JPH11322778A - 5―デオキシ―5―アルカノイルアミノ―β―D―アロフラノシルウロン酸誘導体またはその塩、それらを含有する抗真菌剤及びキチン合成酵素阻害剤 - Google Patents
5―デオキシ―5―アルカノイルアミノ―β―D―アロフラノシルウロン酸誘導体またはその塩、それらを含有する抗真菌剤及びキチン合成酵素阻害剤Info
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- JPH11322778A JPH11322778A JP11072868A JP7286899A JPH11322778A JP H11322778 A JPH11322778 A JP H11322778A JP 11072868 A JP11072868 A JP 11072868A JP 7286899 A JP7286899 A JP 7286899A JP H11322778 A JPH11322778 A JP H11322778A
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Abstract
原子、置換されていてもよいアルキル、アルアルキル、
アリール、シクロアルキル、アシルもしくは複素環式基
またはR1とR2が結合する炭素原子と一緒になって形
成する置換されていてもよいシクロアルキル基を;R3
は、保護されていてもよいアミノ基を;Xは、酸素原子
または硫黄原子を;Aは下記式で表される基 (式中、Yは、CHまたは窒素原子を;R4は、水素原
子、ニトロ基、保護されていてもよいヒドロキシル基な
どを示す)などを示す]で表される化合物またはその
塩。 【効果】上記の化合物またはその塩は、真菌細胞壁の成
分であるキチンの合成を阻害する作用を有し、ヒト、動
物および植物の真菌性疾患の予防、治療に有効である。
Description
子、置換されていてもよいアルキル、アルアルキル、ア
リール、シクロアルキル、アシルもしくは複素環式基ま
たはR1とR2が結合する炭素原子と一緒になって形成
する置換されていてもよいシクロアルキル基を;R
3は、保護されていてもよいアミノ基を;Xは、酸素原
子または硫黄原子を;Aは、
子、ニトロ基、保護されていてもよいヒドロキシル基ま
たは
子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基
またはR5とR6が結合する窒素原子と一緒になって形
成する置換されていてもよい環状アミノ基を示す。)で
表される基を示す。ただし、YがCHの場合、R4は、
水素原子ではない。)で表される基、ウラシルの5位お
よび6位で形成される縮合環
を示す。」で表される化合物またはその塩に関する。
は、ポリエンマクロライド系薬剤、アゾール系薬剤およ
びフルシトシンなどが挙げられる。上記以外の抗真菌剤
としては、真菌細胞壁の成分であるキチンの合成を阻害
する物質などが研究されており、真菌性疾患の治療に有
効かつ安全であると考えられている。キチン合成酵素阻
害剤としては、ペプチドヌクレオシド系抗生物質である
ポリオキシンやニッコマイシンなどが知られている。
ンマクロライド系薬剤、アゾール系薬剤およびフルシト
シンなどの薬剤は副作用や効力などの点で十分ではな
い。また、近年、同じ薬剤の連続使用による薬剤耐性菌
の出現が問題となってきている。さらに、ペプチドヌク
レオシド系抗生物質は抗真菌スペクトルや安定性などの
点で医薬品として使用するには十分でない。そのため、
既存の薬剤と作用機作が異なり、アゾール耐性菌にも効
果が期待でき、副作用が少ない抗真菌剤が強く望まれて
いる。
て、本発明者らは、鋭意検討を行った結果、一般式
[1]で表される新規な化合物またはその塩、すなわ
ち、5−デオキシ−5−アルカノイルアミノ−β−D−
アロフラノシルウロン酸誘導体またはその塩が、キチン
合成酵素阻害活性を示し、ヒト、動物および植物の真菌
性疾患の予防および治療またはダニやノミなどの害虫の
生育阻害に有効であることを見出し、本発明を完成し
た。以下、本発明を詳細に説明する。
限り、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を;アルキル基とは、たとえば、
メチル、エチル、n-プロピル、iso-プロピル、n-ブチ
ル、iso-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル、ノナデシルおよびエイコシルなどの直鎖状もしくは
分岐鎖状のC1−20アルキル基を;アルアルキル基と
は、たとえば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチ
ル、フェネチル、4−メチルベンジルおよびナフチルメ
チルなどのアルC1−6アルキル基を;シクロアルキル
基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチルおよびシクロヘキシルなどのC3−6シク
ロアルキル基を;アルコキシ基とは、たとえば、メトキ
シ、エトキシ、n-プロポキシ、iso-プロポキシ、n-ブト
キシ、iso-ブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシおよ
びオクチルオキシなどの直鎖状もしくは分岐鎖状のC
1−20アルコキシ基を;アリール基とは、たとえば、
フェニル、トリル、ナフチル基を;アリールオキシ基と
は、たとえば、フェノキシ、トリルオキシ、ナフチルオ
キシなどのアリール−O−基を;複素環式基とは、たと
えば、アゼチジニル、チエニル、フリル、ピロリル、イ
ミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリ
ル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、フラザニル、ピ
ロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾ
リニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、1,3,4−オ
キサジアゾリル、1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4
−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,
3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾ
リル、チアトリアゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリ
ミジニル、ピリダジニル、ピペリジニル、ピペラジニ
ル、ピラニル、モルホリニル、1,2,4−トリアジニ
ル、ベンゾチエニル、ナフトチエニル、ベンゾフリル、
イソベンゾフリル、クロメニル、インドリジニル、イソ
インドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キ
ノリル、イソキノリル、フタラジニル、ナフチリジニ
ル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、フ
テリジニル、アクリジニル、イソクロマニル、クロマニ
ル、インドリニル、イソインドリニル、ベンゾオキサゾ
リル、トリアゾロピリジル、テトラゾロピリダジニル、
テトラゾロピリミジニル、チアゾロピリダジニル、チア
ジアゾロピリダジニル、トリアゾロピリダジニル、ベン
ズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、ベンゾチアジアゾ
リル、1,2,3,4−テトラヒドロキノリル、イミダゾ
[1,2−b][1,2,4]トリアジニルおよびキヌク
リジニルなどのような酸素原子、窒素原子および硫黄原
子から選ばれる少なくとも1つの異項原子を含有する4
−7員または縮合複素環式基を;アシル基とは、たとえ
ば、ホルミル基、アセチルもしくはプロピオニルなどの
C2−12アルカノイル基、ベンゾイルもしくはナフト
イルなどのアロイル基およびニコチノイル、テノイル、
ピロリジノカルボニルもしくはフロイル基などの複素環
カルボニル基などのアシル基を;アルキルアミノ基と
は、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、n-プロピ
ルアミノ、イソプロピルアミノ、n-ブチルアミノ、sec-
ブチルアミノ、tert-ブチルアミノ、ペンチルアミノ、
ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
n-プロピルアミノ、エチルメチルアミノ、メチルn-プロ
ピルアミノ、ブチルエチルアミノなどのモノ−またはジ
−直鎖もしくは分枝鎖状C1−6アルキルアミノ基を;
また、低級アルキル基とは、たとえば、メチル、エチ
ル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチルおよびペンチルなどの直
鎖状もしくは分枝鎖状のC1−6アルキル基などが挙げ
られる。
てペプチド結合を形成し、タンパク質やペプチドに組み
込まれた時の−NHCHRCO−部分(Rは、アミノ酸
側鎖を示す。)を意味する。ここで、アミノ酸とは、た
とえば、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソ
ロイシン、セリン、スレオニン、アスパラギン、アスパ
ラギン酸、システイン、ホモシステイン、β−アラニ
ン、γ−アミノ酪酸、オルニチン、メチオニン、グルタ
ミン酸、リジン、アルギニン、チロシン、ヒスチジン、
プロリン、トリプトファン、フェニルアラニンおよび
3,4−ジヒドロキシフェニルアラニンなどの同一分子
内にカルボキシル基およびアミノ基を有する化合物を意
味する。
って形成する環状アミノ基の環状アミンとしては、たと
えば、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジ
ン、ピペラジン、モルホリン、2−アゼチジノン、2−
ピロリジノン、2−ピペリドン、2,3−ジオキソ−1,
2,3,4−テトラヒドロピラジンおよび2,3−ジオキ
ソピペラジンなどの環状アミンが挙げられる。
合環としては、たとえば、ルマジン、アロキサジンおよ
び2,4(1H,3H)−キナゾリンジオンなどの縮合環
が挙げられる。
アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アシル
基、複素環式基、R1とR2が結合する炭素原子と一緒
になって形成するシクロアルキル基並びにR5およびR
6におけるアルキル基、アリール基またはR5とR6が
結合する窒素原子と一緒になって形成する環状アミノ基
は、たとえば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カ
ルバモイル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいア
ルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アル
キルアミノおよび複素環式基並びに保護されていてもよ
いヒドロキシル、アミノもしくはカルボキシル基および
−CO−(D)n−OH(式中、Dは、アミノ酸残基
を;nは、1,2または3を示す。)から選ばれる1つ
以上の基で置換されていてもよい。
ロキシル基、アミノ基、環状アミノ基またはカルボキシ
ル基を有する場合、これらの基は公知の保護基で保護さ
れていてもよい。
しては、通常のヒドロキシル基の保護基として使用し得
るすべての基を含み、たとえば、ベンジルオキシカルボ
ニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ブロ
モベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオ
キシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカ
ルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキ
シカルボニル、イソプロポキシカルボニル、イソブチル
オキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2,2,2−
トリブロモエトキシカルボニル、2−(トリメチルシリ
ル)エトキシカルボニル、2−(フェニルスルホニル)
エトキシカルボニル、2−(トリフェニルホスホニオ)
エトキシカルボニル、2−フルフリルオキシカルボニ
ル、1−アダマンチルオキシカルボニル、ビニルオキシ
カルボニル、アリルオキシカルボニル、S−ベンジルチ
オカルボニル、4−エトキシ−1−ナフチルオキシカル
ボニル、8−キノリルオキシカルボニル、アセチル、ホ
ルミル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロ
ロアセチル、トリフルオロアセチル、メトキシアセチ
ル、フェノキシアセチル、ピバロイルおよびベンゾイル
などのアシル基;メチル、tert−ブチル、2,2,2−ト
リクロロエチルおよび2−トリメチルシリルエチルなど
の低級アルキル基;アリルなどの低級アルケニル基;ベ
ンジル、p−メトキシベンジル、3,4−ジメトキシベ
ンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなどのアル低
級アルキル基;テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラ
ニルおよびテトラヒドロチオピラニルなどの含酸素およ
び含硫黄複素環式基;メトキシメチル、メチルチオメチ
ル、ベンジルオキシメチル、2−メトキシエトキシメチ
ル、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、2−(トリ
メチルシリル)エトキシメチルおよび1−エトキシエチ
ルなどの低級アルコキシ−および低級アルキルチオ−低
級アルキル基;メタンスルホニルおよびp−トルエンス
ルホニルなどのアルカン−もしくはアレーン−スルホニ
ル基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソ
プロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、tert−
ブチルジメチルシリル、tert−ブチルジフェニルシリ
ル、ジフェニルメチルシリルおよびtert−ブチルメトキ
シフェニルシリルなどの置換シリル基などが挙げられ
る。
基としては、通常のアミノ基の保護基として使用し得る
すべての基を含み、たとえば、トリクロロエトキシカル
ボニル、トリブロモエトキシカルボニル、ベンジルオキ
シカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、
o−ブロモベンジルオキシカルボニル、(モノ−、ジ
−、トリ−)クロロアセチル、トリフルオロアセチル、
フェニルアセチル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、
tert−アミルオキシカルボニル、tert−ブトキシカルボ
ニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4
−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、4−(フェニ
ルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、2−フルフリルオ
キシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、1,
1−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、フタロイル、スクシニル、アラニル、ロイシ
ル、1−アダマンチルオキシカルボニルおよび8−キノ
リルオキシカルボニルなどのアシル基;ベンジル、ジフ
ェニルメチルおよびトリチルなどのアル低級アルキル
基;2−ニトロフェニルチオおよび2,4−ジニトロフ
ェニルチオなどのアリールチオ基;メタンスルホニルお
よびp−トルエンスルホニルなどのアルカン−もしくは
アレーン−スルホニル基;N,N−ジメチルアミノメチ
レンなどのジ低級アルキルアミノ−低級アルキリデン
基;ベンジリデン、2−ヒドロキシベンジリデン、2−
ヒドロキシ−5−クロロベンジリデンおよび2−ヒドロ
キシ−1−ナフチルメチレンなどのアル−低級アルキリ
デン基;3−ヒドロキシ−4−ピリジルメチレンなどの
含窒素複素環式アルキリデン基;シクロヘキシリデン、
2−エトキシカルボニルシクロヘキシリデン、2−エト
キシカルボニルシクロペンチリデン、2−アセチルシク
ロヘキシリデンおよび3,3−ジメチル−5−オキソシ
クロヘキシリデンなどのシクロアルキリデン基;ジフェ
ニルホスホリルおよびジベンジルホスホリルなどのジア
リール−もしくはジアル低級アルキル−ホスホリル基;
5−メチル−2−オキソ−2H−1,3−ジオキソール
−4−イル−メチルなどの含酸素複素環式アルキル基並
びにトリメチルシリルなどの低級アルキル置換シリル基
などが挙げられる。
は、通常のカルボキシル基の保護基として使用し得るす
べての基を含み、たとえば、メチル、エチル、n−プロ
ピル、iso−プロピル、1,1−ジメチルプロピル、n−
ブチルおよびtert−ブチルなどの低級アルキル基;フェ
ニルおよびナフチルなどのアリール基;ベンジル、ジフ
ェニルメチル、トリチル、p−ニトロベンジル、p−メ
トキシベンジルおよびビス(p−メトキシフェニル)メ
チルなどのアル低級アルキル基;アセチルメチル、ベン
ゾイルメチル、p−ニトロベンゾイルメチル、p−ブロ
モベンゾイルメチルおよびp−メタンスルホニルベンゾ
イルメチルなどのアシル−低級アルキル基;2−テトラ
ヒドロピラニルおよび2−テトラヒドロフラニルなどの
含酸素複素環式基;2,2,2−トリクロロエチルなどの
ハロゲノ低級アルキル基;2−(トリメチルシリル)エ
チルなどの低級アルキルシリルアルキル基;アセトキシ
メチル、プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオ
キシメチルなどのアルキルカルボニルオキシアルキル
基;フタルイミドメチルおよびスクシンイミドメチルな
どの含窒素複素環式−低級アルキル基;シクロヘキシル
などのシクロアルキル基;メトキシメチル、メトキシエ
トキシメチルおよび2−(トリメチルシリル)エトキシ
メチルなどの低級アルコキシ低級アルキル基;ベンジル
オキシメチルなどのアル−低級アルコキシ低級アルキル
基;メチルチオメチルおよび2−メチルチオエチルなど
の低級アルキルチオ低級アルキル基;フェニルチオメチ
ルなどのアリールチオ低級アルキル基;1,1−ジメチ
ル−2−プロペニル、3−メチル−3−ブチニルおよび
アリルなどの低級アルケニル基並びにトリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエ
チルイソプロピルシリル、tert−ブチルジメチルシリ
ル、tert−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチル
シリルおよびtert−ブチルメトキシフェニルシリルなど
の置換シリル基などが挙げられる。
知られているアミノ基などの塩基性基またはカルボキシ
ル基などの酸性基における塩を挙げることができる。塩
基性基における塩としては、たとえば、塩酸、硫酸、硝
酸およびリン酸などの鉱酸との塩;ギ酸、酢酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、フマル酸、マ
レイン酸、クエン酸および酒石酸などの有機カルボン酸
との塩;並びにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸およびナフタレンスルホン
酸などのスルホン酸との塩を、また、酸性基における塩
としては、たとえば、ナトリウムおよびカリウムなどの
アルカリ金属との塩;カルシウムおよびマグネシウムな
どのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;並びに
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジ
ン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ジベンジルアミン、ピリジン、グアニ
ジン、ヒドラジンおよびキニーネなどの含窒素有機塩基
との塩などを挙げることができる。一般式[1]の化合
物の塩としては、好ましくは、塩酸、硫酸、硝酸、リン
酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、ク
エン酸、スルホン酸および酒石酸などの薬理学的に許容
される塩が挙げられる。
R2が、置換されていてもよいアルキル基;R3が、ア
ミノ基;Xが、酸素原子;Yが、CH;R4が、
よいアルキル基を示す。)で表される基である化合物が
好ましく;さらに好ましくは、R6のアルキル基の置換
基が、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されて
いてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシ
ル基または
を示す。)で表される基である化合物が好ましく;より
さらに好ましくは、R2が、C3−15アルキル基であ
る化合物が好ましい。
たとえば、以下の表1〜表6に記載の化合物が挙げられ
る。表中、Phは、フェニル基を;Pyは、ピリジル基
を;Acは、アセチル基を;iBuは、イソブチル基
を;Uraは、ウラシル−1−イルを;OHは、ヒドロ
キシル基を;Cytは、4−アミノ−2−ピリミジノン
−1−イルを示す。アミノ酸を略号で表記する場合、I
UPACによる略号に基づき、アミノ酸に光学異性体が
存在する場合、特に記載しない限り、L体を示すものと
する。例えば、表中、Gly、Ile、Thr、Met、Phe、Trp、
Lys、Arg、Glu、His、Tyr、Ala、Ser、Val、Asp、Pro、
LeuおよびAsnは、アミノ酸の3文字表記である。
において、異性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体
および互変異性体など)が存在する場合、本発明は、そ
れらの異性体を包含し、また、溶媒和物、水和物および
種々の形状の結晶を包含するものである。
する。本発明化合物は、自体公知の方法を組合せること
により製造されるが、たとえば、次に示す製造法によっ
て合成することができる。
は、アミノ酸またはそのアシル等価物であって、Xは、
酸素原子または硫黄原子を;Zは、水酸基または置換さ
れていてもよいアルコキシ、アリールオキシもしくは複
素環式基を;R1、R2、R3およびAは、上記したと
同様な意味を有する。」
基の存在下または不存在下、活性化剤の存在下または不
存在下に、一般式[2]の化合物に一般式[3]で示さ
れるアミノ酸またはそのアシル等価物を通常のアシル化
法を用いて反応させることによって製造することができ
る。この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさないものであればよく、塩基の存在下に反応さ
せる場合は、たとえば、ジエチルエーテル、ジエチレン
グリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよ
びジオキサンなどのエーテル類;N,N−ジメチルホル
ムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類;ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類;
塩化メチレン、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエ
タンなどのハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン
およびキシレンなどの芳香族炭化水素類;酢酸エチルな
どのエステル類;アセトニトリルなどのニトリル類;並
びに水などが挙げられる。また、これらの溶媒を一種ま
たは二種以上混合して使用してもよい。この反応に用い
られる活性化剤としては、1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾールが挙げられる。この反応に使用される塩基として
は、たとえば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、N−メ
チルモルホリン、トリエチルアミンおよび1,8−ジア
ザビシクロ−[5,4,0]ウンデク−7−エン(DB
U)などの無機または有機塩基が挙げられる。この反応
において、一般式[3]の化合物の使用量は、一般式
[2]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1
〜3倍モルである。活性化剤の使用量は、一般式[2]
の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍
モルであり、また、塩基の使用量は、一般式[2]の化
合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、5〜10倍モル
である。これらの反応は、通常、-20〜150℃、好ましく
は、5〜35℃で、30分間〜24時間実施すればよい。つい
で、保護基を場合により通常使用される脱保護の方法を
用いて除去すると、一般式[1]の化合物が得られる。
化合物および一般式[3]の化合物は、それらの塩を使
用することができ、それらの塩としては、一般式[1]
の化合物の塩として説明したと同様のものが挙げられ
る。このようにして得られた一般式[1]の化合物また
はその塩は、たとえば、酸化、還元、転位、置換、ハロ
ゲン化、脱水もしくは加水分解などの自体公知の反応に
付すことによって、またはそれらの反応を適宜組合わせ
ることによって、一般式[1]の化合物またはその塩に
誘導することができる。
料である一般式[2]の化合物の製造法について説明す
る。一般式[2]の化合物は、たとえば、ジャーナル・
オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ(J.A
m.Chem.Soc.)、第93巻、第15号、第3812〜3813頁(197
1年)に記載の方法に準じて、または、つぎに示す製造
法によって合成することができる。
する。また、Acは、アセチル基、Meは、メチル基を
示す。」
般式[4]の化合物をルイス酸の存在下、一般式[5]
の化合物と反応させることによって一般式[6]の化合
物とし、ついで、一般式[6]の化合物のアジド基をア
ミノ基に還元した後、加水分解反応(保護基の脱離反
応)に付すことによって得ることができる。この方法
は、たとえば、ザ・ジャーナル・オブ・オルガニック・
ケミストリー(J.Org.Chem.)、第55巻、第3853〜3857
頁(1990年)に記載の方法に準じて行うことができる。
れるルイス酸としては、たとえば、トリメチルシリルト
リフルオロメタンスルホネートおよび四塩化スズなどが
挙げられる。この反応で使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさないものであればよく、たとえば、ジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランおよびジオキサンなどのエーテ
ル類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類;塩化メチレン、クロ
ロホルムおよび1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類;ベンゼン、トルエンおよびキシレンなど
の芳香族炭化水素類;並びにアセトニトリルなどのニト
リル類などが挙げられる。この反応において、一般式
[5]の化合物の使用量は、一般式[4]の化合物に対
し、1〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モルである。
ルイス酸の使用量は、一般式[4]の化合物に対して1
〜5倍モル、好ましくは、1〜3倍モルである。この反
応は、通常、-20〜150℃、好ましくは、5〜90℃で、30
分間〜3時間実施すればよい。
素添加を行えばよい。この反応に用いる触媒としては、
たとえば、パラジウム−炭素などが挙げられる。この反
応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさな
いものであればよく、たとえば、ジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ランおよびジオキサンなどのエーテル類;N,N−ジメ
チルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミド
などのアミド類;メタノール、エタノール、プロパノー
ルおよびイソプロピルアルコールなどのアルコール類;
塩化メチレン、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエ
タンなどのハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン
およびキシレンなどの芳香族炭化水素類;酢酸エチルな
どのエステル類;アセトニトリルなどのニトリル類;並
びに水などが挙げられる。また、これらの溶媒を一種ま
たは二種以上混合して使用してもよい。触媒の使用量
は、一般式[6]の化合物に対して0.001〜10倍モル、
好ましくは、0.01〜0.2倍モルであり、水素気圧は1〜10
0気圧、好ましくは1〜3気圧である。この反応は、通
常、-20〜150℃、好ましくは、5〜35℃で、30分間〜24
時間実施すればよい。
基性条件下で行うことができる。この反応で使用される
酸としては、たとえば、トリフルオロ酢酸、塩酸、硝酸
および硫酸などの酸が、塩基としては、たとえば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化テトラブチルア
ンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸カリ
ウム、酢酸ナトリウムなどの塩基が挙げられる。この反
応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさな
いものであればよく、たとえば、ジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ランおよびジオキサンなどのエーテル類;N,N−ジメ
チルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミド
などのアミド類;塩化メチレン、クロロホルムおよび
1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;
ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水
素類;アセトニトリルなどのニトリル類;並びに水など
が挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合し
て使用してもよい。酸または塩基の使用量は、一般式
[2]の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、5
〜10倍モルである。この反応は、通常、-20〜150℃、好
ましくは、5〜35℃で、30分間〜24時間実施すればよ
い。
上記したと同様な意味を有する。」 (製造法B)一般式[6b]の化合物は、製造法Aで得
られた一般式[6a]の化合物またはそのカルボン酸に
おける反応性誘導体を一般式[7]の化合物またはその
アミノ基における反応性誘導体と反応に付すことによっ
て得ることができる。この反応は、通常のペプチド形成
反応の条件で行えばよい。この反応に使用される縮合剤
としては、たとえば、N,N'−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミドなどが、活性化剤としては、たとえば、N−ヒ
ドロキシスクシンイミドなどが挙げられる。この反応で
使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないも
のであればよく、たとえば、ジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
およびジオキサンなどのエーテル類;N,N−ジメチル
ホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなど
のアミド類;塩化メチレン、クロロホルムおよび1,2
−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;ベンゼ
ン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;
酢酸エチルなどのエステル類;並びにアセトニトリルな
どのニトリル類などが挙げられる。また、これらの溶媒
を一種または二種以上混合して使用してもよい。この反
応において、一般式[7]の化合物の使用量は、一般式
[6a]の化合物に対し、1〜10倍モル、好ましくは、
1〜3倍モルである。ついで、一般式[2a]の化合物
は、一般式[6b]の化合物のアジド基をアミノ基に還
元した後、加水分解反応(保護基の脱離反応)に付すこ
とによって得ることができる。これらの反応は、製造法
Aに記載のアジド基の還元および加水分解反応と同様に
して行えばよい。
[2]、[2a]、[3]、[4]、[5]、[6]、
[6a]、[6b]および[7]の化合物またはそれら
の塩において、異性体(たとえば、光学異性体、幾何異
性体および互変異性体など)が存在する場合、これらの
異性体を使用でき、また、溶媒和物、水和物および種々
の形状の結晶を使用することができる。また、一般式
[1]、[2]、[2a]、[3]、[4]、[5]、
[6]、[6a]、[6b]および[7]の化合物また
はそれらの塩において、アミノ基、環状アミノ基、カル
ボキシル基またはヒドロキシル基を有する化合物は、あ
らかじめ、これらの基を通常の保護基で保護しておき、
反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離するこ
とができる。このようにして得られた一般式[1]の化
合物またはその塩は、抽出、晶出および/またはカラム
クロマトグラフィーなどの常法に従って単離精製するこ
とができる。
通常製剤化に使用される賦形剤、担体および希釈剤など
の製剤補助剤を適宜混合してもよく、これらは常法に従
って、錠剤、散剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、カプセル
剤、シロップ剤、乳剤、液体製剤、粉体製剤、坐剤、軟
膏剤、貼付剤または注射剤などの形態で経口または非経
口で投与することができる。また、投与方法、投与量お
よび投与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて
適宜選択することができ、通常成人に対しては、経口ま
たは非経口(たとえば、注射、点滴および直腸部位への
投与など)的投与により、1日、1mg〜10gを1回から数
回に分割して投与すればよい。上記各種薬剤は、通常の
方法により製剤化されるが、たとえば、錠剤、散剤、顆
粒剤等の経口用固形製剤の形態に成形するのに際して
は、担体として、たとえば、乳糖、白糖、塩化ナトリウ
ム、ブドウ糖、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、
結晶セルロース、無水第二リン酸カルシウムおよびアル
ギン酸等の賦形剤;単シロップ、ブドウ糖液、デンプン
液、ゼラチン溶液、ポリビニルアルコール、ポリビニル
エーテル、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセ
ルロース、セラック、メチルセルロース、エチルセルロ
ース、アルギン酸ナトリウム、アラビアゴム、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、水およびエタノール等の結合剤;乾燥デンプ
ン、アルギン酸、かんてん末、デンプン、架橋ポリビニ
ルピロリドン、架橋カルボキシメチルセルロースナトリ
ウム、カルボキシメチルセルロースカルシウムおよびデ
ンプングリコール酸ナトリウム等の崩壊剤;ステアリル
アルコール、ステアリン酸、カカオバターおよび水素添
加油等の崩壊抑制剤;第4級アンモニウム塩およびラウ
リル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤;デンプン、乳糖、
カオリン、ベントナイト、無水ケイ酸、含水二酸化ケイ
素、メタケイ酸アルミン酸マグネシウムおよびコロイド
状ケイ酸等の吸収剤;精製タルク、ステアリン酸塩およ
びポリエチレングリコール等の滑沢剤等を使用できる。
さらに錠剤は、必要に応じ、通常の剤皮を施した錠剤、
たとえば、糖衣錠、ゼラチン被包錠、胃溶性被覆錠、腸
溶性被覆錠および水溶性フィルムコーティング錠とする
ことができる。カプセル剤は、上記で例示した各種の担
体と混合し、硬質ゼラチンカプセルおよび軟質カプセル
等に充填して調製される。液体製剤は、水性または油性
の懸濁液、溶液、シロップおよびエリキシル剤であって
もよく、これらは通常の添加剤を用いて常法に従い、調
製される。坐剤の形態に成形するのに際しては、担体と
して、たとえば、ポリエチレングリコール、カカオ脂、
ラノリン、高級アルコール、高級アルコールのエステル
類、ゼラチン、半合成グリセライドおよびウィテップゾ
ール(登録商標:ダイナマイトノーベル社)等に適当な
吸収促進剤を添加して使用できる。注射剤の形態に成形
するのに際しては、担体として、たとえば、水、エチル
アルコール、マクロゴール、プロピレングリコール、ク
エン酸、酢酸、リン酸、乳酸、乳酸ナトリウム、硫酸お
よび水酸化ナトリウム等の希釈剤;クエン酸ナトリウ
ム、酢酸ナトリウムおよびリン酸ナトリウム等のpH調整
剤および緩衝剤;ピロ亜硫酸ナトリウム、エチレンジア
ミン四酢酸、チオグリコール酸およびチオ乳酸等の安定
化剤等が使用できる。なお、この場合、等張性の溶液を
調整するに十分な量の食塩、ブドウ糖、マンニトールま
たはグリセリンを医薬製剤中に含有してもよく、通常の
溶解補助剤、無痛化剤または局所麻酔剤等を添加しても
よい。軟膏剤、たとえば、ペースト、クリームおよびゲ
ルの形態に調製する際には、通常使用される基剤、安定
剤、湿潤剤および保存剤等が必要に応じて配合され、常
法により混合、製剤化される。基剤としては、たとえ
ば、白色ワセリン、ポリエチレン、パラフィン、グリセ
リン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、シ
リコンおよびベントナイト等を使用できる。保存剤とし
ては、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸
エチル、パラオキシ安息香酸プロピル等が使用できる。
薬理作用(キチン合成酵素に対する阻害活性および抗真
菌活性)を説明する。 [試験方法]プロシーディング・オブ・ザ・ナショナル
・アカデミー・オブ・サイエンス・オブ・ザ・ユナイテ
ッド・ステイト・オブ・アメリカ(Proc.Natl.Acad.Sc
i.USA)、第85巻、第4735〜4739頁(1988年)に記載の
方法に準じて行った。キチン合成酵素に対する阻害活性
測定のために使用したキチン合成酵素のプロデューサー
は、カンジダ・アルビカンス(Candida Albicans)TIMM
1623である。細胞を、30℃で30分間、1%ジギトニン
で、さらに30℃で30分間、0.2%ジギトニンで透過性を
亢進した後、滅菌水で懸濁した。30μLの滅菌水懸濁液
を30mMイミダゾール塩酸緩衝液(pH6.5)、4mM塩化マ
グネシウム、4mM塩化カルシウム、30mM N-アセチルグ
ルコサミン、1mM UDP-N-アセチルグルコサミンおよび
0.7mM 14C−UDP−N-アセチルグルコサミンを含む活性
測定用緩衝液69μLおよび試料(被験薬)溶液1μLと共
に、37℃で1時間インキュベートした。混合物に10%ト
リクロロ酢酸(TCA)を添加し、反応を終了させ、細
胞をフィルター上に集め、10%トリクロロ酢酸およびエ
タノールで順次洗浄した。ついで、細胞の放射能を液体
シンチレーションカウンターで測定し、形成されたキチ
ンの量を細胞内に取り込まれた放射性物質の量より決定
した。50%阻害濃度(IC50)は、試料無添加時の細胞
の放射能を100%とし、その50%の放射能を示す被験薬
濃度とした。その結果を表7に示す。
75%発育阻止濃度(IC75)を測定した。測定培地には、
0.17% YNB w/o (Difco製)、0.5% D-glucose、0.02% L
-asparagineを用いた。C.neoformanse TIMM 0354および
C.neoformanse TIMM 1313をSabouraud寒天平板(栄研製)
上で30℃で一夜培養後、測定培地中に1.0×105cells/m
Lとなるように懸濁した。96穴マイクロプレートに測定
培地を175μLおよび12800〜6.25μg/mLに調製した薬剤
溶液を5μL添加(発育コントロールウェルには薬剤希釈
溶媒)後、菌液を20μL接種した(最終濃度320〜0.156μg
/mL)。各ウェルの初発濁度を測定(630nm)後、35℃で3日
間培養し、終末濁度を測定した。薬剤の希釈系列におい
て、終末濁度から初発濁度を引いた値のうちで、発育コ
ントロールの終末濁度から初発濁度を引いた値の25%値
(IC75計算値)と同等またはそれ以下の濁度を示す被験
薬濃度でもっとも低い薬剤濃度の値をIC75とした。 IC75計算法 (S3-S0)≦(C3−C0)×0.25を満たす被験薬濃度でもっと
も低い薬剤濃度の値 S3:被験薬の終末濁度 S0:被験薬の初発濁度 C0:発育コントロールの終末濁度 C3:発育コントロールの初発濁度 被験化合物は、実施例2(9)の化合物を使用した。結
果を表8に示す。
て説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、溶離液における混合比は、すべて容量比であ
り、また、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、
シリカゲル60、No.7734(メルク社製)を使用した。ま
た、Etは、エチル基;Acは、アセチル基;Bocは、t−
ブトキシカルボニル基を意味する。
和物6.5gを1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザ
ン120mLに懸濁させ、クロロトリメチルシラン10.7mLを
加え、6時間加熱還流する。冷却後、減圧下に溶媒を留
去し、残留物を1,2−ジクロロエタン50mLに溶解させ
る。得られた溶液にメチル=1,2,3−トリ−O−アセ
チル−5−アジド−5−デオキシ−D−アロフラノシル
ウロネート6.0gおよびトリメチルシリルトリフルオロメ
タンスルホネート8.1mLを加え、1時間加熱還流した
後、室温まで冷却する。反応混合物に氷水50mLを加え、
30分間攪拌した後、不溶物を濾去する。有機層を分取
し、水層を塩化メチレンで抽出する。有機層を合わせ、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー[溶離液;クロロホルム:メタノー
ル=100:1]で精製すれば、無色泡状物としてメチル
=2,3−ジ−O−アセチル−5−アジド−1−[5−
カルボキシ−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン−
1−イル]−1,5−ジデオキシ−β−D−アロフラノ
シルウロネート5.8gを得る。 IR(KBr)cm−1:2114,1752,1665,1479,1240,1098,106
5,804
1,808 2(2) IR(KBr)cm−1:2124,1747,1690,1540,1221,1068,762 2(5) IR(KBr)cm−1:2119,1700,1540,1235
ナトリウム水溶液10mLおよび塩化メチレン10mLの混合液
に加え、有機層を分取し、水層を塩化メチレンで抽出す
る。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、グリシンエチルエステルの塩化
メチレン溶液を得る。 (2)メチル=2,3−ジ−O−アセチル−5−アジド
−1−[5−カルボキシ−2,4(1H,3H)−ピリミ
ジンジオン−1−イル]−1,5−ジデオキシ−β−D
−アロフラノシルウロネート0.80gおよびN−ヒドロキ
シスクシンイミド0.22gをテトラヒドロフラン20mLに溶
解させ、氷冷下、N,N'−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド10.4gを加え、室温で一夜攪拌する。ついで、不溶
物を濾去し、濾液に(1)で得られたグリシンエチルエ
ステルの塩化メチレン溶液を加え、室温で3時間攪拌す
る。得られた反応混合物に水20mLを加え、6mol/L塩酸
でpH2に調整する。有機層を分取し、水層を塩化メチレ
ンで抽出する。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー[溶離液;クロロホルム:メタノール=200:
1)で精製すれば、無色油状物のメチル=2,3−ジ−
O−アセチル−5−アジド−1,5−ジデオキシ−1−
[5−N−エトキシカルボニルメチルカルバモイル−
2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン−1−イル]−
β−D−アロフラノシルウロネート0.73gを得る。 IR(KBr)cm−1:2114,1735,1697,1534,1458,1236,106
0,647
を示す。 4(1) IR(KBr)cm−1:2121,1740,1699,1232,1060,594 4(2) IR(KBr)cm−1:2120,1740,1699,1583,1236,1061,630,
593 4(3) IR(KBr)cm−1:2120,1734,1699,1540,1236,1060,630,
593 4(4) IR(KBr)cm−1:2126,1747,1690,1541,1221,1068,962,
763 4(6) IR(KBr)cm−1:2119,1119,1712,1462,1061,797,594 4(7) IR(KBr)cm−1:2120,1751,1696,1238,1061,796 4(8) IR(KBr)cm−1:2112,1747,1438,1277,1217,1108,103
7,735
−ジデオキシ−1−[5−N−エトキシカルボニルメチ
ルカルバモイル−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオ
ン−1−イル]−β−D−アロフラノシルウロネート0.
82g、5%パラジウム−炭素0.41gおよびメタノール20mL
の混合液を常温、常圧で5時間水素添加する。ついで、
パラジウム−炭素を濾去し、濾液に氷冷下、水20mLおよ
び水酸化リチウム・1水和物10.26gを加える。室温で一
夜攪拌した後、6mol/L塩酸でpH4に調整し、析出物を
濾取し、乾燥すれば、無色結晶の5−アミノ−1−[5
−N−カルボキシメチルカルバモイル−2,4(1H,3
H)−ピリミジンジオン−1−イル]−1,5−ジデオ
キシ−β−D−アロフラノシルウロン酸0.27gを得る。 IR(KBr)cm−1:3336,1730,1692,1616,1528,1472,140
9,1316,1245,1049,798 融点:219.8〜228.3℃(分解)
を示す。 6(2) IR(KBr)cm−1:3447,1718,1654,1559,1490,1376,123
3,1110,1043,670 融点:210.3〜216.5℃(分解) 6(5) IR(KBr)cm−1:3108,1694,1654,1614,1496,1330,125
7,1093,972,708 融点:224.0〜225.2℃(分解) 6(7) IR(KBr)cm−1:3341,3200,1695,1610,1535,1431,105
3,540 融点:221.7〜228.5℃(分解) 6(8) IR(KBr)cm−1:3280,1686,1542,1400,1251,1053,669 融点:198.2〜207.5℃(分解) 6(9) IR(KBr)cm−1:3220,1702,1610,1263,1051,796,527 融点:249.5〜252.6℃(分解) 6(10) IR(KBr)cm−1:3211,1691,1598,1407,1051,794,582 融点:174.2〜182.1℃(分解) 6(11) IR(KBr)cm−1:3403,1699,1546,1274,1052,582 融点:164.2〜184.2℃(分解) 6(12) IR(KBr)cm−1:3382,3289,1704,1464,1274,1051,806,
519 融点:224.2〜227.9℃(分解) 6(13) IR(KBr)cm−1:3421,1684,1636,1508,1474,1281,111
9,1051,621 融点:186.7〜197.3℃(分解)
イル−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン−1−イ
ル]−1,5−ジデオキシ−β−D−アロフラノシルウ
ロン酸0.10gをN,N−ジメチルホルムアミド3.0mLおよ
び水0.5mLの混合液に懸濁させ、氷冷下、4−ニトロフ
ェニル N−(t−ブトキシカルボニル)−2−アミノ
ドデカネート0.134g、1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル0.0475gおよびN−メチルモルホリン0.143mLを加え、
室温で2時間攪拌する。ついで、反応混合物に酢酸エチ
ル20mLおよび水20mLを加え、6mol/L塩酸でpH3に調整
した後、有機層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出す
る。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー[溶離液;クロロホルム:
メタノール=10:1]で精製すれば、粘性オイル0.80g
を得る。得られた化合物をトリフルオロ酢酸−水(9:
1)2.0mLに加え、氷冷下1時間撹拌する。ついで、減
圧下に溶媒を留去し、残渣にエーテルを加え、固化すれ
ば、1,5−ジデオキシ−5−[(2−アミノ−ドデカ
ノイル)アミノ]−1−[5−N−カルボキシメチルカ
ルバモイル−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン−
1−イル]−β−D−アロフラノシルウロン酸・トリフ
ルオロ酢酸塩0.5gをジアステレオマー混合物として得
る。 IR(KBr)cm−1:3326,2928,2857,1690,1545,1467,120
1,1141,799,722
る。
を示す。 2(1) IR(KBr)cm−1:3406,2925,2854,1598,1492,1382,1122 2(2) IR(KBr)cm−1:3420,1925,2853,1716,1542,1376,1261,1
100,802 2(3) IR(KBr)cm−1:3433,2928,2856,1722,1618,1522,1465,1
351,1275,1201,1142 2(4) IR(KBr)cm−1:3402,2928,2856,1780,1675,1467,1203,1
141,800 2(5) IR(KBr)cm−1:3309,2927,2856,1699,1406,1340,1268,1
202,1142,1062 2(6) IR(KBr)cm−1:3337,2928,1685,1560,1458,1420,1203,1
139,800 2(7) IR(KBr)cm−1:3320,2931,1684,1541,1458,1201,1140,7
99 2(8) IR(KBr)cm−1:3314,2929,2856,1693,1536,1467,1201,1
140,798 2(9) IR(KBr)cm−1:3250,3088,2927,2855,1701,1600,1559,1
466,1202,1138,754 2(10) IR(KBr)cm−1:3312,2928,2857,1697,1545,1467,1201,1
142,1063,798,722 2(11) IR(KBr)cm−1:3250,3088,2856,1701,1140,800,750 2(12) IR(KBr)cm−1:3380,2857,1690,1540,1201,1060,740 2(13) IR(KBr)cm−1:3236,2929,2856,1683,1471,1281,1201,1
138,1061,721 2(14) IR(KBr)cm−1:3321,3095,2964,1719,1690,1202,1063
ル)アミノ]−1−[5−N−カルボキシメチルカルバ
モイル−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン−1−
イル]−β−D−アロフラノシルウロン酸・トリフルオ
ロ酢酸塩0.2gをN,N−ジメチルホルムアミド6mLに溶
解させ、氷冷下、L−N−(t−ブトキシカルボニル)
ロイシン 4−ニトロフェニル−エステル0.123g、1−
ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物0.052gおよびN
−メチルモルホリン0.19mLを加え、室温で2.5時間攪拌
する。ついで、反応混合物に酢酸エチル20mLおよび水20
mLを加え、6mol/L塩酸でpH2に調整した後、有機層を
分取し、水層を酢酸エチルで抽出する。有機層を合わ
せ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[溶離液;クロロホルム:メタノール=10:
1]で精製すれば、粘性オイル0.20gを得る。得られたオ
イルをトリフルオロ酢酸−水(9:1)2.0mLに加え、
氷冷下、1時間撹拌する。ついで、減圧下に溶媒を留去
し、残渣にエーテルを加え、固化すれば、1,5−ジデ
オキシ−5−[(N−ロイシル−2−アミノ−ドデカノ
イル)アミノ]−1−[5−N−カルボキシメチルカル
バモイル−2,4(1H,3H)−ピリミジンジオン−1
−イル]−β−D−アロフラノシルウロン酸・トリフル
オロ酢酸塩0.18gをジアステレオマー混合物として得
る。 IR(KBr)cm−1:3310,2927,2856,1684,1541,1458,1202,1
138,789
の塩は、真菌細胞壁の成分であるキチンの合成を阻害す
る作用を有し、ヒト、動物および植物の真菌性疾患の予
防、治療に有効である。
Claims (5)
- 【請求項1】一般式 【化1】 「式中、R1およびR2は、同一または異なって水素原
子、置換されていてもよいアルキル、アルアルキル、ア
リール、シクロアルキル、アシルもしくは複素環式基ま
たはR1とR2が結合する炭素原子と一緒になって形成
する置換されていてもよいシクロアルキル基を;R
3は、保護されていてもよいアミノ基を;Xは、酸素原
子または硫黄原子を;Aは、 【化2】 (式中、Yは、CHまたは窒素原子を;R4は、水素原
子、ニトロ基、保護されていてもよいヒドロキシル基ま
たは 【化3】 (式中、R5およびR6は、同一または異なって水素原
子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基
またはR5とR6が結合する窒素原子と一緒になって形
成する置換されていてもよい環状アミノ基を示す。)で
表される基を示す。ただし、YがCHの場合、R4は、
水素原子ではない。)で表される基、ウラシルの5位お
よび6位で形成される縮合環 【化4】 で表される基または 【化5】 (式中、R7は、アミノ保護基を示す。)で表される基
を示す。」で表される化合物またはその塩。 - 【請求項2】R1が、水素原子;R2が、置換されてい
てもよいアルキル基;R3が、アミノ基;Xが、酸素原
子;Yが、CH;R4が、 【化6】 (式中、R5が、水素原子;R6が、置換されていても
よいアルキル基を示す。)で表される基である請求項1
記載の化合物またはその塩。 - 【請求項3】R6のアルキル基の置換基が、保護されて
いてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよいアミ
ノ基、保護されていてもよいカルボキシル基または 【化7】 (式中、Dは、アミノ酸残基を;nは、1、2または3
を示す。)で表される基である請求項2記載の化合物ま
たはその塩。 - 【請求項4】請求項1〜3のいずれかの項に記載の化合
物またはその塩を有効成分として含有する抗真菌剤。 - 【請求項5】請求項1〜3のいずれかの項に記載の化合
物またはその塩を有効成分として含有するキチン合成酵
素阻害剤。
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JP9085598 | 1998-03-19 | ||
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JPH11322778A true JPH11322778A (ja) | 1999-11-24 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005085270A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Japan Science And Techonlogy Agency | ピリジン環5位にピロリル基を導入した核酸誘導体 |
JP2011510012A (ja) * | 2008-01-18 | 2011-03-31 | メルク・シャープ・エンド・ドーム・コーポレイション | β−ラクタマーゼ阻害剤 |
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-
1999
- 1999-03-18 JP JP07286899A patent/JP4490517B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2012214475A (ja) * | 2008-01-18 | 2012-11-08 | Merck Sharp & Dohme Corp | β−ラクタマーゼ阻害剤 |
US8487093B2 (en) | 2008-01-18 | 2013-07-16 | Merck Sharp & Dohme Corp. | β-lactamase inhibitors |
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Publication number | Publication date |
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