JPH1026703A

JPH1026703A - 撥水処理されたレンズ

Info

Publication number: JPH1026703A
Application number: JP8198452A
Authority: JP
Inventors: Hiroko Kawamura; 裕子川村; Koichi Ishiwatari; 弘一石渡; Mitsuo Asai; 光雄浅井; Hitoshi Uehara; 仁上原
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd; Nikon Corp
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd; Nikon Corp
Priority date: 1996-07-09
Filing date: 1996-07-09
Publication date: 1998-01-27

Abstract

(57)【要約】【解決手段】（メガネ）レンズ基材を下記〔Ｉ〕、
〔ＩＩ〕又は〔ＩＩＩ〕からなる撥水剤で処理すること
によって、非硬化物質からなり、接触角が８０°以上の
撥水層を形成したことを特徴とするレンズ。〔Ｉ〕水酸基又は加水分解性基のいずれをも有しないオ
ルガノポリシロキサンと酸触媒からなる組成物；〔ＩＩ〕フッ素化された有機基を有する一官能有機シラ
ン化合物；〔ＩＩＩ〕一般式〔Ｒf Ｒ₂Ｓｉ〕₂ＮＨで表わされる
シラザン化合物；（式中、Ｒf はフッ素化された有機基であり、Ｒは一価
の炭化水素基であり、２個のＲは同一でも異なっていて
もよい）【効果】撥水剤として官能基を持たないか又は一官能
のものを使用するので、撥水剤のポットライフが長い。
息を吹きかけても、玉摺作業のときのパッド跡が白く浮
き出て来ない。ホコリが付着せず、外観がきれいで、高
級感がある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、撥水処理されたレ
ンズ例えばメガネレンズに関する。

【０００２】

【従来の技術】メガネレンズ、カメラレンズのごときレ
ンズは、日常生活に密着した物品であり、それだけ、様
々な使われ方がする。例えば、雨がかかる機会も多い。
このとき、レンズがガラス製であったり、反射防止膜
（特に最上層が酸化ケイ素系の無機物質層のもの）が形
成されていたり、そうでなくとも、汚れてきたりする
と、表面が親水性となり、雨滴がなかなか落ちず、光が
まっすぐ通り難いと言う欠点があった。つまり、メガネ
レンズの場合は、景色が良く見えないと言う第１の問題
があった。

【０００３】また、メガネレンズの場合、小売店がフレ
ームの形状に合わせてレンズをカットする玉摺りと言う
作業を行なうが、このとき、砥粒を含んだ言わば泥水を
レンズに注ぎながら作業を行なう。左右のレンズの一枚
について玉摺りを終えると、次に残り一枚について玉摺
りを行なう。このとき、先に玉摺りを終えたレンズの表
面に付いていた水が乾いてしまう。きれいにするため、
当然にアルコール、アセトン等を含んだ布で擦って拭き
取るが、一見きれいになったようでも、息を吹きかける
と水跡が白く浮き出て来ると言う第２の問題があった。
この水跡はガラスの水ヤケに準えて「水ヤケ」と俗称さ
れる。

【０００４】これらの問題を解決するため、撥水剤とし
て、水酸基を有する有機ポリシロキサン系重合物（１）
又はパーフルオロアルキル基含有化合物（２）を使用
し、これらを重合してなる重合物からなる有機物含有硬
化物質層をレンズ基材表面に形成することが提案された
（特公平６−５３２４号）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来技術は、重合物
（１）にせよ化合物（２）にせよ、撥水処理する前の形
態である撥水剤は重合性であり、この重合性の撥水剤を
レンズ表面で硬化させることにより、硬化物質層を形成
するものである。しかし、従来技術は、撥水剤のポット
ライフ（使用可能期間）が短いと言う問題点のあること
が判った。特にパーフルオロアルキル基を有する化合物
（２）は高価なため、レンズメーカーにとってポットラ
イフが短い欠点は、重要な問題であった。何故なら、最
近の傾向として、小売店からの注文を受けてから撥水処
理することが多いため、撥水剤のポットライフは最近特
に問題点になりだした。

【０００６】また、従来技術は、レンズ表面で硬化させ
るため、硬化に伴う収縮歪みが生じ易く、仮に生じると
光学的性能を低下させ、不良品が多くなると言う問題点
を生み出していた。更に、従来技術は、場合によって、
表面が柔らかくなったり、或いは粘着感が残り、そのた
めホコリが付着し易い問題点もあった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明は、以下
のレンズを提供する。１．レンズ基材を下記〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕又は〔ＩＩＩ〕
からなる撥水剤で処理することによって、非硬化物質か
らなり、接触角が８０°以上（好ましくは９０℃以上）
の撥水層を形成したことを特徴とするレンズ（請求項
１）。〔Ｉ〕水酸基又は加水分解性基のいずれをも有しないオ
ルガノポリシロキサンと酸触媒からなる組成物；〔ＩＩ〕フッ素化された有機基を有する一官能有機シラ
ン化合物；〔ＩＩＩ〕一般式〔Ｒf Ｒ₂Ｓｉ〕₂ＮＨで表わされる
シラザン化合物；（式中、Ｒf はフッ素化された有機基であり、Ｒは一価
の炭化水素基であり、２個のＲは同一でも異なっていて
もよい）２．前記〔ＩＩＩ〕の化合物が、一般式（１）：

【０００８】

【化２】

【０００９】（式中、ｎは４以上の整数、ｍは２又は３
である。）で表わされるシラザン化合物であることを特
徴とする請求項１記載のレンズ（請求項２）。３．前記シラザン化合物が、〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕₂ＮＨであることを特徴とする請求項２記載のレンズ（請求項
３）。４．前記レンズ基材と前記撥水層との間に反射防止膜を
有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
のレンズ（請求項４）。５．前記反射防止膜が少なくとも最上層に酸化ケイ素系
の無機物質層を有することを特徴とする請求項４記載の
レンズ（請求項５）。６．前記レンズ基材と前記撥水層又は前記反射防止膜と
の間に、ハードコート層を有することを特徴とする、請
求項１〜５のいずれかに記載のレンズ（請求項６）。７．前記レンズ基材と前記ハードコート層との間に衝撃
吸収層を有することを特徴とする請求項６に記載のレン
ズ（請求項７）。８．前記レンズ基材と前記ハードコート層との屈折率差
がゼロ又は０．０５以下であることを特徴とする請求項
６記載のレンズ（請求項８）。９．前記レンズ基材と前記衝撃吸収層との屈折率差がゼ
ロ又は０．０５以下であることを特徴とする請求項７記
載のレンズ（請求項９）。１０．前記ハードコート層が、下記一般式（３）で示さ
れる少なくとも一種の有機シラン化合物の加水分解部分
縮合物の硬化物からなることを特徴とする請求項６〜９
のいずれかに記載のレンズ（請求項１０）。Ｒ¹ _aＳｉ（ＯＲ²）_4-a ・・・（３）（式中、Ｒ¹はアルキル基、アルケニル基、アリール基
又はハロゲン、アミノ基、メルカプト基、（メタ）アク
リロキシ基、シアノ基、グリシジル基、グリシドキシ
基、メルカプト基又はエポキシ基で置換された炭化水素
基であり、炭素原子によってＳｉに結合しており、Ｒ²
は炭素数が１〜８のアルキル基、アリルアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アルケニル基、アリール基又はア
シル基であり、ａは０又は１である。）１１．前記シラン化合物がグリシジル基、グリシドキシ
基又はエポキシ基を有することを特徴とする請求項１０
記載のレンズ（請求項１１）。１２．前記ハードコート層が１〜２００ｎｍの無機微粒
子を含有することを特徴とする請求項１０又は１１記載
のレンズ（請求項１２）。１３．前記衝撃吸収層又はプライマー層が１〜２００ｎ
ｍの無機微粒子を含有することを特徴とする請求項７又
は９記載のレンズ（請求項１３）。１４．前記レンズ基材の屈折率が１．５６以下と低い場
合には、前記無機微粒子が酸化ケイ素であることを特徴
とする請求項１２又は１３記載のレンズ（請求項１
４）。１５．前記レンズ基材の屈折率が１．５６以上と高い場
合には、前記無機微粒子が、亜鉛、アルミニウム、アン
チモン、イットリウム、イッテルビウム、イリジウム、
インジウム、エルビウム、オスミウム、カドミウム、ガ
ドリニウム、ガリウム、金、銀、クロム、ゲルマニウ
ム、コバルト、サマリウム、ジスプロシウム、ジルコニ
ウム、水銀、スカンジウム、錫、ストロンチウム、セシ
ウム、セリウム、タリウム、タングステン、タンタル、
チタン、ツリウム、テクネチウム、鉄、テルビウム、テ
ルル、銅、トリウム、鉛、ニオブ、ニッケル、ネオジ
ム、白金、バナジウム、ハフニウム、パラジウム、バリ
ウム、ビスマス、モリブデン若しくはランタンから選択
された金属、その金属の合金、その金属の化合物、同酸
化物、同塩化物又は同両性化合物であることを特徴とす
る請求項１０又は１１記載のレンズ（請求項１５）。１６．前記撥水層が上面から見て部分的に形成されてい
ることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の
レンズ（請求項１６）。１７．前記レンズ基材がプラスチックで構成されている
ことを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載のレ
ンズ（請求項１７）。１８．前記レンズ基材が１．６以上の屈折率を有するこ
とを特徴とする請求項１〜１３又は１５〜１７のいずれ
かに記載のレンズ（請求項１８）。１９．前記レンズ基材が１．７以上の屈折率を有するこ
とを特徴とする請求項１８に記載のレンズ（請求項１
９）。２０．前記反射防止膜の反射率が２％以下であることを
特徴とする請求項１〜１９のいずれかに記載のレンズ
（請求項２０）。２１．前記レンズ基材が非球面レンズであることを特徴
とする請求項１〜２０のいずれかに記載のレンズ（請求
項２１）。２２．ツーポイントメガネ用であることを特徴とする請
求項１〜２１のいずれかに記載のレンズ（請求項２
２）。

【００１０】

【発明の実施の形態】

（１）レンズ基材について：用途から見たレンズの種類
は、メガネレンズ、カメラレンズ、望遠鏡、双眼鏡のレ
ンズ、虫メガネ、潜望鏡のレンズなど、どのような用途
でもよい。特に雨がかかる機会の多いレンズが好適であ
る。

【００１１】レンズの形状は、球面、非球面、凸面、凹
面、平面など、どのような形状でもよく、多焦点レンズ
や累進焦点レンズのごとき形状でもよい。しかし、本発
明の効果は特に面精度の高い非球面や外観が重視される
ツーポイントメガネ用に効果的である。レンズの材質は
ガラスでもプラスチックでもよい。メガネレンズでは後
者が好まれる。プラスチックの場合、その素材名として
は、当然に透明なものが望ましいが、セルロイド、セル
ロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロ
ースブチレート、６−ナイロン、６，６−ナイロン、１
２−ナイロンなどの脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミ
ド、ＡＢＳ、ＡＳ樹脂、ポリスチレン、ポリエチレン
（低密度又は高密度）、ポリプロピレンなどのポリオレ
フィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ
アセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレートなどの飽和ポリエ
ステル、芳香族ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリサルホン、ポリエーテ
ルサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、ポ
リメチルペンテン、アイオノマー、液晶ポリマー、ポリ
イミド、ポリアミドイミド、フッ素樹脂、ポリフェニレ
ンサルファイド、（変性）ポリフェニレンオキサイド、
熱可塑性ポリウレタン等の熱可塑性樹脂、或いは、エポ
キシ樹脂、不飽和ポリエステル、熱硬化性ポリウレタ
ン、ポリイミド、ジエチレングリコールビスアリルカ−
ボネート（通称ＣＲ−３９）の重合物、（ハロゲン化）
ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレートの（共）重
合物、（ハロゲン化）ビスフェノールＡのウレタン変性
ジ（メタ）アクリレートの（共）重合物、ジアクリレー
ト化合物やビニルベンジルアルコールと不飽和チオール
化合物等との共重合物などの熱硬化性樹脂が挙げられ
る。熱硬化性樹脂には文字通り熱で硬化させるものばか
りでなく、光で硬化させるアクリル系その他の光硬化型
の熱硬化性樹脂も含まれる。

【００１２】ＣＲ−３９の重合物はメガネレンズの素材
として長く使われているが、屈折率が１．５０と低く、
そのため、凹レンズ（近視矯正用）では、度が強い場合
に縁厚が厚くなるので嫌われる傾向がある。その後、屈
折率の高いプラスチックが開発され、数年前より１．６
０以上、最近では１．７０以上のプラスチック素材も開
発された。

【００１３】レンズ基材の上に望ましくは衝撃吸収層を
介してハードコート層を設けることが好ましい。これら
の層を形成する前にレンズ基材をプラズマ処理又はアル
カリ処理により表面を荒らすことで密着性を上げるよう
にしてもよい。（２）衝撃吸収層について：衝撃吸収層の目的は、レン
ズの耐衝撃性を向上させるためである。メガネレンズ業
界では「プライマー層」と呼ぶことがある。昨年よりＰ
Ｌ法が日本でも施行され、また、米国にはＦＤＡ規格が
あるので、対米輸出も考えたとき、耐衝撃性の高いレン
ズが好ましい。

【００１４】このような衝撃吸収層は、基材の素材名と
して上記したもののうち、比較的柔らかい弾性のあるも
のが選択される。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、ポリビニルアルコール、ポリアセタール、ポリビニ
ルブチラール、熱可塑性ポリウレタン、熱硬化性ポリウ
レタンなどが使用される。熱可塑性、熱硬化性ポリウレ
タンを生成する原料成分は、ポリエーテルポリオール
（例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール）やポリエステルポリオールと、ポリイソシア
ネートである。

【００１５】なお、衝撃吸収層と基材との間に密着性を
改良する目的で塗料業界で言うプライマー層を形成して
もよい。この意味でのプライマー層を形成するには、例
えば（１）下記ハードコート層と同様な樹脂材料や
（２）官能基例えばエポキシ基、アミノ基、ビニル基、
メタクリル基を持つ有機シラン化合物（シランカップリ
ング剤）を用いることができる。

【００１６】衝撃吸収層の特性を改良するため、或いは
屈折率を向上させて所定値にするため、これらの樹脂の
中に１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有させてもよい。
含有量は５〜８０重量％好ましくは１０〜７０重量％が
一応の目安である。レンズ基材と衝撃吸収層との屈折率
差がゼロ又は０．０５以下であることが好ましい。も
し、差が大きい場合に層の厚さ（膜厚）が不均一である
と、干渉縞がで易い欠点がでる。浸漬法で層を形成す
る場合に、重力の影響でどうしても層の厚さ（膜厚）が
不均一になり易い。基材の屈折率が１．５６以下と低い
場合には、前記無機微粒子は安価に手に入る二酸化けい
素が好ましい。基材の屈折率が１．５６以上と高い場合
には、層の屈折率を上げるために、前記無機微粒子は、
亜鉛、アルミニウム、アンチモン、イットリウム、イッ
テルビウム、イリジウム、インジウム、エルビウム、オ
スミウム、カドミウム、ガドリニウム、ガリウム、金、
銀、クロム、ゲルマニウム、コバルト、サマリウム、ジ
スプロシウム、ジルコニウム、水銀、スカンジウム、
錫、ストロンチウム、セシウム、セリウム、タリウ
ム、タングステン、タンタル、チタン、ツリウム、テ
クネチウム、鉄、テルビウム、テルル、銅、トリウム、
鉛、ニオブ、ニッケル、ネオジム、白金、バナジウ
ム、ハフニウム、パラジウム、バリウム、ビスマス、モ
リブデン若しくはランタンから選択された金属、その金
属の合金、その金属の化合物、同酸化物（例えば、酸化
チタン、酸化ケイ素、酸化錫、酸化鉄、酸化ジルコニウ
ム）、同塩化物又は同両性化合物であることが好まし
い。

【００１７】層を構成する樹脂（ベヒクル成分）と無機
微粒子との密着性を上げるため、シランカップリング剤
例えばビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランなどを併用することが好ましい。衝撃吸収層
は、層を構成する樹脂（ベヒクル成分）の溶液又は低分
子量であればそれ自身が液状を呈するので無溶剤の形
で、コート液を準備し、適宜硬化触媒をそれに添加し、
浸漬法、ハケ塗り、スピンコート法、スプレー塗装、流
し塗りなどの方法で塗布し、常温または加熱下（１２０
℃以下が好ましい）で乾燥させる。乾燥後、更に熱処理
（１２０℃以下が好ましい）して樹脂を硬化させても良
い。

【００１８】衝撃吸収層の厚さは、その目的に応じて、
０．０１μ〜５０μｍ好ましくは０．３〜２μｍが適
当である。（３）ハードコート層について：ハードコート層の目的
は、レンズの耐擦傷性を向上させるためであり、基材が
プラスチックの場合や衝撃吸収層を設けた場合に、ハー
ドコート層を設けることが好ましい。

【００１９】ハードコート層の構成材料としては、メラ
ミン樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂が使用され
る。特に、表面硬度の硬いものが好ましいことから、ハ
ードコート層は、下記一般式（３）で示される有機シラ
ン化合物及び／又はその部分加水分解物の硬化物からな
ることが好ましい。Ｒ¹ _aＳｉ（ＯＲ²）_4-a ・・・（３）（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びａの意味は上述の通り。）これらのシラン化合物のうち、３官能（ａ＝１）の例と
しては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキ
シシラン、メチルジメトキシエトキシシラン、メチルト
リアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エ
チルジメトキシエトキシシラン、エチルトリアセトキシ
シラン、エチルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、ビニルジメトキシエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキ
シシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、アミノメチルトリメトキシ
シラン、Ｎ−β（アミノメチル）−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フ
エニルトリメトキシシラン、フエニルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルジメトキシエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリアセトキシシラン、β−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リエトキシシランなどが挙げられる。

【００２０】４官能（ａ＝０）の例としては、メチルシ
リケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケー
ト、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、
ｔ−ブチルシリケート、sec−ブチルシリケートなどが
挙げられる。必要に応じ２官能のシラン化合物を併用す
ることができる。２官能の例としては、ジメチルジメト
キシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メ
チルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフ
ェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフ
ェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシ
シラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルエチ
ルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジ
エトキシシラン、アミノメチルエチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−β（アミノメチル）−γ−アミノプロピルエチ
ルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシランな
どが、挙げられる。

【００２１】これらの化合物は、１種で使用してもよい
が、目的に応じて２種以上を混合して使用してもよい。
一般式（３）の化合物は、そのまま使用してもよいが、
反応速度を増し、硬化温度を下げる目的で加水分解物と
して使用することが好ましい。同一官能数の化合物を２
種以上を併用する場合、或いは異なる官能数の化合物を
２種以上を併用する場合、加水分解後に併用してもよい
し、加水分解前に併用して共加水分解を行なってもよ
い。加水分解によりＨＯＲ²なるアルコールが遊離さ
れ、一般式（３）の化合物は、相当するシラノール（Ｓ
ｉＯＨ）になる。シラノールは、複数分子の間で脱水縮
合してシロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）を生成する。脱
水縮合は速やかに進み、オリゴマーが生成する。脱水縮
合が十分に進むように、加水分解後、１〜２４時間放置
（養生）してもよい。このオリゴマーが、加水分解生成
物に含まれる。

【００２２】ハードコート層の特性を改良するため、或
いは屈折率を向上させて所定値にするため、これらの樹
脂の中に１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有させてもよ
い。含有量は５〜８０重量％好ましくは１０〜７０重量
％が一応の目安である。レンズ基材とハードコート層と
の屈折率差がゼロ又は０．０５以下であることが好まし
い。もし、差が大きい場合に層の厚さ（膜厚）が不均一
であると、干渉縞がで易い欠点がでる。浸漬法で層を形
成する場合に、重力の影響でどうしても層の厚さ（膜
厚）が不均一になり易い。基材の屈折率が１．５６以下
と低い場合には、前記無機微粒子は安価に手に入る二酸
化ケイ素が好ましい。基材の屈折率が１．５６以上と高
い場合には、層の屈折率を上げるために、前記無機微粒
子は、上に例示したもの（例えばチタンの酸化物）が好
ましい。

【００２３】ハードコート層は、層を構成する樹脂（ベ
ヒクル成分）の溶液又は低分子量であればそれ自身が液
状を呈するので無溶剤の形で、コート液を準備し、適宜
硬化触媒をそれに添加し、浸漬法、ハケ塗り、スピンコ
ート法、スプレー塗装、流し塗りなどの方法で塗布し、
常温又は加熱下（１２０℃以下が好ましい）で乾燥させ
る。乾燥後、更に熱処理（１２０℃以下が好ましい）し
て樹脂を硬化させても良い。

【００２４】硬化触媒としては、例えば、以下のものが
使用可能である。（１）アミン類：モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、イソプロパノールアミン、エチレンジアミン、
イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、モルホリ
ン、トリエタノールアミン、ジアミノプロパン、アミノ
エチルエタノールアミン、ジシアンジアミド、トリエチ
レンジアミン、２−エチル−４−メチルイミダゾール（２）一般式：ＭＸ_nＹ_3-nで示される金属キレート化
合物：式中、ＸはＯＬ（Ｌは低級アルキル基）、Ｙは一
般式Ａ¹ ＣＯＣＨ₂ ＣＯＡ²（Ａ¹ 、Ａ²は低級アルキ
ル基）又はＡ¹ ＣＯＣＨ₂ ＣＯＯＡ²に由来する配位子
から選ばれる少くとも１つで、ｎは０又は１又は２であ
る。

【００２５】特に有用なキレート化合物としては、溶解
性、安定性、触媒効果の観点から、次のものである。ア
ルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムビスエ
チルアセトアセテートモノアセチルアセトネート、アル
ミニウム−ジ−ｎ−ブトキシド−モノエチルアセトアセ
テート、アルミニウム−ジ− iso−プロポキシドーモノ
メチルアセトアセテート、クロムアセチルアセトネー
ト、チタニルアセチルアセトネート、コバルトアセチル
アセトネート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、マ
ンガンアセチルアセトネート、ニッケルアセチルアセト
ネート（３）金属アルコキシド：アルミニウムトリエトキシ
ド、アルミニウムトリｎ−プロポキシド、アルミニウム
トリｎ−ブトキシド、テトラエトキチタン、テトラｎ−
ブトキシチタン、テトラｉ−プロポキシチタン。

【００２６】（４）有機金属塩：酢酸ナトリウム、ナフ
テン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オ
クチル酸スズ（５）過塩素酸塩：過塩素酸マグネシウム、過塩素酸ア
ンモニウム（６）有機酸又はその無水物：マロン酸、コハク酸、酒
石酸、アジピン酸、アゼライン酸、マレイン酸、Ｏ−フ
タル酸、テレフタル酸、フマル酸、イタコン酸、オキザ
ロ酢酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水イタコン
酸、1,2 −ジメチルマレイン酸無水物、無水フタル酸、
ヘキサヒドロフタル酸無水物、無水ナフタル酸（７）ルイス酸：塩化第二鉄、塩化アルミニウム（８）ハロゲン化金属：塩化第一スズ、塩化第ニスズ、
臭化スズ、塩化亜鉛、臭化亜鉛、四塩化チタン、臭化チ
タン、臭化タリウム、塩化ゲルマニウム、塩化ハフニウ
ム、塩化鉛、臭化鉛以上の触媒は、単独で使用することなく２種以上混合し
て使用してもよい。特にエポキシシランを使用した場合
には、エポキシ基の開環重合触媒を兼ねるものを使用す
ることが好ましい。

【００２７】溶剤はコート液を液状にするため或いは粘
度を低くするために、必要に応じ添加される。例えば、
水、低級アルコール、アセトン、エーテル、ケトン、エ
ステルなどが使用される。コート液は、一般に、樹脂
（固形分）１００重量部当たり、無機微粒子を１０〜４
００重量部好ましくは５０〜２５０重量部を含み、樹脂
と無機微粒子との合計重量部当たり、硬化触媒を０．０
０００１〜２０重量部含む。

【００２８】以上の成分の外に更に必要に応じて、例え
ば、密着性改良、耐候性向上などを目的として、或いは
コート液の安定性を向上させる目的で各種添加剤を併用
してもよい。添加剤の例としては、pH調節剤、粘度向上
剤、レベリング剤、つや消し剤、染料、顔料、安定剤、
紫外線吸収剤、酸化防止剤などがある。

【００２９】その外、ハードコート層の染色性を向上さ
せる目的でエポキシ樹脂その他の有機ポリマー、例え
ば、ポリオール、繊維素系樹脂、メラミン樹脂を添加し
てもよい。塗布時におけるフローを向上させ、ハードコ
ート層の平滑性を向上させてハードコート層表面の摩擦
係数を低下させる目的で、各種の界面活性剤をコート液
に併用することも可能であり、とくにジメチルシロキサ
ンとアルキレンオキシドとのブロックまたはグラフト共
重合体、さらにはフッ素系界面活性剤などが有効であ
る。

【００３０】ハードコート層の厚さは、その目的に応じ
て、０．０１μ〜５０μｍ好ましくは０．５〜２μｍが
適当である。最近、乾式法でハードコート層を形成する
技術が提案された。これによれば、メチルトリエトキシ
シランやジメトキシジメチルシランのガスと酸素ガスを
真空チャンバー内に導入してＣＶＤ法によりハードコー
ト層を形成する。この方法でも良い。（４）反射防止膜について：レンズの反射率は、通常４
％位であるが、これを抑えるために、特にメガネレンズ
の場合には、他人から見てレンズの存在を感じさせなく
し、装用者の美観を上げる目的で、反射防止膜が設けら
れることが多い。本発明の場合、１％以下にすることが
好ましい。

【００３１】反射防止膜の理論は、単層の場合、基材の
屈折率をｎとするとき、屈折率がｎの平方根と同一又は
近い低さを有し、厚さが光の波長λの４分の１の光学薄
膜を設けると反射が抑制されると言うものである。しか
し、単層の場合には、一波長λに対しては反射防止にな
るが、可視光の広い領域にわたって反射防止するには多
層反射防止理論に頼らなければならない。多層反射防止
理論は難しいのでここでは省略する。多層反射防止理論
に基づく反射防止膜は、基本的には低屈折率の光学薄膜
と高屈折率の光学薄膜との交互層からなる。

【００３２】低屈折率の光学薄膜を与える材料として
は、フッ化マグネシウム、一酸化ケイ素、二酸化ケイ
素、高屈折率の光学薄膜を与える材料としては、酸化ア
ルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化
チタン、酸化タンタル、酸化錫、酸化タングステン、酸
化鉄、酸化セリウムなどが使用される。このような光学
薄膜は、膜厚が波長λの８分の１、４分の１、２分の１
等と薄いので、形成方法は真空薄膜形成技術例えば真空
蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどであ
る。いずれも真空チャンバー内で反応を伴う方法でも良
い。

【００３３】本発明が効果的なのは、表面が親水性とな
る反射防止膜、つまり少なくとも最上層に酸化ケイ素系
の無機物質層である反射防止膜である。（５）撥水層について：本発明では、下記〔Ｉ〕、〔Ｉ
Ｉ〕又は〔ＩＩＩ〕からなる撥水剤を使う。〔Ｉ〕水酸基又は加水分解性基のいずれをも有しないオ
ルガノポリシロキサンと酸触媒からなる組成物；〔ＩＩ〕フッ素化された有機基を有する一官能有機シラ
ン化合物；〔ＩＩＩ〕一般式〔Ｒf Ｒ₂Ｓｉ〕₂ＮＨで表わされる
シラザン化合物；（式中、Ｒf はフッ素化された有機基
であり、Ｒは一価の炭化水素基であり、２個のＲは同一
でも異なっていてもよい）〔Ｉ〕について：水酸基又は加水分解性基のいずれをも
有しないオルガノポリシロキサンは、シリコーンオイル
が好ましい。シリコーンオイルの代表例は、一般式
（２）：

【００３４】

【化３】

【００３５】で示される。式中、Ｒ³、Ｒ⁴はいずれも
Ｓｉ原子に結合した炭化水素基、一般にはアルキル基や
アリール基であり、その炭素数は１〜９程度である。炭
化水素基はフッ素等で置換されていてもよい。２個のＲ
³、２個のＲ⁴はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｒ³、Ｒ⁴がいずれもメチル基で、両末端もメチル
基（アルキル基の一種）であるメチルシリコーンオイル
が入手が容易である。ｎは整数で３〜１００、特に３〜
５０が本発明で好ましく使用される。

【００３６】酸触媒としては、例えば、硫酸、塩酸、硝
酸、酢酸、揮発性のスルホン酸（例えばベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸）、フルオロスルホン酸、ク
ロロスルホン酸、スルファミン酸、クエン酸、安息香
酸、シュウ酸などが挙げられる。酸触媒の添加量は、オ
ルガノポリシロキサン１００重量部当たり０．００１〜
３０重量部、特に０．０１〜１０重量部が適当である。

【００３７】酸触媒をオルガノポリシロキサンに添加す
ることにより、組成物（本発明の撥水剤の一種〔Ｉ〕）
が調製される。組成物の中ではオルガノポリシロキサン
は分解されるものの、再び結合する分子もあり、分解と
再結合の平衡反応となっている。ただ、分解すれば、模
式的に「Ｓｉ−Ｏ・」又は「Ｓｉ−ＯＨ」で表される活
性点が生じる。この活性点は、高エネルギー状態にあ
り、反応し易い。従って、活性点は、レンズ表面（基材
の上に衝撃吸収層やハードコート層、反射防止膜が形成
されている場合には、その表面、特にＳｉＯ又はＳｉＯ
₂表面は好ましい）の反応性基（例えば、シラノール
基）又は活性点と反応して、レンズ表面と結合する。こ
の反応は温度が高いほど活発となるので、６０℃以上に
加熱することが好ましい。ただ、レンズ基材がプラスチ
ックの場合、１２０℃を越えると変形する恐れがあるの
で望ましくない。

【００３８】〔ＩＩ〕について：フッ素化された有機基
を有する一官能有機シラン化合物が〔ＩＩ〕の撥水剤で
ある。この化合物は、一般式：Ｒf ・Ｒ¹¹・Ｒ¹²ＳｉＸ
又はＲf ・Ｒf ・Ｒ¹¹ＳｉＸで表される。式中、Ｒf は
フッ素化された有機基（炭化水素基例えばアルキル基）
であり、炭素数が１〜３０位が適当である。フッ素化
は、有機基にある全部の水素を置換する形でも部分的に
置換する形でもよい。好ましい「フッ素化された有機
基」は、パーフルオロアルキル基（例えば、炭素数１〜
２０）で置換された炭化水素（例えば、炭素数２〜１０
のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、ヘキシル、シクロヘキシル、アルケニル基、例え
ば、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、アリール
基、例えば、フェニル、キシリル、アラルキル基、例え
ば、ベンジル）である。この炭化水素基は塩素、フッ素
等のハロゲンで置換されていてもよい。Ｒ¹¹、Ｒ¹²はＲ
³やＲ⁴と同じであり、置換又は非置換の炭素数１〜１
０の一価炭化水素基（好ましくはアルキル基）である。

【００３９】Ｘは、ＯＨ基又は「周囲の水分と反応して
シラノール基を生成する官能基」であり、例えば、ハロ
ゲン原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、同アルケニ
ロキシ基、同アシロキシ基などが好ましい。具体的なシ
ラン化合物〔ＩＩ〕を例示すると、以下の通りである。ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＨＣ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＨＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＨＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＨＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＨＣ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＨＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＨＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＨＣ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＨＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＨＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＨＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＣｌＣ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＣｌＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＣｌＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂ＳｉＣｌＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＣｌＣ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＣｌＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＣｌＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＣｌＣ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＣｌＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＣｌＣ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＣｌＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣＨ₃ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣＨ₃ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣＨ₃ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣＨ₃ ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣＨ₃ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣＨ₃ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣＨ₃ ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣＨ₃ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣＨ₃ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣＨ₃ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣＨ₃ ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣ₂Ｈ₅ ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ（ＣＨ₃）＝ＣＨ
₂ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ（ＣＨ₃）＝Ｃ
Ｈ₂ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ（ＣＨ₃）＝Ｃ
Ｈ₂ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ（ＣＨ₃）＝Ｃ
Ｈ₂ ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣ（ＣＨ₃）＝Ｃ
Ｈ₂ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣ（ＣＨ₃）＝
ＣＨ₂ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＳｉＯＣ（ＣＨ₃）＝
ＣＨ₂ ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣ（Ｃ
Ｈ₃）＝ＣＨ₂ Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣ（ＣＨ
₃）＝ＣＨ₂ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣ（ＣＨ
₃）＝ＣＨ₂ Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆・ＣＨ₃・Ｃ₂Ｈ₅・ＳｉＯＣ（ＣＨ
₃）＝ＣＨ₂ 〔ＩＩＩ〕について：一般式〔Ｒf Ｒ₂ＳｉＮ〕₂Ｈで
表わされるシラザン化合物が〔ＩＩＩ〕の撥水剤であ
る。特に前記一般式（１）で表わされるジシラザン化合
物が好ましい。

【００４０】具体的なシラザン化合物〔ＩＩＩ〕を例示
すると、以下の通りである。〔Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕₂ＮＨ〔Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕₂ＮＨ〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕₂ＮＨ〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕₂ＮＨ〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）（Ｃ₂Ｈ₅）Ｓｉ〕₂Ｎ
Ｈ〔Ｃ₁₀Ｆ₂₁Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕₂ＮＨこれらの化合物は単独又は混合して使用される。また、
撥水剤〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕又は〔ＩＩＩ〕は混合して使用
してもよい。撥水剤〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕若しくは〔ＩＩ
Ｉ〕又はそれらの混合物によるレンズ基材（基材の上に
衝撃吸収層やハードコート層、反射防止膜が形成されて
いる場合には、それを有する基材のこと）の撥水処理
は、大きく分けて、塗布法による場合と、真空蒸着
法、ＣＶＤ法その他の真空薄膜形成技術による場合と２
通りある。

【００４１】塗布法では、撥水剤が液体である場合はそ
のまま塗布してもよいが、場合によっては、特に〔Ｉ
Ｉ〕、〔ＩＩＩ〕の場合には、溶剤で０．１〜２０重量
％、好ましくは１〜６重量％に希釈した溶液を用いるこ
とが好適である。溶剤は、無水の非水系有機溶剤、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ペンタ
ン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステ
ル系溶剤、シリコーン系溶剤、好ましくはフッ素系溶剤
（例えば、メタキシレンヘキサフロライド、１，１，２
−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタンその他
のフロン系）が使用される。

【００４２】塗布法は浸漬法、ハケ塗り、スピンコート
法、スプレー塗装、流し塗りなどが用いられる。塗布
後、被塗布物（レンズ中間体）を溶剤に浸して余分な撥
水剤を除去することが好ましい。その後、室温又は加熱
下（１２０℃以下が好ましい）で１分〜１日乾燥させ
る。こうして撥水層が形成される。撥水の程度は、本発
明の場合、８０°以上、好ましくは９０°以上の接触角
（静止接触角のこと）を持つと合格と評価される。いず
れにせよ、撥水剤の分子が撥水処理の間に分解して活性
点を持ち、反射防止膜表面の活性点と結合することが好
ましい。

【００４３】〔ＩＩ〕、〔ＩＩＩ〕の撥水剤を使用した
場合、そのフッ素化された有機基がレンズ基材の表面
（基材の上に衝撃吸収層やハードコート層、反射防止膜
が形成されている場合には、その表面）に対してびっし
りと垂直に立って撥水層を形成していることが好まし
い。そのため、親水性の表面は外部に露出しなくなる。
更に反射防止膜の上に撥水層を設ける場合、反射防止理
論を崩すので、撥水層は単分子膜であることが好まし
い。

【００４４】

【実施例】以下の説明において、「部」は重量部を意味
する。（１）レンズ基材の用意：下記に示す市販のレンズ基材
（凹レンズ／直径８０ｍｍ）３種を用意した。・基材Ｓl ：屈折率１．５０（素材はＣＲ−３９の重合
物系）・基材Ｓh ：屈折率１．６７（素材は臭素化ビスフェノ
ールＡのウレタン変性ジメタクリレートの共重合物系）・基材Ｓhh：屈折率１．７０（素材はクォーターフェニ
ル−芳香族ポリエーテルスルホン共重合物系）（２）衝撃吸収層の形成：＜コート液Ｐl （低屈折率用）の調製＞市販の水性エマルジョン形態のポリウレタン「スーパー
フレックス１５０」（第一工業製薬株式会社製、固形分３０重量％、無黄変
型、エーテル・エステル系）１００部、純水２００部、
ＳｉＯ₂ゾル（固形分３０重量％、平均粒子径１３ｎ
ｍ）３０重量部に、メチルトリメトキシシラン１０部を
純水８部で加水分解したものを加え、混合することによ
り調製する。＜コート液Ｐh （高屈折率用）の調製＞市販の水性エマルジョン形態のポリウレタン「スーパー
フレックス１００」（第一工業製薬株式会社製、固形分３０重量％、無黄変
型、エーテル・エステル系）１００部、純水２００部、
ＴｉＯ₂ゾル（固形分３０重量％、平均粒子径３０ｎ
ｍ）４０部に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン８部を純水５部で加水分解したものを加え、混合
することにより調製する。＜コート液Ｐhh（超高屈折率用）の調製＞市販の水性エマルジョン形態のポリウレタン「スーパー
フレックス１００」（第一工業製薬株式会社製、固形分３０重量％、無黄変
型、エーテル・エステル系）１００部、純水２００部、
ＴｉＯ₂ゾル（固形分３０重量％、平均粒子径３０ｎ
ｍ）６０部に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン８部を純水５部で加水分解したものを加え、混合
することにより調製する。＜塗布＞前処理としてプラズマ処理を行ったレンズ基材
にスピンコ−ト法（回転速度１０００ｒｐｍ、５秒）に
て塗布し、その後、８０℃で３０分間加熱処理して塗布
層を硬化させ、レンズ基材上に厚さ１．２μｍの衝撃吸
収層を形成する。層の屈折率は、コート液がＰl の場
合、１．４９で、Ｐh の場合、１．６７で、Ｐhhの場
合、１．７０である。（３）ハードコート層の形成：＜予備組成物Ａの調製＞回転子を備えた反応容器中にγ
−グリシドキシプリピルメチルジエトキシシラン２４８
部を入れ、マグネチックスタ−ラ−を用いて激しく撹拌
しながら、０．０５規定塩酸水溶液３６部を一度に添加
し、１時間撹拌し、加水分解物を得る。

【００４５】得られた加水分解物に、エタノ−ル５６．
６部及びエチレングリコ−ル５３．４部を添加した後、
アルミニウムアセチルアセテ−ト４．７部を加え、十分
に混合溶解させて、予備組成物Ａを調製する。＜予備組成物Ｂの調製＞回転子を備えた反応容器中に、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２１２．
４部を入れ、容器内の温度を１０℃に保ち、マグネチッ
クスタ−ラ−を用いて激しく撹拌しながら、０．０１規
定塩酸水溶液４８．６部を序々に滴下する。滴下終了後
は直ちに冷却を止め、液状の加水分解物を得る。

【００４６】得られた加水分解物にエタノ−ル７７．１
部及びエチレングリコ−ル３７．７部を添加した後、ア
ルミニウムアセチルアセテ−ト７．６５部を加え、十分
に混合させて、予備組成物Ｂを調製する。＜コート液Ｈl （低屈折率用）の調製＞ガラス容器に、
前記予備組成物Ａを２０部、予備組成物Ｂを８０部、Ｓ
ｉＯ₂ゾル（固形分３０重量％、平均粒子径１３ｎｍ）
２００部、シリコ−ン系界面活性剤０．４５部を十分に
撹拌混合し、コート液Ｈl を調製する。＜コート液Ｈh （高屈折率用）の調製＞ガラス容器に、
前記予備組成物Ｂを１００部、ＴｉＯ₂ゾル（固形分３
０重量％、平均粒子径３０ｎｍ）２２０部、シリコ−ン
系界面活性剤０．５５部を十分に撹拌混合し、コート液
Ｈh を調製する。＜コート液Ｈhh（超高屈折率用）の調製＞ガラス容器
に、前記予備組成物Ｂを１００部、ＴｉＯ₂ゾル（固形
分３０重量％、平均粒子径３０ｎｍ）３００部、シリコ
−ン系界面活性剤０．５５部を十分に撹拌混合し、コー
ト液Ｈhhを調製する。＜塗布＞密着性の向上を目的として、被塗布物（レンズ
中間体）を６０℃の１０％ＮａＯＨ水溶液に３分間浸漬
し、その後、水洗し、乾燥する。

【００４７】乾燥した被塗布物を縦に立ててコート液に
浸した後、引き上げ速度９０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き
上げる。引き上げた被塗布物について１００℃で４時間
の加熱処理をしてコート液を硬化させる。これにより
２．２μｍの膜厚を有するハ−ドコ−ト層が形成され
る。層の屈折率は、コート液がＨl の場合、１．５０
で、Ｈh の場合、１．６７で、Ｈhhの場合、１．７０で
ある。（４）反射防止膜の形成：レンズ中間体の両面に真空蒸
着法により多層反射防止膜を形成した。反射防止層の構
造は次の通りである。＜Ａl （低屈折率基材Ｓl 用・５層構造）＞（反射率１．５％）空気側／ＳｉＯ₂ 850Å／ＺｒＯ₂ 600Å／ＳｉＯ₂ 200Å ／ＺｒＯ₂ 300Å／ＳｉＯ₂ 200Å／基材側＜Ａh （高屈折率基材Ｓh 用・５層構造）＞（反射率１．５％）空気側／ＳｉＯ₂ 850Å／ＴｉＯ₂ 1100Å／ＳｉＯ₂ 350Å／／ＴｉＯ₂ 150Å／ＳｉＯ₂ 250Å／基材側＜Ａhh（超高折率基材Ｓhh用・５層構造）＞（反射率１．５％）高屈折率基材Ｓh 用と同じ。（５）撥水層の形成：＜撥水層の形成（塗布法）＞まず、撥水剤として下記の
４種を用意し、下記溶剤で５重量％に希釈する。

【００４８】〔Ｉa 〕：メチルシリコーンオイル（ｎ＝
１０、粘度１０）１００部と酸触媒としての硫酸１．０
部からなる組成物（溶剤：エチルアルコール）〔ＩＩa 〕：Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂ＳｉＣｌ（溶剤：トルエン）〔ＩＩb 〕：Ｃ₄Ｆ₉Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂ＳｉＯＣ
（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂ （溶剤：アセトン）〔ＩＩＩa 〕：〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕
₂ＮＨ（溶剤：メタキシレンヘキサフロライド）〔ＩＩＩb 〕：〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕
₂ＮＨ（溶剤：メタキシレンヘキサフロライド）〔Ｘ１〕：Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＮＨ）_1.5（従来
技術）（溶剤：メタキシレンヘキサフロライド）次に被塗布物（レンズ中間体）を縦に立てて上記撥水剤
に浸し、引き上げ速度１ｍｍ／ｓｅｃの速度で引き上げ
る。引き上げた被塗布物について６０℃で２０分乾燥さ
せる。まだ、ベタベタ感が残っているので、その後、メ
タキシレンヘキサフルオライドで洗浄する。こうして撥
水層が形成され、本発明のレンズ（サンプル）が仕上が
る。比較のため、撥水層を設けない比較レンズ（サンプ
ル）も用意する。＜撥水層の形成（蒸着法）＞まず、撥水剤として下記の
３種を用意した。

【００４９】〔Ｉa₂〕：メチルシリコーンオイル（ｎ＝
１０、粘度１０）１００部と酸触媒としての硫酸１．０
部からなる組成物〔ＩＩa₂〕：Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂ＳｉＣｌ〔ＩＩＩa₂〕：〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕
₂ＮＨ〔ＩＩＩb₂〕：〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕
₂ＮＨ次に、銅線ウールが詰まった金属製の皿に上記撥水剤を
注ぎ入れ、この皿を真空蒸着装置のチャンバー内にセッ
トした。他方、被塗布物（レンズ中間体）をチャンバー
内の基板ホルダーにセットした。チャンバー内を一旦１
×１０^-5Ｐａまで真空に排気した後、皿を３００〜５０
０℃に加熱し、９０秒間蒸着することにより、撥水層を
形成する。これにより本発明のレンズ（サンプル）が仕
上がる。比較のため、撥水層を設けない比較レンズ（サ
ンプル）も用意する。（６）テスト：静止接触角の測定：協和界面科学株式会社製の接触角
計ＣＺ−Ｘ１５０を用いて測定する。

【００５０】水ヤケの有無：サンプルを市販の玉摺機
で所定の玉型に合わせてカットした。２〜３時間放置
後、メタノールを湿した布で表面をきれいに拭いた。そ
の後、息を吹きかけて、水跡が浮き出て見えるか否か判
定する。見えなければ、「なし」で合格○、見えれば、
「あり」で不合格×である。

【００５１】パッド跡の有無：玉摺作業のとき、サン
プルのほぼ半分の直径のゴムパッドでレンズを押さえ、
作業を行なう。サンプルに息を吹きかけ、押さえた跡が
白い丸として浮き出て見えるか否か判定する。見えなけ
れば、「なし」で合格○、見えれば、「あり」で不合格
×である。本発明のレンズは、パッド跡が見えず、商品
価値が高い。

【００５２】ホコリの付着：３０日間、室内に放置
し、表面のホコリを観察し、下記基準で評価する。Ａ：ほとんどホコリが付着していない。Ｂ：少しホコリが付着している。Ｃ：大量にホコリが付着している。以上のテスト結果を表１〜４に示す。

【００５３】

【表１】

【００５４】

【表２】

【００５５】

【表３】

【００５６】

【表４】

【００５７】

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、撥水剤と
しては官能基を持たないか又は一官能のものを使用する
ので、撥水剤のポットライフが長い。本発明では、レン
ズ表面で撥水剤を硬化させることがないため、硬化に伴
う収縮歪みが生じない。従って、本発明のレンズは、特
に面精度が微妙である非球面レンズの場合に好適であ
る。

【００５８】本発明のレンズは、レンズに息を吹きかけ
ても、玉摺作業のときのパッド跡が白く浮き出て来ない
ので、商品価値が高い。そのほか、本発明のレンズは、
ホコリが付着せず、外観がきれいで、高級感がある。従
って、本発明のレンズは、ツーポイントメガネ用レンズ
の場合に好適である。

【００５９】但し、硬化物（従来の技術）ではないの
で、「撥水層を設けないものと比べての傷がつき難い効
果」はない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０２Ｂ 3/00 Ｇ０２Ｂ 3/02 3/02 Ｇ０２Ｃ 7/06 Ｇ０２Ｃ 7/06 Ｃ０９Ｄ 5/00 ＰＰＧ // Ｃ０９Ｄ 5/00 ＰＰＧ 183/04 ＰＭＶ 183/04 ＰＭＶＧ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者浅井光雄群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料技術研究所内 (72)発明者上原仁群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料技術研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レンズ基材を下記〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕又は
〔ＩＩＩ〕からなる撥水剤で処理することによって、非
硬化物質からなり、接触角が８０°以上の撥水層を形成
したことを特徴とするレンズ。〔Ｉ〕水酸基又は加水分解性基のいずれをも有しないオ
ルガノポリシロキサンと酸触媒からなる組成物；〔ＩＩ〕フッ素化された有機基を有する一官能有機シラ
ン化合物；〔ＩＩＩ〕一般式〔Ｒf Ｒ₂Ｓｉ〕₂ＮＨで表わされる
シラザン化合物；（式中、Ｒf はフッ素化された有機基であり、Ｒは一価
の炭化水素基であり、２個のＲは同一でも異なっていて
もよい）
【請求項２】前記〔ＩＩＩ〕の化合物が、一般式
（１）：【化１】（式中、ｎは４以上の整数、ｍは２又は３である。）で
表わされるシラザン化合物であることを特徴とする請求
項１記載のレンズ。
【請求項３】前記シラザン化合物が、〔Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₃Ｈ₆（ＣＨ₃）₂Ｓｉ〕₂ＮＨであることを特徴とする請求項２記載のレンズ。
【請求項４】前記レンズ基材と前記撥水層との間に反
射防止膜を有することを特徴とする請求項１乃至３のい
ずれかに記載のレンズ。
【請求項５】前記反射防止膜が少なくとも最上層に酸
化ケイ素系の無機物質層を有することを特徴とする請求
項４記載のレンズ。
【請求項６】前記レンズ基材と前記撥水層又は前記反
射防止膜との間に、ハードコート層を有することを特徴
とする請求項１乃至５のいずれかに記載のレンズ。
【請求項７】前記レンズ基材と前記ハードコート層と
の間に衝撃吸収層を有することを特徴とする請求項６に
記載のレンズ。
【請求項８】前記レンズ基材と前記ハードコート層と
の屈折率差がゼロ又は０．０５以下であることを特徴と
する請求項６記載のレンズ。
【請求項９】前記レンズ基材と前記衝撃吸収層との屈
折率差がゼロ又は０．０５以下であることを特徴とする
請求項７記載のレンズ。
【請求項１０】前記ハードコート層が、下記一般式
（３）で示される少なくとも一種の有機シラン化合物及
び／又はその部分加水分解物の硬化物からなることを特
徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載のレンズ。Ｒ¹ _aＳｉ（ＯＲ²）_4-a ・・・（３）（式中、Ｒ¹はアルキル基、アルケニル基、アリール基
又はハロゲン、アミノ基、メルカプト基、（メタ）アク
リロキシ基、シアノ基、グリシジル基、グリシドキシ
基、メルカプト基又はエポキシ基で置換された炭化水素
基であり、炭素原子によってＳｉに結合しており、Ｒ²
は炭素数が１〜８のアルキル基、アリルアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アルケニル基、アリール基又はア
シル基であり、ａは０又は１である。）
【請求項１１】前記シラン化合物がグリシジル基、グ
リシドキシ基又はエポキシ基を有することを特徴とする
請求項１０記載のレンズ。
【請求項１２】前記ハードコート層が１〜２００ｎｍ
の無機微粒子を含有することを特徴とする請求項１０又
は１１記載のレンズ。
【請求項１３】前記衝撃吸収層が１〜２００ｎｍの無
機微粒子を含有することを特徴とする請求項７又は９記
載のレンズ。
【請求項１４】前記レンズ基材の屈折率が１．５６以
下と低い場合には、前記無機微粒子が酸化ケイ素である
ことを特徴とする請求項１２又は１３記載のレンズ。
【請求項１５】前記レンズ基材の屈折率が１．５６以
上と高い場合には、前記無機微粒子が、亜鉛、アルミニ
ウム、アンチモン、イットリウム、イッテルビウム、イ
リジウム、インジウム、エルビウム、オスミウム、カド
ミウム、ガドリニウム、ガリウム、金、銀、クロム、ゲ
ルマニウム、コバルト、サマリウム、ジスプロシウム、
ジルコニウム、水銀、スカンジウム、錫、ストロンチウ
ム、セシウム、セリウム、タリウム、タングステン、タ
ンタル、チタン、ツリウム、テクネチウム、鉄、テルビ
ウム、テルル、銅、トリウム、鉛、ニオブ、ニッケル、
ネオジム、白金、バナジウム、ハフニウム、パラジウ
ム、バリウム、ビスマス、モリブデン若しくはランタン
から選択された金属、その金属の合金、その金属の化合
物、同酸化物、同塩化物又は同両性化合物であることを
特徴とする請求項１０又は１１記載のレンズ。
【請求項１６】前記撥水層が上面から見て部分的に形
成されていることを特徴とする請求項１乃至１５のいず
れかに記載のレンズ。
【請求項１７】前記レンズ基材がプラスチックで構成
されていることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれ
かに記載のレンズ。
【請求項１８】前記レンズ基材が１．６以上の屈折率
を有することを特徴とする請求項１乃至１３又は１５乃
至１７のいずれかに記載のレンズ。
【請求項１９】前記レンズ基材が１．７以上の屈折率
を有することを特徴とする請求項１８に記載のレンズ。
【請求項２０】前記反射防止膜の反射率が２％以下で
あることを特徴とする請求項１乃至１９のいずれかに記
載のレンズ。
【請求項２１】前記レンズ基材が非球面レンズである
ことを特徴とする請求項１乃至２０のいずれかに記載の
レンズ。
【請求項２２】ツーポイントメガネ用であることを特
徴とする請求項１乃至２１のいずれかに記載のレンズ。