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JPH10195269A - フッ素樹脂フィルム - Google Patents

フッ素樹脂フィルム

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Publication number
JPH10195269A
JPH10195269A JP329197A JP329197A JPH10195269A JP H10195269 A JPH10195269 A JP H10195269A JP 329197 A JP329197 A JP 329197A JP 329197 A JP329197 A JP 329197A JP H10195269 A JPH10195269 A JP H10195269A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine particles
fluororesin
film
methanol
ultraviolet
Prior art date
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Pending
Application number
JP329197A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Ariga
広志 有賀
Yasusuke Kurooka
庸介 黒岡
Hideaki Miyazawa
英明 宮澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP329197A priority Critical patent/JPH10195269A/ja
Publication of JPH10195269A publication Critical patent/JPH10195269A/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】紫外線遮断材料微粒子がフッ素樹脂に良好に分
散した透明な紫外線カット性のフィルムを得る。 【解決手段】紫外線遮断材料からなる比表面積25〜1
50m2 /gの微粒子を表面被覆剤で表面処理して得ら
れるメタノール疎水化度50〜75%の微粒子が、フッ
素樹脂に分散されてなるフッ素樹脂フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素樹脂に配合
された紫外線遮断材料の分散性が良好であり、透明性を
有し、また耐候性に優れ紫外線カット性に優れたフッ素
樹脂フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】フッ素樹脂、特にラフルオロエチレン系
共重体のフッ素樹脂は、耐候性、透明性、および耐汚染
性が屋外暴露20年以上にわたり維持される材料とし
て、農業用ハウスフィルム、屋根材料として使用されて
いる。しかし、フッ素樹脂自体は耐候性があるものの、
フッ素樹脂を軟質塩化ビニル樹脂、硬質塩化ビニル樹
脂、ポリエチレン、ABS樹脂、ポリカーボネートなど
のプラスチックやステンレス、アルミニウム、亜鉛メッ
キ鋼板などの金属板とラミネートして屋外建材に用いる
場合、接着剤を介してラミネートすることが必要であ
る。
【0003】したがって、接着剤の紫外線による劣化を
防ぐために、最外層のフッ素樹脂フィルム層で紫外線を
遮断する工夫がなされている。例えば、フッ素樹脂フィ
ルム中に顔料を分散させ完全に紫外線を遮断する方法で
ある。
【0004】しかし、この方法は、フッ素樹脂フィルム
の透明性が損なわれ、表面に印刷が施された鋼板にラミ
ネートして使う場合、その印刷が全く見えないという問
題がある。これに対処するために、可視光線の透過率を
85%以上、かつ接着剤の光劣化を生じさせる320n
m以下の紫外線を完全に遮断する紫外線カット性のフィ
ルムが必要である。
【0005】従来、テロラフルオロエチレン系共重体に
紫外線カット機能を付与する方法として、エチレン−テ
トラフルオロエチレン系共重合体(以下、ETFEとい
う)に粒子径が0.01〜0.05μmの酸化チタンを
添加しする方法が提案されている(特開平3−1019
33)。この方法は、酸化チタンを表面処理をしないま
まETFEに分散、混練するため、微粒子酸化チタンが
凝集する他、ETFEとの溶融混練時に発生する微量の
フッ化水素ガスと反応し、黒色化するという問題があっ
た。
【0006】また、ケイ素と結合したメチル基を有する
シランカップリング剤で表面処理した酸化チタンをET
FEに分散、混練して紫外線カット性のフィルムを製造
する方法が開示されている(特開平7−304924)
が、上記のシランカップリング剤で表面処理した場合、
ETFEと分散、混練する320℃程度の温度では着色
はないが、酸化チタンの分散性が良くないため、ヘイズ
(曇度)の大きいフィルムしか得られない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、紫外線遮断
材料の微粒子がテトラフルオロエチレン系共重体に均一
に分散した、透明な、紫外線カット性のフィルムを提供
する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、紫外線遮断材
料からなる比表面積25〜150m2 /gの微粒子を表
面被覆剤で表面処理して得られるメタノール疎水化度5
0〜75%の微粒子が、フッ素樹脂に分散されてなるフ
ッ素樹脂フィルムを提供する。
【0009】本発明に用いる紫外線遮断材料としては、
紫外線遮断性を有する金属酸化物が用いられ、特に酸化
チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムが好適に用いられる。
酸化チタンまたは酸化セリウムをフッ素樹脂に対し2p
hr程度添加した厚み15μmのフィルムは320nm
以下の紫外線を、酸化亜鉛をフッ素樹脂に対し8phr
程度添加した厚み15μmのフィルムは360nm以下
の紫外線を、完全に遮断できる。
【0010】本発明のフッ素樹脂フィルムの透明性が、
可視光線の透過率85%以上を満たすために紫外線遮断
材料からなる微粒子の比表面積が25〜150m2 /g
であることが必要であり、好ましくは40〜100m2
/gである。
【0011】粒子径の小さい粒子は、粒子の凝集を生じ
やすいので、その粒子ひとつひとつを均一に表面処理す
ることは難しいが、均一に表面処理されフィルム中に均
一に分散された場合、そのフィルムのヘイズは低下し、
透明度は向上する。
【0012】また、粒子径の小さい紫外線遮断材料から
なる微粒子は表面活性が強く、微粒子の分散した樹脂の
光劣化が促進される場合がある。そのため、上記酸化チ
タンなどの微粒子表面に、酸化ジルコニウム、酸化アル
ミニウム、シリカ等の金属酸化物を表面コーティングし
たものを紫外線遮断材料として用いうる。
【0013】これらの紫外線遮断材料からなる微粒子を
フッ素樹脂に溶融混練し分散させるとき、前記のような
着色することを防止し、かつ分散性を向上させるため
に、当該微粒子の表面を処理することが必要である。
【0014】本発明における紫外線遮断材料からなる微
粒子が溶融混練時に凝集を防止するために、微粒子表面
を表面被覆剤で処理してメタノール疎水化度を調節する
ことが重要である。
【0015】上記紫外線遮断材料のメタノール疎水化度
は通常5〜30%であり、このようなメタノール疎水化
度の低い微粒子はフッ素樹脂に対して分散性が低く、か
つ着色させるおそれも大きい。そのため、本発明は、こ
の微粒子を表面被覆剤で処理してメタノール疎水化度を
50〜75%とした表面被覆微粒子を用いる。
【0016】上記表面被覆剤としては微粒子表面に強固
に結合でき、かつ疎水化度を上げうるものであれば使用
でき、好ましくは水酸基または加水分解性基がケイ素原
子に直接結合している反応性ケイ素化合物が用いられ
る。さらに好ましくは、このような水酸基や加水分解性
基を有し、しかも疎水性の有機基がケイ素原子に炭素−
ケイ素結合で結合している有機ケイ素化合物が用いられ
る。
【0017】通常のシランカップリング剤では、この有
機基に反応性官能基(たとえば、エポキシ基、アミノ基
など)を有しているが、このような反応性官能基は親水
性が高いものが多く、本発明における表面被覆剤として
あまり好ましくない。むしろ、反応性官能基や親水性基
を有しない炭化水素基や、高い疎水性をもたらすフッ素
化炭化水素基を有機基として有する有機ケイ素化合物が
好ましい。
【0018】有機ケイ素化合物における加水分解性基と
しては、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、イ
ソシアネート基、塩素原子などがあるが、特に炭素数4
以下のアルコキシ基が好ましい。この加水分解性基は、
ケイ素原子に対して1〜4個、特に2〜3個結合してい
ることが好ましい。
【0019】ケイ素原子に炭素−ケイ素結合で結合して
いる有機基としては、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルアルキル基、フルオロアルキル基、フルオ
ロアリール基などが好ましい。特に、炭素数2〜20の
アルキル基、1以下のフッ素原子を有する炭素数2〜2
0のフルオロアルキル基、アルキル基やフルオロアルキ
ル基で置換されてもよいフェニル基などが好ましい。
【0020】有機ケイ素化合物としては、さらに水酸基
や加水分解性基がケイ素原子に直接結合しているオルガ
ノシリコーン化合物であってもよい。このオルガノシリ
コーン化合物における有機基としては、炭素数4以下ア
ルキル基やフェニル基が好ましい。このようなオルガノ
シリコーン化合物としては、シリコーンオイルとよばれ
ているものを用いうる。
【0021】具体的な表面被覆剤としての有機ケイ素化
合物は、たとえば以下の化合物がある。テトラエトキシ
シラン、テトラメトキシシランなどのテトラアルコキシ
シラン類、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルト
リメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピ
ル)トリメトキシシランなどのトリアルコキシシラン
類、ジメチルシリコーンオイル、メチル水素シリコーン
オイル、フェニルメチルシリコーンオイルなどのシリコ
ーンオイル。なかでもテトラアルコキシシラン類が特に
好ましい。
【0022】表面被覆剤の処理量は、粒子の比表面積の
大きさに比例する。処理量が少ない場合には、紫外線遮
断材料の微粒子がETFEとの混練時に黒色または茶色
に変色し、逆に処理量が多い場合、上記表面被覆剤によ
るシリカの凝集体がブツとなって現れ、フィルム外観が
悪くなる。また、処理量によって得られる微粒子のメタ
ノール疎水化度が変化することにより、前記メタノール
疎水化度となるように処理量を調節する必要もある。
【0023】メタノール疎水化度は、微粒子の疎水性を
示す指標である。その測定方法は次のとおりである。す
なわち、300ccのビーカーに蒸留水50ccを入
れ、5gの超微粒子を良く撹拌させながら投入する。微
粒子が均一に分散されれば、この超微粒子は蒸留水とき
わめてなじみが良く、メタノール疎水化度は0%であ
る。微粒子が均一に分散しない場合、水溶液に微粒子が
均一に分散されるまでメタノールを徐々に滴下する。ち
ょうど均一に分散されるようになるまでのメタノール総
添加量M(単位:cc)から、メタノール疎水化度D
(単位:%)は次式によって求められる。 D=100M/(M+50)
【0024】ETFEに溶融混練する紫外線遮断材料の
微粒子のメタノール疎水化度は、分散性の点から50〜
70%であることが重要である。なお、フッ素樹脂によ
り要求する通常のメタノール疎水化度は異なり、ヘキサ
フルオロプロピレン−テトラフルオロエチレン系共重合
体(以下、FEPという)またはパーフルオロ(アルキ
ルビニルエーテル)−テトラフルオロエチレン系共重合
体(以下、PFAという)の場合は60〜75%である
ことが好ましい。メタノール疎水化度は表面被覆剤の種
類や処理量に大きく依存する。
【0025】紫外線遮断材料の微粒子の処理は、例えば
下記のようにして行いうる。表面被覆剤としてシリコー
ンオイル以外の反応性ケイ素化合物を用いる場合、ヘン
シェルミキサまたはスーパーミキサを用いるのが一般的
である。前記の反応性ケイ素化合物を、メタノール/水
=9/1(重量比)の混合物での濃度が約30%程度に
なるように希釈する。無機紫外線遮断材料からなる微粒
子をミキサに投入し、均一に撹拌しながら上記の希釈さ
れたシランカップリング剤を数分間にわたって添加し、
全量添加した後も10分間程度撹拌混合する。混合終了
後、湿っているフィラーを取り出しトレーに移し替えて
120℃で1時間乾燥する。その後ヘンシェルミキサに
投入し、2分間程度よくほぐしてから使用する。
【0026】この方法において、アルコールの種類、ア
ルコールと水の混合割合およびそのpH、反応性ケイ素
化合物の希釈率、撹拌条件、乾燥条件、および乾燥後の
ほぐし具合等は特に限定されない。
【0027】表面被覆剤として、シリコーンオイルを用
いる場合、反応性ケイ素化合物の場合とほぼ同様である
が、希釈溶剤としてn−ヘキサンまたはトルエンを用い
ることが好ましい。
【0028】
【実施例】
[例1]イソブチルトリメトキシシラン34gを水:メ
タノール=1:9(重量比)に溶解した溶液80gを小
型ヘンシェルミキサに投入し、次いで、微粒子状酸化亜
鉛(白水化学製 商品名SUPER−30、比表面積3
0m2 /g、平均粒径0.03μm)500gを投入し
10分間撹拌した。その後、この湿った酸化亜鉛の微粒
子を120℃で1時間乾燥し、再度小型ヘンシェルミキ
サで2分間充分にほぐした。この表面処理された酸化亜
鉛(以下、酸化亜鉛1という)のメタノール疎水化度は
62%であった。
【0029】酸化亜鉛1の400gとETFE(旭硝子
製 アフロンCOP88AX)5kgをVミキサにて乾
式混合した。この混合物を2軸押出機にて320℃でペ
レット化を行った。この際ガスの発生はなく、ペレット
の黒色化もなかった。次いでTダイ方式により、320
℃で15μmのフィルムを成形した。このフィルムは全
光線透過率93%、ヘイズ8.5%であり、360nm
以下の光を完全にカットした。
【0030】[例2]フェニルメチルシリコンオイル2
6gを溶解したn−ヘキサン溶液70gを小型ヘンシェ
ルミキサに投入し、次いで、例1と同じ微粒子状酸化亜
鉛500gを投入し10分間撹拌した。その後、酸化亜
鉛の微粒子を120℃で1時間乾燥し、再度小型ヘンシ
ェルミキサで2分間充分にほぐした。この表面処理され
た酸化亜鉛(以下、酸化亜鉛2という)のメタノール疎
水化度は68%であった。
【0031】酸化亜鉛2の400gを例1と同様にして
ETFEと混合してペレット化を行った。この際ガスの
発生はなく、ペレットの黒色化もなかった。次いでTダ
イ方式により320℃で15μmのフィルムを成形し
た。このフィルムは全光線透過率92.5%、ヘイズ1
1. 5%であり、360nm以下の光を完全にカットし
た。
【0032】[例3(比較例)]β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン47gを
水:メタノール=1:9(重量比)に溶解させた溶液8
0gを小型ヘンシェルミキサに投入し、次いで、例1と
同じ微粒子状酸化亜鉛500gを投入し10分間撹拌し
た。その後、酸化亜鉛の微粒子を120℃で1時間乾燥
し、再度小型ヘンシェルミキサで2分間充分にほぐし
た。この表面処理された酸化亜鉛(以下、酸化亜鉛3と
いう)のメタノール疎水化度は23%であった。
【0033】酸化亜鉛3の400gを例1と同様にして
ETFEと混合してペレット化を行った。この際ガスの
発生はなく、ペレットの黒色化もなかった。次いでTダ
イ方式により320℃で15μmのフィルムを成形し
た。このフィルムは全光線透過率80%、ヘイズ25%
の白いフィルムであり、360nm以下の光を完全にカ
ットしたが、酸化亜鉛の分散不良によりブツが発生して
いた。
【0034】[例4]イソブチルトリメトキシシラン5
6gを水:メタノール=1:9(重量比)に溶解させた
溶液80gを小型ヘンシェルミキサに投入し、次いで微
粒子状酸化チタン(テイカ製 商品名500HD、比表
面積50m2 /g、平均粒径0.02μm)500gを
投入し10分間撹拌した。その後、酸化チタンの微粒子
を120℃で1時間乾燥し、再度小型ヘンシェルミキサ
で2分間充分にほぐした。この表面処理された酸化チタ
ン(以下、酸化チタン1という)のメタノール疎水化度
は70%であった。
【0035】酸化チタン1の100gを例1と同様にE
TFEと混合して320℃でペレット化を行った。この
際ガスの発生はなく、ペレットの黒色化もなかった。次
いでTダイ方式により320℃で15μmのフィルムの
フィルムを成形した。このフィルムは全光線透過率94
%、ヘイズ6. 5%であり、320nm以下の光を完全
にカットした。
【0036】[例5(比較例)]フェニルメチルシリコ
ンオイル43gを溶解したn−ヘキサン溶液100gを
小型ヘンシェルミキサに投入し、次いで、例4と同じ微
粒子状酸化チタン500gを投入し10分間撹拌した。
その後、酸化チタンの微粒子を120℃で1時間乾燥
し、再度小型ヘンシェルミキサで2分間充分にほぐし
た。この表面処理された酸化チタン(以下、酸化チタン
2という)のメタノール疎水化度は80%であった。
【0037】酸化チタン2の100gを例1と同様にE
TFE5kgと混合しペレット化を行った。この際ガス
の発生はなく、ペレットの黒色化もなかった。次いでT
ダイ方式により320℃で15μmのフィルムを成形し
た。このフィルムは全光線透過率70%、ヘイズ40%
の白いフィルムであり、320nm以下の光を完全にカ
ットしたが、酸化チタン2の分散不良によりブツが発生
していた。
【0038】[例6]酸化チタン1の100gをPFA
(旭硝子製 アフロンPFA63)5kgとVミキサを
使用して乾式混合した。この混合物を2軸押出し機に投
入し、360℃でペレット化を行った。この際ガスの発
生はなく、ペレットの黒色化もなかった。
【0039】次いでTダイ方式により360℃で15μ
mのフィルムを成形した。このフィルムは全光線透過率
94%、ヘイズ8. 1%であり、320nm以下の光を
完全にカットした。
【0040】[例7(比較例)]メチル水素シリコンオ
イル11gを溶解したn−ヘキサン溶液30gを小型ヘ
ンシェルミキサに投入し、次いで、例1と同じ微粒子状
酸化亜鉛500gを投入し10分間撹拌した。その後、
酸化亜鉛の微粒子を120℃で1時間乾燥し、再度小型
ヘンシェルミキサで2分間充分にほぐした。この表面処
理された酸化亜鉛(以下、酸化亜鉛4という)のメタノ
ール疎水化度は79%であった。
【0041】酸化亜鉛4の400gを例6と同様にPF
Aと混合し、380℃でペレット化を行った。この際ガ
スの発生が若干見られたが、ペレットの黒色化はなかっ
た。次いでTダイ方式により390℃で15μmのフィ
ルムを成形した。この際にはガスの発生が見られなかっ
た。このフィルムは全光線透過率55.0%、ヘイズ7
7.0%であり、360nm以下の光を完全にカットし
た。
【0042】[例8](3,3,3−トリフルオロプロ
ピル)トリメトキシシラン41gを溶解したメタノール
溶液80gを小型ヘンシェルミキサに投入し、次いで、
例1と同じ微粒子状酸化亜鉛500gを投入し10分間
撹拌した。その後、酸化亜鉛の微粒子を120℃で1時
間乾燥し、再度小型ヘンシェルミキサで2分間充分にほ
ぐした。この表面処理された酸化亜鉛(以下、酸化亜鉛
5という)のメタノール疎水化度は55%であった。
【0043】酸化亜鉛5の400gを例1と同様にET
FE5kgと混合し、320℃でペレット化を行った。
この際ガスの発生は見られなかった。また、ペレットの
黒色化はなかった。次いでTダイ方式により320℃で
15μmのフィルムを成形した。この際にはガスの発生
が見られなかった。このフィルムは全光線透過率93.
0%、ヘイズ8.5%であり、360nm以下の光を完
全にカットした。
【0044】[例9(比較例)](3,3,3−トリフ
ルオロプロピル)トリメトキシシラン68gを溶解した
メタノール溶液150gを小型ヘンシェルミキサに投入
した。次いで、例4と同じ微粒子状酸化チタン500g
を投入し10分間撹拌した。その後、酸化チタンの微粒
子を120℃で1時間乾燥し、再度小型ヘンシェルミキ
サで2分間充分にほぐした。この表面処理された酸化チ
タン(以下、酸化チタン3という)のメタノール疎水化
度は45%であった。
【0045】酸化チタン3の100gを例1と同様にE
TFE5kgとVミキサを使用して乾式混合した。この
混合物を2軸押出し機に投入し、320℃でペレット化
を行った。この際ガスの発生は見られなかった。また、
ペレットの黒色化はなかった。次いでTダイ方式により
320℃で15μmのフィルムを成形した。この際には
ガスの発生が見られなかった。このフィルムは全光線透
過率80.0%、ヘイズ35.0%であり、320nm
以下の光を完全にカットした。
【0046】[例10]酸化亜鉛5の400gをFEP
(ダイキン工業製ネオフロンNP−20)5kgとVミ
キサを使用して乾式混合した。この混合物を2軸押出し
機に投入し、400℃でペレット化を行った。この際ガ
スの発生は見られなかった。また、ペレットの黒色化は
なかった。
【0047】次いでTダイ方式により400℃で15μ
mのフィルムを成形した。この際にはガスの発生が見ら
れなかった。このフィルムは全光線透過率92.2%、
ヘイズ9.5%であり、360nm以下の光を完全にカ
ットした。
【0048】
【発明の効果】紫外線遮断材料微粒子の表面を処理しメ
タノール疎水化度を調整することにより、微粒子の凝集
が防止され、フッ素樹脂に良好に分散し透明性に優れた
紫外線カット性のフッ素樹脂フィルムが得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08L 27/20 C08L 27/20 C09K 3/00 C09K 3/00 Z

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】紫外線遮断材料からなる比表面積25〜1
    50m2 /gの微粒子を表面被覆剤で表面処理して得ら
    れるメタノール疎水化度50〜75%の微粒子が、フッ
    素樹脂に分散されてなるフッ素樹脂フィルム。
  2. 【請求項2】フッ素樹脂が、エチレン−テトラフルオロ
    エチレン系共重合体、ヘキサフルオロプロピレン−テト
    ラフルオロエチレン系共重合体またはパーフルオロ(ア
    ルキルビニルエーテル)−テトラフルオロエチレン系共
    重合体である請求項1のフッ素樹脂フィルム。
  3. 【請求項3】紫外線遮断材料が、酸化チタン、酸化亜鉛
    または酸化セリウムである請求項1または2のフッ素樹
    脂フィルム。
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