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JPS59119245A - Automatic positioning device - Google Patents

Automatic positioning device

Info

Publication number
JPS59119245A
JPS59119245A JP57226886A JP22688682A JPS59119245A JP S59119245 A JPS59119245 A JP S59119245A JP 57226886 A JP57226886 A JP 57226886A JP 22688682 A JP22688682 A JP 22688682A JP S59119245 A JPS59119245 A JP S59119245A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
detected
flip
flop
image sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57226886A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Wakabayashi
若林 芳雄
Shinichi Men
眞一 面
Kiyotake Kato
加藤 清毅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP57226886A priority Critical patent/JPS59119245A/en
Publication of JPS59119245A publication Critical patent/JPS59119245A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

PURPOSE:To position a pattern to be detected in precise relation to an optical detection system easily by using the optical detection system which has a pattern defect and detecting the mutual position relation of the pattern to be detected. CONSTITUTION:An image of the pattern 1 to be detected is formed on a linear image sensor 2a through an objective 2b and an X-Y feed mechanism 56 operates for every line scan on the sensor 2a. A video signal (a) is inputted to a flip-flop group 8d through a binary-coding circuit 8a and shift registers 8b and 8c, and when the number of boundary point signal (f) from a gate 8e exceeds a specific value, a flip-flop 8g is set by a preset counter 8f. Then, only when the output of an exclusive OR gate 10a is (1), Y-axial measuring table feed pulses (g) are counted by a counter 10d and an offset direction is detected by a flip-flop 10b. A processor 11 operates a turntable 5a on the basis of said data to adjust the inclination of the pattern to be detected to zero.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はプリント配線パターンの欠陥を検査する装置に
於いて、被検査パターンの設置位置を正確な位置に自動
的に位置合わせする装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a device for automatically aligning the installation position of a pattern to be inspected to an accurate position in a device for inspecting defects in printed wiring patterns. be.

〔従来技術〕[Prior art]

同一の被検査パターン2つを並べて比較チェックするプ
リント配線パターン欠陥検査装置においては、第1図(
α)に示す様に同一配線パターンが複数個(A、B、C
,D・・・)配列された基板に対して隣接する同一パタ
ーン同志(例えばAとB)の対応点?比較チェックする
ことにより、パターン欠陥の検査が可能なものである。
In a printed wiring pattern defect inspection device that compares and checks two identical patterns to be inspected side by side, the system shown in Fig. 1 (
As shown in α), there are multiple identical wiring patterns (A, B, C
, D...) Corresponding points of adjacent identical patterns (for example, A and B) on the arranged substrate? By performing a comparative check, pattern defects can be inspected.

この装置は、第1図(Alに示す様に複数個の光学検出
部2および3の有する一次元イメージセンサ2αおよび
3αにより、左右のパターン上の微細エリアの対応する
点に着目して各々を検出し、双方のパターンの“有”、
゛無1が相等しい場合を正常、相異なる場合はそのAt
欠陥としている。
As shown in FIG. 1 (Al), this device uses one-dimensional image sensors 2α and 3α of a plurality of optical detection units 2 and 3 to focus on corresponding points in minute areas on the left and right patterns and detect each. Detects the “presence” of both patterns,
゛If the two are equal, it is normal; if they are different, the At
It is considered a defect.

以上において着目点の走査は、横方向c以下X方向と称
す)は前記−次元イメージセンサ2α。
In the above, the scanning of the point of interest in the lateral direction c (hereinafter referred to as the X direction) is the -dimensional image sensor 2α.

3bの走査クロックで行ない、縦方向C以下y方向と称
す)については、被検基板1のy方向送りにより行なう
。このような比較チェック方式においては、被検パター
ンA、B・・・は基板上で縦、横方向ともに正確な間隔
寸法で作製されていることを前提としており、イメージ
センサ2α。
3b, and the vertical direction C (hereinafter referred to as the y direction) is carried out by moving the substrate 1 to be tested in the y direction. In such a comparison check method, it is assumed that the test patterns A, B, .

3αは被検パターンの横方向配列ピッチに等しい間隔て
簡°かれることが必要である。さらにイメ−ジセンサ2
α、5αの配列について言えば、両者は正確にX軸(ま
たはX軸と平行な軸)上におかれかつこれに対する被検
パターンの位置設定としてその傾き角θ(二つの被検パ
ターンA。
3α needs to be spaced at intervals equal to the horizontal arrangement pitch of the pattern to be tested. Furthermore, image sensor 2
Regarding the arrangement of α and 5α, both are placed exactly on the X-axis (or an axis parallel to the X-axis), and the position of the test pattern relative to this is set at an inclination angle θ (two test patterns A).

Bの対応点を結ぶ直線とX軸とのなす角)を零に合わせ
ることが必要条件である。
It is a necessary condition that the angle formed by the straight line connecting the corresponding points of B and the X-axis is set to zero.

従来は被検基板の左右に第1図(α)に示す如く、x動
方向に基準線マーカーMおよびAを設け、この位置を別
に光学検出部側に設けた基準位置検出器6および7によ
り検出し、その結果制御装置4からの指令で各々のy軸
方向位置が左右で等しくなる様被検基板1を測定テーブ
ル5を構成するX−Y送υ機構5h上の回転テーブル5
αにより回転させ傾き合わせを行なっていた。しかしこ
のような方式では、祖検基板1の左右にマーカ1iおよ
びNが必要なこと、前記したイメージセンサ2αI3α
と対物レンズ2h、5bを備えた光学検出部2および3
側に基準位置検出器2個が必要なこと、またパターンの
独別変更等で前記マーカ位i礎が変わった場合にはその
都にこれおよび7の位置も再設定する必要があること等
のため、機構が複雑となりかっ、取り扱いが不便であっ
た。ここで特に基準位置検出器6.7の位置設定Fi加
々行なわれなければならず、高精度を要するので、極め
て不便であった。そこで単純な機構でかっ、簡単に精度
よく被検パターンの位置合わせのできる方法の開発が望
まれていた。
Conventionally, reference line markers M and A are provided in the x-movement direction on the left and right sides of the test board as shown in FIG. The rotary table 5 on the X-Y feed mechanism 5h constituting the measurement table 5 detects the substrate 1 to be tested so that the positions in the y-axis direction are equal on the left and right sides according to a command from the control device 4.
The inclination was adjusted by rotating it by α. However, in such a method, markers 1i and N are required on the left and right sides of the original inspection board 1, and the image sensor 2αI3α described above is required.
and optical detection units 2 and 3 equipped with objective lenses 2h and 5b.
Two reference position detectors are required on the side, and if the marker position i is changed due to an individual change of the pattern, it is necessary to reset this and the position of 7 for that city, etc. Therefore, the mechanism tends to be complicated and handling is inconvenient. Here, in particular, the position setting Fi of the reference position detector 6.7 has to be performed repeatedly, which requires high precision, which is extremely inconvenient. Therefore, it has been desired to develop a method that uses a simple mechanism to easily and accurately align the test pattern.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は被検パターンを検出光学系に対して精度
良くかつ簡易に位置合わせできるプリント基板自動位置
合わせ装置を提供するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an automatic printed circuit board alignment device that can accurately and easily align a test pattern with respect to a detection optical system.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

いま仮にイメージセンサ2αおよびRiz自体により被
検パターンの傾きが検出できれば、上記した基準線マー
カーの設定はもちろん、これを検出するだめの基準位置
検出器の設定も必要がなくなり、前述した欠点は排除で
きるはずである。
If the inclination of the test pattern could be detected by the image sensor 2α and Riz itself, it would not be necessary to set the reference line marker described above, but also to set the reference position detector to detect this, and the above-mentioned drawbacks would be eliminated. It should be possible.

本発明は本来のパターン欠陥を検出する検出光学部2お
よび3を用いて、被検パターンA、 Bの相互位置関係
を検出することによシ、被検基板の自動位置合わせを行
なうことを要点とする。
The main point of the present invention is to automatically align the substrate to be tested by detecting the mutual positional relationship between the patterns A and B using the detection optical sections 2 and 3 that detect original pattern defects. shall be.

被検パターンは各種のパターン要素で構成されており、
各要素の方間、長さは種々雑多あるので、予め傾き角検
出に有利なパターン要素として、第2図に示す様にX軸
に平行な長手方向を持つ長方形状の対応する裡検物のパ
ターン要素A、Bf選定する。この方法は予め目視等に
より選定した要素の基板上の座標データを記憶しておき
、この座標データにより光学検出部の視野中心付近へこ
のパターン要素α、bを移動しておく。いま第2図に示
す様にパターン要素ABの各々の下方エッヂEα とE
bがy方向にiだけずれてしるものとする。ここで第1
図に示す測定テーブル5をy軸方向下方へ、微小ステッ
プ(イメージセンサ視野2町、3α1の各絵素長に等し
い単位長さ)づつ送って行く時イメージセンサ2α、3
αの映像は第2図(α)〜rC+に示す様に変化して行
く。すなわちイメージセンサ視野2α、。
The test pattern is composed of various pattern elements.
Since the dimensions and lengths of each element are various, we have prepared a pattern element that is advantageous for detecting the inclination angle in advance by using a corresponding rectangular specimen whose longitudinal direction is parallel to the X-axis as shown in Fig. 2. Select pattern elements A and Bf. In this method, coordinate data on the substrate of elements selected by visual inspection or the like is stored in advance, and pattern elements α and b are moved to the vicinity of the center of the field of view of the optical detection section using this coordinate data. Now, as shown in FIG. 2, the lower edges Eα and E of each of the pattern elements AB
Assume that b is shifted by i in the y direction. Here the first
When the measurement table 5 shown in the figure is sent down in the y-axis direction by minute steps (image sensor field of view 2 towns, unit length equal to the length of each picture element 3α1), the image sensors 2α, 3
The image of α changes as shown in FIG. 2 (α) to rC+. That is, the image sensor field of view 2α.

3町内の各絵素の“明″又は“暗″(パターン”有1又
はパターン“無”に対応)が図中に“1#又は“0#で
示される様に変化して行く。第2図中(α)はエッヂE
αおよびEh検出前の状態、(hlは左側イメージセン
サ2αがエッヂEαを検出した時の状態、(C1は右側
イメージセンサ3aがエッヂEhを検出した時の状態を
示す。エッヂ検出の判定条件としては、ff111定テ
ーブルy軸方向送りの1ステップ手前でパターン無(“
0つであった点が今回パターン“有”C”1#)となる
ことが必要であるが、これがイメージセンサ視野内の複
数絵素“n個以上1に対して同時に成立した時エッヂ検
出とする。片方のイメージセンサでエッチを検出してか
ら他方のイメージセンサでエッチを検出する迄のy軸方
向送りtが、左右の被検パターンのy軸方向オフセット
値ΔYに等しくなる。dの値が求まれば、傾き角θは下
式により容易に求まり、このθの値を零とする様基板位
醤を回転させれば良い。
The "brightness" or "darkness" (corresponding to "pattern" 1 or "absence" of pattern) of each picture element in 3 towns changes as shown by "1#" or "0#" in the figure.Second In the figure (α) is edge E
The state before α and Eh are detected, (hl is the state when the left image sensor 2α detects the edge Eα, (C1 is the state when the right image sensor 3a detects the edge Eh. As a judgment condition for edge detection , there is no pattern (“
It is necessary for the point that was 0 to become the pattern "C"(1#) this time, but when this is simultaneously established for multiple picture elements "n or more 1" within the field of view of the image sensor, it is considered edge detection. do. The y-axis direction feed t from when one image sensor detects an etch until the other image sensor detects an etch is equal to the y-axis direction offset value ΔY of the left and right test patterns. Once the value of d is determined, the tilt angle θ can be easily determined using the following formula, and the substrate plate may be rotated so as to make the value of θ zero.

θ=5.n一旦 を 但しtは被検パターンA、Bの横配列間隔寸法 前述の“九個以上″については原理上ではこれを“1個
以上″としてもかまわないが、1個の場合、パターンの
凹凸状の欠陥がエッチ上にある場合誤検出のおそれがあ
るので、′n個”は適当な複数個に設定した方が良い。
θ=5. n, where t is the horizontal arrangement interval between the test patterns A and B. Regarding the above-mentioned "nine or more", in principle this may be "one or more", but if it is one, the unevenness of the pattern If a defect like this exists on an etch, there is a risk of false detection, so it is better to set 'n' to an appropriate number.

またもともと轢き角θは小さく taミルで約1710
以下程度であるので、エッヂ検出絵素も多数個同時に発
生する。
Also, the running angle θ is originally small, about 1710 for TA mil.
Since the number of edge detection pixels is approximately the same as that of the following, a large number of edge detection picture elements are generated at the same time.

ここで検出したオフセットiの値は、±1ピット(±1
ステップ)以下の誤差を含んでいる。
The value of offset i detected here is ±1 pit (±1
Step) Contains the following errors.

この誤差を許容レベル以下におさえるため、光学検出部
2および3の絵素検出分解能を最終的なパターン欠陥検
査性能上の分解能よりも充分高くしておく必要があるが
、実際のパターン欠陥検査製筒に於ても、絵素検出分解
能が充分高くなっており間覇はない。
In order to suppress this error below an allowable level, it is necessary to make the pixel detection resolution of the optical detectors 2 and 3 sufficiently higher than the resolution for the final pattern defect inspection performance. Even in the tube, the pixel detection resolution is sufficiently high and there is no difference in time.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

本発明の実施例プリント基板自動位置合わせ装置のブロ
ック図を第3図に示す。被検パターンの映像を対物レン
ズ2b(5b)  により一次元イメージセンサ2a(
3α)上に結像させる。−次元イメージセンサ2a(3
α)に入ったX軸方向−ラインの映像情報は各絵素毎の
明かるさデータとして、左から右に順次読出されて、出
力に映像信号(イ)が得られる。一方X−Y送り機構5
bは処理装置12の指令により、−次元イメージセンサ
2α(3α)の1ライン走査毎に同期して、微小ステッ
プづつy軸方向に直線送りされる。これにより、映像信
号(イ)は被検パターン上を通常のTV画面走査等と同
様なX−Y走査がなされる。これを2値化回路8α(9
α)によりグレーレベル(明暗の中間レベル)(ロ)と
比較することにより出力に“1#(明:パターン1有”
)、″0”(暗:パターン“無”)の2値化映像信号(
ハ)を得る。シフトレジスタ8h、 Bc(9h、 9
c)はこの2値化映像信号(ハ)を−次元イメージセン
サ2α(3α)の1ライン走査の時間たけ遅延させるも
ので、結果的にシフトレジスタ8b、 Bc(9h、 
9c)の出力信号に)および(ホけ2値化映像信号(ハ
)に対して各々y軸方向テーブル送りの1ステツプおよ
び2ステツプ手前のデータとなる。実際にはイメージセ
ンサ2α(3α)は1ライン1024ビツトの絵素より
構成させたのでシフトレジスタ8h、 Bc(9h、 
9c)のビット数もこれに合わせ各々1024ビツトと
しである。信号(ハ)、(=l。
A block diagram of an automatic printed circuit board positioning apparatus according to an embodiment of the present invention is shown in FIG. The image of the test pattern is captured by the one-dimensional image sensor 2a (
3α) Image is formed on the -dimensional image sensor 2a (3
The video information in the X-axis direction-line entered α) is sequentially read out from left to right as brightness data for each picture element, and a video signal (A) is obtained as an output. On the other hand, the X-Y feed mechanism 5
b is linearly fed in the y-axis direction in small steps in synchronization with each line scan of the -dimensional image sensor 2α (3α) according to a command from the processing device 12. As a result, the video signal (a) undergoes X-Y scanning on the test pattern, similar to normal TV screen scanning. This is converted into a binarization circuit 8α (9
By comparing the gray level (intermediate level between light and dark) (b) with α), the output is “1# (bright: pattern 1 present)”
), “0” (dark: pattern “no”) binary video signal (
C). Shift register 8h, Bc (9h, 9
c) is to delay this binarized video signal (c) by the time of one line scanning of the -dimensional image sensor 2α (3α), and as a result, the shift registers 8b, Bc (9h,
9c) output signal) and (b) The data is one step and two steps before the table feed in the y-axis direction for the binary video signal (c), respectively.In reality, the image sensor 2α (3α) is Since each line consists of 1024-bit picture elements, shift registers 8h, Bc (9h,
The number of bits in 9c) is also 1024 bits each. Signal (c), (=l.

&19を各々フリップフロップ群M(9d)に入れて図
に示す接続でゲー) 8e(9g)を通して信号へを得
る。ここで被検パターン要素として、前述のX軸に平行
な直線エッヂ部分Eα(Eb)を選べば信号へか境界点
を示すデータとなる。(”1”の時境界点、“0″の時
境界点でない。) 境界点は本来y軸方向の1ピツト手前で“0′″今回”
1”の点のはずである。しかし前述した様に一次元イメ
ージセンサの絵素分解能を高くとっているので、エッヂ
Eα(Eh)は本来直線のものがミクロの目で見られる
ため実際は、第4図に示す様に凹凸状の線となる。この
ため境界点の検出方法として、y l1ill+方向1
ピット手前ではなく、これを数ビツト手前のデータと比
較させ、かつ、X軸方向については、着目点1ピツトの
みではなく、これの左右を含めた複数ピットについて各
々全て“0”又は″1′が成立することを条件として追
加する。
&19 are respectively placed in the flip-flop group M (9d), and a signal is obtained through the gate (G)8e (9g) with the connection shown in the figure. Here, if the aforementioned straight edge portion Eα (Eb) parallel to the X-axis is selected as the pattern element to be tested, data indicating a boundary point to the signal will be obtained. (When it is "1", it is a boundary point; when it is "0", it is not a boundary point.) The boundary point is originally one pit in the y-axis direction, and is "0'" this time.
1". However, as mentioned above, since the pixel resolution of the one-dimensional image sensor is high, the edge Eα (Eh) is actually a straight line that can be seen with the microscopic eye. As shown in Figure 4, the line is uneven.For this reason, the boundary point detection method is y l1ill + direction 1.
Compare this with the data several bits before the pit, not just before the pit, and in the X-axis direction, compare not only one pit of interest, but multiple pits including the left and right of this, all "0" or "1'". It is added on the condition that the following is true.

例えば第3図のフリップフロップ群Bet(qd>にi
−mで着目点を中心のフリップフロップ(図中の口)と
した時、y方向送υの1ステツプ手前の状態0図の下側
の7リツプフロソプに対応)について左右を含めた3ビ
ツトに対して全て“0″が成立し、y方向送りの1ビツ
ト後の状態(図の上側のフリップフロップに対応)につ
いて左右を含めた3ビツトに対して全て“1”が成立し
た時、着目点を境界点と定義すれば信号(へ)が“1#
の時境界点を検出したこととなる。この例ではX軸方向
に3ビツトに全て“0”又は1#が成立した点について
y軸方向2ビット離れた点との“1″、”0″比較をす
ることとなる。実際はこのX軸方向一ビツト、y軸方向
ノ゛ビットについては適当々値を任意に選定できる様な
回路設計としである。この境界点信号の“11の数をX
軸方向の1ライン走査の範囲内でプリセットカウンタB
f(9f)で計数し、これが規定値(“n1個)以上と
なった時、プリセットカウンター8f(9f)fcオー
バフローを発生させ、これでフリップフロップBy(9
y )を11”にセットする。これは境界線を検知した
信号となる。
For example, if i
-m, when the point of interest is the center flip-flop (mouth in the figure), the state 1 step before the y-direction feed υ corresponds to the 7 flip-flops at the bottom of the figure) for 3 bits including the left and right. When all “0” is established for the 3 bits including the left and right in the state after one bit of y-direction feed (corresponding to the flip-flop on the upper side of the diagram), the point of interest is set. If it is defined as a boundary point, the signal (to) is “1#”
When , the boundary point is detected. In this example, a point where all 3 bits in the X-axis direction are "0" or 1# is compared with "1" and "0" with a point 2 bits away in the Y-axis direction. In reality, the circuit design is such that appropriate values can be arbitrarily selected for one bit in the X-axis direction and two bits in the Y-axis direction. The number of “11” of this boundary point signal is
Preset counter B within the range of one line scan in the axial direction
f (9f) is counted, and when this value exceeds the specified value (n1 pieces), a preset counter 8f (9f) fc overflow is generated, which causes the flip-flop By (9f) to overflow.
y) is set to 11". This becomes a signal that detects the boundary line.

以上によシ、境界線を高分解能でかっ、安定に検知する
ことができる。以上迄説明したブロックは左側および右
側の光学検出部2および3に各々対応して、各1式づつ
設けてあり、部品番号については後者の方を文中で0内
に記した。
With the above, boundary lines can be detected stably and with high resolution. The blocks described above are provided one set each, corresponding to the left and right optical detection units 2 and 3, and the latter part number is indicated within 0 in the text.

ところでフリップフロップ8gおよび9gにおいて、一
方が”1#となってから他方が“1″となる迄の測定テ
ーブル5のy軸方同送υ量が被検パターン相互間のy軸
方向オフセット値K等しくなるはずである。このオフセ
ット値dを求めるため、フリップフロップ8!If?よ
び9gの出方を排他的オアゲー) 10αに久方し、こ
の出方が′1”の間のみy軸方向測定テーブル送りパル
スとのパルス数ヲケート1ocを通してカウンタ10d
テ計数させれば、この計数値がオフセット値dに等しく
なる。またオフセット方向についてはフリップフロップ
8!Iの出方をDタイプフリップフロップ10Aのデー
タ久方端子(ハ)へ、排他的オアゲート10αの出力を
トリガ端子(T+へ接続すれば、Dタイプフリップフロ
ップIOAの出方はオフセット方向を示す。すなわち、
フリップフロップ8fが先に1ビとなった時これが11
#、そうでない時これが″0”となシ、この1“、′o
1がそのまま被検パターンの左上がり、右上がりの対応
することとなる。このオフセット値およヒオフセット方
向のデータを処理装置11に久方し、これからパターン
の傾き自修正量、修正方向を求めて、パルスモータ制御
/駆動回路12αを通しテ、パルスモータ5cを駆動し
、回転テーブル5cLを動作させ、被検パターンの傾き
を零に調整する。プリセットカウンターBf(9f)と
7リツプフロツフ8!I(9!1)は−次元イメージセ
ンサ2α13αの1ライン走査毎にリセットし、カウン
タ1odおよびDタイプフリップフロップ10Aは測定
チーフルのy軸走査前K リセットしておく。被検パタ
ーン内の着目パターン要素はあらかじめ基板の種類毎に
選定しておき、この基板上の座標値を処理装置内に記憶
しておき、傾き検出前に処理装置の指令により自動で、
必要な着目要素付近へ測定テーブルをXY送りさせてお
くものとする。
By the way, in the flip-flops 8g and 9g, the y-axis simultaneous feed υ amount of the measurement table 5 from when one becomes "1#" until the other becomes "1" is the y-axis direction offset value K between the test patterns. In order to find this offset value d, the output of flip-flops 8! If? Counter 10d through pulse count 1oc with table feed pulse
If the offset value d is counted, this counted value becomes equal to the offset value d. Also, regarding the offset direction, flip-flop 8! If the output of I is connected to the data terminal (C) of the D-type flip-flop 10A, and the output of the exclusive OR gate 10α is connected to the trigger terminal (T+), the output of the D-type flip-flop IOA indicates the offset direction. That is,
When flip-flop 8f becomes 1 bit first, this becomes 11.
#, otherwise this is "0", this is 1",'o
1 corresponds to the upper left and upper right of the test pattern. The data on the offset value and the offset direction are sent to the processing device 11, and the amount and direction of self-correction of the pattern inclination are determined from the data, and the data is passed through the pulse motor control/drive circuit 12α to drive the pulse motor 5c. , the rotary table 5cL is operated to adjust the inclination of the pattern to be tested to zero. Preset counter Bf (9f) and 7 lip flops 8! I(9!1) is reset every line scan of the -dimensional image sensor 2α13α, and the counter 1od and the D-type flip-flop 10A are reset before the y-axis scan of the measurement chifur. The pattern elements of interest in the pattern to be tested are selected in advance for each type of substrate, and the coordinate values on this substrate are stored in the processing device, and before the tilt is detected, the processing device automatically processes the
It is assumed that the measurement table is moved in the XY direction to the vicinity of the required target element.

以上が本発明の実施例であるが、イメージセンサの映像
信号の品質がノイズ欠陥等を含みあまり良くないので、
実際の回路ではアナログ信号の2値化に於ける。57N
向上策、ディジタル処理部に於ける空間フィルタリング
等によるS/N向上策等を行なっているがこれについて
の詳細記述は省略する。
The above is an example of the present invention, but since the quality of the video signal of the image sensor is not very good including noise defects etc.
In actual circuits, analog signals are converted into binary values. 57N
Measures have been taken to improve the S/N ratio by spatial filtering in the digital processing section, but a detailed description of these measures will be omitted.

また、本発明の必要部品の大部分については、本来のパ
ターン欠陥検査として使用する機能。
In addition, most of the parts required for the present invention have a function that is used for original pattern defect inspection.

部品を兼用しており、本発明のためにのみ使用さhる部
品’u参照番号(D 8f、 Bg、 9f、 91.
10cz、 10A。
Reference numbers of parts (D 8f, Bg, 9f, 91.
10cz, 10A.

10c、 10g、 12a、 5a および5cのみ
であり、経済的である。
Only 10c, 10g, 12a, 5a and 5c, making it economical.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたように本発明によれば被検パターンの自動位
置合わせが精度よく安定に行なうことが可能となり、ま
た被検基板上に基準位置マーカを設ける必要がなくなり
、かっこの基準位置マーカに対する検出器位曾合わせの
必要がなくなるため操作性が非常に向上した等の効果を
有する。
As described above, according to the present invention, automatic alignment of the test pattern can be performed accurately and stably, and there is no need to provide a reference position marker on the test board. It has the effect of greatly improving operability since there is no need to align the body position.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(α)は被検基板上の被検パターンの配置図、第
1図(blは従来方式に於ける位雪合わせ装置ブロック
図、第2図は左右被検パターンの相互間のオフセット検
出方式説明図、第3図は本発明の一実施例であるプリン
ト基板自動位置合わせ装置実施例のブロック図、第4図
は第2図に於けるエッヂEαの拡大図を示す。 1・・・被検パターン   2,3・・・光学検出部4
・・・制御装置     5・・・測定テーブル8α、
9α・・・2値化回路 8h、 8c、 9h、 9c・・・シフトレジスタ第
 1  口 篤 2 図 箪4図 手続補正書(自発) 事件の表示 昭和57  年特許願第 226886号発明の名称 
 自動位置合せ装置 補正をする者 jmとの即イ 特許出願人 名  称    ′51Qll:1式会ン1 11  
立  製  作  所(ほか  1名) 代   理   人 t  #!Aa書i12頁fg9行目ニ「8f」トアル
な「89」と訂正する。 2、 図面中第3図を添付の第6図のように訂正する。 以上 添付書類の目録
Figure 1 (α) is a layout diagram of the test pattern on the test board, Figure 1 (bl is a block diagram of the alignment device in the conventional method, and Figure 2 is the offset between the left and right test patterns). Detection method explanatory diagram, FIG. 3 is a block diagram of an embodiment of a printed circuit board automatic positioning device which is an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is an enlarged view of edge Eα in FIG. 2. 1.・Test pattern 2, 3...Optical detection section 4
...Control device 5...Measurement table 8α,
9α...Binarization circuit 8h, 8c, 9h, 9c...Shift register No. 1 Atsushi Kuchi 2 Illustration 4 Procedural amendment (voluntary) Indication of case 1982 Patent application No. 226886 Title of the invention
Immediate meeting with person JM who corrects the automatic alignment device Patent applicant name '51Qll: 1 meeting 1 11
Tate Seisakusho (and 1 other person) Agent #! Book Aa, page 12, fg, line 9, ``8f'' is corrected as ``89''. 2. Figure 3 in the drawings is corrected as shown in the attached Figure 6. List of the above attached documents

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] パターンの映像を検出する複数の光学検出部、該検出部
を介してこれから左右のパターンの傾きを検出する回路
部、映像を走査するための被検基板XY送りテーブルお
よび検出した傾き角を零に修正動作する回転テーブルを
有することを特徴とする自動位置合わせ装置。
A plurality of optical detection units that detect images of the pattern, a circuit unit that detects the inclination of the left and right patterns through the detection units, a test board XY feeding table for scanning the image, and a system that reduces the detected inclination angle to zero. An automatic positioning device characterized by having a rotary table that performs correction operations.
JP57226886A 1982-12-27 1982-12-27 Automatic positioning device Pending JPS59119245A (en)

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JP57226886A JPS59119245A (en) 1982-12-27 1982-12-27 Automatic positioning device

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ID=16852118

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112881411A (en) * 2021-01-20 2021-06-01 江苏方桥智能科技股份有限公司 AOI automatic optical nondestructive testing equipment

Cited By (2)

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CN112881411A (en) * 2021-01-20 2021-06-01 江苏方桥智能科技股份有限公司 AOI automatic optical nondestructive testing equipment
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