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KR100284347B1 - 인화점을가지지않는세정및탈지조성물 - Google Patents

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KR100284347B1
KR100284347B1 KR1019980023161A KR19980023161A KR100284347B1 KR 100284347 B1 KR100284347 B1 KR 100284347B1 KR 1019980023161 A KR1019980023161 A KR 1019980023161A KR 19980023161 A KR19980023161 A KR 19980023161A KR 100284347 B1 KR100284347 B1 KR 100284347B1
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Abstract

본 발명은 퍼플루오로-(N-알킬모르폴린), 히드로플루오로알칸, 퍼플루오로알칸, 히드로플루오로알켄, 클로로메탄, 플루오르화 에테르로 구성된 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 유기 화합물 (A), 알칸 또는 시클로알칸의 1 종 이상의 혼합물 (B) 및 케톤, 에테르 및 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 유기 화합물 (C) 로 구성되는, 인화점이 없는 세정 및 탈지용 조성물에 관한 것이다.

Description

인화점을 가지지 않는 세정 및 탈지 조성물{CLEANING AND DEGREASING COMPOSITION WITH NO FLASH POINT}
본 발명은 비수성 매질내에서 고체 표면을 냉 세정 및 탈지하기 위한 조성물에 관한 것으로서, 상기 조성물은 알칸 또는 시클로알칸의 1 종 이상의 혼합물, 1 종 이상의 할로겐화, 특히 플루오로 또는 퍼플루오로 유기 화합물 및 1 종 이상의 산소-함유 관능기를 포함하는 하나이상의 유기 화합물을 함유한다.
상기 조성물을 특히 금속 성분, 시멘트, 세라믹, 유리 및 임시 보호 및/또는 기계 가공 오일 또는 그리스에 의해 오염된 합성 물질과 같은 고체 표면을 탈지하기 위한 용도에 사용할 수 있다.
또한 상기 조성물을 인쇄 회로를 디플럭스(deflux) 시키는 데 사용할 수 있다. 상기 디플럭스 조작은 땜납 흐름을 제거하는 데 있다.
지금까지는, 탄화수소-기재 용매 및 주로 염소화 용매, 예컨대, 특히 T 111 로서 공지된 1,1,1-트리클로로에탄, 클로로플루오로알칸 예컨대 F 113 으로서 공지된 1,1,2-트리클로로-1,2,2-트리플루오로에탄 및 클로로플루오로히드로알칸 (CFHCs) 예컨대 1,1-디클로로-1-플루오로에탄 (141-b) 을 상기 다양한 조작에 사용하였다.
하지만, 상기 클로로, 클로로플루오로 및 클로로플루오로히드로카본 화합물은 어떤 형태의 조사에 대해 보호를 해주는 성층권 오존층을 감소시키는 원인이 되는 것으로 의심되고 있다.
환경에 대한 최근의 국제 토론의 결과인 몬트리올 의정서에 따라, 가까운 장래에 클로로 또는 클로로플루오로 화합물은 성층권 오존상에 거의 또는 전혀 파괴적인 효과가 없는 치환물로써 대체되어야할 것이 요구될 것이다.
비수성 매질내에서 고체 표면을 냉 세정 및 탈지하기 위한 조성물이 이제 발견되었으며, 이는 퍼플루오로(N-알킬모르폴린), n-트리데카플루오로헥산 (C6F13H), 2,3-디히드로데카플루오로펜탄 (C5H2F10, 4310 mee), 3,3,4-트리히드로헵타플루오로부탄 (C4F7H13, 347 mcf), 2,2,4,4,4-펜타히드로펜타플루오로부탄 (C4F5H5, 365 mcf), 퍼플루오로알칸, 히드로플루오로알켄, 클로로메탄, 플루오로 에테르로 구성된 군으로부터 선택된 1 종 이상의 유기 화합물 (A), 알칸 또는 시클로알칸중의 1 종 이상의 혼합물 (B), 및 케톤, 알콜 에테르 및 유도체로 구성된 군으로부터 선택된 1 종 이상의 유기 화합물 (C) 로 구성되며, 상기 조성물은 ASTM 표준 D3828 에 따른 인화점을 가지지 않는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따라 사용할 수 있는 퍼플루오로(N-알킬모르폴린) 의 실례로서,하기 화학식 1 의 화합물을 언급할 수 있다 :
(식중, 같거나 다를 수 있는 Rf 및 R1f 는 탄소수 1 내지 4 인 직쇄 또는 측쇄 퍼플루오로 지방족 라디칼을 나타내고 n 은 0 내지 8 의 수이며 고리내의 기호 F 는 포화 고리가 전부 플루오르화되는 것, 즉 모든 탄소 원자가 불소 원자 (또는 R1f) 에 연결되는 것을 의미한다).
화학식 1 의 화합물중에서, 바람직하게는 퍼플루오로-N-메틸, -N-에틸 및 -N-이소프로필 모르폴린 및 가장 바람직하게는 퍼플루오로(N-메틸모르폴린) 을 사용한다 :
본 발명에 따라 사용할 수 있는 퍼플루오로알칸의 실례로서, n-퍼플루오로헥산 (C6F14) 을 언급할 수 있다.
히드로플루오로알켄의 실례로서, n-퍼플루오로부틸에틸렌 (n-C4F9CH=CH2) 및 n-퍼플루오로헥실에틸렌 (n-C6F13CH=CH2) 을 언급할수 있다.
본 발명에 따라 사용할 수 있는 플루오로 에테르의 실례로서, n-노나플루오로부틸 메틸 에테르 (C4F9OCH3) 를 언급할 수 있다.
본 발명에 따라 사용할 수 있는 클로로메탄의 실례로서, 염화 메틸렌 CH2Cl2을 언급할 수 있다.
본 발명에 따라 사용할 수 있는 알칸 혼합물의 실례로서, 탄소수 8 내지 12 및 바람직하게는 9 내지 11 인 석유 유분(留分)을 언급할 수 있다.
석유 유분중에서, 실질적으로 방향족 화합물을 함유하지 않는 것을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 석유 유분의 실례로서, Total 사에서 상표명 Isane IP 155 및 Isane IP 165 로 시판되는 이소파라핀계 용매, 및 Exxon 화학사에서 상표명 Isopar G 및 Isopar E 로 시판되는 석유 유분을 언급할 수 있다.
시클로알칸의 혼합물이란 표현은 화학식 2 CnH2(n+1-a)(식중 n 은 5 내지 26 인 정수이고 고리의 수를 나타낸다) 의 하나이상의 알킬 잔기로써 임의로 치환된 포화 단일- 또는 다중환 탄화수소의 혼합물이다.
바람직하게는, 화학식 2 (식중, n 은 5 내지 12, 바람직하게는 7 내지 10 이고, a = 1 또는 2, 및 바람직하게는 a = 1 (단일환 화합물) 이다) 의 시클로알칸의 혼합물을 본 발명에 따라 사용할 수 있다.
본 발명에 따라 사용할 수 있는 상기 시클로알칸 혼합물의 실례로서, 방향족 화합물, 예컨대 특히 알킬벤젠 및 디비닐벤젠 및 시클릭 올레핀으로 구성된 석유 유분을 촉매 수소화함으로써 수득된 (알킬)시클로알칸 혼합물을 언급할 수 있다.
상기 수득된 (알킬)시클로알칸 혼합물은 필수적으로 탄소수 1 내지 4 인 하나이상의 알킬 잔기를 가질 수 있는 시클릭 포화 탄화수소로 구성된다.
상기 혼합물의 실례로서, (시스 및 트란스 1,2 의 혼합물 ; 1,3 및 1,4 이성체), 2 이상의 하기 화합물을 함유하는 혼합물을 언급할 수 있다 :
메틸에틸시클로헥산, 메틸프로필시클로헥산, 에틸프로필시클로헥산, 디프로필시클로헥산, 메틸부틸시클로헥산, 에틸부틸시클로헥산.
본 발명에 따라, 나프텐계 유분로서 공지된 석유 유분을 또한 시클로알칸 혼합물로서 사용할 수 있다.
상기 나프텐계 유분은 필수적으로 화학식 2 (식중, a = 1 이고 n 은 일반적으로 5 내지 12 이다) 의 화합물로 구성된다. 상기 화합물의 실례로서, 디에틸시클로펜탄, 모노-, 디- 및 트리에틸시클로헥산, 에틸디메틸시클로헥산 및 시클로옥탄을 언급할 수 있다.
상기 나프텐계 유분의 예로서, Exxon 화학사에서 상표명 Nappar 10 으로 시판되는 나프텐계 용매를 언급할 수 있다.
본 발명에 따라 사용할 수 있는 케톤의 실례로서, 에틸 아밀 케톤, 에틸 부틸 케톤, 디-n-프로필 케톤, 디이소부틸 케톤, 시클로헥사논, 2-메틸시클로헥사논, 3-메틸시클로헥사논 및 4-메틸시클로헥사논을 언급할 수 있다. 본 발명에 따라 사용할 수 있는 알콜 에테르 및 유도체의 실례로서, 메톡시프로판올, 1-에톡시-2-프로판올, 1-프로폭시-2-프로판올, 1-n-부톡시-2-프로판올, 1-t-부톡시-2-프로판올, 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 에틸렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 디(프로필렌 글리콜) 모노메틸 에테르 및 디(프로필렌 글리콜) 부틸 에테르를 언급할 수 있다.
본 발명에 따라, 조성물은 1 내지 40 중량 %, 바람직하게는 1 내지 25 중량 % 의 화합물 (A), 60 내지 98 중량 %, 및 바람직하게는 75 내지 98 중량 % 의 알칸 또는 시클로알칸의 혼합물 (B) 및 1 내지 15 중량 %, 및 바람직하게는 1 내지 10 중량 % 의 화합물 (C) 를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 비수성 매질내에서 금속 성분, 시멘트, 유리 및 임시 보호 및/또는 기계 가공 조작동안에 사용된 오일 또는 그리스에 의해 오염된 합성 물질의 고체 표면을 냉 탈지하기위해 사용될 수 있다.
가장 상세하게는, 조성물을 소위 "제한되지 않은" 용도 예컨대 브러쉬, 천 또는 분무에 의해 세정하는 데 사용할 수 있다.
분무-세정의 경우에, 본 발명에 따른 조성물을 비-가연성 에어로졸로서 일괄 취급할 수 있다. 상기 목적을 위해, 용기를 수축시킨 후 본 발명에 따른 25 내지 35 중량 % 의 조성물 및 75 내지 65 중량 % 의 분사제를 포함하는 혼합물을 알루미늄 용기에 도입할 수 있다.
상기 용도에 사용할 수 있는 분사제로서, 질소, 이산화탄소, 헵타플루오로프로판 (227 ea) 및 약 4 부피 % 의 디메틸 에테르를 함유하는 테트라플루오로에탄 (134 a) 을 언급할 수 있다.
조성물을 안정화시킬 수 있다. 알콜 관능기의 존재는 경금속의 존재하에 폭발의 위험이 있는 공장에서 발생할 수 있는 수소-관여 부 반응을 일으킬 수 있다.
상기 반응의 억제제중에서, 니트로메탄, 니트로에탄, 니트로프로판 및 니트로톨루엔과 같은 니트로 유도체 ; 에테르 또는 디메톡시메탄, 1,3-디옥솔란 및 디메톡시에탄과 같은 아세탈 ; 트리에틸아민, 디프로필아민 및 디메틸아민과 같은 아민 ; 트리이소데실 포스파이트 및 트리이소옥틸 포스파이트와 같은 인 유도체를 사용할 수 있다.
또한 하나이상의 악취 억제제를 포함할 수 있다.
상기 생성물의 예로서, 바닐린 및 그의 유도체, 솔 엣센스 및 리모넨 및 그의 유도체를 언급할 수 있다.
상기 화합물을 매우 소량, 일반적으로 조성물의 100 중량부당 0.01 내지 0.1 중량부로 사용한다.
본 발명에 따른 조성물은 ASTM 표준 D3828 에 따른 인화점을 가지지 않는 장점이 있고 탈지 조작 후에 쉽게 제거할 수 있다.
하기예는 본 발명을 설명한다.
실시예
조성물을 하기 성분으로써 제조한다 :
이하 Iso G 로서 명명되는, 석유 유분 (C9-C11) Isopar G.
이하 Iso E 로서 명명되는, 석유 유분 (C8-C9) Isopar E.
이하 C5F11NO 로서 명명되는, 퍼플루오로(N-메틸모르폴린),
n-트리데카플루오로헥산 (n-C6F13H), n-퍼플루오로헥산 (n-C6F14), n-퍼플루오로부틸에틸렌 (n-C4F9CH=CH2), 염화 메틸렌 (CH2Cl2), n-퍼플루오로헥실에틸렌 (n-C6F13CH=CH2), 이하 EAK 로서 명명되는 에틸 아밀 케톤, 이하 MP 로서 명명되는 메톡시프로판올, 이하 DPM 으로서 명명되는 디(프로필렌 글리콜)모노메틸 에테르, 2,3-디히드로데카플루오로펜탄 (C5H2F10), n-노나플루오로부틸 메틸 에테르 (C4F9OCH3).
하기 표에서, 성분의 퍼센티지는 중량 기준으로 나타낸다.
조성물의 인화점을 ASTM 표준 D56 에 따라 측정한다.
상기 모든 조성물은 세정가능한 표면상에 오염된 그리스를 세정하는 데 효과적이다.
하기 표에서 : N 은 ASTM 표준 D3828 에 따른 인화점이 없음을 의미한다.
본 발명에 따른 조성물을 비수성 매질내에서 금속 성분, 시멘트, 유리 및 임시 보호 및/또는 기계 가공 조작동안에 사용된 오일 또는 그리스에 의해 오염된 합성 물질의 고체 표면을 냉 탈지하기위한 용도에 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 ASTM 표준 D3828 에 따른 인화점을 가지지 않는 장점이 있고 탈지 조작 후에 쉽게 제거할 수 있다.

Claims (19)

  1. N-트리데카플루오로헥산(n-C3F13H), 2,3-디히드로데카플루오로펜탄 (C5H2F10, 4310 mee), 3,3,4-트리히드로헵타플루오로부탄 (C4F7H13, 347 mcf), 2,2,4,4,4-펜타히드로펜타플루오로부탄 (C4F5H5, 365 mcf), 퍼플루오로알칸, 히드로플루오로알켄, 클로로메탄, 플루오로 에테르로 구성된 군으로부터 선택된 1 종 이상의 유기 화합물 (A)의 1 내지 40 중량%, 알칸 또는 시클로알칸의 1 종 이상의 혼합물 (B)의 60 내지 98 중량% 및 케톤, 알콜 에테르 및 유도체로 구성된 군으로부터 선택된 1 종 이상의 유기 화합물 (C)의 1 내지 15 중량% 로 구성되며, 상기 조성물은 ASTM 표준 D3828 에 의한 인화점을 가지지 않는 것을 특징으로 하는, 비수성 매질내에 냉 세정 및 탈지용 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 화합물 (A) 는 2,3-디히드로데카플루오로펜탄 (C5H2F10, 4310 mec) 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 화합물 (A) 는 n-트리데카플루오로헥산 (n-C6F13H) 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 화합물 (A) 는 퍼플루오로알칸인 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 4 항에 있어서, 퍼플루오로알칸은 n-퍼플루오로헥산 (n-C6F14) 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서, 화합물 (A) 는 히드로플루오로알켄인 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 6 항에 있어서, 히드로플루오로알켄은 n-퍼플루오로부틸에틸렌 (n-C4F9-CH=CH2) 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 1 항에 있어서, 화합물 (A) 는 클로로메탄인 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 8 항에 있어서, 클로로메탄이 염화 메틸렌인 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 1 항에 있어서, 화합물 (A) 는 플루오로에테르인 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 10 항에 있어서, 플루오로에테르가 n-노나플루오로부틸 메틸 에테르 (C4F9OCH3) 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 1 항에 있어서, 알칸 혼합물 (B) 는 탄소수 8 내지 12 인 석유 유분인 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항에 있어서, 유기 화합물 (C) 는 케톤인 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 13 항에 있어서, 케톤이 에틸 아밀 케톤인 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항에 있어서, 화합물 (C) 는 알콜 에테르인 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 15 항에 있어서, 알콜 에테르는 메톡시프로판올인 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 15 항에 있어서, 알콜 에테르는 디(프로필렌 글리콜) 모노메틸 에테르인 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 1 항에 있어서, 1 내지 25 중량 % 의 유기 화합물 (A), 75 내지 98 중량 % 의 알칸 또는 시클로알칸의 혼합물 (B) 및 1 내지 10 중량 % 의 유기 화합물 (C) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 12 항에 있어서, 알칸 혼합물 (B)는 탄소수 9 내지 11 인 석유 유분인 것을 특징으로 하는 조성물.
KR1019980023161A 1997-06-20 1998-06-19 인화점을가지지않는세정및탈지조성물 KR100284347B1 (ko)

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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003512480A (ja) * 1999-09-01 2003-04-02 ニラン テクノロジーズ，インコーポレイティド 不燃性の非水性組成物
JP4826014B2 (ja) * 2000-01-11 2011-11-30 旭硝子株式会社 フッ素系希釈溶剤
GB2358189B (en) 2000-01-11 2004-08-11 Asahi Glass Co Ltd Method for coating a substance with a lubricant
CN1254528C (zh) * 2001-02-14 2006-05-03 株式会社金子化学 洗涤用溶剂组合物
TWI315301B (en) * 2002-03-06 2009-10-01 Asahi Glass Co Ltd Solvent composition
US7279451B2 (en) * 2002-10-25 2007-10-09 Honeywell International Inc. Compositions containing fluorine substituted olefins
US7476331B2 (en) * 2005-02-09 2009-01-13 E I Du Pont Nemours And Company Compositions comprising 1,1,1,2,2,3,4,5,5,6,6,7,7,7-tetradecafluoroheptane and uses thereof
US20060266975A1 (en) * 2005-05-27 2006-11-30 Nappa Mario J Compositions comprising 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluoro-1-hexene
MY160614A (en) * 2006-02-28 2017-03-15 Du Pont Azeotropic compositions comprising fluorinated compounds for cleaning applications
WO2008027594A2 (en) 2006-09-01 2008-03-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Phenol stabilizers for fluoroolefins
CN104017544B (zh) 2006-09-01 2017-04-12 纳幕尔杜邦公司 氟烯烃用的环氧化物和氟化环氧化物稳定剂
ES2608856T5 (es) 2006-09-01 2020-06-12 Chemours Co Fc Llc Estabilizadores que contienen fósforo para fluoroolefinas
WO2008027517A1 (en) 2006-09-01 2008-03-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thiol and thioether stabilizers for fluoroolefins
US8101094B2 (en) 2006-09-01 2012-01-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Terpene, terpenoid, and fullerene stabilizers for fluoroolefins
WO2008042066A1 (en) 2006-09-01 2008-04-10 E.I. Du Pont De Nemours And Company Amine stabilizers for fluoroolefins
EP2420546B2 (en) 2006-09-01 2020-04-08 The Chemours Company FC, LLC Terephthalate stabilizers for fluoroolefins
KR101444799B1 (ko) * 2007-12-31 2014-09-29 동원이엠 주식회사 난연성 고리형 탄화수소 세정용제 조성물 및 그 제조방법
US20110215273A1 (en) * 2008-11-13 2011-09-08 Solvay Fluor Gmbh Hydrofluoroolefins, manufacture of hydrofluoroolefins and methods of using hydrofluoroolefins
JP6118450B1 (ja) * 2016-11-10 2017-04-19 株式会社カネコ化学 洗浄用組成物

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994023091A1 (en) * 1993-04-01 1994-10-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Azeotropic compositions containing perfluorinated cycloaminoether
US5403514A (en) * 1991-10-07 1995-04-04 Canon Kabushiki Kaisha Solvent composition and water-repellent/oil-repellent composition using the same

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU635362B2 (en) * 1989-12-07 1993-03-18 Daikin Industries, Ltd. Cleaning composition
US5494601A (en) * 1993-04-01 1996-02-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Azeotropic compositions
US5454969A (en) * 1993-06-18 1995-10-03 Fields; Paul B. Cleaning fluids
JPH07113098A (ja) * 1993-10-18 1995-05-02 A G Technol Kk 擬共沸溶剤組成物
KR100346677B1 (ko) * 1993-10-18 2002-11-07 아사히 가라스 가부시키가이샤 혼합용매조성물
FR2733248B1 (fr) * 1995-04-20 1997-06-13 Atochem Elf Sa Composition de nettoyage a froid a base d'alcanes ou de cycloalcanes et d'un compose organique comprenant une fonction oxygenee
US5750488A (en) * 1996-01-04 1998-05-12 Crc Industries, Inc. Fluorinated cleaning solvents

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5403514A (en) * 1991-10-07 1995-04-04 Canon Kabushiki Kaisha Solvent composition and water-repellent/oil-repellent composition using the same
WO1994023091A1 (en) * 1993-04-01 1994-10-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Azeotropic compositions containing perfluorinated cycloaminoether

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Publication number Publication date
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KR19990007162A (ko) 1999-01-25

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