JPH10263308A - 物品表面から水および/または溶剤を除去する組成物 - Google Patents
物品表面から水および/または溶剤を除去する組成物Info
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- JPH10263308A JPH10263308A JP10096831A JP9683198A JPH10263308A JP H10263308 A JPH10263308 A JP H10263308A JP 10096831 A JP10096831 A JP 10096831A JP 9683198 A JP9683198 A JP 9683198A JP H10263308 A JPH10263308 A JP H10263308A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オゾン層を破壊せず、非毒性で、高除去率で
微量の水、溶剤、オイルなどを除去できる洗浄剤組成物
を提供する。 【解決手段】 下記(i)のハイドロフルオロポリエー
テルに下記(ii)の含フッ素添加剤を配合してなる組成
物。 (i) HF2 CO(CF2 O)n (CF2 CF2 O)m CF2 H (ii) T−ORf (CFY)−LまたはL−CF2 ORf CF2 −L L=X−CH2 CH2 (OCH2 CH2 )n'B;X=C
H2 O、CH2 NR″、CONR″、CH2 OCH2 C
H2 NR″、CH2 OCOCH2 O;B=NHC(CH
2 OH)3 、CH2 O(CH2 OH)3 ;R″=Hまた
はアルキル、Y=CF3 またはF;T=−CF3 、−C
2 F5 、−C3 F7 、ClCF2 CF(CF3 )−、C
F3 CFClCF2 −、ClCF2 CF2 −、ClCF
2 −;Rf =(パー)フルオロアルカンまたは(パー)
フルオロポリエーテル。
微量の水、溶剤、オイルなどを除去できる洗浄剤組成物
を提供する。 【解決手段】 下記(i)のハイドロフルオロポリエー
テルに下記(ii)の含フッ素添加剤を配合してなる組成
物。 (i) HF2 CO(CF2 O)n (CF2 CF2 O)m CF2 H (ii) T−ORf (CFY)−LまたはL−CF2 ORf CF2 −L L=X−CH2 CH2 (OCH2 CH2 )n'B;X=C
H2 O、CH2 NR″、CONR″、CH2 OCH2 C
H2 NR″、CH2 OCOCH2 O;B=NHC(CH
2 OH)3 、CH2 O(CH2 OH)3 ;R″=Hまた
はアルキル、Y=CF3 またはF;T=−CF3 、−C
2 F5 、−C3 F7 、ClCF2 CF(CF3 )−、C
F3 CFClCF2 −、ClCF2 CF2 −、ClCF
2 −;Rf =(パー)フルオロアルカンまたは(パー)
フルオロポリエーテル。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、種々の基材から微
量の水、溶剤、オイル、グリース、ワックスなどを除去
することができるすすぎ洗浄剤として有用な溶剤組成物
に関する。とりわけ、基材としては金属、プラスチック
およびガラス製品、パーツなどの表面が挙げられ、除去
すべき溶剤としては有機溶剤、特に炭化水素、脂肪族エ
ステルなどが挙げられ、また、オイルとしては、鉱油、
シリコーン油およびテルペン類などが挙げられる。
量の水、溶剤、オイル、グリース、ワックスなどを除去
することができるすすぎ洗浄剤として有用な溶剤組成物
に関する。とりわけ、基材としては金属、プラスチック
およびガラス製品、パーツなどの表面が挙げられ、除去
すべき溶剤としては有機溶剤、特に炭化水素、脂肪族エ
ステルなどが挙げられ、また、オイルとしては、鉱油、
シリコーン油およびテルペン類などが挙げられる。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】上記
のような基材の洗浄または処理サイクルにおいて基材表
面に付着した微量の水、有機溶剤およびオイルなどを除
去する必要に遭遇する。本発明の組成物が除去すること
ができる物質は該組成物を構成するハイドロフルオロポ
リエーテル類と相溶性がないので、それらを除去するに
は単純な溶解に依存することはできず、置換によらなけ
ればならない。除去処理(脱溶剤、脱水および/または
脱オイル)した後には被処理基材表面に汚れないし残留
分は完全に除かれていなければならない。また、洗浄剤
は被処理表面を劣化、侵食または変性するものであって
はならない。さらに、洗浄剤は不燃性、非毒性および熱
的に安定でなければならない。また、環境にやさしくな
ければならず、とりわけ、オゾン層に亀裂を与えず(O
DPゼロ)、温室効果上問題のない(低GWP)である
ことが要求される。
のような基材の洗浄または処理サイクルにおいて基材表
面に付着した微量の水、有機溶剤およびオイルなどを除
去する必要に遭遇する。本発明の組成物が除去すること
ができる物質は該組成物を構成するハイドロフルオロポ
リエーテル類と相溶性がないので、それらを除去するに
は単純な溶解に依存することはできず、置換によらなけ
ればならない。除去処理(脱溶剤、脱水および/または
脱オイル)した後には被処理基材表面に汚れないし残留
分は完全に除かれていなければならない。また、洗浄剤
は被処理表面を劣化、侵食または変性するものであって
はならない。さらに、洗浄剤は不燃性、非毒性および熱
的に安定でなければならない。また、環境にやさしくな
ければならず、とりわけ、オゾン層に亀裂を与えず(O
DPゼロ)、温室効果上問題のない(低GWP)である
ことが要求される。
【0003】本発明が解決しようとする課題は上記のよ
うな要求性能を満足する溶剤組成物を提供するにある。
特に、多くの国では、オゾン層破壊の問題から多くの溶
剤の使用を法規制によって既に禁止しているかまたは禁
止しようとしているので上記の課題の解決は重要であ
る。オゾン層への影響からもはや使用できない溶剤とし
ては塩素化溶剤類、クロロフルオロカーボン類(CF
C)などがあり、ハイドロクロロフルオロカーボン(H
CFC)もこれからは問題となろう。これまで多年にわ
たって、CFC−113によって代表されるクロロフル
オロカーボン類(CFC)が種々の洗浄および乾燥プロ
セスで用いられてきた。CFCは、ODPを除き上記の
要求特性を満足するが、ODPが高いため法規制の対象
となっている。
うな要求性能を満足する溶剤組成物を提供するにある。
特に、多くの国では、オゾン層破壊の問題から多くの溶
剤の使用を法規制によって既に禁止しているかまたは禁
止しようとしているので上記の課題の解決は重要であ
る。オゾン層への影響からもはや使用できない溶剤とし
ては塩素化溶剤類、クロロフルオロカーボン類(CF
C)などがあり、ハイドロクロロフルオロカーボン(H
CFC)もこれからは問題となろう。これまで多年にわ
たって、CFC−113によって代表されるクロロフル
オロカーボン類(CFC)が種々の洗浄および乾燥プロ
セスで用いられてきた。CFCは、ODPを除き上記の
要求特性を満足するが、ODPが高いため法規制の対象
となっている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本出願人は、驚くべきこ
とに、特定の組成物が予期に反して、上記のような要求
特性を満足したうえ、物品の表面から水、有機溶剤、テ
ルペン類および鉱油を除去する性能をもつことを見出し
た。本発明によれば、下記(i)および(ii)両成分を
含んでなることを特徴とする、物品表面から微量の水お
よび/または有機溶剤および/またはオイルを除去する
ための組成物が提供される。
とに、特定の組成物が予期に反して、上記のような要求
特性を満足したうえ、物品の表面から水、有機溶剤、テ
ルペン類および鉱油を除去する性能をもつことを見出し
た。本発明によれば、下記(i)および(ii)両成分を
含んでなることを特徴とする、物品表面から微量の水お
よび/または有機溶剤および/またはオイルを除去する
ための組成物が提供される。
【0005】(i)式 HF2 CO(CF2 O)n (CF2 CF2 O)m CF2
H (式中、nおよびmは0〜20の整数であるが、nとm
が同時に0であることはない)で表わされ、沸点が30
〜200℃、好ましくは60〜150℃であり、O/C
モル比が0.5〜1であるハイドロフルオロポリエーテ
ル。(ii)下記式(I)および(II) で表わされる化学
構造を有する化合物の中から選ばれたフッ素含有添加
剤、 T−ORf (CFY)−L (I) L−CF2 ORf CF2 −L (II) 式(I)および(II)において、 L=X−CH2 CH2 (OCH2 CH2 )n'B 上記式において、X=CH2 O、CH2 NR″、CON
R″、CH2 OCH2 CH2 NR″またはCH2 OCO
CH2 O; n' =0〜50; B=NHC(CH2 OH)3 またはOC(CH2 OH)
3 ; ここで、R″=Hまたは炭素数1〜3のアルキル、Y=
CF3 またはF;Tは−CF3 、−C2 F5 、−C3 F
7 、ClCF2 CF(CF3 )− CF3CFClCF
2 − ClCF2 CF2 − ClCF2 −の中から選ば
れ;Rf は炭素数4〜20、好ましくは8〜12の(パ
ー)フルオロアルカン基、または重合体鎖に沿って統計
的に分布せる下記の中から選ばれた繰返し単位を有する
(パー)フルオロポリエーテル基;(CF2 CF2 O)
(CFYO)[Y=FまたはCF3 ]、(C3 F
6 O)、(CF2 (CF2 )z O)[Z=2または
3]、(CF2 CF(ORf')O)、(CF(ORf')
O)[Rf'=−CF3 、−C2 F5 または−C3 F7 ;
CR4R5 CF2 CF2 O[R4 およびR5 は同一であ
っても相違してもよく、H、Clまたはパーフルオロア
ルキル(例えば炭素数1〜4を有する)である]。(i
i)成分中のT−ORf −および−CF2 Rf CF2 −
[式中のRf は(パー)フルオロポリエーテル]部分の
数平均分子量は通常500〜1,200である。
H (式中、nおよびmは0〜20の整数であるが、nとm
が同時に0であることはない)で表わされ、沸点が30
〜200℃、好ましくは60〜150℃であり、O/C
モル比が0.5〜1であるハイドロフルオロポリエーテ
ル。(ii)下記式(I)および(II) で表わされる化学
構造を有する化合物の中から選ばれたフッ素含有添加
剤、 T−ORf (CFY)−L (I) L−CF2 ORf CF2 −L (II) 式(I)および(II)において、 L=X−CH2 CH2 (OCH2 CH2 )n'B 上記式において、X=CH2 O、CH2 NR″、CON
R″、CH2 OCH2 CH2 NR″またはCH2 OCO
CH2 O; n' =0〜50; B=NHC(CH2 OH)3 またはOC(CH2 OH)
3 ; ここで、R″=Hまたは炭素数1〜3のアルキル、Y=
CF3 またはF;Tは−CF3 、−C2 F5 、−C3 F
7 、ClCF2 CF(CF3 )− CF3CFClCF
2 − ClCF2 CF2 − ClCF2 −の中から選ば
れ;Rf は炭素数4〜20、好ましくは8〜12の(パ
ー)フルオロアルカン基、または重合体鎖に沿って統計
的に分布せる下記の中から選ばれた繰返し単位を有する
(パー)フルオロポリエーテル基;(CF2 CF2 O)
(CFYO)[Y=FまたはCF3 ]、(C3 F
6 O)、(CF2 (CF2 )z O)[Z=2または
3]、(CF2 CF(ORf')O)、(CF(ORf')
O)[Rf'=−CF3 、−C2 F5 または−C3 F7 ;
CR4R5 CF2 CF2 O[R4 およびR5 は同一であ
っても相違してもよく、H、Clまたはパーフルオロア
ルキル(例えば炭素数1〜4を有する)である]。(i
i)成分中のT−ORf −および−CF2 Rf CF2 −
[式中のRf は(パー)フルオロポリエーテル]部分の
数平均分子量は通常500〜1,200である。
【0006】特に、(ii)成分中のRf は下記(a)〜
(g)の中から選ばれた繰返し単位を有する(パー)フ
ルオロポリエーテルであることが好ましい。 (a) −(CF2 CF(CF3 )O)a (CFYO)
b − 上式において、Y=FまたはCF3 、aおよびbは上記
T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量30
0〜1,500に対応し、かつa/b=10〜100を
満足する整数であって、上式で表わされる繰返し単位は
次式のように結合することができる。 −(CF2 CF(CF3 )O)a (CFYO)b −CF
2 (R′f )x CF2 −−O−(CF2 CF(CF3 )
O)a (CFYO)b − (上式中、R′f は、例えば炭素数1〜4のフルオロア
ルキレン基である); (b) −(CF2 CF2 O)c (CF2 O)d(CF
2 (CF2 )z O)h − 上式において、c、dおよびhは上記T−ORf −また
は−CF2 Rf CF2 −の分子量=300〜1,500
に対応し、かつc/d=0.1〜10、b/(c+d)
=0〜0.05を満足する整数であり、zは2または3
であり、hは0であってもよい; (c) −(CF2 CF(CF3 )O)e (CF2 CF
2 O)f(CFYO)g − 上式において、Y=FまはたCF3 ;e、fおよびgは
上記T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量
=300〜1,500に対応し、かつe/(f+g)=
0.1〜10、f/g=2〜10を満足する整数であ
る; (d) −(CF2 O)j (CF2 CF(ORf")O)
k(CF(ORf")O)1 − 上式において、Rf"=−CF3 −C2 F5 または−C3
F7 ;j、kおよびlは上記T−ORf −または−CF
2 Rf CF2 −分子量=300〜1,500に対応し、
かつk+lおよびj+k+lが少くとも2であり、k/
(j+l)=0.01〜1,000、l/j=0.01
〜100を満足する整数である; (e) −(CF2 (CF2 )z O)s − 上式において、sは上記T−ORf −または−CF2 R
f CF2 −の分子量=300〜1,500に対応する整
数であり、zは2または3である; (f) −(CR4 R5 CF2 CF2 O)j'− 上式において、R4 およびR5 は同一であっても相違し
てもよく、H、Clおよび(例えば炭素数1〜4を有す
る)パーフルオロアルキルの中から選ばれ、j’は上記
T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量=3
00〜1,500に対応する整数であり、該繰返し単位
はフルオロポリオキシアルキレン鎖中で相互に次のよう
に結合している。 −(CR4 R5 CF2 CF2 O)p'−R′f−O−(C
R4 R5 CF2 CF2 O)q' − 上式において、R′f は(例えば炭素数1〜4を有す
る)フルオロアルキレン基であり、p’およびq' は上
記T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量=
300〜1,500に対応する整数である; (g) −(CF(CF3 )CF3 O)j"− 上式において、j" は上記T−ORf −または−CF2
Rf CF2 −の分子量=300〜1,500に対応する
整数であり、該繰返し単位はフルオロポリオキシアルキ
レン鎖中で相互に次のように結合して2価の基を形成し
ている。 −(CF2 CF(CF3 )O)a'−CF2 (R′f )x
CF2−O−(CF(CF3 )CF2 O)b'− 上式において、R′f は(例えば炭素数1〜4を有す
る)フルオロアルキレン基であり、x=0または1であ
り、a' およびb' は上記T−ORf −または−CF2
Rf CF2 −の分子量=300〜1,500に対応し、
かつa' +b' が1以上となる整数である。
(g)の中から選ばれた繰返し単位を有する(パー)フ
ルオロポリエーテルであることが好ましい。 (a) −(CF2 CF(CF3 )O)a (CFYO)
b − 上式において、Y=FまたはCF3 、aおよびbは上記
T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量30
0〜1,500に対応し、かつa/b=10〜100を
満足する整数であって、上式で表わされる繰返し単位は
次式のように結合することができる。 −(CF2 CF(CF3 )O)a (CFYO)b −CF
2 (R′f )x CF2 −−O−(CF2 CF(CF3 )
O)a (CFYO)b − (上式中、R′f は、例えば炭素数1〜4のフルオロア
ルキレン基である); (b) −(CF2 CF2 O)c (CF2 O)d(CF
2 (CF2 )z O)h − 上式において、c、dおよびhは上記T−ORf −また
は−CF2 Rf CF2 −の分子量=300〜1,500
に対応し、かつc/d=0.1〜10、b/(c+d)
=0〜0.05を満足する整数であり、zは2または3
であり、hは0であってもよい; (c) −(CF2 CF(CF3 )O)e (CF2 CF
2 O)f(CFYO)g − 上式において、Y=FまはたCF3 ;e、fおよびgは
上記T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量
=300〜1,500に対応し、かつe/(f+g)=
0.1〜10、f/g=2〜10を満足する整数であ
る; (d) −(CF2 O)j (CF2 CF(ORf")O)
k(CF(ORf")O)1 − 上式において、Rf"=−CF3 −C2 F5 または−C3
F7 ;j、kおよびlは上記T−ORf −または−CF
2 Rf CF2 −分子量=300〜1,500に対応し、
かつk+lおよびj+k+lが少くとも2であり、k/
(j+l)=0.01〜1,000、l/j=0.01
〜100を満足する整数である; (e) −(CF2 (CF2 )z O)s − 上式において、sは上記T−ORf −または−CF2 R
f CF2 −の分子量=300〜1,500に対応する整
数であり、zは2または3である; (f) −(CR4 R5 CF2 CF2 O)j'− 上式において、R4 およびR5 は同一であっても相違し
てもよく、H、Clおよび(例えば炭素数1〜4を有す
る)パーフルオロアルキルの中から選ばれ、j’は上記
T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量=3
00〜1,500に対応する整数であり、該繰返し単位
はフルオロポリオキシアルキレン鎖中で相互に次のよう
に結合している。 −(CR4 R5 CF2 CF2 O)p'−R′f−O−(C
R4 R5 CF2 CF2 O)q' − 上式において、R′f は(例えば炭素数1〜4を有す
る)フルオロアルキレン基であり、p’およびq' は上
記T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量=
300〜1,500に対応する整数である; (g) −(CF(CF3 )CF3 O)j"− 上式において、j" は上記T−ORf −または−CF2
Rf CF2 −の分子量=300〜1,500に対応する
整数であり、該繰返し単位はフルオロポリオキシアルキ
レン鎖中で相互に次のように結合して2価の基を形成し
ている。 −(CF2 CF(CF3 )O)a'−CF2 (R′f )x
CF2−O−(CF(CF3 )CF2 O)b'− 上式において、R′f は(例えば炭素数1〜4を有す
る)フルオロアルキレン基であり、x=0または1であ
り、a' およびb' は上記T−ORf −または−CF2
Rf CF2 −の分子量=300〜1,500に対応し、
かつa' +b' が1以上となる整数である。
【0007】上記の繰返し単位を有する化学構造および
それらの製造方法は、GB1,104,482、USP
3,242,218、USP3,665,041、US
P3,715,378、USP3,665,041、E
P148,482、USP4,523,039、USP
5,144,092に記載されており、また、それらの
官能性誘導体は例えばUSP3,810,874に記載
されている。これらの特許文献は、それらの内容に代え
て、ここにそれらの特許番号を引用する。
それらの製造方法は、GB1,104,482、USP
3,242,218、USP3,665,041、US
P3,715,378、USP3,665,041、E
P148,482、USP4,523,039、USP
5,144,092に記載されており、また、それらの
官能性誘導体は例えばUSP3,810,874に記載
されている。これらの特許文献は、それらの内容に代え
て、ここにそれらの特許番号を引用する。
【0008】Rf が(パー)フルオロアルカンであると
きはその炭素数は8〜12であることが望ましい。ただ
し、Rf は(パー)フルオロポリエーテルであるほうが
好ましい。脱水のために用いるときは、式(I)および
(II)中の式Lの中のLの中のn' は、生成物が水に不
溶になるようにすべきであり、そのためにはn' は0〜
3であることが好ましい。他方、脱溶媒および/または
脱オイルのために用いるときは、n’は1〜40とする
ことができる。
きはその炭素数は8〜12であることが望ましい。ただ
し、Rf は(パー)フルオロポリエーテルであるほうが
好ましい。脱水のために用いるときは、式(I)および
(II)中の式Lの中のLの中のn' は、生成物が水に不
溶になるようにすべきであり、そのためにはn' は0〜
3であることが好ましい。他方、脱溶媒および/または
脱オイルのために用いるときは、n’は1〜40とする
ことができる。
【0009】本発明の組成物は、水、炭化水素混合物を
ベースとする溶剤、シリコーン油、フルオロシリコーン
油、炭化水素ベース油などを溶解することなく除去する
ことができる。シリコーンをベースとするオイルは周知
であって、通常は種々の粘度例えば50〜30,000
cstを有するポリメチルシロキサン類である。フルオ
ロシリコーン油の代表例としてはトリフルオロプロピル
メチルポリシロキサンが挙げられる。炭化水素ベース油
は、石油由来の鉱油をベースとする生成物および合成も
しくは半合成油をベースとする生成物ある。具体例とし
てはミネラルテルペン類、ポリ−α−オレフィン類およ
び例えばダイマー酸エステルのような鉱油が挙げられ
る。有機溶剤としては、炭化水素溶剤または炭化水素と
脂肪族エステルの混合物、例えば市販Axarel 9
100が挙げられる。
ベースとする溶剤、シリコーン油、フルオロシリコーン
油、炭化水素ベース油などを溶解することなく除去する
ことができる。シリコーンをベースとするオイルは周知
であって、通常は種々の粘度例えば50〜30,000
cstを有するポリメチルシロキサン類である。フルオ
ロシリコーン油の代表例としてはトリフルオロプロピル
メチルポリシロキサンが挙げられる。炭化水素ベース油
は、石油由来の鉱油をベースとする生成物および合成も
しくは半合成油をベースとする生成物ある。具体例とし
てはミネラルテルペン類、ポリ−α−オレフィン類およ
び例えばダイマー酸エステルのような鉱油が挙げられ
る。有機溶剤としては、炭化水素溶剤または炭化水素と
脂肪族エステルの混合物、例えば市販Axarel 9
100が挙げられる。
【0010】(i)成分であるハイドロフルオロポリエ
ーテルは、一般に分子量の異なる複数成分の混合物から
形成され、前述の範囲を有する。これらの生成物は化学
的に不活性であって、当業界で広く用いられている多く
のフッ素化および非フッ素化物質に対し良好な相溶性を
示す。加えて、それらは非毒性でオゾン層を破壊せず、
不燃性で温室効果を助長しない。
ーテルは、一般に分子量の異なる複数成分の混合物から
形成され、前述の範囲を有する。これらの生成物は化学
的に不活性であって、当業界で広く用いられている多く
のフッ素化および非フッ素化物質に対し良好な相溶性を
示す。加えて、それらは非毒性でオゾン層を破壊せず、
不燃性で温室効果を助長しない。
【0011】本発明で用いるハイドロフルオロポリエー
テルは、既知の方法によって対応するアシルフルオライ
ドを加水分解し、塩に変換し、得られたアルカリ塩を脱
カルボキシル化することにより調製される。例えば、脱
カルボキシル化反応は水素供与体化合物、例えば水の存
在下に温度140〜170℃、圧力4気圧以上にて行わ
れる。例えばEP695,775の実施例を参照された
い。この特許をその内容に代えてここに引用する。
テルは、既知の方法によって対応するアシルフルオライ
ドを加水分解し、塩に変換し、得られたアルカリ塩を脱
カルボキシル化することにより調製される。例えば、脱
カルボキシル化反応は水素供与体化合物、例えば水の存
在下に温度140〜170℃、圧力4気圧以上にて行わ
れる。例えばEP695,775の実施例を参照された
い。この特許をその内容に代えてここに引用する。
【0012】本発明の組成物の大きな利点は添加成分の
量が0.1重量%以下、好ましくは0.05重量%未満
と少量ですむ点にある。従来技術においては一般的であ
るように、添加剤を高濃度で用いると、痕跡量の添加剤
が基材上に残留したり、また、発泡体を生じたりする
が、本発明によればこのような難点はない。
量が0.1重量%以下、好ましくは0.05重量%未満
と少量ですむ点にある。従来技術においては一般的であ
るように、添加剤を高濃度で用いると、痕跡量の添加剤
が基材上に残留したり、また、発泡体を生じたりする
が、本発明によればこのような難点はない。
【0013】Rf が(パー)フルオロアルカンであると
きも添加剤成分は上記と同様な反応によって得られる。
添加剤成分を調製するには上記の特許に記載される方法
に従うことができる。例えば、USP3,810,87
4に従って−COF末端基を有する一官能または二官能
(パー)フルオロポリエーテルを出発原料として調製す
ることができる。この米国特許をその内容に代えてここ
に引用する。
きも添加剤成分は上記と同様な反応によって得られる。
添加剤成分を調製するには上記の特許に記載される方法
に従うことができる。例えば、USP3,810,87
4に従って−COF末端基を有する一官能または二官能
(パー)フルオロポリエーテルを出発原料として調製す
ることができる。この米国特許をその内容に代えてここ
に引用する。
【0014】例えば、X=CH2 OおよびB=NHC
(CH2 OH)3 である添加剤成分は−COF末端基を
有する上記出発原料から調製される。この−COF末端
基は金属水素化物によってアルコール誘導体−CH2 O
Hとなるが、これは1モルのエチレンオキシドを付加す
るとモノ付加生成物−CH2 O−CH2 CH2 OHとな
る。対応するトシル誘導体はパラトルエンスルホン酸塩
化物との反応によって調製される。次いで、生成したト
シル誘導体は大過剰量のトリス(ヒドロキシメチル)ア
ミノメタンと反応せしめる。Xが他の結合基である添加
剤成分については上記USP3,810,874記載の
方法に従うことができる。
(CH2 OH)3 である添加剤成分は−COF末端基を
有する上記出発原料から調製される。この−COF末端
基は金属水素化物によってアルコール誘導体−CH2 O
Hとなるが、これは1モルのエチレンオキシドを付加す
るとモノ付加生成物−CH2 O−CH2 CH2 OHとな
る。対応するトシル誘導体はパラトルエンスルホン酸塩
化物との反応によって調製される。次いで、生成したト
シル誘導体は大過剰量のトリス(ヒドロキシメチル)ア
ミノメタンと反応せしめる。Xが他の結合基である添加
剤成分については上記USP3,810,874記載の
方法に従うことができる。
【0015】本発明の組成物によれば水および油状物質
を99%より一層高い除去率で除くことができる。基材
上に残る量はハイドロフルオロポリエーテル蒸気ですす
ぐことによって容易に除去できる。
を99%より一層高い除去率で除くことができる。基材
上に残る量はハイドロフルオロポリエーテル蒸気ですす
ぐことによって容易に除去できる。
【0016】本発明の組成物で洗浄処理することができ
る基材は一般に有機および無機のいずれでもよく、その
例としては金属、セラミックないしガラス材料、重合体
物質などが挙げられる。
る基材は一般に有機および無機のいずれでもよく、その
例としては金属、セラミックないしガラス材料、重合体
物質などが挙げられる。
【0017】痕跡量の水、有機溶剤および油状物質を除
去するには、浸漬またはスプレイなどの既知の技術に従
えばよい。浸漬に際しては、超音波浴を利用することに
よって本発明の組成物と洗浄すべき基材表面との接触が
助長され、固体汚染分をより高効率で除去することがで
きる。
去するには、浸漬またはスプレイなどの既知の技術に従
えばよい。浸漬に際しては、超音波浴を利用することに
よって本発明の組成物と洗浄すべき基材表面との接触が
助長され、固体汚染分をより高効率で除去することがで
きる。
【0018】本発明の別の利点は、上記の物質を溶解せ
ずに除去するため、蒸留などを行うことなく、単純な物
理的操作のみでリサイクルできる点にある。従って、本
発明による除去プロセスは非常に単純化される。
ずに除去するため、蒸留などを行うことなく、単純な物
理的操作のみでリサイクルできる点にある。従って、本
発明による除去プロセスは非常に単純化される。
【0019】本発明の理解を一層良好ならしめるため、
以下に実施例について説明するが、本発明の技術的範囲
はこれらによって限定されるものではない。例1 (脱水) 試料(金属平板および電子部品)を水中に浸漬した。次
いで、秤量し、引続き、次式で表わされる構造を有する
ハイドロフルオロポリエーテルを含有する浴中に1〜2
分間浸漬した。 HF2 CO(CF2 O)n (CF2 CF2 O)m CF2
H 上記ハイドロフルオロポリエーテルの蒸留温度範囲は1
00〜120℃であり、数平均分子量Mnは380、O
/C比は0.56であった。このハイドロフルオロポリ
エーテルに次式で表わされる構造を有するフッ素含有添
加剤成分0.1重量%を加えた。 CF3 O(C3 F6 O)3 (CF2 O)0.2 CH2 (O
CH2 CH2 )1.5NC(CH2 OH)3 次いで、試料を乾燥し、秤量して、表面に残留する水の
除去率を測定したところ99.8重量%より高い値であ
った。
以下に実施例について説明するが、本発明の技術的範囲
はこれらによって限定されるものではない。例1 (脱水) 試料(金属平板および電子部品)を水中に浸漬した。次
いで、秤量し、引続き、次式で表わされる構造を有する
ハイドロフルオロポリエーテルを含有する浴中に1〜2
分間浸漬した。 HF2 CO(CF2 O)n (CF2 CF2 O)m CF2
H 上記ハイドロフルオロポリエーテルの蒸留温度範囲は1
00〜120℃であり、数平均分子量Mnは380、O
/C比は0.56であった。このハイドロフルオロポリ
エーテルに次式で表わされる構造を有するフッ素含有添
加剤成分0.1重量%を加えた。 CF3 O(C3 F6 O)3 (CF2 O)0.2 CH2 (O
CH2 CH2 )1.5NC(CH2 OH)3 次いで、試料を乾燥し、秤量して、表面に残留する水の
除去率を測定したところ99.8重量%より高い値であ
った。
【0020】例2(比較例) 例1の試験を繰返した。ただし、ハイドロフルオロポリ
エーテルに含フッ素添加剤成分を加えなかった。水の除
去率は70%未満であった。
エーテルに含フッ素添加剤成分を加えなかった。水の除
去率は70%未満であった。
【0021】例3(脱溶剤) 例1および例2で用いたハイドロフルオロポリエーテル
の有機溶剤除去性能を調べるため上記と同様な試料表面
からの有機溶剤除去率を求めた。すなわち、既知量の有
機溶剤を上記試料表面に均一に撤布し、引続き例1で用
いたものと同じフッ素化添加剤成分を0.1重量%加え
たハイドロフルオロポリエーテルを含有する浴中に浸漬
した。
の有機溶剤除去性能を調べるため上記と同様な試料表面
からの有機溶剤除去率を求めた。すなわち、既知量の有
機溶剤を上記試料表面に均一に撤布し、引続き例1で用
いたものと同じフッ素化添加剤成分を0.1重量%加え
たハイドロフルオロポリエーテルを含有する浴中に浸漬
した。
【0022】有機溶剤としては市販品Axarel 9
100を用いた。この溶剤は脂肪族炭化水素96〜99
重量%と脂肪族エステル4〜1重量%との混合物から調
製された溶剤である。沸点は221〜277℃であり、
引火点は96℃であり、不燃性となった。例1および例
2と同様に試験を行ったところAxarel 9100
の除去率は99.5重量%より高かった。
100を用いた。この溶剤は脂肪族炭化水素96〜99
重量%と脂肪族エステル4〜1重量%との混合物から調
製された溶剤である。沸点は221〜277℃であり、
引火点は96℃であり、不燃性となった。例1および例
2と同様に試験を行ったところAxarel 9100
の除去率は99.5重量%より高かった。
【0023】例4(比較例) 例3の試験を繰返した。ただし、含フッ素添加剤成分を
添加せずに純粋なハイドロフルオロポリエーテルのみを
用いた。試料表面からのAxarel 9100の除去
率は95重量%未満であった。
添加せずに純粋なハイドロフルオロポリエーテルのみを
用いた。試料表面からのAxarel 9100の除去
率は95重量%未満であった。
【0024】例5(脱オイル) 例1〜例4で用いたハイドロフルオロポリエーテルの鉱
油およびターペンタイン除去性能を調べるため上記と同
様な試料表面からの除去率を求めた。上記と同様に既知
量の有機溶剤を上記試料表面に均一と撤布した。引続き
例1で用いたものと同じフッ素化添加剤成分を0.1重
量%加えたハイドロフルオロポリエーテルを含有する浴
中に浸漬した。用いた鉱油は次のとおりである。 (イ)粘度40cStを有する市販ポリ−α−オレフィ
ン(PAO;Itec社製) (ロ)ダイマー酸エステル(PRIOLUBE 396
7、ユニケム・インターナショナル社製) (ハ)脱芳香化ターペンタイン(D40、エクソン社
製) オイル除去率は下記のとおりであった。 使用オイル オイル除去率(重量%) PAO 99.5より大 PRIOLUBE 3967 99より大 D40 99.5より大
油およびターペンタイン除去性能を調べるため上記と同
様な試料表面からの除去率を求めた。上記と同様に既知
量の有機溶剤を上記試料表面に均一と撤布した。引続き
例1で用いたものと同じフッ素化添加剤成分を0.1重
量%加えたハイドロフルオロポリエーテルを含有する浴
中に浸漬した。用いた鉱油は次のとおりである。 (イ)粘度40cStを有する市販ポリ−α−オレフィ
ン(PAO;Itec社製) (ロ)ダイマー酸エステル(PRIOLUBE 396
7、ユニケム・インターナショナル社製) (ハ)脱芳香化ターペンタイン(D40、エクソン社
製) オイル除去率は下記のとおりであった。 使用オイル オイル除去率(重量%) PAO 99.5より大 PRIOLUBE 3967 99より大 D40 99.5より大
【0025】例6(比較例) 例5の試験を繰返した。ただし、含フッ素添加剤成分を
添加せずに純粋なハイドロフルオロポリエーテルのみを
用いた。試料表面からのオイル除去率は下記のとおりで
あった。 使用オイル オイル除去率(重量%) PAO 90未満 PRIOLUBE 3967 85未満 D40 90未満
添加せずに純粋なハイドロフルオロポリエーテルのみを
用いた。試料表面からのオイル除去率は下記のとおりで
あった。 使用オイル オイル除去率(重量%) PAO 90未満 PRIOLUBE 3967 85未満 D40 90未満
Claims (14)
- 【請求項1】 下記(i)および(ii)両成分を含んで
なることを特徴とする、物品表面から微量の水および/
または有機溶剤および/またはオイルを除去するための
組成物。 (i)式 HF2 CO(CF2 O)n (CF2 CF2 O)m CF2
H (式中、nおよびmは0〜20の整数であるが、nとm
が同時に0であることはない)で表わされ、沸点が30
〜200℃、好ましくは60〜150℃であり、O/C
モル比が0.5〜1であるハイドロフルオロポリエーテ
ル。(ii)下記式(I)および(II) で表わされる化学
構造を有する化合物の中から選ばれたフッ素含有添加
剤、 T−ORf (CFY)−L (I) L−CF2 ORf CF2 −L (II) 式(I)および(II)において、 L=X−CH2 CH2 (OCH2 CH2 )n'B 上記式において、X=CH2 O、CH2 NR″、CON
R″、CH2 OCH2 CH2 NR″またはCH2 OCO
CH2 O; n' =0〜50; B=NHC(CH2 OH)3 またはOC(CH2 OH)
3 ; ここで、R″=Hまたは炭素数1〜3のアルキル、Y=
CF3 またはF;Tは−CF3 、−C2 F5 、−C3 F
7 、ClCF2 CF(CF3 )− CF3CFClCF
2 − ClCF2 CF2 − ClCF2 −の中から選ば
れ;Rf は炭素数4〜20、好ましくは8〜12の(パ
ー)フルオロアルカン基、または重合体鎖に沿って統計
的に分布せる下記の中から選ばれた繰返し単位を有する
(パー)フルオロポリエーテル基;(CF2 CF2 O)
(CFYO)[Y=FまたはCF3 ]、(C3 F
6 O)、(CF2 (CF2 )z O)[Z=2または
3]、(CF2 CF(ORf')O)、(CF(ORf')
O)[Rf'=−CF3 、−C2 F5 または−C3 F7 ;
CR4R5 CF2 CF2 O[R4 およびR5 は同一であ
っても相違してもよく、H、Clまたはパーフルオロア
ルキル(例えば炭素数1〜4を有する)である]。 - 【請求項2】 (ii)成分が式(I)で表わされる構造
を有する化合物である請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 (ii)成分中のn' が0〜3である、脱
水のために用いる請求項1または2に記載の組成物。 - 【請求項4】 (ii)成分中のn' が1〜40である、
脱溶媒および/または脱オイルのために用いる請求項1
または2に記載の組成物。 - 【請求項5】 (ii)成分中のRf が(CFYO)[Y
=FまたはCF3 ]および(C3 F6 O)の中から選ば
れた繰返し単位を有する(パー)フルオロポリエーテル
基である請求項1〜4のいずれかに記載の組成物。 - 【請求項6】 (ii)成分中のT−ORf −および−C
F2 Rf CF2 −[式中のRf は(パー)フルオロポリ
エーテル]部分の数平均分子量が500〜1,200で
ある請求項1〜5のいずれかに記載の組成物。 - 【請求項7】 (ii)成分中のRf が下記(a)〜
(g)の中から選ばれた繰返し単位を有する(パー)フ
ルオロポリエーテルである請求項1〜6のいずれかに記
載の組成物。 (a) −(CF2 CF(CF3 )O)a (CFYO)
b − 上式において、Y=FまたはCF3 、aおよびbは上記
T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量=3
00〜1,500に対応し、かつa/b=10〜100
を満足する整数であって、上式で表わされる繰返し単位
は次式のように結合することができる。 −(CF2 CF(CF3 )O)a (CFYO)b −CF
2 (R′f )x CF2 −−O−(CF2 CF(CF3 )
O)a (CFYO)b − (上式中、R′f は、例えば炭素数1〜4のフルオロア
ルキレン基である); (b) −(CF2 CF2 O)c (CF2 O)d(CF
2 (CF2 )z O)h − 上式において、c、dおよびhは上記T−ORf −また
は−CF2 Rf CF2 −の分子量=300〜1,500
に対応し、かつc/d=0.1〜10、b/(c+d)
=0〜0.05を満足する整数であり、zは2または3
であり、hは0であってもよい; (c) −(CF2 CF(CF3 )O)e (CF2 CF
2 O)f(CFYO)g − 上式において、Y=FまはたCF3 ;e、fおよびgは
上記T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量
=300〜1,500に対応し、かつe/(f+g)=
0.1〜10、f/g=2〜10を満足する整数であ
る; (d) −(CF2 O)j (CF2 CF(ORf")O)
k(CF(ORf")O)1 − 上式において、Rf"=−CF3 −C2 F5 または−C3
F7 ;j、kおよびlは上記T−ORf −または−CF
2 Rf CF2 −分子量=300〜1,500に対応し、
かつk+lおよびj+k+lが少くとも2であり、k/
(j+l)=0.01〜1,000、l/j=0.01
〜100を満足する整数である; (e) −(CF2 (CF2 )z O)s − 上式において、sは上記T−ORf −または−CF2 R
f CF2 −の分子量=300〜1,500に対応する整
数であり、zは2または3である; (f) −(CR4 R5 CF2 CF2 O)j'− 上式において、R4 およびR5 は同一であっても相違し
てもよく、H、Clおよび(例えば炭素数1〜4を有す
る)パーフルオロアルキルの中から選ばれ、j’は上記
T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量=3
00〜1,500に対応する整数であり、該繰返し単位
はフルオロポリオキシアルキレン鎖中で相互に次のよう
に結合している。 −(CR4 R5 CF2 CF2 O)p'−R′f−O−(C
R4 R5 CF2 CF2 O)q' − 上式において、R′f は(例えば炭素数1〜4を有す
る)フルオロアルキレン基であり、p’およびq' は上
記T−ORf −または−CF2 Rf CF2 −の分子量=
300〜1,500に対応する整数である; (g) −(CF(CF3 )CF2 O)j"− 上式において、j" は上記T−ORf −または−CF2
Rf CF2 −の分子量=300〜1,500に対応する
整数であり、該繰返し単位はフルオロポリオキシアルキ
レン鎖中で相互に次のように結合して2価の基を形成し
ている。 −(CF2 CF(CF3 )O)a'−CF2 (R′f )x
CF2−O−(CF(CF3 )CF2 O)b'− 上式において、R′f は(例えば炭素数1〜4を有す
る)フルオロアルキレン基であり、x=0または1であ
り、a' およびb' は上記T−ORf −または−CF2
Rf CF2 −の分子量=300〜1,500に対応し、
かつa' +b' が1以上となる整数である。 - 【請求項8】 (ii)成分の量が0.1重量%以下、好
ましくは0.05重量%未満である請求項1〜7のいず
れかに記載の組成物。 - 【請求項9】 除去されるべき物質が水、鉱油、シリコ
ーン油、ターペンタイン、および炭化水素混合物をベー
スとする溶剤の中から選ばれたものである請求項1〜8
のいずれかに記載の組成物。 - 【請求項10】 水および/または油状物質および/ま
たは有機溶剤を有機および/または無機基材から除去す
るための請求項1〜9のいずれかに記載の組成物の使
用。 - 【請求項11】 下記式(I)および(II) で表わされ
る化学構造を有する化合物の中から選ばれたフッ素含有
添加剤、 T−ORf (CFY)−L (I) L−CF2 ORf CF2 −L (II) 式(I)および(II)において、 L=X−CH2 CH2 (OCH2 CH2 )n'B 上記式において、X=CH2 O、CH2 NR″、CON
R″、CH2 OCH2 CH2 NR″またはCH2 OCO
CH2 O; n' =0〜50; B=NHC(CH2 OH)3 またはOC(CH2 OH)
3 ; ここで、R″=Hまたは炭素数1〜3のアルキル、Y=
CF3 またはF;Tは−CF3 、−C2 F5 、−C3 F
7 、ClCF2 CF(CF3 )− CF3CFClCF
2 − ClCF2 CF2 − ClCF2 −の中から選ば
れ;Rf は炭素数4〜20、好ましくは8〜12の(パ
ー)フルオロアルカン基、または重合体鎖に沿って統計
的に分布せる下記の中から選ばれた繰返し単位を有する
(パー)フルオロポリエーテル基;(CF2 CF2 O)
(CFYO)[Y=FまたはCF3 ]、(C3 F
6 O)、(CF2 (CF2 )z O)[Z=2または
3]、(CF2 CF(ORf')O)、(CF(ORf')
O)[Rf'=−CF3 、−C2 F5 または−C3 F7 ;
CR4R5 CF2 CF2 O[R4 およびR5 は同一であ
っても相違してもよく、H、Clまたはパーフルオロア
ルキル(例えば炭素数1〜4を有する)である]。 - 【請求項12】 式(I)で表わされる構造を有する化
合物である請求項1記載のフッ素含有添加剤。 - 【請求項13】 n' が0〜3である、脱水のために用
いる請求項11または12に記載のフッ素含有添加剤。 - 【請求項14】 n' が1〜40である、脱溶媒および
/または脱オイルのために用いる請求項11または12
に記載のフッ素含有添加剤。
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