JPH10186637A - ロールコート用放射線感応性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】ロールコート法により基板上に塗布した際に塗
布ムラの発生しにくいロールコート用放射線感応性組成
物を提供する。 【解決手段】放射線感応性組成物の溶剤として、沸点が
１７０〜２５０℃で、２５℃での動粘度が２ｃＳｔ以
上、酢酸−ｎ−ブチルエステルの蒸発速度を１００とし
た場合の相対蒸発速度が１０以下であるプロピレングリ
コール系アルキルエーテルを少なくとも１種とそれ以外
の溶剤からなる混合溶剤を用いる。前記プロピレングリ
コール系アルキルエーテルとしては、例えばプロピレン
グリコールフェニルエーテル、トリプロピレングリコー
ルメチルエーテル、ジプロピレングリコール−ｎ−ブチ
ルエーテルなど、またその他の溶剤としては、例えばプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、などがあげられ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ロールコート用放射線
感応性組成物、更に詳細にはロールコート法により塗布
した際に塗布ムラの発生しにくいレジスト被膜を形成す
ることができるロールコート用放射線感応性組成物に関
する。

【０００２】

【従来の技術】半導体集積回路素子、カラーフィルタ、
液晶表示素子等の製造においては、従来より微細加工を
行うためにリソグラフィー技術が用いられており、近年
ではサブミクロン或いは更にサブクオーターミクロンオ
ーダーでの微細加工を可能にする技術の開発が進められ
ている。このようなリソグラフィー技術においては、基
板上に必要に応じ反射防止膜が形成された後、ポジ型或
いはネガ型の放射線感応性組成物が塗布され、プリベー
クされて放射線感応性レジスト膜が形成される。その
後、この放射線感応性レジスト膜は紫外線、遠紫外線、
電子線、Ｘ線等の各種放射線によりパターン露光された
後現像されて、レジストパターンが形成される。放射線
感応性組成物の塗布法としては、従来よりスピンコート
法、ロールコート法、流延塗布法、ドクターコート法、
浸漬塗布法など種々の方法が知られている。例えば半導
体集積回路素子の製造においては、レジスト素材として
はポジ型の放射線感応性組成物が、また塗布法としては
スピンコート法が多く用いられている。一方、液晶表示
素子の製造においてもレジスト素材としてはポジ型の放
射線感応性組成物が多く使用され、塗布法としてはスピ
ンコート法とともにロールコート法が採用されている。
ところで、塗布法としてスピンコート法を用いる場合に
は、基板上に滴下されたレジスト溶液は基板の回転にと
もない遠心力により基板外周方向に流延された後、大部
分のレジスト溶液は過剰のレジスト溶液として基板外周
から飛散除去され、この飛散除去されたレジスト溶液は
廃棄される。このスピンコート法は均一な膜厚を有する
レジスト膜を容易に形成することができる反面、廃棄さ
れるレジストの量が多く、高コストとなる欠点を有して
いる。これに対し、ロールコート法は使用するレジスト
の大部分をレジスト膜として利用することができるた
め、低コスト化が可能となるが、放射線感応性組成物の
塗布時にすじ状やゆず肌状等の塗布ムラが生じるという
欠点を有する。例えば塗布ムラの存在するレジスト膜を
用いて製造した液晶表示素子においては、光の濃淡が発
生し、商品としての価値がなくなる。このため、塗布ム
ラの生じない放射線感応性組成物が望まれている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のごとき従来の欠点を有さないロールコート用放射線感
応性組成物、具体的にはロールコート法により塗布した
際に塗布ムラの発生しにくい放射線感応性組成物を提供
することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究し
た結果、放射線感応性組成物の溶剤として、沸点が１７
０〜２５０℃で、２５℃での動粘度が２ｃＳｔ以上、酢
酸−ｎ−ブチルエステルの蒸発速度を１００とした場合
の相対蒸発速度が１０以下であるプロピレングリコール
系アルキルエーテルの少なくとも１種とそれ以外の溶剤
からなる混合溶剤を用いることにより上記目的を達成す
ることができることを見い出し本発明を完成した。

【０００５】すなわち、本発明は、放射線感応性組成物
の溶剤として、沸点が１７０〜２５０℃で、２５℃での
動粘度が２ｃＳｔ以上、酢酸−ｎ−ブチルエステルの蒸
発速度を１００とした場合の相対蒸発速度が１０以下で
あるプロピレングリコール系アルキルエーテルの少なく
とも１種とそれ以外の溶剤とからなる混合溶剤を用いた
ことを特徴とする塗布性の改善されたロールコート用放
射線感応性組成物である。

【０００６】本発明のロールコート用放射線感応性組成
物で用いられる、沸点が１７０〜２５０℃で、２５℃で
の動粘度が２ｃＳｔ以上、酢酸−ｎ−ブチルエステルの
蒸発速度を１００とした場合の相対蒸発速度が１０以下
であるプロピレングリコール系アルキルエーテルは、こ
れら条件を満たすプロピレングリコール系アルキルエー
テルであればいずれのものでもよく、その中でもプロピ
レングリコールフェニルエーテル（ＰＰｈ）、トリプロ
ピレングリコールメチルエーテル（ＴＰＭ）、ジプロピ
レングリコール−ｎ−ブチルエーテル（ＤＰｎＢ）、プ
ロピレングリコールジアセテート（ＰＧＤＡ）、ジプロ
ピレングリコールメチルエーテル（ＤＰＭ）、プロピレ
ングリコール−ｎ−ブチルエーテル（ＰｎＢ）が好まし
いものとしてあげられる。上記特性を有する溶剤は、単
独でまたは２種以上を組合せて用いることができる。

【０００７】また、上記プロピレングリコール系アルキ
ルエーテルとともに用いられる他の溶剤としては、該プ
ロピレングリコール系アルキルエーテル以外の溶剤で、
従来から放射線感応性組成物の溶剤として用いられてい
たもの或いは放射線感応性組成物の溶剤として用いられ
得るものはいずれでもよく、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート（ＥＧＡ）、
エチレングリコールモノブチルエーテル、エチルラクテ
ート（ＥＬ）、ｎ−ブチルアセテート（ｎＢＡ）が好ま
しいものとしてあげられる。これら他の溶剤は、単独で
または２種以上を同時に用いることができる。ここで、
プロピレングリコール系アルキルエーテルと、この溶剤
とともに用いられる他の溶剤の混合比率については、そ
れぞれ用いる溶剤の種類によって異なるが、塗布性及び
乾燥性の点から、プロピレングリコール系アルキルエー
テルを５〜５０重量％とするのが好ましく、さらに好ま
しくは３０〜４０重量％である。

【０００８】本発明において、放射線感応性組成物の溶
剤として、沸点が１７０〜２５０℃で、２５℃での動粘
度が２ｃＳｔ以上、酢酸−ｎ−ブチルエステルの蒸発速
度を１００とした場合の相対蒸発速度が１０以下である
プロピレングリコール系アルキルエーテルを用い塗布性
が改善される理由としては、以下のようなことが考えら
れる。

【０００９】即ち、通常のリソグラフィー技術におい
て、溶剤を含む放射線感応性組成物が基板上に塗布さ
れ、次いでプリベークされて放射線感応性レジスト膜が
形成される。このプリベーク工程前において放射線感応
性組成物が溶剤を含む場合、自己平滑性（レベリング
性）をもっているが、溶剤の蒸発が塗布直後より始まる
ため、その平滑性は急激に低下するのが常である。ここ
で、溶剤の一部にプロピレングリコール系アルキルエー
テルを用いると、沸点が比較的高く、かつ相対蒸発速度
が小さいため、プリベーク前における蒸発をかなり抑え
ることができ、放射線感応性組成物の自己平滑性が保た
れ、時間の経過とともに基板に塗布された放射線感応性
組成物は平滑化していく。

【００１０】また、放射線感応性組成物を基板等に均一
に塗布しようとする場合、その放射線感応性組成物の動
粘度を一定の幅に設計する必要があるが、プロピレング
リコール系アルキルエーテルのような動粘度の比較的高
い溶剤を用いると、その溶剤特性より放射線感応性組成
物の固形分濃度を低下させることが可能となる。ここ
で、プリベーク後に所望の膜厚を得るためには、低固形
分濃度の放射線感応性組成物の塗布量を多くする必要が
あり、この場合、自己平滑性は塗布量の少ない場合に比
べ、流動性の上昇により良好となる。以上の理由は、単
に本発明者の推測によるものであり、これらの考えによ
り本発明が限定されるものではない。

【００１１】上記プロピレングリコール系アルキルエー
テル及びその他の溶剤において好ましいものとして例示
した化合物の物性を表１に示す。

【００１２】

【表１】

【００１３】一方、本発明の放射線感応性組成物で用い
られる放射線感応性材料は、ポジ型或いはネガ型レジス
ト材料として従来より周知或いは公知のいずれのもので
もよい。本発明で使用することができる放射線感応性材
料の代表的なものを例示すると、ポジ型では、例えば、
アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系化合物からなる
もの、化学増幅型レジストなどが、ネガ型では、例え
ば、ポリケイ皮酸ビニル等の感光性基を有する高分子化
合物を含むもの、芳香族アジド化合物を含有するもの或
いは環化ゴムとビスアジド化合物からなるもの、ジアゾ
樹脂を含むもの、付加重合性不飽和化合物を含む光重合
性組成物、アルカリ可溶樹脂と架橋剤、酸発生剤からな
る化学増幅型ネガレジストなどがあげられる。

【００１４】アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系化
合物を含む放射線感応性材料は、本発明の好ましい放射
線感応性組成物を形成する材料の一つである。これらア
ルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド系化合物の一部を
例示すると、アルカリ可溶性樹脂としては、例えばノボ
ラック樹脂、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコ
ール、アクリル酸或いはメタクリル酸の共重合体などが
あげられる。そしてノボラック樹脂としては、例えば、
フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−ク
レゾール、キシレノール、トリメチルフェノール、ｔ−
ブチルフェノール、エチルフェノール、２−ナフトー
ル、１，３−ジヒドロキシナフタレン等のフェノール類
の１種又は２種以上と、ホルムアルデヒド、パラホルム
アルデヒド等のアルデヒド類との縮重合生成物などがあ
げられる。これら、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性
樹脂は、必要に応じ２種以上を組合せて用いることがで
きる。

【００１５】また、キノンジアジド系化合物の例として
は、１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸、
１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸、１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸、これらの
スルホン酸のエステル或いはアミドなどがある。これら
キノンジアジドのスルホン酸エステル或いはアミド化物
は、該当するキノンジアジドスルホン酸またはキノンジ
アジドスルホニルクロリドと、水酸基を有する化合物ま
たはアミノ基を有する化合物との縮合反応により得られ
る。水酸基を有する化合物としては、ジヒドロキシベン
ゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェ
ノン、フェノール、ナフトール、ｐ−メトキシフェノー
ル、ビスフェノールＡ、ピロカテコール、ピロガロー
ル、ピロガロールメチルエーテル、没食子酸、α，
α’，α”−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，
３，５−トリイソプロピルベンゼン、トリス（ヒドロキ
シフェニル）メタン等が、またアミノ基を有する化合物
としてはアニリン，ｐ−アミノジフェニルアミン等があ
げられる。これらキノンジアジド系感光剤は、単独で或
いは２種以上の混合物として用いることができる。ま
た、キノンジアジドスルホン酸エステルとして、フェノ
ール類とアルデヒド類或いはケトン類との重縮合物とキ
ノンジアジドスルホン酸とのエステルを用いることもで
きる。

【００１６】上記キノンジアジド系化合物とアルカリ可
溶性樹脂との使用割合は、用いられるキノンジアジド系
化合物及びアルカリ可溶性樹脂により異なるが、一般的
には重量比で１：１〜１：２０の範囲が好ましい。しか
し、本発明がこれに限定されるわけではない。

【００１７】また、化学増幅型レジストも本発明におい
て好ましく用いることができる放射線感応性材料であ
る。この化学増幅型レジストは、放射線照射により酸を
発生させ、この酸の触媒作用による化学変化により放射
線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパター
ンを形成するもので、例えば、放射線照射により酸を発
生させる酸発生化合物と、酸の存在下に分解しフェノー
ル性水酸基或いはカルボキシル基のようなアルカリ可溶
性基が生成される酸感応性基含有樹脂を含むものがあ
る。

【００１８】上記放射線照射により酸を発生させる酸発
生化合物としては、ビス（イソプロピルスルホニル）ジ
アゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メ
チルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのような
ビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシ
クロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニ
ルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−
メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのような
スルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジル
ｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスル
ホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートの
ようなアルキル或いはアリールスルホネート類、ベンゾ
イントシレートのようなベンゾインスルホネート類、Ｎ
−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミ
ドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フル
オロ−ベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリ
メチル−２−ピリドンのようなピロリドン類、２，２，
２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３
−ビニルフェニル）−エチル４−クロロベンゼンスルホ
ネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルス
ルホニウムメタンスルホネートのようなオニウム塩類等
があげられ、これらの化合物は、単独で又は２種以上を
混合して用いることができる。

【００１９】また、酸の存在下に分解しフェノール性水
酸基或いはカルボキシル基のようなアルカリ可溶性基を
生成する酸感応性基含有樹脂は、酸の存在下に分解する
酸感応性基とアルカリ可溶性基を有するアルカリ可溶性
樹脂部からなる。前記酸感応性基としては、１−メトキ
シエチル基、１−ベンジルオキシエチル基などの１−置
換エチル基、ｔ−ブチル基などの１−分岐アルキル基、
トリメチルシリル基などのシリル基、トリメチルゲルミ
ル基などのゲルミル基、ｔ−ブトキシカルボニル基など
のアルコキシカルボニル基、アセチル基などのアシル
基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル
基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロチオフ
ラニル基などの環式酸分解基等があげられる。これらの
酸分解性基のうち好ましいものは、ｔ−ブチル基、ベン
ジル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、テトラヒドロピラ
ニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオピ
ラニル基、テトラヒドロチオフラニル基等である。

【００２０】また、フェノール性水酸基或いはカルボキ
シル基のようなアルカリ可溶性基を有するアルカリ可溶
性樹脂としては、例えばヒドロキシスチレン、ヒドロキ
シ−α−メチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、
ビニル安息香酸、カルボキシメチルスチレン、カルボキ
シメトキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、クロ
トン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサ
コン酸、ケイ皮酸などのビニル単量体からの重合体或い
は共重合体、これら単量体少なくとも１種と他の単量体
との共重合体、ノボラック樹脂のような縮重合樹脂があ
げられる。

【００２１】また、化学増幅型レジストとしては、上記
のものの外にも、アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸の
存在下に分解され、アルカリ可溶性樹脂の溶解性制御効
果を低下させる或いはアルカリ可溶性樹脂の溶解性を促
進させる化合物を含有するものも知られており、このよ
うなものも使用し得る。更に本発明の放射線感応性組成
物には、増感剤、界面活性剤等の公知或いは周知の各種
配合剤を添加することもできる。

【００２２】これらプロピレングリコール系アルキルエ
ーテルと、この溶剤とともに用いられる他の溶剤のレジ
ストに対する使用量は、使用するレジストの種類、更に
はどのプロピレングリコール系アルキルエーテルを用い
るかにより変わるものの、通常レジスト固形成分１００
重量部に対し、５０〜３０００重量部、好ましくは７０
〜２０００重量部、更に好ましくは１００〜１０００重
量部である。

【００２３】本発明のロールコート用放射線感応性組成
物は、放射線感応性材料及び必要に応じ各種配合剤を前
記混合溶剤に溶解し、必要に応じフィルターでろ過する
ことにより調製される。このようにして調製された組成
物は、ロールコーターを用いて、例えば液晶表示素子基
板などの基板上に、プリベーク後の膜厚が通常１．０〜
２．５μｍとなるように塗布される。基板に塗布された
組成物は、例えばホットプレート上でプリベークされて
溶剤が除去され、放射線感応性レジスト膜が形成され
る。プリベーク温度は、用いる溶剤或いは感応性材料の
種類により異なり、通常３０〜２００℃、好ましくは５
０〜１５０℃程度の温度で行われる。

【００２４】レジスト膜が形成された後露光が行われる
が、露光は、例えば高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、超高圧水銀ランプ、ＫｒＦエキシマレーザー、軟Ｘ
線照射装置、電子線描画装置など公知の照射装置を用
い、必要に応じマスクを介して行われる。露光後、現像
性、解像度、パターン形状等を改善するため、必要に応
じアフターベーキングが行われた後、現像が行われる。
また、現像後必要があれば反射防止膜等の除去のためガ
スプラズマなどによる乾式エッチングが行なわれ、レジ
ストパターンが形成される。

【００２５】上記レジストの現像は、通常現像液を用
い、露光域と未露光域の溶剤に対する溶解性或いはアル
カリ溶液に対する溶解性の差を利用して行われる。アル
カリ性現像液としてしては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウムなど
の無機アルカリ類、アンモニア、エチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ジエチルエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、ベンジルアミンなどのアミ
ン類、ホルムアミドなどのアミド類、水酸化テトラメチ
ルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、水酸化テトラエチルアン
モニウム、コリンなどの第４級アンモニウム塩類、ピロ
ール、ピペラジンなどの環状アミン類等を溶解した水溶
液或いは水性溶液が用いられる。

【００２６】

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により更に
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。

【００２７】〔実施例１〜６、比較例１〕放射線感応性
材料として、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール（６／
４）とホルムアルデヒドの縮重合物（ノボラック樹脂）
と２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンと１，２
−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライド
の縮合物（キノンジアジド感光剤）を重量比で１００：
２０で用い、これを表２の溶剤により３０ｃＰの粘度と
なるように溶解した後、大日本スクリーン製造（株）製
のロールコーターＲＣ−３５３−Ｐを用いて、Ｃｒ膜付
きガラス基板（３００×３６０×１．１mm）にプリベー
ク後の膜厚が１．５μｍとなるように塗布した。塗布
後、１００℃のダイレクトホットプレートでプリベーク
（プロキシミティ１００sec ，ダイレクト１００sec ）
し、ナトリウムランプ（イエローランプ）の下で目視に
より観察することにより、表２の結果を得た。なお、表
中の塗布性及び乾燥性の評価は次の評価基準によってな
された。

【００２８】塗布性 ◎：塗布厚のバラツキが全くみられず、かつ液晶表示素
子としてイエローランプのもとで観察した場合に光の濃
淡がない ○：塗布厚のバラツキがほとんどみられず、かつ液晶表
示素子としてイエローランプのもとで観察した場合に光
の濃淡がない △：塗布厚のバラツキがみられ、また液晶表示素子とし
てイエローランプのもとで観察した場合に光の濃淡を感
じる ×：塗布厚のバラツキや荒れがあり、また液晶表示素子
としてイエローランプのもとで観察した場合に光の濃淡
をはっきり感じる 乾燥性 ◎：溶剤としてＰＧＭＥＡを用いたときの乾燥時間を基
準として、１．２倍の乾燥時間以内である ○：溶剤としてＰＧＭＥＡを用いたときの乾燥時間を基
準として、１．５倍の乾燥時間以内である △：溶剤としてＰＧＭＥＡを用いたときの乾燥時間を基
準として、２倍の乾燥時間以内である ×：溶剤としてＰＧＭＥＡを用いたときの乾燥時間を基
準として、２倍以上の乾燥時間である なお、以下、表中の％は、重量％を表す。

【００２９】

【表２】

【００３０】表２から、沸点が１７０〜２５０℃で、２
５℃での動粘度が２ｃＳｔ以上、酢酸−ｎ−ブチルエス
テルの蒸発速度を１００とした場合の相対蒸発速度が１
０以下であるプロピレングリコールフェニルエーテル
（ＰＰｈ）、トリプロピレングリコールメチルエーテル
（ＴＰＭ）、ジプロピレングリコール−ｎ−ブチルエー
テル（ＤＰｎＢ）、プロピレングリコールジアセテート
（ＰＧＤＡ）、ジプロピレングリコールメチルエーテル
（ＤＰＭ）、エチレングリコールモノブチルエーテル
（ブチセロ）を、その他の溶剤であるプロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）とともに
用いることにより、塗布性の顕著な改善がなされること
がわかる。

【００３１】〔実施例７〜１０〕溶剤として表３に記載
のものを用いる以外は、実施例１を繰り返した。これに
より、表３の結果を得た。

【００３２】

【表３】

【００３３】表３から、トリプロピレングリコールメチ
ルエーテル（ＴＰＭ）の量を増加することにより塗布性
のより一層の改善が見られることがわかる。

【００３４】〔実施例１１〜１４〕溶剤として表４に記
載のものを用いる以外は、実施例１を繰り返した。これ
により、表４の結果を得た。

【００３５】

【表４】

【００３６】表４から、プロピレングリコールジアセテ
ート（ＰＧＤＡ）についてもＴＰＭ同様その量を増加す
ることにより、塗布性のより一層の改善が見られること
がわかる。

【００３７】〔実施例１５〜１７〕溶剤として表５に記
載のものを用いる以外は、実施例１を繰り返した。これ
により、表５の結果を得た。

【００３８】

【表５】

【００３９】表５から、ジプロピレングリコールメチル
エーテル（ＤＰＭ）についてもＴＰＭ、ＰＧＤＡ同様そ
の量を増加することにより、塗布性のより一層の改善が
見られることがわかる。

【００４０】〔実施例１８〜２１〕溶剤として表６に記
載のものを用いる以外は、実施例１を繰り返した。これ
により、表６の結果を得た。

【００４１】

【表６】

【００４２】表６から、他の溶剤として２種の溶剤を用
いる場合にも、塗布性の改善がなされることがわかる。

【００４３】〔実施例２２〜２５、比較例２〕溶剤とし
て表７に記載のものを用いる以外は、実施例１を繰り返
した。これにより、表７の結果を得た。

【００４４】

【表７】

【００４５】表７から、他の溶剤としてエチレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート（ＥＧＡ）を用いた
場合にも、プロピレングリコールメチルエーテルアセテ
ート（ＰＧＭＥＡ）を用いたときと同様、塗布性の改善
が顕著に見られることがわかる。

【００４６】なお、上記結果より一般的に塗布性の向上
に伴い乾燥性は悪くなる傾向にあるが、それにより産業
上の利用可能性がなくなるわけではない。例えば、これ
らの放射線感応性組成物を液晶表示素子の製造の際に用
いる場合、やや乾燥性が低下したとしても塗布性が改善
されるため光の濃淡の差が減少し、非常に品質の高いも
のが得られる。従って、実際の製造においては、塗布性
と乾燥性のバランスを考えて溶剤組成の選択をすれば良
いのである。

【００４７】

【発明の効果】上記したように、本発明は、放射線感応
性組成物の混合溶剤の一成分として、沸点が１７０〜２
５０℃で、２５℃での動粘度が２ｃＳｔ以上、酢酸−ｎ
−ブチルエステルの蒸発速度を１００とした場合の相対
蒸発速度が１０以下であるプロピレングリコール系アル
キルエーテルの少なくとも１種を用いることにより、ロ
ールコーターを用いて基板上に放射線感応性組成物を塗
布した際に塗布ムラの発生のない被膜を形成することが
できるという顕著な効果を奏するものである。

【００４８】また、本発明の放射線感応性組成物を用い
る場合には塗布ムラの発生がないため、ロールコーター
を用いる液晶表示素子の製造において、光の濃淡のない
高品質の製品を得ることができるという顕著な効果も奏
する。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】放射線感応性組成物の溶媒として、沸点が
   １７０〜２５０℃で、２５℃での動粘度が２ｃＳｔ以
   上、酢酸−ｎ−ブチルエステルの蒸発速度を１００とし
   た場合の相対蒸発速度が１０以下であるプロピレングリ
   コール系アルキルエーテルの少なくとも１種とその他の
   溶剤からなる混合溶剤を用いることを特徴とする、塗布
   性の改善されたロールコート用放射線感応性組成物。
2. 【請求項２】プロピレングリコール系アルキルエーテル
   が、プロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテル、プロ
   ピレングリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリ
   コールメチルエーテル、ジプロピレングリコール−ｎ−
   ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエー
   テル、プロピレングリコールジアセテートから選ばれた
   少なくとも一種である請求項１記載のロールコート用放
   射線感応性組成物。
3. 【請求項３】その他の溶剤が、プロピレングリコールモ
   ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
   ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
   テルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテ
   ル、エチルラクテート、ｎ−ブチルアセテートから選ば
   れた少なくとも一種である請求項１又は２記載のロール
   コート用放射線感応性組成物。