度ぱ2Hで、M
n 0 2を担持した触媒の端面部の硬度は9H以上で
あった。
nO2を担持しない触媒の端面部の硬度ぱ2Hで、M
n 0 2を担持した触媒の端面部の硬度は9H以上で
あった。
実施例 5
実施例1において溶融五酸化バナジウムの代りに金属ア
ルミニウムを用いて同様にして触媒を調製した。
ルミニウムを用いて同様にして触媒を調製した。
触媒のNOx還元性能は無担持および担持について差異
は認められなかった八触媒の硬度は無担持の触媒は2H
であつ゜〔、担持の触媒は9H以上であった。
は認められなかった八触媒の硬度は無担持の触媒は2H
であつ゜〔、担持の触媒は9H以上であった。
実施例 6
実施例1の触媒素材を実施例2に準じてハニカム状触媒
を調製した。
を調製した。
得られた触媒の端面部に実施例1に準じて溶融五酸化バ
ナジウムを担持せしめた。
ナジウムを担持せしめた。
バナジウムの担持深さは約58であった。
得られた触媒につき、触媒のNOx還元性能試験を実施
例1に準じて行なった結果、V205の担持の有無によ
る差異は認められなかった。
例1に準じて行なった結果、V205の担持の有無によ
る差異は認められなかった。
また、触媒の硬度は実施例1に準じて試験した結果、v
205を担持しない触媒の端面部の硬度は2Hで、v2
05を担持した触媒の端面部の硬度は9H以上であった
。
205を担持しない触媒の端面部の硬度は2Hで、v2
05を担持した触媒の端面部の硬度は9H以上であった
。
実施例 7
実施例1および実施例4で得られた触媒について、実ガ
スによる耐久試験を行なった。
スによる耐久試験を行なった。
円筒状触媒196本を横2 1 0wm、たて210調
、長さ2000mmの箱型反応器にガスの流れと平行に
して固定した。
、長さ2000mmの箱型反応器にガスの流れと平行に
して固定した。
この反応器に石炭を燃・料として使用するボイラーの排
ガスにNH3を添加してNOxを除去を行なった。
ガスにNH3を添加してNOxを除去を行なった。
排ガス組成はNOx250〜300ppm1S O x
8 0 0 〜1 ,2 0 0 p ’p rn
N酸素3〜4容量係、炭酸ガス10〜12容量係、水蒸
気10〜14容量係、残り窒素であり、これにNH3を
NH3/NO x= 1 (モル比)となるように添加
してなるものであり、排ガス中に含まれる煤塵は25〜
30S’/Nrr?である。
8 0 0 〜1 ,2 0 0 p ’p rn
N酸素3〜4容量係、炭酸ガス10〜12容量係、水蒸
気10〜14容量係、残り窒素であり、これにNH3を
NH3/NO x= 1 (モル比)となるように添加
してなるものであり、排ガス中に含まれる煤塵は25〜
30S’/Nrr?である。
上記排ガスをあらかじめ加熱して反応器入口温度を33
0℃に設定し441Ni/hrで供給した(線速は空筒
基準で4.9メートル/秒に相当する。
0℃に設定し441Ni/hrで供給した(線速は空筒
基準で4.9メートル/秒に相当する。
)。触媒の耐久試験の結果を表1に示した。
3000時間の耐久試験後、触媒を取り出してみると、
無担持の触媒と担持せしめた触媒とに顕著な差異が認め
られた。
無担持の触媒と担持せしめた触媒とに顕著な差異が認め
られた。
すなわち、無担持の触媒では触媒層のガス入口接触部の
,端面部が、浸触的に損耗しており、一方、担持せしめ
た触媒は殆ど損耗していなかった。
,端面部が、浸触的に損耗しており、一方、担持せしめ
た触媒は殆ど損耗していなかった。
Claims (1)
- 1 ダスト含有排ガス中の窒素酸化物を浄化するダスト
吹き抜け可能な形状に成型された触媒において、該触媒
ガス入口側接触部のガス流れ方向に対面する端面部に触
媒活性を示す溶融体を溶着担持せしめてダストによる触
媒端面の損耗を防止せしめてなることを特徴とする改良
された窒素酸化物浄化用成型触媒。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52136187A JPS5911340B2 (ja) | 1977-11-15 | 1977-11-15 | 改良された窒素酸化物浄化用成型触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52136187A JPS5911340B2 (ja) | 1977-11-15 | 1977-11-15 | 改良された窒素酸化物浄化用成型触媒 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5469587A JPS5469587A (en) | 1979-06-04 |
JPS5911340B2 true JPS5911340B2 (ja) | 1984-03-14 |
Family
ID=15169371
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52136187A Expired JPS5911340B2 (ja) | 1977-11-15 | 1977-11-15 | 改良された窒素酸化物浄化用成型触媒 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5911340B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106423193A (zh) * | 2016-09-21 | 2017-02-22 | 中国建筑材料科学研究总院 | 蜂窝状锰系脱硝催化剂及其制备方法 |
CN109364935A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-02-22 | 江苏奥利思特环保科技有限公司 | 一种低温脱硝催化剂及制备方法 |
Families Citing this family (5)
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---|---|---|---|---|
JP2879738B2 (ja) * | 1989-03-28 | 1999-04-05 | 触媒化成工業株式会社 | 排ガスの浄化方法およびそれに使用する触媒成型体 |
DE19635385B4 (de) * | 1996-08-31 | 2011-07-14 | Envirotherm GmbH, 45136 | Verfahren zur reduktiven Zerstörung von Stickstoffoxiden in staubhaltigen Abgasen aus Anlagen zur Herstellung von Zement |
JP4922651B2 (ja) * | 2000-01-20 | 2012-04-25 | 株式会社日本触媒 | 耐摩耗性触媒成形体の製造方法 |
JP5081420B2 (ja) | 2006-09-21 | 2012-11-28 | 日立造船株式会社 | 触媒の製造方法およびその方法により製造された触媒 |
CN106955698B (zh) * | 2017-04-07 | 2019-05-31 | 太原理工大学 | 基于介孔二氧化钛载体的脱硝催化剂制备方法 |
-
1977
- 1977-11-15 JP JP52136187A patent/JPS5911340B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106423193A (zh) * | 2016-09-21 | 2017-02-22 | 中国建筑材料科学研究总院 | 蜂窝状锰系脱硝催化剂及其制备方法 |
CN109364935A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-02-22 | 江苏奥利思特环保科技有限公司 | 一种低温脱硝催化剂及制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5469587A (en) | 1979-06-04 |
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