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JPH1074307A - Production of composite magnetic head - Google Patents

Production of composite magnetic head

Info

Publication number
JPH1074307A
JPH1074307A JP22955196A JP22955196A JPH1074307A JP H1074307 A JPH1074307 A JP H1074307A JP 22955196 A JP22955196 A JP 22955196A JP 22955196 A JP22955196 A JP 22955196A JP H1074307 A JPH1074307 A JP H1074307A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
magnetic core
head
core
coil
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22955196A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Hashimoto
匡史 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP22955196A priority Critical patent/JPH1074307A/en
Publication of JPH1074307A publication Critical patent/JPH1074307A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce an inductive head and a mangetoresistive(MR) head in the relation of position according to the design by forming the MR head on a third magnetic core of a thin film inductive head as a lower layer shield. SOLUTION: Since the production processes are carried out for each substrate unit, the polishing amt. varies a little depending on the position in the substrate. By forming a second magnetic core 5, the track width and the pole height end are decided by the point A where the rear end face of the second core 5 is in contact with a gap material. The point A is not moved in a polishing process to eliminate difference in levels produced by a magnetic coil 7, etc., and thereby, the pole height end is independent from fluctuation in the polishing process. Then a film of a third magnetic core 9 is formed into a specified pattern as shown in the process (f), and then subjected to heat treatment to improve characteristics of the magnetic core.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録再生を行な
う複合型磁気ヘッドに関する。
The present invention relates to a composite magnetic head for performing magnetic recording and reproduction.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年磁気記録技術の進歩により数Gb/
inch2の高記録密度が現実化してきている。この飛
躍的な記録密度の伸びは、記録を行なうための薄膜イン
ダクティブヘッドと再生を行なうためのMRヘッドを組
み合わせた複合型磁気ヘッドが実現されたためである。
この複合型磁気ヘッドは薄膜プロセスによって1基板上
に形成した数百から数千程度の素子を同時に形成して作
成されている。MRヘッドはその素子材料として異方性
MR材料、スピンバルブ材料、人口格子GMR材料など
高出力を促す材料が開発されて進歩してきた。
2. Description of the Related Art Recent advances in magnetic recording technology have resulted in several Gb / s
The high recording density of the ink 2 has been realized. This dramatic increase in recording density is due to the realization of a composite magnetic head combining a thin-film inductive head for performing recording and an MR head for performing reproduction.
This composite magnetic head is manufactured by simultaneously forming hundreds to thousands of elements formed on one substrate by a thin film process. Materials that promote high output, such as anisotropic MR materials, spin valve materials, and artificial lattice GMR materials, have been developed as element materials for the MR head, and have been advanced.

【0003】一方、薄膜インダクティブヘッドは、磁気
コアとして飽和磁束密度が10KG程度のNiFe膜が
使用されている。図5は従来の一般的複合型磁気ヘッド
の断面図の一例であり、セラミック基板15の上にMR
ヘッド100が形成されており、その上にインダクティ
ブヘッド200が形成されている。夫々の構成は基板1
5の上に磁性薄膜のシールド膜95、絶縁層105、M
R素子115とリード125、絶縁層135、シールド
兼インダクティブヘッドの第一の磁気コア145、磁気
ギャップ兼絶縁層45、コイル75、絶縁層85、第二
の磁気コア35が積層されて成っている。薄膜インダク
ティブヘッドの磁気コアの飽和磁束密度は書込能力を左
右し、飽和磁束密度が高い材料を使用すれば書込能力は
高くなる。現在よく知られている高飽和磁束密度材料に
はFeTaN、FeTaC、FeHfCなどの合金があ
る。これらの材料は軟磁気特性を得るために300℃以
上の熱処理が必要である。
On the other hand, a thin-film inductive head uses a NiFe film having a saturation magnetic flux density of about 10 KG as a magnetic core. FIG. 5 is an example of a sectional view of a conventional general composite type magnetic head.
A head 100 is formed, on which an inductive head 200 is formed. Each configuration is a substrate 1
5, a magnetic thin film shield film 95, an insulating layer 105, M
The R element 115, the lead 125, the insulating layer 135, the first magnetic core 145 of the shield and inductive head, the magnetic gap and insulating layer 45, the coil 75, the insulating layer 85, and the second magnetic core 35 are laminated. . The saturation magnetic flux density of the magnetic core of the thin-film inductive head influences the writing ability, and the writing ability increases if a material having a high saturation magnetic flux density is used. Currently known high saturation magnetic flux density materials include alloys such as FeTaN, FeTaC, and FeHfC. These materials require heat treatment at 300 ° C. or higher to obtain soft magnetic properties.

【0004】複合型磁気ヘッドに高飽和磁束密度材料を
採用した薄膜インダクティブヘッドを使用しようとし
て、図5に示したような従来の複合型磁気ヘッドの構造
と同様にMRヘッドの上に薄膜インダクティブヘッドを
製作した場合には、高飽和磁束密度材料の熱処理のため
にMR素子はその機能を致命的に劣化させてしまう。ま
た、MR素子の熱処理による劣化を回避するために、薄
膜インダクティブヘッドを初めに製作して熱処理をし、
その後MRヘッドを製作する場合には、薄膜インダクテ
ィブヘッドのコイルなどの段差のためにMR素子の製作
は困難なものであった。
In order to use a thin-film inductive head employing a high saturation magnetic flux density material for the composite magnetic head, a thin-film inductive head is placed on the MR head in the same manner as the structure of the conventional composite magnetic head as shown in FIG. Is manufactured, the function of the MR element is fatally deteriorated due to the heat treatment of the high saturation magnetic flux density material. Also, in order to avoid deterioration due to the heat treatment of the MR element, a thin film inductive head is first manufactured and heat treated,
After that, when manufacturing an MR head, it was difficult to manufacture an MR element due to steps such as coils of a thin-film inductive head.

【0005】然るに、特開昭60−177420号公報
には基板の上に薄膜インダクティブヘッドを形成し、そ
の上にMRヘッドを配置して複合磁気ヘッドを製造する
方法が開示されている。図6はその磁気ヘッドの断面図
である。夫々の構成は基板15の上に第一の磁気コア3
5、絶縁層85、コイル75、磁気ギャップ45、第二
の磁気コア95兼シールド、絶縁層105、MR素子1
15およびリード125、絶縁層135、シールド14
5を積層して成っている。製造方法は図7工程(a)に
示すようにコイルを収納する凹部をもった第一の磁気コ
ア35を基板15上に被着し、その凹部にコイル75を
形成する。次に、工程(b)に示すように絶縁膜85を
被着し、コイル75及び第一の磁気コア35を埋没させ
る。次に工程(c)に示すように第一の磁気コア35が
露出するまで研磨し、ギャップ形成面の平坦化を行な
う。次に工程(d)に示すように磁気ギャップとなる絶
縁膜45を被着し、その上に第二の磁気コア95を被着
し、さらに絶縁膜105を形成する。次に工程(e)に
示すようにMR素子115、リード125、絶縁膜13
5、シールド145を被着して複合磁気ヘッドを完成す
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-177420 discloses a method of manufacturing a composite magnetic head by forming a thin-film inductive head on a substrate and arranging an MR head thereon. FIG. 6 is a sectional view of the magnetic head. Each configuration has a first magnetic core 3 on a substrate 15.
5, insulating layer 85, coil 75, magnetic gap 45, second magnetic core 95 and shield, insulating layer 105, MR element 1
15 and leads 125, insulating layer 135, shield 14
5 are laminated. In the manufacturing method, as shown in FIG. 7A, a first magnetic core 35 having a concave portion for accommodating a coil is attached on the substrate 15, and a coil 75 is formed in the concave portion. Next, as shown in step (b), an insulating film 85 is applied, and the coil 75 and the first magnetic core 35 are buried. Next, as shown in step (c), polishing is performed until the first magnetic core 35 is exposed, and the gap forming surface is flattened. Next, as shown in step (d), an insulating film 45 serving as a magnetic gap is applied, a second magnetic core 95 is applied thereon, and an insulating film 105 is further formed. Next, as shown in step (e), the MR element 115, the lead 125, and the insulating film 13 are formed.
5. The shield 145 is attached to complete the composite magnetic head.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記に開示
された方法により複合型磁気ヘッドを製作しようとする
と、第一の磁気コアと第二の磁気コアとで作るフロント
ギャップ部のポールハイトのエンドポイントは平坦化研
磨時の加工量により例えば図8に示すようにh1の研磨
量ではa1のエンドポイントのものがh2ではa2に移
動してしまい、基板毎に数百から数千程度の素子を形成
しているので、基板内の研磨量の差によりポールハイト
のエンドポイントが場所によって異なってしまうという
問題があった。
However, when a composite magnetic head is to be manufactured by the method disclosed above, the end of the pole height of the front gap portion formed by the first magnetic core and the second magnetic core. The point is that, depending on the processing amount at the time of flattening polishing, for example, as shown in FIG. 8, at the polishing amount of h1, the one at the end point of a1 moves to a2 at h2. Due to the formation, there is a problem that the end point of the pole height varies depending on the location due to the difference in the amount of polishing in the substrate.

【0007】薄膜インダクティブヘッドのポールハイト
のエンドポイントのバラツキは、その上に作成するMR
素子のディプスエンドとの相関距離が各素子で異なるこ
とになり、ウエハプロセス後に複合型磁気ヘッドとして
ポールハイトとMRディプスを同時に研磨する方法で
は、設計のポールハイト、MRディプスが得られなくな
り性能及び製造歩留まりが悪くなってしまう。
[0007] Variations in the end point of the pole height of the thin-film inductive head are caused by the MR to be formed thereon.
The correlation distance between the device and the depth end of the device will be different for each device, and in the method of simultaneously polishing the pole height and the MR depth as a composite magnetic head after the wafer process, the designed pole height and MR depth cannot be obtained, and the performance and The production yield is reduced.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、薄膜インダクティブヘッドとMRヘッドとからなる
複合型磁気ヘッドを基板上に複数一括して製造する方法
であって、薄膜インダクティブヘッドの製造方法は基板
上に第1の磁気コアを形成するとともに、この第1の磁
気コア上に磁気ギャップ材を介して第2の磁気コアを配
し、所定深さの磁気ギャップを形成する工程と、磁気コ
イルを配置する工程と、前記磁気コイルを第1及び第2
の磁気コアとともに絶縁材で埋設被覆するとともに前記
所定深さの磁気ギャップを後の研磨工程における研磨作
業から保護する工程と、前記絶縁材の表面の凹凸を研磨
して、これを平坦化するとともに第2の磁気コアの頂面
を露出する工程と、前記露出した第2の磁気コアと、前
記第1の磁気コアとを磁気的に接続する第3の磁気コア
を前記平坦化された絶縁材上に磁気コイルをまたいで形
成する工程と、からなり、MRヘッドの製造方法は、前
記薄膜インダクティブヘッドの第3の磁気コア上にこの
第3の磁気コアを下層シールドとして形成する工程から
なる複合型磁気ヘッドの製造方法を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, there is provided a method of manufacturing a plurality of composite magnetic heads comprising a thin-film inductive head and an MR head collectively on a substrate. Forming a first magnetic core on a substrate, disposing a second magnetic core on the first magnetic core via a magnetic gap material, and forming a magnetic gap having a predetermined depth; Arranging a magnetic coil; and attaching the magnetic coil to first and second magnetic coils.
A step of burying and covering the magnetic gap of the predetermined depth with a magnetic core and protecting the magnetic gap of the predetermined depth from a polishing operation in a subsequent polishing step, and polishing the unevenness on the surface of the insulating material to flatten it. A step of exposing a top surface of a second magnetic core, and forming a third magnetic core for magnetically connecting the exposed second magnetic core and the first magnetic core to the flattened insulating material Forming a third magnetic core on the third magnetic core of the thin-film inductive head as a lower shield. To provide a method of manufacturing a magnetic head.

【0009】また、前記第1の磁気コアに磁気ギャップ
材を介して配される第2の磁気コアの頂面は後に配置さ
れる磁気コイルの頂面よりも高く形成され、前記絶縁材
の表面の凹凸を研磨して、第2の磁気コアの上面を露出
する工程で、磁気コイルの頂面が露出しない複合型磁気
ヘッドの製造方法を提供する。
Further, the top surface of the second magnetic core disposed on the first magnetic core via a magnetic gap material is formed higher than the top surface of a magnetic coil disposed later, and the surface of the insulating material is formed. A method of manufacturing a composite magnetic head in which the top surface of the magnetic coil is not exposed in the step of polishing the irregularities of the above and exposing the upper surface of the second magnetic core.

【0010】また、前記第2の磁気コアは、基板上に形
成された凸部上に形成される第1の磁気コアに、磁気ギ
ャップ材を介して配されることにより、その頂面を後に
配置される磁気コイルの頂面よりも高く形成する複合型
磁気ヘッドの製造方法を提供する。また、前記第2の磁
気コアは後に配置される磁気コイルの高さより厚く形成
することにより第2の磁気コアの頂面を後に配置される
磁気コイルの頂面よりも高く形成する複合型磁気ヘッド
の製造方法を提供する。
The second magnetic core is disposed on the first magnetic core formed on the projection formed on the substrate with a magnetic gap material interposed therebetween, so that the top surface thereof is formed later. Provided is a method for manufacturing a composite magnetic head that is formed higher than a top surface of a magnetic coil to be arranged. A composite magnetic head in which the second magnetic core is formed to be thicker than the height of a magnetic coil disposed later, so that the top surface of the second magnetic core is formed higher than the top surface of the magnetic coil disposed later. And a method for producing the same.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例について説
明する。図1は本発明により製作した複合型磁気ヘッド
の断面図である。セラミック基板1に被着したアルミナ
の凸部2を加工して凹部を形成した面に第1の磁気コア
材3が被着されており、媒体摺動面側のフロントギャッ
プ部では磁気ギャップ材4を介して、またリアギャップ
部では直接第1の磁気コア3上に第2の磁気コア5が被
着されており、第3の磁気コア9とともに薄膜インダク
ティブヘッドの閉磁路を形成している。第1の磁気コア
材3によって形成された凹部には第1の絶縁層6を介し
て磁気コイル7が形成され絶縁材8で埋められ、先の閉
磁路と叉交している。第3の磁気コア9の上にはさらに
第3の絶縁層10を介してMR素子11、リード12
が、さらに第4の絶縁層13を介してシールド膜14が
積層され、複合型磁気ヘッドを構成している。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a sectional view of a composite magnetic head manufactured according to the present invention. A first magnetic core material 3 is adhered on a surface of the ceramic substrate 1 on which a concave portion is formed by processing the convex portion 2 of alumina, and a magnetic gap material 4 is formed on a front gap portion on the medium sliding surface side. The second magnetic core 5 is directly adhered on the first magnetic core 3 via the first magnetic core 3 and in the rear gap portion, and forms a closed magnetic path of the thin-film inductive head together with the third magnetic core 9. A magnetic coil 7 is formed in a recess formed by the first magnetic core material 3 with a first insulating layer 6 interposed therebetween, and is filled with an insulating material 8 to intersect the closed magnetic path. On the third magnetic core 9, an MR element 11 and a lead 12 are further interposed via a third insulating layer 10.
However, a shield film 14 is further laminated via a fourth insulating layer 13 to form a composite magnetic head.

【0012】図2により本発明の第一の実施例の製造方
法を説明する。但し説明の簡単のために複数の磁気ヘッ
ドの製造工程を一の磁気ヘッドの製造工程で代表する。
まず、工程(a)に示すように、Al2O3−TiC等
のセラミック基板上に20μm程のAl2O3膜をスパ
ッタリングで成膜するかまたはCVDで成膜するかし
て、所定厚の磁気コイルが充分配置できるように磁気コ
イル配置部分のAl2O3膜をイオンミリングやウエッ
トエッチングによって削除する。その後第1の磁気コア
材であるFeTaN合金膜を成膜する。磁気コア材は高
飽和磁束密度の材料が望ましく、FeTaN合金膜のほ
かにFeTaC合金膜やFeN合金膜などでもよい。第
1の磁気コアの形成はレジストを所定の形状に形成後、
第1の磁気コアを成膜しレジストを除去するリストオフ
方法で可能である。または、第1の磁気コア材を全体に
成膜し所定の形状をミリングで形成することもできる。
Referring to FIG. 2, a manufacturing method according to the first embodiment of the present invention will be described. However, for the sake of simplicity, the manufacturing process of a plurality of magnetic heads is represented by one magnetic head manufacturing process.
First, as shown in step (a), an Al2O3 film of about 20 μm is formed on a ceramic substrate such as Al2O3-TiC by sputtering or CVD, and a magnetic coil having a predetermined thickness is sufficiently arranged. The Al2O3 film at the portion where the magnetic coil is disposed is removed by ion milling or wet etching so as to be able to do so. After that, an FeTaN alloy film as a first magnetic core material is formed. The magnetic core material is desirably a material having a high saturation magnetic flux density, and may be an FeTaC alloy film, an FeN alloy film, or the like in addition to the FeTaN alloy film. The first magnetic core is formed by forming a resist into a predetermined shape,
A wrist-off method in which the first magnetic core is formed and the resist is removed is possible. Alternatively, the first magnetic core material may be entirely formed and a predetermined shape may be formed by milling.

【0013】次に工程(b)に示すように、記録ギャッ
プとなる磁気ギャップ材4を成膜し、第2の磁気コア材
5を成膜する。フロントギャップ部、バックギャップ部
以外の第2の磁気コア材をミリングによって除去する。
特にフロントギャップ部の媒体摺動面と反対側の第2の
磁気コアの端部Aは記録ヘッドのポールハイトエンドと
なる。この場合第2の磁気コアの形状を略直方体にする
ことでポールハイトが極端に小さい場合にも磁路がオー
プンになることがない。このことは本発明の全ての事例
に適用することができる。次に工程(c)に示すよう
に、第1の絶縁層6を成膜し、ついで磁気コイル7を形
成する。ここで磁気コイルはフレームメッキ法などで形
成する。磁気コイル7形成後工程(d)に示すように、
絶縁材8を磁気コイル厚以上の膜厚に成膜する。この際
にあらかじめ所定深さの磁気ギャップが形成されてお
り、この絶縁材8により同時に埋設されて保護されるた
め次の工程である研磨工程によってこの所定深さの磁気
ギャップが変動することがない。その後工程(e)に示
すように、機械研磨や化学機械研磨(CMP)で絶縁材
8を研磨し、磁気コイル7等により生じる表面の段差を
解消する。研磨の終了は絶縁材8に埋まっている第2の
磁気コア5が研磨面に露出した時点とする。
Next, as shown in step (b), a magnetic gap material 4 serving as a recording gap is formed, and a second magnetic core material 5 is formed. The second magnetic core material other than the front gap portion and the back gap portion is removed by milling.
In particular, the end A of the second magnetic core opposite to the medium sliding surface of the front gap portion serves as a pole height end of the recording head. In this case, by making the shape of the second magnetic core a substantially rectangular parallelepiped, the magnetic path does not open even when the pole height is extremely small. This can be applied to all cases of the present invention. Next, as shown in step (c), a first insulating layer 6 is formed, and then a magnetic coil 7 is formed. Here, the magnetic coil is formed by a frame plating method or the like. As shown in the step (d) after the formation of the magnetic coil 7,
The insulating material 8 is formed to a thickness equal to or greater than the thickness of the magnetic coil. At this time, a magnetic gap having a predetermined depth is formed in advance, and is buried and protected by the insulating material 8 at the same time. Therefore, the magnetic gap having the predetermined depth does not fluctuate in the next polishing step. . Thereafter, as shown in step (e), the insulating material 8 is polished by mechanical polishing or chemical mechanical polishing (CMP) to eliminate a surface step caused by the magnetic coil 7 or the like. The polishing is completed when the second magnetic core 5 buried in the insulating material 8 is exposed on the polished surface.

【0014】このときの作業は基板単位で行なっている
ため、基板内の位置によって研磨量に多少の差が発生す
るが、第2の磁気コア5の形成でトラック幅やポールハ
イトエンドはこの第2のコア5の後端面のギャップ材料
と接するポイントAによって確立するので、磁気コイル
7等によって生じた段差を解消する研磨工程によって、
このポイントAが動くことはなく、ポールハイトエンド
は研磨等のばらつきとは無関係となる。次に工程(f)
に示すように、第3の磁気コア9を成膜し所定の形状に
形成する。その後、磁気コアの特性向上のために熱処理
を行なう。熱処理終了後に工程(g)に示すように、絶
縁層10、MR膜11、電極膜12を成膜し、MR素子
を形成する。さらに絶縁層13、シールド膜14を形成
する。その後、端子、保護膜(図示せず)を形成し、複
合型磁気ヘッドを完成する。
Since the work at this time is performed on a substrate basis, there is a slight difference in the polishing amount depending on the position in the substrate. However, the track width and the pole height end are reduced by the formation of the second magnetic core 5. 2 is established by the point A in contact with the gap material on the rear end surface of the core 5 of the second core 5.
This point A does not move, and the pole height end is irrelevant to variations in polishing and the like. Next, step (f)
As shown in (3), the third magnetic core 9 is formed into a film and formed into a predetermined shape. Thereafter, heat treatment is performed to improve the characteristics of the magnetic core. After the heat treatment, as shown in step (g), an insulating layer 10, an MR film 11, and an electrode film 12 are formed to form an MR element. Further, an insulating layer 13 and a shield film 14 are formed. Thereafter, terminals and a protective film (not shown) are formed to complete the composite magnetic head.

【0015】図3は本発明の第二の実施例の製造方法で
ある。工程(a)に示すように、セラミック基板1上に
第1の磁気コア材3を被着し、その上に工程(b)に示
すように磁気ギャップ材4を介して第2の磁気コア5を
被着し、フロントギャップ部とバックギャップ部を加工
する。フロントギャップ部とバックギャップ部の間の凹
部に工程(c)に示すように磁気コイル7を形成し、次
に工程(d)に示すように絶縁材8をコイル厚以上の膜
厚に成膜する。その後工程(e)に示すように、機械研
磨や化学機械研磨(CMP)で絶縁材8を研磨し、磁気
コイル7等により生じる表面の段差を解消する。研磨の
終了は絶縁材8に埋まっている第2の磁気コア5が研磨
面に露出した時点とする。次に工程(f)に示すように
第3の磁気コア9を被着する。その後、磁気コアの特性
向上のために熱処理を行なう。熱処理終了後に工程
(g)に示すように、絶縁層10、MR膜11、電極膜
12を成膜し、MR素子を形成する。さらに絶縁層1
3、シールド膜14を形成する。その後、端子、保護膜
(図示せず)を形成し、複合型磁気ヘッドを完成する。
FIG. 3 shows a manufacturing method according to a second embodiment of the present invention. As shown in step (a), a first magnetic core material 3 is applied on a ceramic substrate 1, and a second magnetic core 5 is placed thereon via a magnetic gap material 4 as shown in step (b). And process the front gap portion and the back gap portion. A magnetic coil 7 is formed in a concave portion between the front gap portion and the back gap portion as shown in step (c), and an insulating material 8 is formed to a film thickness equal to or greater than the coil thickness as shown in step (d). I do. Thereafter, as shown in step (e), the insulating material 8 is polished by mechanical polishing or chemical mechanical polishing (CMP) to eliminate a surface step caused by the magnetic coil 7 and the like. The polishing is completed when the second magnetic core 5 buried in the insulating material 8 is exposed on the polished surface. Next, a third magnetic core 9 is attached as shown in step (f). Thereafter, heat treatment is performed to improve the characteristics of the magnetic core. After the heat treatment, as shown in step (g), an insulating layer 10, an MR film 11, and an electrode film 12 are formed to form an MR element. Further insulating layer 1
3. The shield film 14 is formed. Thereafter, terminals and a protective film (not shown) are formed to complete the composite magnetic head.

【0016】図4は本発明の第三の実施例の製造方法で
ある。工程(a)に示すように、セラミック基板1上に
第1の磁気コア材3を被着し、磁気コイルを収容する凹
部を加工し、その上に工程(b)に示すように磁気ギャ
ップ材4を介して第2の磁気コア5を被着する。次に工
程(c)に示すように凹部に磁気コイル7を形成し、次
に工程(d)に示すように絶縁材8をコイル厚以上の膜
厚に成膜する。その後工程(e)に示すように、機械研
磨や化学機械研磨(CMP)で絶縁材8を研磨し、磁気
コイル7等により生じる表面の段差を解消する。研磨の
終了は絶縁材8に埋まっている第2の磁気コア5が研磨
面に露出した時点とする。以下図3に示した工程を経て
複合型磁気ヘッドを完成する。
FIG. 4 shows a manufacturing method according to a third embodiment of the present invention. As shown in a step (a), a first magnetic core material 3 is applied on a ceramic substrate 1, a recess for accommodating a magnetic coil is processed, and a magnetic gap material is formed thereon as shown in a step (b). The second magnetic core 5 is attached via the first magnetic core 4. Next, a magnetic coil 7 is formed in the recess as shown in step (c), and an insulating material 8 is formed to a thickness equal to or greater than the coil thickness as shown in step (d). Thereafter, as shown in step (e), the insulating material 8 is polished by mechanical polishing or chemical mechanical polishing (CMP) to eliminate a surface step caused by the magnetic coil 7 or the like. The polishing is completed when the second magnetic core 5 buried in the insulating material 8 is exposed on the polished surface. The composite magnetic head is completed through the steps shown in FIG.

【0017】[0017]

【発明の効果】ポールハイトエンドが確定するのでイン
ダクティブヘッドとMRヘッドの位置関係が設計値通り
になり、特性のすぐれた、また製造歩留まりの良い複合
型磁気ヘッドが製造できた。
Since the pole height end is determined, the positional relationship between the inductive head and the MR head is as designed, and a composite magnetic head having excellent characteristics and a good production yield can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の複合型磁気ヘッドの断面図FIG. 1 is a sectional view of a composite magnetic head of the present invention.

【図2】 本発明の第一の実施例の製造工程図FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の第二の実施例の製造工程図FIG. 3 is a manufacturing process diagram of a second embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の第三の実施例の製造工程図FIG. 4 is a manufacturing process diagram of a third embodiment of the present invention.

【図5】 従来の複合型磁気ヘッドの断面図FIG. 5 is a sectional view of a conventional composite magnetic head.

【図6】 従来の複合型磁気ヘッドの断面図FIG. 6 is a sectional view of a conventional composite magnetic head.

【図7】 従来の複合型磁気ヘッドの製造工程図FIG. 7 is a manufacturing process diagram of a conventional composite magnetic head.

【図8】 従来の平坦化時の研磨量とディプスエンドの
移動の関係
FIG. 8 shows the relationship between the amount of polishing and the movement of the depth end during conventional flattening.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 凸部 3 第1の磁気コア 4 磁気ギャップ材 5 第2の磁気コア 7 磁気コイル 8 絶縁材 9 第3の磁気コア 11 MR素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Convex part 3 1st magnetic core 4 Magnetic gap material 5 2nd magnetic core 7 Magnetic coil 8 Insulating material 9 3rd magnetic core 11 MR element

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】薄膜インダクティブヘッドとMRヘッドと
からなる複合型磁気ヘッドを基板上に複数一括して製造
する方法であって、薄膜インダクティブヘッドの製造方
法は基板上に第1の磁気コアを形成するとともに、この
第1の磁気コア上に磁気ギャップ材を介して第2の磁気
コアを配し、所定深さの磁気ギャップを形成する工程
と、磁気コイルを配置する工程と、前記磁気コイルを第
1及び第2の磁気コアとともに絶縁材で埋設被覆すると
ともに前記所定深さの磁気ギャップを後の研磨工程にお
ける研磨作業から保護する工程と、前記絶縁材の表面の
凹凸を研磨して、これを平坦化するとともに第2の磁気
コアの頂面を露出する工程と、前記露出した第2の磁気
コアと、前記第1の磁気コアとを磁気的に接続する第3
の磁気コアを前記平坦化された絶縁材上に磁気コイルを
またいで形成する工程と、からなり、MRヘッドの製造
方法は、前記薄膜インダクティブヘッドの第3の磁気コ
ア上にこの第3の磁気コアを下層シールドとして形成す
る工程からなる複合型磁気ヘッドの製造方法。
1. A method for manufacturing a plurality of composite magnetic heads comprising a thin film inductive head and an MR head on a substrate collectively, wherein the method for manufacturing a thin film inductive head includes forming a first magnetic core on the substrate. Arranging a second magnetic core on the first magnetic core via a magnetic gap material to form a magnetic gap having a predetermined depth, arranging a magnetic coil, A step of burying and covering the first and second magnetic cores with an insulating material and protecting the magnetic gap having the predetermined depth from a polishing operation in a subsequent polishing step, and polishing the irregularities on the surface of the insulating material. Exposing the top surface of the second magnetic core, and connecting the exposed second magnetic core and the first magnetic core magnetically.
Forming a magnetic core over the planarized insulating material over a magnetic coil. The method of manufacturing an MR head comprises the steps of: forming a third magnetic core on a third magnetic core of the thin-film inductive head; A method for manufacturing a composite magnetic head, comprising a step of forming a core as a lower shield.
【請求項2】前記第1の磁気コアに磁気ギャップ材を介
して配される第2の磁気コアの頂面は後に配置される磁
気コイルの頂面よりも高く形成され、前記絶縁材の表面
の凹凸を研磨して、第2の磁気コアの上面を露出する工
程で、磁気コイルの頂面が露出しないことを特徴とする
請求項1記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。
2. A top surface of a second magnetic core disposed on the first magnetic core via a magnetic gap material is formed higher than a top surface of a magnetic coil disposed later, and a surface of the insulating material is provided. 2. The method according to claim 1, wherein the top surface of the magnetic coil is not exposed in the step of polishing the unevenness to expose the upper surface of the second magnetic core.
【請求項3】前記第2の磁気コアは、基板上に形成され
た凸部上に形成される第1の磁気コアに、磁気ギャップ
材を介して配されることにより、その頂面を後に配置さ
れる磁気コイルの頂面よりも高く形成することを特徴と
する請求項2記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。
3. The second magnetic core is disposed on a first magnetic core formed on a projection formed on a substrate with a magnetic gap material interposed therebetween so that a top surface thereof is formed later. 3. The method of manufacturing a composite magnetic head according to claim 2, wherein said magnetic coil is formed higher than a top surface of said magnetic coil.
【請求項4】前記第2の磁気コアは後に配置される磁気
コイルの高さより厚く形成することにより第2の磁気コ
アの頂面を後に配置される磁気コイルの頂面よりも高く
形成することを特徴とする請求項2記載の複合型磁気ヘ
ッドの製造方法。
4. The second magnetic core is formed to be thicker than the height of a magnetic coil to be disposed later, so that the top surface of the second magnetic core is higher than the top surface of a magnetic coil disposed later. 3. The method for manufacturing a composite magnetic head according to claim 2, wherein:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004097805A1 (en) * 2003-04-30 2004-11-11 Fujitsu Limited Thin-film magnetic head, production method therefor, and magnetic storage unit
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