JPH1055759A - カラー陰極線管の蛍光面形成方法 - Google Patents
カラー陰極線管の蛍光面形成方法Info
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- JPH1055759A JPH1055759A JP20944196A JP20944196A JPH1055759A JP H1055759 A JPH1055759 A JP H1055759A JP 20944196 A JP20944196 A JP 20944196A JP 20944196 A JP20944196 A JP 20944196A JP H1055759 A JPH1055759 A JP H1055759A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光吸収層を有するカラー陰極線管の蛍光面形
成方法において、光吸収層の隙間にレジストが残らない
ようにすることを目的とする。 【解決手段】 シャドウマスク1 の透孔11に対応するレ
ジストパターン12の形成されたパネル2 の内面に黒色光
吸収物質を塗布したのち、分解剤で処理してレジストパ
ターンとともにこのレジストパターン上に塗布された光
吸収物質を剥離して光吸収層8 を形成するカラー陰極線
管の蛍光面形成方法において、黒色光吸収物質を塗布し
たのちのレジストパターンを第１の分解剤で処理し、つ
いで第２の分解剤で処理するようにした。
成方法において、光吸収層の隙間にレジストが残らない
ようにすることを目的とする。 【解決手段】 シャドウマスク1 の透孔11に対応するレ
ジストパターン12の形成されたパネル2 の内面に黒色光
吸収物質を塗布したのち、分解剤で処理してレジストパ
ターンとともにこのレジストパターン上に塗布された光
吸収物質を剥離して光吸収層8 を形成するカラー陰極線
管の蛍光面形成方法において、黒色光吸収物質を塗布し
たのちのレジストパターンを第１の分解剤で処理し、つ
いで第２の分解剤で処理するようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、カラー陰極線管
の蛍光面形成方法に係り、特にブラックマトリクス状ま
たはブラックストライプ状の光吸収層の隙間に３色蛍光
体層が設けられてなるカラー陰極線管の蛍光面形成方法
に関する。
の蛍光面形成方法に係り、特にブラックマトリクス状ま
たはブラックストライプ状の光吸収層の隙間に３色蛍光
体層が設けられてなるカラー陰極線管の蛍光面形成方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にカラー陰極線管は、図２に示すよ
うに、多数の透孔が所定の配列で形成されたシャドウマ
スク１に対向して、パネル２の内面に蛍光面３が設けら
れ、電子銃４から放出された３電子ビーム５を偏向装置
６により偏向して、上記蛍光面３を水平、垂直走査する
ことにより、カラー画像を表示する構造に形成されてい
る。
うに、多数の透孔が所定の配列で形成されたシャドウマ
スク１に対向して、パネル２の内面に蛍光面３が設けら
れ、電子銃４から放出された３電子ビーム５を偏向装置
６により偏向して、上記蛍光面３を水平、垂直走査する
ことにより、カラー画像を表示する構造に形成されてい
る。
【０００３】その蛍光面３として、図３に示すように、
マトリクス状の黒色光吸収層８の隙間に、青、緑、赤に
発光するドット状の３色蛍光体層９B ，９G ，９R が埋
込まれるように設けられたブラックマトリクス型蛍光
面、および図４に示すように、ストライプ状の黒色光吸
収層８の隙間に、青、緑、赤に発光するストライプ状の
３色蛍光体層９B ，９G ，９R が埋込まれるように設け
られたブラックストライプ型蛍光面がある。
マトリクス状の黒色光吸収層８の隙間に、青、緑、赤に
発光するドット状の３色蛍光体層９B ，９G ，９R が埋
込まれるように設けられたブラックマトリクス型蛍光
面、および図４に示すように、ストライプ状の黒色光吸
収層８の隙間に、青、緑、赤に発光するストライプ状の
３色蛍光体層９B ，９G ，９R が埋込まれるように設け
られたブラックストライプ型蛍光面がある。
【０００４】従来より、これら蛍光面３は、シャドウマ
スクをフォトマスクとする写真印刷法により、最初に光
吸収層８を形成し、ついで３色蛍光体層９B ，９G ，９
R を形成する方法で形成されている。
スクをフォトマスクとする写真印刷法により、最初に光
吸収層８を形成し、ついで３色蛍光体層９B ，９G ，９
R を形成する方法で形成されている。
【０００５】すなわち、まずパネルの内面に感光性レジ
ストを塗布形成し、露光によりこの感光性レジストにシ
ャドウマスクの透孔に対応するパターンを焼付け、この
パターンの焼付けられた感光性レジストを現像して未感
光部を除去し、上記シャドウマスクの透孔に対応するレ
ジストパターンを形成する。つぎにこのレジストパター
ンの形成されたパネルの内面に黒色光吸収物質を塗布
し、この黒色光吸収物質を塗布したのちのレジストパタ
ーンを分解剤で処理して、レジストパターンとともにこ
のレジストパターン上に塗布された光吸収物質を剥離し
て、上記レジストパターンの反転パターンからなる光吸
収層を形成する。
ストを塗布形成し、露光によりこの感光性レジストにシ
ャドウマスクの透孔に対応するパターンを焼付け、この
パターンの焼付けられた感光性レジストを現像して未感
光部を除去し、上記シャドウマスクの透孔に対応するレ
ジストパターンを形成する。つぎにこのレジストパター
ンの形成されたパネルの内面に黒色光吸収物質を塗布
し、この黒色光吸収物質を塗布したのちのレジストパタ
ーンを分解剤で処理して、レジストパターンとともにこ
のレジストパターン上に塗布された光吸収物質を剥離し
て、上記レジストパターンの反転パターンからなる光吸
収層を形成する。
【０００６】その後、上記光吸収層の形成されたパネル
の内面に感光性蛍光体スラリ層を塗布形成し、この感光
性蛍光体スラリ層にシャドウマスクの透孔に対応するパ
ターンを焼付け、このパターンの焼付けられた感光性蛍
光体スラリ層を現像して未感光部を除去し、上記光吸収
層の所定の隙間に任意１色の蛍光体層を形成する。そし
てこの蛍光体層形成工程を３色蛍光体について繰り返す
ことにより形成されている。
の内面に感光性蛍光体スラリ層を塗布形成し、この感光
性蛍光体スラリ層にシャドウマスクの透孔に対応するパ
ターンを焼付け、このパターンの焼付けられた感光性蛍
光体スラリ層を現像して未感光部を除去し、上記光吸収
層の所定の隙間に任意１色の蛍光体層を形成する。そし
てこの蛍光体層形成工程を３色蛍光体について繰り返す
ことにより形成されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、カラー
陰極線管の蛍光面は、シャドウマスクをフォトマスクと
する写真印刷法により形成され、ブラックマトリクス型
およびブラックストライプ型蛍光面など、黒色光吸収層
の隙間に３色蛍光体層が埋込まれるように設けられた蛍
光面は、最初に光吸収層を形成し、ついでその光吸収層
の所定の隙間にそれぞれ３色蛍光体層を形成する方法で
形成されている。
陰極線管の蛍光面は、シャドウマスクをフォトマスクと
する写真印刷法により形成され、ブラックマトリクス型
およびブラックストライプ型蛍光面など、黒色光吸収層
の隙間に３色蛍光体層が埋込まれるように設けられた蛍
光面は、最初に光吸収層を形成し、ついでその光吸収層
の所定の隙間にそれぞれ３色蛍光体層を形成する方法で
形成されている。
【０００８】その光吸収層の形成は、パネルの内面に塗
布形成された感光性レジストを露光してシャドウマスク
の透孔に対応するパターンを焼付け、現像してシャドウ
マスクの透孔に対応するレジストパターンを形成したの
ち、黒色光吸収物質を塗布し、この黒色光吸収物質を塗
布したのちのレジストパターンを分解剤で処理して、レ
ジストパターンとともにこのレジストパターン上に塗布
された光吸収物質を剥離することにより形成されてい
る。従来、その分解剤として、スルファミン酸や過酸化
物の水溶液が用いられている。
布形成された感光性レジストを露光してシャドウマスク
の透孔に対応するパターンを焼付け、現像してシャドウ
マスクの透孔に対応するレジストパターンを形成したの
ち、黒色光吸収物質を塗布し、この黒色光吸収物質を塗
布したのちのレジストパターンを分解剤で処理して、レ
ジストパターンとともにこのレジストパターン上に塗布
された光吸収物質を剥離することにより形成されてい
る。従来、その分解剤として、スルファミン酸や過酸化
物の水溶液が用いられている。
【０００９】しかしこのような方法により光吸収層を形
成すると、露光により焼付けられるレジストパターンの
中央部が過露光となり、またレジストパターンの周辺部
が黒色光吸収物質の影響などにより、分解剤で処理して
も十分に分解されずに残る。そのため、その後、光吸収
層の隙間に形成される蛍光体層の付着強度が低下する。
また３色蛍光体層を形成する工程が同じ工程の繰返しで
あるため、先に形成する蛍光体層の蛍光体が他色蛍光体
層を形成する隙間に残渣となって残り、色純度が劣化す
るなどの問題がある。
成すると、露光により焼付けられるレジストパターンの
中央部が過露光となり、またレジストパターンの周辺部
が黒色光吸収物質の影響などにより、分解剤で処理して
も十分に分解されずに残る。そのため、その後、光吸収
層の隙間に形成される蛍光体層の付着強度が低下する。
また３色蛍光体層を形成する工程が同じ工程の繰返しで
あるため、先に形成する蛍光体層の蛍光体が他色蛍光体
層を形成する隙間に残渣となって残り、色純度が劣化す
るなどの問題がある。
【００１０】そのため、従来は、光吸収層形成後、蛍光
体層形成前に、シリカコート処理をおこなったり、蛍光
体の表面処理を蛍光面形成条件に合わせて変えるなどの
方法が必要であった。
体層形成前に、シリカコート処理をおこなったり、蛍光
体の表面処理を蛍光面形成条件に合わせて変えるなどの
方法が必要であった。
【００１１】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたものであり、黒色光吸収層の隙間に３色蛍光体
層が埋込まれるように設けられるカラー陰極線管の蛍光
面形成方法において、光吸収層の隙間にレジストが残ら
ないようにすることを目的とする。
なされたものであり、黒色光吸収層の隙間に３色蛍光体
層が埋込まれるように設けられるカラー陰極線管の蛍光
面形成方法において、光吸収層の隙間にレジストが残ら
ないようにすることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】パネルの内面に形成され
た感光性レジストにシャドウマスクの透孔に対応するパ
ターンを焼付け現像してシャドウマスクの透孔に対応す
るレジストパターンを形成し、このレジストパターンの
形成されたパネルの内面に黒色光吸収物質を塗布したの
ちのレジストパターンを分解剤で処理してレジストパタ
ーンとともにこのレジストパターン上に塗布された光吸
収物質を剥離してレジストパターンの反転パターンから
なる光吸収層を形成するカラー陰極線管の蛍光面形成方
法において、黒色光吸収物質を塗布したのちのレジスト
パターンを第１の分解剤で処理し、ついで第２の分解剤
で処理するようにした。
た感光性レジストにシャドウマスクの透孔に対応するパ
ターンを焼付け現像してシャドウマスクの透孔に対応す
るレジストパターンを形成し、このレジストパターンの
形成されたパネルの内面に黒色光吸収物質を塗布したの
ちのレジストパターンを分解剤で処理してレジストパタ
ーンとともにこのレジストパターン上に塗布された光吸
収物質を剥離してレジストパターンの反転パターンから
なる光吸収層を形成するカラー陰極線管の蛍光面形成方
法において、黒色光吸収物質を塗布したのちのレジスト
パターンを第１の分解剤で処理し、ついで第２の分解剤
で処理するようにした。
【００１３】また、その第２の分解剤を過酸化物の水溶
液とした。
液とした。
【００１４】また、その過酸化物を、過マンガン酸カリ
ウム、過ヨウ素酸カリウム、過酸化水素の少なくとも１
種とした。
ウム、過ヨウ素酸カリウム、過酸化水素の少なくとも１
種とした。
【００１５】また、過酸化物の水溶液の濃度を０．１重
量％〜１０重量％とした。
量％〜１０重量％とした。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態について説明する。
実施の形態について説明する。
【００１７】図１（ａ）に示すように、まずパネル２の
内面を洗浄し、たとえば表１に示す感光剤（ノンクロン
は東京応化製感光剤）を塗布し乾燥して、厚さ約１μm
の感光性レジスト１０を形成する。
内面を洗浄し、たとえば表１に示す感光剤（ノンクロン
は東京応化製感光剤）を塗布し乾燥して、厚さ約１μm
の感光性レジスト１０を形成する。
【００１８】
【表１】 つぎに、同（ｂ）に示すように、上記感光性レジスト１
０の形成されたパネル２にシャドウマスク１を装着し、
カラー受像管の偏向中心に対応する位置に配置された超
高圧水銀ランプ（図示せず）から放射される光により、
この光の軌道を電子ビームの軌道に近似させる補正レン
ズ、および感光性レジスト１０に対する配光分布を補正
する補正フィルター（図示せず）などを介して、０．８
５ mＷ／cm2 ×５秒の露光量で露光し、感光性レジスト
１０にシャドウマスク１の透孔１１に対応するパターン
を焼付ける。
０の形成されたパネル２にシャドウマスク１を装着し、
カラー受像管の偏向中心に対応する位置に配置された超
高圧水銀ランプ（図示せず）から放射される光により、
この光の軌道を電子ビームの軌道に近似させる補正レン
ズ、および感光性レジスト１０に対する配光分布を補正
する補正フィルター（図示せず）などを介して、０．８
５ mＷ／cm2 ×５秒の露光量で露光し、感光性レジスト
１０にシャドウマスク１の透孔１１に対応するパターン
を焼付ける。
【００１９】ついで、このパターンの焼付けられた感光
性レジスト１０を現像して未感光部を除去し、同（ｃ）
に示すように、上記シャドウマスクの透孔に対応するレ
ジストパターン１２を形成する。
性レジスト１０を現像して未感光部を除去し、同（ｃ）
に示すように、上記シャドウマスクの透孔に対応するレ
ジストパターン１２を形成する。
【００２０】つぎに、同（ｄ）に示すように、このレジ
ストパターン１２の形成されたパネル２の内面に、日本
アチソン製アクアダグなどの黒色光吸収物質からなる塗
料を塗布し乾燥して、黒色光吸収物質層１３を形成す
る。
ストパターン１２の形成されたパネル２の内面に、日本
アチソン製アクアダグなどの黒色光吸収物質からなる塗
料を塗布し乾燥して、黒色光吸収物質層１３を形成す
る。
【００２１】ついで、この黒色光吸収物質層１３の形成
されたのちのレジストパターン１２を，下記のように第
１および第２の分解剤で分解して、レジストパターン１
２とともにこのレジストパターン１２上に塗布された光
吸収物質を剥離し、同（ｅ）に示すように、上記レジス
トパターンの反転パターンからなる光吸収層８を形成す
る。
されたのちのレジストパターン１２を，下記のように第
１および第２の分解剤で分解して、レジストパターン１
２とともにこのレジストパターン１２上に塗布された光
吸収物質を剥離し、同（ｅ）に示すように、上記レジス
トパターンの反転パターンからなる光吸収層８を形成す
る。
【００２２】すなわち、まず上記黒色光吸収物質層の形
成されたパネル２の温度を６０℃にし、第１の分解剤と
して任意濃度のスルファミン酸水溶液を注入して、約２
０秒間処理する。このスルファミン酸水溶液を排出した
のち、第２の分解剤として、過マンガン酸カリウム、過
ヨウ素酸カリウム、過酸化水素から選択された少なくと
も１種の過酸化物の０．１〜１０重量％の水溶液を注入
して約１０秒間湿潤状態に保つ。その後、約６kg／cm2
の圧力で水をスプレイして、レジストパターンとともに
このレジストパターン上に塗布された光吸収物質を剥離
除去する。
成されたパネル２の温度を６０℃にし、第１の分解剤と
して任意濃度のスルファミン酸水溶液を注入して、約２
０秒間処理する。このスルファミン酸水溶液を排出した
のち、第２の分解剤として、過マンガン酸カリウム、過
ヨウ素酸カリウム、過酸化水素から選択された少なくと
も１種の過酸化物の０．１〜１０重量％の水溶液を注入
して約１０秒間湿潤状態に保つ。その後、約６kg／cm2
の圧力で水をスプレイして、レジストパターンとともに
このレジストパターン上に塗布された光吸収物質を剥離
除去する。
【００２３】その後、上記光吸収層８の形成されたパネ
ル２の内面に、蛍光体および感光剤を主成分とする感光
性蛍光体スラリを塗布し乾燥して、同（ｆ）に示すよう
に、上記光吸収物質層１２の形成されたパネル２の内面
に、感光性蛍光体スラリ層１４を形成する。
ル２の内面に、蛍光体および感光剤を主成分とする感光
性蛍光体スラリを塗布し乾燥して、同（ｆ）に示すよう
に、上記光吸収物質層１２の形成されたパネル２の内面
に、感光性蛍光体スラリ層１４を形成する。
【００２４】つぎに、同（ｇ）に示すように、上記感光
性蛍光体スラリ層１４の形成されたパネル２にシャドウ
マスク１を装着し、カラー受像管の偏向中心に対応する
位置に配置された超高圧水銀ランプ（図示せず）から放
射される光により、この光の軌道を電子ビームの軌道に
近似させる補正レンズ、および感光性蛍光体スラリ層１
４に対する配光分布を補正する補正フィルター（図示せ
ず）などを介して露光し、感光性蛍光体スラリ層１４に
シャドウマスク１の透孔１１に対応するパターンを焼付
ける。
性蛍光体スラリ層１４の形成されたパネル２にシャドウ
マスク１を装着し、カラー受像管の偏向中心に対応する
位置に配置された超高圧水銀ランプ（図示せず）から放
射される光により、この光の軌道を電子ビームの軌道に
近似させる補正レンズ、および感光性蛍光体スラリ層１
４に対する配光分布を補正する補正フィルター（図示せ
ず）などを介して露光し、感光性蛍光体スラリ層１４に
シャドウマスク１の透孔１１に対応するパターンを焼付
ける。
【００２５】ついで、このパターンの焼付けられた感光
性蛍光体スラリ層１４を現像して未感光部を除去し、同
（ｈ）に示すように、光吸収層８の所定の隙間に任意１
色の蛍光体層、たとえば青蛍光体層９B を形成する。
性蛍光体スラリ層１４を現像して未感光部を除去し、同
（ｈ）に示すように、光吸収層８の所定の隙間に任意１
色の蛍光体層、たとえば青蛍光体層９B を形成する。
【００２６】さらに、上記青蛍光体層９B の形成工程を
緑、赤蛍光体について繰り返すことにより、同（ｉ）に
示すように、光吸収層８の所定の隙間にそれぞれ緑およ
び赤蛍光体層９G ，９R を形成する。
緑、赤蛍光体について繰り返すことにより、同（ｉ）に
示すように、光吸収層８の所定の隙間にそれぞれ緑およ
び赤蛍光体層９G ，９R を形成する。
【００２７】ところで、上記のように前工程で形成され
たレジストパターン１１を、まず第１の分解剤で分解
し、ついで過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸カリウ
ム、過酸化水素などから選択された少なくとも１種の過
酸化物の０．１〜１０重量％の水溶液を第２の分解剤と
して分解して、レジストパターン１１とともにこのレジ
ストパターン１１上に塗布された光吸収物質を剥離する
と、従来の方法、すなわち第１の分解剤による処理のみ
では分解されずに光吸収層の隙間に残ったレジストを十
分に分解することができ、その後，この光吸収層の隙間
に形成される３色蛍光体層９B ，９G ，９R の付着強度
の低下や、蛍光体の残渣による色純度の劣化を防止する
ことができる。
たレジストパターン１１を、まず第１の分解剤で分解
し、ついで過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸カリウ
ム、過酸化水素などから選択された少なくとも１種の過
酸化物の０．１〜１０重量％の水溶液を第２の分解剤と
して分解して、レジストパターン１１とともにこのレジ
ストパターン１１上に塗布された光吸収物質を剥離する
と、従来の方法、すなわち第１の分解剤による処理のみ
では分解されずに光吸収層の隙間に残ったレジストを十
分に分解することができ、その後，この光吸収層の隙間
に形成される３色蛍光体層９B ，９G ，９R の付着強度
の低下や、蛍光体の残渣による色純度の劣化を防止する
ことができる。
【００２８】この場合、第２の分解剤の濃度を０．１重
量％よりも低くすると、レジストの分解効果が低下し、
十分な分解が得られなくなる。また１０重量％を超える
と、不所望な光吸収物質の剥がれが生じやすくなる。し
たがって第２の分解剤としては、過酸化物の０．１〜１
０重量％の水溶液が使用可能であるが、より好ましく
は、レジストの分解性、光吸収物質の耐性から、０．３
〜１重量％の水溶液がよい。
量％よりも低くすると、レジストの分解効果が低下し、
十分な分解が得られなくなる。また１０重量％を超える
と、不所望な光吸収物質の剥がれが生じやすくなる。し
たがって第２の分解剤としては、過酸化物の０．１〜１
０重量％の水溶液が使用可能であるが、より好ましく
は、レジストの分解性、光吸収物質の耐性から、０．３
〜１重量％の水溶液がよい。
【００２９】表２に、上記第２の分解剤で処理した場合
のレジストの分解能力、蛍光体層の付着強度、光吸収物
質の剥がれの程度を、第２の分解剤で処理しない場合と
比較して示す。
のレジストの分解能力、蛍光体層の付着強度、光吸収物
質の剥がれの程度を、第２の分解剤で処理しない場合と
比較して示す。
【００３０】
【表２】 この表２において、◎，○，△の判定基準は、その順に
程度が悪くなることを示しており、第２の分解剤で処理
すると、処理しない場合にくらべて、レジストの分解能
力や蛍光体層の付着強度が向上することが示されてい
る。
程度が悪くなることを示しており、第２の分解剤で処理
すると、処理しない場合にくらべて、レジストの分解能
力や蛍光体層の付着強度が向上することが示されてい
る。
【００３１】なお、上記実施の形態では、第１、第２の
分解剤によりレジストパターンを分解して光吸収層を形
成するに当たり、第１の分解剤で処理し、ついで第２の
分解剤で処理し、その後、水をスプレイしてレジストパ
ターンとともにこのレジストパターン上に塗布された光
吸収物質を剥離除去したが、第１の分解剤で処理したの
ち、一旦スプレイなどにより水洗し、その後、第２の分
解剤で処理しても、第２の分解剤の処理効果に変化はな
く、同様の効果が得られる。
分解剤によりレジストパターンを分解して光吸収層を形
成するに当たり、第１の分解剤で処理し、ついで第２の
分解剤で処理し、その後、水をスプレイしてレジストパ
ターンとともにこのレジストパターン上に塗布された光
吸収物質を剥離除去したが、第１の分解剤で処理したの
ち、一旦スプレイなどにより水洗し、その後、第２の分
解剤で処理しても、第２の分解剤の処理効果に変化はな
く、同様の効果が得られる。
【００３２】なおまた、この発明は、蛍光体層を形成す
るに先立って、着色顔料分散液を塗布してフイルター層
を形成する蛍光面形成方法にも適用可能である。
るに先立って、着色顔料分散液を塗布してフイルター層
を形成する蛍光面形成方法にも適用可能である。
【００３３】
【発明の効果】パネルの内面に形成された感光性レジス
トにシャドウマスクの透孔に対応するパターンを焼付け
現像してシャドウマスクの透孔に対応するレジストパタ
ーンを形成し、このレジストパターンの形成されたパネ
ルの内面に黒色光吸収物質を塗布したのちのレジストパ
ターンを分解剤で処理してレジストパターンとともにこ
のレジストパターン上に塗布された光吸収物質を剥離し
てレジストパターンの反転パターンからなる光吸収層を
形成するカラー陰極線管の蛍光面形成方法において、黒
色光吸収物質を塗布したのちのレジストパターンを第１
の分解剤で処理し、ついで第２の分解剤で処理し、その
第２の分解剤を過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸カリ
ウム、過酸化水素から選択された少なくとも１種の過酸
化物の水溶液とし、さらには濃度を０．１重量％〜１０
重量％とすると、従来の方法では分解されずに光吸収層
の隙間に残ったレジストを十分に分解することができ、
その後その隙間に形成される３色蛍光体層の付着強度の
低下や、蛍光体の残渣による色純度の劣化を防止するこ
とができ、品位良好な蛍光面を安定に形成することがで
きる。
トにシャドウマスクの透孔に対応するパターンを焼付け
現像してシャドウマスクの透孔に対応するレジストパタ
ーンを形成し、このレジストパターンの形成されたパネ
ルの内面に黒色光吸収物質を塗布したのちのレジストパ
ターンを分解剤で処理してレジストパターンとともにこ
のレジストパターン上に塗布された光吸収物質を剥離し
てレジストパターンの反転パターンからなる光吸収層を
形成するカラー陰極線管の蛍光面形成方法において、黒
色光吸収物質を塗布したのちのレジストパターンを第１
の分解剤で処理し、ついで第２の分解剤で処理し、その
第２の分解剤を過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸カリ
ウム、過酸化水素から選択された少なくとも１種の過酸
化物の水溶液とし、さらには濃度を０．１重量％〜１０
重量％とすると、従来の方法では分解されずに光吸収層
の隙間に残ったレジストを十分に分解することができ、
その後その隙間に形成される３色蛍光体層の付着強度の
低下や、蛍光体の残渣による色純度の劣化を防止するこ
とができ、品位良好な蛍光面を安定に形成することがで
きる。
【図１】図１（ａ）乃至（ｉ）はそれぞれこの発明の実
施の一形態であるカラー受像管の蛍光面形成方法を説明
するための図である。
施の一形態であるカラー受像管の蛍光面形成方法を説明
するための図である。
【図２】カラー受像管の構成を示す図である。
【図３】図３（ａ）はブラックマトリクス型蛍光面の平
面図、図３（ｂ）はその断面図である。
面図、図３（ｂ）はその断面図である。
【図４】図４（ａ）はブラックストライプ型蛍光面の平
面図、図４（ｂ）はその断面図である。
面図、図４（ｂ）はその断面図である。
１…シャドウマスク ２…パネル ８…光吸収層 ９B ，９G ，９R …３色蛍光体層 １０…感光性レジスト １１…透孔 １２…レジストパターン １３…黒色光吸収物質層
【手続補正書】
【提出日】平成９年２月１８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】図１（ａ）に示すように、まずパネル２の
内面を洗浄し、たとえば表１に示す感光剤（ポリビニル
ピロリドン、４．４ジアジドスチルベン、２．２ジスル
フォン酸ソーダの混合物）を塗布し乾燥して、厚さ約１
μm の感光性レジスト１０を形成する。
内面を洗浄し、たとえば表１に示す感光剤（ポリビニル
ピロリドン、４．４ジアジドスチルベン、２．２ジスル
フォン酸ソーダの混合物）を塗布し乾燥して、厚さ約１
μm の感光性レジスト１０を形成する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】
【表１】 つぎに、同（ｂ）に示すように、上記感光性レジスト１
０の形成されたパネル２にシャドウマスク１を装着し、
カラー受像管の偏向中心に対応する位置に配置された超
高圧水銀ランプ（図示せず）から放射される光により、
この光の軌道を電子ビームの軌道に近似させる補正レン
ズ、および感光性レジスト１０に対する配光分布を補正
する補正フィルター（図示せず）などを介して、０．８
５ mＷ／cm2 ×５秒の露光量で露光し、感光性レジスト
１０にシャドウマスク１の透孔１１に対応するパターン
を焼付ける。
０の形成されたパネル２にシャドウマスク１を装着し、
カラー受像管の偏向中心に対応する位置に配置された超
高圧水銀ランプ（図示せず）から放射される光により、
この光の軌道を電子ビームの軌道に近似させる補正レン
ズ、および感光性レジスト１０に対する配光分布を補正
する補正フィルター（図示せず）などを介して、０．８
５ mＷ／cm2 ×５秒の露光量で露光し、感光性レジスト
１０にシャドウマスク１の透孔１１に対応するパターン
を焼付ける。
Claims (4)
- 【請求項１】 パネルの内面に形成された感光性レジス
トにシャドウマスクの透孔に対応するパターンを焼付け
現像して上記シャドウマスクの透孔に対応するレジスト
パターンを形成し、このレジストパターンの形成された
パネルの内面に黒色光吸収物質を塗布したのち、上記レ
ジストパターンを分解剤で処理して上記レジストパター
ンとともにこのレジストパターン上に塗布された光吸収
物質を剥離して上記レジストパターンの反転パターンか
らなる光吸収層を形成するカラー陰極線管の蛍光面形成
方法において、 上記黒色光吸収物質を塗布したのちのレジストパターン
を第１の分解剤で処理し、ついで第２の分解剤で処理す
ることを特徴とするカラー陰極線管の蛍光面形成方法。 - 【請求項２】 第２の分解剤が過酸化物の水溶液である
ことを特徴とする請求項１記載のカラー陰極線管の蛍光
面形成方法。 - 【請求項３】 過酸化物が過マンガン酸カリウム、過ヨ
ウ素酸カリウム、過酸化水素の少なくとも１種からなる
ことを特徴とする請求項２記載のカラー陰極線管の蛍光
面形成方法。 - 【請求項４】 過酸化物の水溶液の濃度が０．１重量％
〜１０重量％であることを特徴とする請求項２記載のカ
ラー陰極線管の蛍光面形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20944196A JPH1055759A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | カラー陰極線管の蛍光面形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20944196A JPH1055759A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | カラー陰極線管の蛍光面形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1055759A true JPH1055759A (ja) | 1998-02-24 |
Family
ID=16572922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20944196A Abandoned JPH1055759A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | カラー陰極線管の蛍光面形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1055759A (ja) |
-
1996
- 1996-08-08 JP JP20944196A patent/JPH1055759A/ja not_active Abandoned
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050104 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050208 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Effective date: 20050404 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 |