JPH1154656A - 半田バンプ電極の製造方法及び半田バンプ電極 - Google Patents
半田バンプ電極の製造方法及び半田バンプ電極Info
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Abstract
ル又は導電性金属球の周りを低融点ハンダボールで覆う
ような構造にし、高融点ハンダ球もしくは伝導性金属球
の大きさを求める所定の間隔にすることによって基板と
パッケージとの間に所定の間隔を保持させ、また実装温
度のバラツキに対しても安定して実装可能とする半田バ
ンプ電極の製造方法及び半田バンプ電極の提供。 【解決手段】パッケージ基板3全面に塗布されたソルダ
ーレジスト1に半田ボールを形成する端子部2にのみ開
口部を作り、液状にした高融点半田4を少量垂らす。こ
の少量の半田は表面張力により、小さな球状となって固
まる。この上から、液状にした低融点ハンダ6を適量垂
らし上記で形成した高融点半田ボール5を覆うようにし
て、低融点の半田ボールを7を形成する。
Description
成方法及び半田バンプ電極に関し、特にBGAパッケー
ジの電極形成方法に関する。
id Array)パッケージの電極形成方法の説明す
るための工程断面図である。
保護するため、ソルダーレジスト1によりコーティング
する(図2(a)参照)。
開口部を作り(図2(b)参照)、液状の半田を適量た
らす(図2(c)参照)。
固まり半田ボール(バンプ)5が形成される(図2
(d)参照)。
来の方法により製造した半田ボールは、システム基板
(実装基板)への実装時に、実装基板とBGAパッケー
ジとの間に所定の間隔を保持させることが困難な場合が
でてくる、という問題点を有している。
ールのつぶれ量が異なることによって、実装基板と各々
のBGAパッケージとの間の間隔がまちまちになる、と
いう問題点も有している。
なされたものであって、その目的は、基板とパッケージ
との間に所定の間隔を保持させ、また実装温度のバラツ
キに対しても安定して実装できるようにする半導体バン
プの製造方法及び該バンプを備えた半導体装置を提供す
ることにある。
め、本発明の半田バンプ電極は、高融点ハンダ球の外周
を低融点ハンダで取り囲むようにした構造を有する。
金属球の外周を低融点ハンダで取り囲むようにした構造
を有することを特徴とする。
(a)パッケージ基板の裏面の配線パターンを保護する
ためのソルダーレジストの半田ボールを形成する端子部
に設けられた開口部に、液状の高融点半田を滴下し前記
高融点半田が凝固して球状の半田ボールを形成し、
(b)その上から液状の低融点半田を滴下して、前記高
融点半田ボールを覆うようにして、低融点の半田ボール
を形成する、ことを特徴とする。
は、(a)パッケージ基板の裏面の配線パターンを保護
するためのソルダーレジストの半田ボールを形成する端
子部に設けられた開口部において、前記端子部に導電性
接着剤で導電性金属球を接着し、(b)その上に液状の
低融点半田を滴下して、前記導電性金属球を覆うように
して、低融点の半田ボールを形成する、ことを特徴とす
る。
に説明する。本発明の製造方法は、その好ましい実施の
形態において、パッケージ基板(図1の3)全面に塗布
されたソルダーレジスト(図1の1)に半田ボールを形
成する端子部(図1の2)にのみ開口部を作り、液状に
した高融点半田(図1の4)を少量たらし、この少量の
半田は表面張力により、小さな球状となって固まり高融
点半田ボール(図1の5)を形成し、この上から、液状
にした低融点ハンダ(図1の6)を適量垂らし、上記高
融点半田ボールを覆うようにして、低融点の半田ボール
を(図1の7)を形成する。
は、前記端子部に導電性接着剤で導電性金属球を接着
し、その上に液状の低融点半田を滴下して、前記導電性
金属球を覆うようにして、低融点の半田ボールを形成す
るようにしてもよい。
は導電性金属球の外周を低融点ハンダで取り囲む構造と
し、高融点ハンダ球もしくは導電性金属球の大きさを、
求める所定の間隔にすることによって、基板とパッケー
ジとの間に所定の間隔を保持させ、また実装温度のバラ
ツキに対しても安定して実装することができるという効
果を奏する。
細に説明すべく、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
を説明する工程断面図である。
3の裏面の配線パターン2を保護するため、ソルダーレ
ジスト1によりコーティングする(図1(a)参照)。
開口部を作り(図1(b)参照)、液状にした高融点半
田4を少量たらす(図1(c)参照)。
球状となって固まる(図1(d)の5参照)。
適量たらし(図1(e)参照)、形成した高融点半田ボ
ール5を覆うようにして、低融点の半田ボール7を形成
する(図1(f)参照)。
Sn−90%Pbや100%PbもしくはPb−Al,
Sn−Al等が好ましく、低融点半田ボールの材料とし
ては、60%Sn−40%Pb等が好ましい。
ましくは30℃以上が望まれる。これは、実装時の温度
のバラツキによって、高融点半田まで融けだすという事
態の発生を避ける為である。
を説明するための工程断面図である。
田ボールを導電性金属球8に置き換えたものである。
着ペースト9(例えば、AgペーストやAu−Siペー
スト等)を塗り、そこに導電性金属球8を置き固定する
(図2(a)参照)。
適量たらし(図2(b)参照)、形成した導電性金属球
8を覆うようにして、低融点の半田ボール7を形成する
(図2(c)参照)。
ボールに対して、このような構造の半田ボールを形成す
る必要は無く、実験によって、つぶれ量が大きくなると
判断された部分数点(例えば4隅に1個ずつ)にのみ形
成するだけでも、高い効果が得られる。
BGAパッケージにおいて、高融点ハンダボールもしく
は導電性金属球の周りを低融点ハンダボールで覆うよう
な構造にし、高融点ハンダ球もしくは導電性金属球の大
きさを求める所定の間隔にすることにより、高融点半田
ボールや導電性金属球は実装時にも融けることがない
為、その大きさの分だけ、基板とパッケージとの間に間
隔を保持させることが出来るという効果を奏する。
ツキが発生しても、安定して実装することを可能として
いる。
めに工程順に部分断面を示し工程断面図である。
めに工程順に部分断面を示し工程断面図である。
断面を示し工程断面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】BGA型半導体パッケージの半田バンプ電
極において、 高融点ハンダ球の外周を低融点ハンダで取り囲むように
した構造を有することを特徴とする半田バンプ電極。 - 【請求項2】BGA型半導体パッケージの半田バンプ電
極において、 導電性金属球の外周を低融点ハンダで取り囲むようにし
た構造を有することを特徴とする半田バンプ電極。 - 【請求項3】(a)パッケージ基板の裏面の配線パター
ンを保護するためのソルダーレジストの半田ボールを形
成する端子部に設けられた開口部に、液状の高融点半田
を少量滴下し前記高融点半田が凝固して球状の半田ボー
ルを形成し、 (b)その上から液状の低融点半田を滴下して、前記高
融点半田ボールを覆うようにして、低融点の半田ボール
を形成する、 ことを特徴とするBGAパッケージの半田バンプ電極の
製造方法。 - 【請求項4】(a)パッケージ基板の裏面の配線パター
ンを保護するためのソルダーレジストの半田ボールを形
成する端子部に設けられた開口部において、前記端子部
に導電性接着剤で導電性金属球を接着し、 (b)その上に液状の低融点半田を滴下して、前記導電
性金属球を覆うようにして、低融点の半田ボールを形成
する、 ことを特徴とするBGAパッケージの半田バンプ電極の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9220972A JP2985840B2 (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 半田バンプ電極の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1154656A true JPH1154656A (ja) | 1999-02-26 |
JP2985840B2 JP2985840B2 (ja) | 1999-12-06 |
Family
ID=16759459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP9220972A Expired - Fee Related JP2985840B2 (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 半田バンプ電極の製造方法 |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001020676A1 (en) * | 1999-09-14 | 2001-03-22 | Alpha Metals, Inc. | Flip chip having integral mask and underfill providing two-stage bump formation |
KR100376929B1 (ko) * | 2000-06-12 | 2003-03-26 | 에드호텍(주) | 고효율적인 칩 또는 기판상에의 엔지니어링볼의 직접부착방법과 그 장치 |
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CN1317751C (zh) * | 2005-01-12 | 2007-05-23 | 哈尔滨工业大学 | 双电热丝熔切直接制作钎料凸点的方法 |
JP2015514316A (ja) * | 2012-03-20 | 2015-05-18 | アルファ・メタルズ・インコーポレイテッドAlpha Metals,Inc. | はんだ予成形品およびはんだ合金組付方法 |
JP2017055113A (ja) * | 2015-09-08 | 2017-03-16 | エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド | 太陽電池モジュール及びその製造方法 |
US9831187B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-11-28 | Apic Yamada Corporation | Apparatus and method for electrostatic spraying or electrostatic coating of a thin film |
-
1997
- 1997-07-31 JP JP9220972A patent/JP2985840B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US11417787B2 (en) | 2015-09-08 | 2022-08-16 | Lg Electronics Inc. | Solar cell module and method for manufacturing the same |
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JP2985840B2 (ja) | 1999-12-06 |
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