JPS58203939A - フエニル酢酸エステルの製造法 - Google Patents
フエニル酢酸エステルの製造法Info
- Publication number
- JPS58203939A JPS58203939A JP8727782A JP8727782A JPS58203939A JP S58203939 A JPS58203939 A JP S58203939A JP 8727782 A JP8727782 A JP 8727782A JP 8727782 A JP8727782 A JP 8727782A JP S58203939 A JPS58203939 A JP S58203939A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenylacetic acid
- formula
- acid
- phenylacetic
- ketene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフェニル酢酸とケテンを反応させフェニル酢酸
無水物を生成し、ついでアルコールと反応してフェニル
酢酸エステルを製造する方法に関するものである。
無水物を生成し、ついでアルコールと反応してフェニル
酢酸エステルを製造する方法に関するものである。
フェニル酢酸エステル類は各種ファインケミカルズの中
間原料として有用である。
間原料として有用である。
従来法としては、フェニル酢酸とアルコールを酸触媒の
存在下に還流、ベンゼンとの共沸脱水などの方法によっ
て脱水し、対応するフェニル酢酸エステルを得る方法が
知られている。しかし、この方法は長時間を要すること
が大きな欠点であり。
存在下に還流、ベンゼンとの共沸脱水などの方法によっ
て脱水し、対応するフェニル酢酸エステルを得る方法が
知られている。しかし、この方法は長時間を要すること
が大きな欠点であり。
工業的に有オリな方法ではなかった。
また、フェニル酢酸の酸無水物(Ar−CH2CO)2
0をアルコールと反応させると対応するフェニル酢酸エ
ステルが得られる方法も知られている。
0をアルコールと反応させると対応するフェニル酢酸エ
ステルが得られる方法も知られている。
(Ar−CH200)、、O+ROH→Ar−CH2C
OOR+Ar−CH2COOHしかし、この方法は酸無
水物そのものを調整するのが難かしい点やアルコールと
の反応でエステルと元のフェニル酢酸とが等モル生成す
る。すなわち、酸無水物モル数基準では収率上限が50
%であるということが欠点であった。
OOR+Ar−CH2COOHしかし、この方法は酸無
水物そのものを調整するのが難かしい点やアルコールと
の反応でエステルと元のフェニル酢酸とが等モル生成す
る。すなわち、酸無水物モル数基準では収率上限が50
%であるということが欠点であった。
本発明の方法によれば、フェニル酢酸にフランを反応さ
せたのち、生成した酸無水物にアルコール全室温で短時
間反応させ゛るという、非常に聞単な操作により対応す
るフェニル酢酸エステルがほぼ定量的に製造できる。す
なわち1次の反応式で(A)の経路だけが進み、(B)
の経路は全く進まないことを見い出し9本発明に到達し
た。
せたのち、生成した酸無水物にアルコール全室温で短時
間反応させ゛るという、非常に聞単な操作により対応す
るフェニル酢酸エステルがほぼ定量的に製造できる。す
なわち1次の反応式で(A)の経路だけが進み、(B)
の経路は全く進まないことを見い出し9本発明に到達し
た。
Ar は置換された。又は置換されないフェニル基を
示す。
示す。
本発明は。
一般式(])
%式%
(式中のX及びYはそれぞれ水素原子、低級アルキル基
、水酸基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子を示す)で
表わされるフェニル酢酸をケテンと反応して一般式(I
I) X Y CH2COCCH3 1j1 0 (式中のX及びYは前記と同じ意味を有する)で衣わさ
JLるフェニル酢酸無水物を生成し、ついで (ア
ルコールと反応することを特徴とする一般式(I[)Y CH2COOR (式中のRは炭素原子数1〜lO個のアルキル基を示す
)で表わされるフェニル酢酸エステルの製法に関するも
のである。
、水酸基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子を示す)で
表わされるフェニル酢酸をケテンと反応して一般式(I
I) X Y CH2COCCH3 1j1 0 (式中のX及びYは前記と同じ意味を有する)で衣わさ
JLるフェニル酢酸無水物を生成し、ついで (ア
ルコールと反応することを特徴とする一般式(I[)Y CH2COOR (式中のRは炭素原子数1〜lO個のアルキル基を示す
)で表わされるフェニル酢酸エステルの製法に関するも
のである。
本発明の方法に使用する前記一般式(りで表わされるフ
ェニル酢酸として具体的には無置換のフェニル酢酸、4
−ヒドロキシフェニル酢1.4〜メトキシフェニル酢酸
、3−エチルフェニル酢酸。
ェニル酢酸として具体的には無置換のフェニル酢酸、4
−ヒドロキシフェニル酢1.4〜メトキシフェニル酢酸
、3−エチルフェニル酢酸。
3.4−ジメトキシフェニル酢酸、3.5−ジェトキシ
フェニル酢酸、2−クロロフェニル6酸、 3.4−
ジクロロフェニル酢L 4−ヒドロキシ−3−メトキ
シフェニル酢酸、2−ヒドロキシ−5−クロロフェニル
酢酸、4−ヒドロキシ−3−クロロフェニル酢酸などが
挙げられる。
フェニル酢酸、2−クロロフェニル6酸、 3.4−
ジクロロフェニル酢L 4−ヒドロキシ−3−メトキ
シフェニル酢酸、2−ヒドロキシ−5−クロロフェニル
酢酸、4−ヒドロキシ−3−クロロフェニル酢酸などが
挙げられる。
反応はフェニル酢酸の有機溶媒にケテンを導入すること
によって行わnる。ケテンの使用量はフェニル酢酸1モ
ルに対して0.5〜5モル、特に1〜3モルが好ましい
。
によって行わnる。ケテンの使用量はフェニル酢酸1モ
ルに対して0.5〜5モル、特に1〜3モルが好ましい
。
また便用する有機溶媒はケテンに対して安定なものであ
れば特に制限はなく9例えばジオキサン。
れば特に制限はなく9例えばジオキサン。
テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
’1.2−ジメトキシエタンなどが挙げられる。
’1.2−ジメトキシエタンなどが挙げられる。
また有機溶媒の使用量はフェニル酢酸1ftに対して5
〜50−1特に10〜30づが好ましい。
〜50−1特に10〜30づが好ましい。
反応温度は特に制限はなく0〜100℃が適当である。
前述の反応によって前記一般式(It)で表わされるフ
ェニル酢酸無水物を得ることができる。
ェニル酢酸無水物を得ることができる。
ついで、このようにして得られたフェニル酢酸無水物を
反応系から分離するか、あるいは分離することなくこれ
にアルコールを加えて反応を行い。
反応系から分離するか、あるいは分離することなくこれ
にアルコールを加えて反応を行い。
フェニル酢酸エステルkW造する。
この元明の方法に使用するアルコールは炭素原子数1〜
10個を有する脂肪族アルコールが適当である。
10個を有する脂肪族アルコールが適当である。
アルコールの使用量はフェニル酢酸1モルに対して1〜
100モル、特に10〜50モルが好ましい。
100モル、特に10〜50モルが好ましい。
反応湯度は5〜35℃であり、室温付近の温度において
十分反応は進行する。
十分反応は進行する。
本発明の方法によって製造される生成物は、前記一般式
(III)で表わされるフェニル酢酸エステルであり、
具体的にはフェニル酢酸メチル、4−ヒドロキシフェニ
ル酢酸エチル、4−メトキシフェ= ル酢酸x f ル
、 3− x チルフェニル酢酸プロピル、3.4−
ジメトキシフェニル酢酸プfル、 3.5−ジェトキ
シフェニル酢酸オクチル、2−クロロフェニル酢酸ヘキ
シル、3.4−’)クロロフェニル酢酸エチル、4−ヒ
ドロキシ−3−メトキシフェニル酢酸フチル、2−ヒド
ロキシ−5−クロロフェニル酢酸テシル、4−ヒドロキ
シ−3−クロロフェニル酢酸ヘキシルなどが挙けられる
。
(III)で表わされるフェニル酢酸エステルであり、
具体的にはフェニル酢酸メチル、4−ヒドロキシフェニ
ル酢酸エチル、4−メトキシフェ= ル酢酸x f ル
、 3− x チルフェニル酢酸プロピル、3.4−
ジメトキシフェニル酢酸プfル、 3.5−ジェトキ
シフェニル酢酸オクチル、2−クロロフェニル酢酸ヘキ
シル、3.4−’)クロロフェニル酢酸エチル、4−ヒ
ドロキシ−3−メトキシフェニル酢酸フチル、2−ヒド
ロキシ−5−クロロフェニル酢酸テシル、4−ヒドロキ
シ−3−クロロフェニル酢酸ヘキシルなどが挙けられる
。
本発明の方法を実施することによって、フェニル酢酸か
ら高収率でフェニル酢酸エステルを製造することができ
る。
ら高収率でフェニル酢酸エステルを製造することができ
る。
実施例、1〜7
G種フェニル酢酸0.1モルとジオキサン100m7!
を2007のガラスフィルター吹き込み管付反応器に仕
込み、0.3モルのケテン全欧き込んだのち、系内を窒
素置換し、つき゛に各種アルコール50m14を加えて
、20℃で約5分間攪拌した。反応液ヲ()1、C分析
し、いずれの場合も原料のフェニル「イ1酸が全く残存
していないことを確認した。また。
を2007のガラスフィルター吹き込み管付反応器に仕
込み、0.3モルのケテン全欧き込んだのち、系内を窒
素置換し、つき゛に各種アルコール50m14を加えて
、20℃で約5分間攪拌した。反応液ヲ()1、C分析
し、いずれの場合も原料のフェニル「イ1酸が全く残存
していないことを確認した。また。
生成したフェニル酢酸エステルを同様にG、LO分析で
定量し、収率を次式で計算した。
定量し、収率を次式で計算した。
結果を第1表に示す。
第1表
第1表のつづき
実施列、8〜11
ベンゼン環に水酸基を有する各種フェニル酢酸0.1モ
ルを用いた他は、実施例1と同様に行なった。結果を第
2表に示す。
ルを用いた他は、実施例1と同様に行なった。結果を第
2表に示す。
なお、これらの場合、得られたフェニル酢酸エステルに
211− H2SO4300ml f lfi加し、約
100 ”Cで5時間加水分解すると、アセトキシル基
がフェノール性水酸基に加水分解されて、対応するヒド
ロキシフェニル酢酸エステルが高収率で得られた(いず
れの場合も収率95%以上)。
211− H2SO4300ml f lfi加し、約
100 ”Cで5時間加水分解すると、アセトキシル基
がフェノール性水酸基に加水分解されて、対応するヒド
ロキシフェニル酢酸エステルが高収率で得られた(いず
れの場合も収率95%以上)。
特許出願人 宇部興産株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式(1) %式% (式中のX及びYはそれぞれ水素原子、低級アルキル基
、水酸基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子を示す)で
表わされるフェニル酢酸金ケテンと反応して一般式(u
) O (式中のX及びYは前記と同じ怠味を有する)で表わさ
れるフェニル酢酸無水物を生成し、ついでアルコールと
反応Tることを特徴とする一般式(禮(式中のRは炭素
原子数1〜10個のアルキル基を示す)で表わされるフ
ェニル酢酸エステルの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8727782A JPS58203939A (ja) | 1982-05-25 | 1982-05-25 | フエニル酢酸エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8727782A JPS58203939A (ja) | 1982-05-25 | 1982-05-25 | フエニル酢酸エステルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58203939A true JPS58203939A (ja) | 1983-11-28 |
JPH0116822B2 JPH0116822B2 (ja) | 1989-03-27 |
Family
ID=13910275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8727782A Granted JPS58203939A (ja) | 1982-05-25 | 1982-05-25 | フエニル酢酸エステルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58203939A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007111276A1 (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Ajinomoto Co., Inc. | 新規エステル誘導体およびその用途 |
-
1982
- 1982-05-25 JP JP8727782A patent/JPS58203939A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007111276A1 (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Ajinomoto Co., Inc. | 新規エステル誘導体およびその用途 |
US8212068B2 (en) | 2006-03-24 | 2012-07-03 | Ajinomoto Co., Inc. | Ester derivative and use thereof |
JP5126059B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2013-01-23 | 味の素株式会社 | 新規エステル誘導体およびその用途 |
US8765809B2 (en) | 2006-03-24 | 2014-07-01 | Ajinomoto Co., Inc. | Ester derivative and use thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0116822B2 (ja) | 1989-03-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH08509232A (ja) | フラーレン誘導体、それらの製造方法およびそれらの使用 | |
US2426224A (en) | Processes for producing dibasic acids and derivatives of dibasic acids | |
JPH04225936A (ja) | 1,3−ジケトンの製造方法 | |
JPH05507936A (ja) | 環式サルフェートの製造法 | |
EP0098620B1 (en) | Alpha,beta-dihydropolyprenyl derivatives and a process for preparing these derivatives | |
JPS58203939A (ja) | フエニル酢酸エステルの製造法 | |
WO1988005773A1 (en) | Process for preparing tetrakis (3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxymethyl)methane | |
IE43461B1 (en) | Cyclopropane derivatives | |
US2335652A (en) | Vinyl esters | |
JP2867847B2 (ja) | 5−メチレン−1,3−ジオキソラン−4−オン類の製造方法 | |
JPH04230241A (ja) | α−ヒドロキシエステルの合成法 | |
CN112898244B (zh) | 一种合成γ-戊内酯的方法 | |
US2459059A (en) | Method for preparing alkyl acyloxy acrylates | |
JPH0491055A (ja) | コハク酸ジエステル及びその誘導体の製造方法 | |
JPH02716A (ja) | アルコールの製造方法 | |
JPS5931731A (ja) | カルボン酸誘導体の新規製造法 | |
JP2001181271A (ja) | α−モノグリセリドケタールの製造法 | |
KR820001080B1 (ko) | 말론산 에스테르류의 제조방법 | |
JP3254746B2 (ja) | 末端アセチレン化合物およびその製造法 | |
US4526993A (en) | Conjugated dienols | |
US3454655A (en) | Conversion of allyl alcohol to glycerol | |
JP2021063072A (ja) | 1−パルミトイル−2−リノレオイル−3−アセチルグリセロールの製造方法 | |
EP0432797B1 (en) | Process for purification of 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride | |
JPH0655731B2 (ja) | スチレンオキサイドの製造方法 | |
JPH04321662A (ja) | 新規なチオアセタール化合物およびその製造方法 |