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JPH0331224A - 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 - Google Patents

弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物

Info

Publication number
JPH0331224A
JPH0331224A JP1163828A JP16382889A JPH0331224A JP H0331224 A JPH0331224 A JP H0331224A JP 1163828 A JP1163828 A JP 1163828A JP 16382889 A JP16382889 A JP 16382889A JP H0331224 A JPH0331224 A JP H0331224A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
azeotropic
solvent
dichloro
fluoroethane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1163828A
Other languages
English (en)
Inventor
Akio Asano
浅野 昭雄
Toru Kamimura
徹 上村
Naohiro Watanabe
渡辺 直洋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP1163828A priority Critical patent/JPH0331224A/ja
Publication of JPH0331224A publication Critical patent/JPH0331224A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組成物に関するものである。
[従来の技術] 弗素化炭化水素系化合物(以下単にフロンという)は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多(、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して1、1.2− トリクロロ−1,2,2−)リフル
オロエタン(R113)が、発泡剤としてトリクロロモ
ノフルオロメタン(R11)が、プロペラントや冷媒と
してジクロロジフルオロメタン(R12)が使われてい
る。
[発明が解決しようとする課題] 化学的に特に安定なR11、R12、R113は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに代わり、オゾン層
を破壊しに(い代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
[課題を解決するための手段1 本発明は、1.2−ジクロロ−1−フルオロエタン(R
141,沸点75.7℃)、及びトリクロロエチレン(
沸点87.2℃)とからなる弗素化炭化水素系共沸及び
擬共沸組成物に関するものである。
本発明の組成物は共沸組成が存在し、特に洗浄溶剤とし
て従来のR113単体より洗浄力が高いため、R113
代替として極めて有用なものである。
更に、リサイクルしても組成の変動が少ないこと、又、
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある。
本発明の組成物の混合比はR141が90〜99.9重
量%、及びトリクロロエチレンが0.1−10重量%の
擬共沸組成であり、好ましくはR141が99.4重量
%、及びトリクロロエチレンが0.6重量%である共沸
組成である。
本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン。
インペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキサン
、ヘプタン、イソへブタン、2,3−ジメチルブタン、
シクロペンクン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、l−プロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアル
コール、S−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール
等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、1.4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、ジクロロメタン。
trans−1+ 2−ジクロロエチレン、 cis−
1,2−ジクロロエチレン、2−ブロモプロパン等のへ
ロゲン化炭化水素類、その他、1.1−ジクロロ−2,
2,2−トリフルオロエタン(R123)等の本発明以
外のフロン類等を適宜添加することができる。
本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のR113より
高い溶解力を有するため好適である。
溶剤の具体的な用途としては、フラックス。
グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤。
塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス。
プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤
等を挙げることができる。
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
[実施例] 以下に本発明の実施例を示す。
実施例1 下記の組成からなる溶剤混合物1000 gを蒸留フラ
スコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった。
(組成)         (重量%)R14199,
0 トリクロロエチレン       1.0その結果、留
出温度76.4℃にて200gの留分な得た。このもの
をガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であっ
た。
(組成)          (重量%)R14199
,4 トリ、クロロエチレン      0.6実施例2 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス(タムラAL−4.
タムラ製作所製)を塗布し、200℃の電気炉で2分間
焼成後、本発明の組成物に5分間浸漬した。比較例とし
てR113についても同様の試験を行なった。
本発明の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合い
を第1表に示す。
第1表 実施例3 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった。
5O3−304のテストピース(25mmX 30mm
X 2n+m厚)を機械油(CQ−30,日本石油■製
)中に浸漬した後、本発明の組成物中に5分間浸漬した
。比較例としてR113についても同様の試験を行なっ
た。
本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
2表に示す。
第2表 0:良好に除去できる  Q:はぼ良好△:微量残存 
     ×:かなり残存′o:良好に除去できる Δ:微量残存 O:はぼ良好 ×:かなり残存 [発明の効果] 本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンが有している優れた特性を満足しながら、代
替フロンとして使用できるとともに、従来のフロンと同
様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要し
ない等の利点がある。又、溶剤としてよく使われている
R113よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れる
ためR113に代わる洗浄溶剤として最適である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1,2−ジクロロ−1−フルオロエタンとトリク
    ロロエチレンからなる弗素化炭化水素系共沸組成物。
  2. (2)1,2−ジクロロ−1−フルオロエタン99.4
    重量%,及びトリクロロエチレン0.6重量%からなる
    請求項1に記載の組成物。
  3. (3)1,2−ジクロロ−1−フルオロエタンとトリク
    ロロエチレンからなる弗素化炭化水素系擬共沸組成物。
  4. (4)1,2−ジクロロ−1−フルオロエタン90〜9
    9.9重量%,及びトリクロロエチレン0.1〜10重
    量%からなる請求項3に記載の組成物。
JP1163828A 1989-06-28 1989-06-28 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 Pending JPH0331224A (ja)

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JP1163828A JPH0331224A (ja) 1989-06-28 1989-06-28 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物

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JP1163828A JPH0331224A (ja) 1989-06-28 1989-06-28 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物

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JPH0331224A true JPH0331224A (ja) 1991-02-12

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JP (1) JPH0331224A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5514221A (en) * 1993-04-15 1996-05-07 Elf Atochem North America, Inc. Cold cleaning process
US5552080A (en) * 1993-04-15 1996-09-03 Elf Atochem North America, Inc. Cold cleaning solvents
US6596399B2 (en) * 2000-12-04 2003-07-22 Guardian Industries Corp. UV absorbing/reflecting silver oxide layer, and method of making same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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