JPH0330254B2 - - Google Patents
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- JPH0330254B2 JPH0330254B2 JP56129324A JP12932481A JPH0330254B2 JP H0330254 B2 JPH0330254 B2 JP H0330254B2 JP 56129324 A JP56129324 A JP 56129324A JP 12932481 A JP12932481 A JP 12932481A JP H0330254 B2 JPH0330254 B2 JP H0330254B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phosphor
- phosphor slurry
- slurry
- panel
- coated
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- Expired - Lifetime
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- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 95
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 57
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/221—Applying luminescent coatings in continuous layers
- H01J9/223—Applying luminescent coatings in continuous layers by uniformly dispersing of liquid
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカラー受像管螢光面の形成方法に係
り、特に電子ビームの射突により発光する複数種
の螢光体を含む螢光体スラリーをパネル内面に
次々に塗布する場合、このパネル内面に塗布する
塗布螢光体スラリー中の複数種の螢光体の比率を
補強螢光体スラリーにより常にほぼ均一にするこ
とが可能なカラー受像管螢光面の形成方法に関す
るものである。
り、特に電子ビームの射突により発光する複数種
の螢光体を含む螢光体スラリーをパネル内面に
次々に塗布する場合、このパネル内面に塗布する
塗布螢光体スラリー中の複数種の螢光体の比率を
補強螢光体スラリーにより常にほぼ均一にするこ
とが可能なカラー受像管螢光面の形成方法に関す
るものである。
カラー受像管螢光面の形成は螢光体、感光性物
質を含む螢光体スラリーをパネル内面に回転塗布
方法などにより均一に塗布したのち、乾燥して螢
光体スラリー被膜を形成し、色選別電極を介し
て、この螢光体スラリー被膜の所定部を露光によ
り光硬化させ、未露光部分を除去する現像工程を
行ない、パネル内面に規則的に螢光体層を形成す
ることにより行われる。
質を含む螢光体スラリーをパネル内面に回転塗布
方法などにより均一に塗布したのち、乾燥して螢
光体スラリー被膜を形成し、色選別電極を介し
て、この螢光体スラリー被膜の所定部を露光によ
り光硬化させ、未露光部分を除去する現像工程を
行ない、パネル内面に規則的に螢光体層を形成す
ることにより行われる。
このようなカラー受像管螢光面の形成工程では
例えば第１図に示すように塗布螢光体スラリー槽
１からの塗布螢光体スラリー２を矢印３の経路を
通して傾斜して回転されるパネル４の内面に塗布
したのち、回収機構５内でパネル４を高速回転さ
せ余剰螢光体スラリーを回収機構５から矢印６の
経路を通して塗布螢光体スラリー槽１の回収する
と共に、補給螢光体スラリー槽７にあらかじめ準
備した補給螢光体スラリー８を矢印９の経路を通
して塗布螢光体スラリー槽１に補給し、撹拌後、
次のパネルに塗布するようになされている。
例えば第１図に示すように塗布螢光体スラリー槽
１からの塗布螢光体スラリー２を矢印３の経路を
通して傾斜して回転されるパネル４の内面に塗布
したのち、回収機構５内でパネル４を高速回転さ
せ余剰螢光体スラリーを回収機構５から矢印６の
経路を通して塗布螢光体スラリー槽１の回収する
と共に、補給螢光体スラリー槽７にあらかじめ準
備した補給螢光体スラリー８を矢印９の経路を通
して塗布螢光体スラリー槽１に補給し、撹拌後、
次のパネルに塗布するようになされている。
このような系からなる螢光体スラリーの塗布工
程においては、一般に回収機構５から矢印６の経
路を通して塗布螢光体スラリー槽１に回収される
回収螢光体スラリーは塗布螢光体スラリーに比較
し比重が低く、また粘度が高めの螢光体スラリー
が回収されるため補強螢光体スラリー８は塗布螢
光体スラリー２に比較し、比重が高く、かつ粘度
が低めの螢光体スラリーに調整される。またパネ
ル４に対する塗布時間が長くなればなる程、パネ
ル４に沈降する螢光体が増加するため、補強螢光
体スラリーの比重は益々高くしなければならない
という問題がある。
程においては、一般に回収機構５から矢印６の経
路を通して塗布螢光体スラリー槽１に回収される
回収螢光体スラリーは塗布螢光体スラリーに比較
し比重が低く、また粘度が高めの螢光体スラリー
が回収されるため補強螢光体スラリー８は塗布螢
光体スラリー２に比較し、比重が高く、かつ粘度
が低めの螢光体スラリーに調整される。またパネ
ル４に対する塗布時間が長くなればなる程、パネ
ル４に沈降する螢光体が増加するため、補強螢光
体スラリーの比重は益々高くしなければならない
という問題がある。
例えば螢光体Ａ（比重4.1）と螢光体Ｂ（比重
4.95）とを50：50に混合した螢光体スラリーをパ
ネル内面に塗布する場合を考えてみると、第２図
の曲線１１により示されているように、パネルに
塗布された螢光体スラリー被膜中の螢光体Ｂの比
率は螢光体スラリーの塗布時間と共に変化する。
これは螢光体スラリーの塗布では螢光体の沈降性
が顕著であるため、粒径が略同じで、比重の異な
る螢光体を混合してなる螢光体スラリーを塗布す
ると、比重の大きい螢光体Ｂが早く沈降するため
である。
4.95）とを50：50に混合した螢光体スラリーをパ
ネル内面に塗布する場合を考えてみると、第２図
の曲線１１により示されているように、パネルに
塗布された螢光体スラリー被膜中の螢光体Ｂの比
率は螢光体スラリーの塗布時間と共に変化する。
これは螢光体スラリーの塗布では螢光体の沈降性
が顕著であるため、粒径が略同じで、比重の異な
る螢光体を混合してなる螢光体スラリーを塗布す
ると、比重の大きい螢光体Ｂが早く沈降するため
である。
例えば、螢光体の密度＝ｄ、螢光体の半径＝
ｒ、螢光体スラリー液の密度＝d0、螢光体スラリ
ーの粘性係数＝η、螢光体の沈降速度＝ｖ、螢光
体の加速度をａ、重加加速度をｇとすると、螢光
体スラリー中の螢光体の運動法則は ４／３πr3da＝４／３πr3dg−４／３πr3dog−6πr
ηv 螢光体スラリーをパネルに塗布した後ではａ＝０
となるから ｖ＝2r2／9η（ｄ−d0）ｇ 従つて螢光体の密度ｄが大きい程沈降速度ｖは大
きくなるため螢光体比率が変化する。
ｒ、螢光体スラリー液の密度＝d0、螢光体スラリ
ーの粘性係数＝η、螢光体の沈降速度＝ｖ、螢光
体の加速度をａ、重加加速度をｇとすると、螢光
体スラリー中の螢光体の運動法則は ４／３πr3da＝４／３πr3dg−４／３πr3dog−6πr
ηv 螢光体スラリーをパネルに塗布した後ではａ＝０
となるから ｖ＝2r2／9η（ｄ−d0）ｇ 従つて螢光体の密度ｄが大きい程沈降速度ｖは大
きくなるため螢光体比率が変化する。
塗布装置のインデツクス時間を考慮すると、塗
布時間を15秒以下に設定した場合、パネルに均一
に塗布することは出来ないので、例えば塗布時間
35秒で実施すると、パネルに塗布されるＢ螢光体
の比率は50％から57％に変化する。
布時間を15秒以下に設定した場合、パネルに均一
に塗布することは出来ないので、例えば塗布時間
35秒で実施すると、パネルに塗布されるＢ螢光体
の比率は50％から57％に変化する。
また第１図に示す系において塗布螢光体スラリ
ー及び補給螢光体スラリーを共に螢光体混合比
Ａ：Ｂ＝50：50で実施すると第３図の曲線１２に
示すようになり、パネルをｎ＝1000個塗布する
と、塗布螢光体スラリー中の混合比はＡ：Ｂ＝
62：38に変化する。
ー及び補給螢光体スラリーを共に螢光体混合比
Ａ：Ｂ＝50：50で実施すると第３図の曲線１２に
示すようになり、パネルをｎ＝1000個塗布する
と、塗布螢光体スラリー中の混合比はＡ：Ｂ＝
62：38に変化する。
本発明は前述した問題に鑑みなされたものであ
り、特に電子ビームの射突により発光する複数種
の略同一粒径の螢光体を含む螢光体スラリーをパ
ネル内面に塗布後、乾燥、露光、現像工程などを
経て螢光体層を形成するようになされたカラー受
像管螢光面の形成方法において、常にほぼ均一な
割合で複数種の螢光体を含む螢光体スラリーをパ
ネル内面に供給することが可能なカラー受像管螢
光面の形成方法を提供することを目的としてい
る。
り、特に電子ビームの射突により発光する複数種
の略同一粒径の螢光体を含む螢光体スラリーをパ
ネル内面に塗布後、乾燥、露光、現像工程などを
経て螢光体層を形成するようになされたカラー受
像管螢光面の形成方法において、常にほぼ均一な
割合で複数種の螢光体を含む螢光体スラリーをパ
ネル内面に供給することが可能なカラー受像管螢
光面の形成方法を提供することを目的としてい
る。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。前
述したようにな螢光体Ａと螢光体Ｂとを50：50に
混合した螢光体スラリーをパネル内面に塗布する
と、塗布される螢光体Ｂの比率は50％から57％に
変化する。したがつてパネル内面に塗布される螢
体Ｂの比率を50％に維持するためには、塗布螢光
体スラリー中の混合比率をＡ：Ｂ＝57：43にしな
ければならない。
述したようにな螢光体Ａと螢光体Ｂとを50：50に
混合した螢光体スラリーをパネル内面に塗布する
と、塗布される螢光体Ｂの比率は50％から57％に
変化する。したがつてパネル内面に塗布される螢
体Ｂの比率を50％に維持するためには、塗布螢光
体スラリー中の混合比率をＡ：Ｂ＝57：43にしな
ければならない。
そこで、塗布回数＝ｎ、塗布螢光体スラリー中
の螢光体Ｂの比率＝0.43、螢光体スラリーの塗布
量に対する回収機構からの回収比率＝0.7、補給
螢光体スラリーの塗布量に対する補給比較＝0.3、
回収螢光体スラリー中の螢光体Ｂの比率＝0.43と
すると、塗布螢光体スラリー槽中の螢光体Ｂの比
率変化は次の等比級数で表わされる。
の螢光体Ｂの比率＝0.43、螢光体スラリーの塗布
量に対する回収機構からの回収比率＝0.7、補給
螢光体スラリーの塗布量に対する補給比較＝0.3、
回収螢光体スラリー中の螢光体Ｂの比率＝0.43と
すると、塗布螢光体スラリー槽中の螢光体Ｂの比
率変化は次の等比級数で表わされる。
0.43〔（0.7x）n＋（0.7x）n-1×0.
3＋…＋0.3〕 この式を変換すると、 0.43〔（0.7x）n＋0.3｛１−（0.7x）n｝／１−0.7x ここでｘ＜１なので（0.7x）nはほぼ零となるの
で 0.43×0.3／１−0.7x となる。従つてｎ＝1000板目で螢光体Ｂの比率が
前述したように38％（実験値）であるから 0.38＝0.43×0.3／１−0.7xからｘ＝0.944 補給螢光体スラリーの螢光体Ｂの比率をｙとす
ると 0.43＝0.43×0.7×0.944＋ｙ×0.3 からｙ＝0.486 が得られる。
3＋…＋0.3〕 この式を変換すると、 0.43〔（0.7x）n＋0.3｛１−（0.7x）n｝／１−0.7x ここでｘ＜１なので（0.7x）nはほぼ零となるの
で 0.43×0.3／１−0.7x となる。従つてｎ＝1000板目で螢光体Ｂの比率が
前述したように38％（実験値）であるから 0.38＝0.43×0.3／１−0.7xからｘ＝0.944 補給螢光体スラリーの螢光体Ｂの比率をｙとす
ると 0.43＝0.43×0.7×0.944＋ｙ×0.3 からｙ＝0.486 が得られる。
従つて、補給螢光体スラリー中の螢光体の比率
を余裕を取つて0.48±0.01とすることにより、第
４図に線１３で示すように塗布螢光体スラリー中
での螢光体Ｂの比率を一定に保持することが可能
となる。
を余裕を取つて0.48±0.01とすることにより、第
４図に線１３で示すように塗布螢光体スラリー中
での螢光体Ｂの比率を一定に保持することが可能
となる。
前記実施例は螢光体Ａの比重を4.1、螢光体Ｂ
の比重を4.95としたが、他の比重のものでもほぼ
同様なことが云える。一般的に云えば補給螢光体
スラリー中での複数種の螢光体のうちの比重の高
い螢光体の比率を塗布螢光体スラリーよりも大き
くすることによりほぼ均一な比率の複数種の螢光
体を含有する所要螢光体スラリー層をパネル内面
に形成することが可能である。
の比重を4.95としたが、他の比重のものでもほぼ
同様なことが云える。一般的に云えば補給螢光体
スラリー中での複数種の螢光体のうちの比重の高
い螢光体の比率を塗布螢光体スラリーよりも大き
くすることによりほぼ均一な比率の複数種の螢光
体を含有する所要螢光体スラリー層をパネル内面
に形成することが可能である。
第１図はパネルに螢光体スラリーを塗布する系
を示す説明図、第２図はパネル１個の塗布時間に
対するパネルでの螢光体Ｂの比率を示す曲線図、
第３図はパネル塗布個数に対する塗布螢光体スラ
リー中での螢光体Ｂの比率を示す曲線図、第４図
は補給螢光体スラリー中の螢光体Ｂの比率を所定
値にした時の塗布螢光体スラリー中の螢光体Ｂの
比率を示す曲線図である。 ２……塗布螢光体スラリー、４……パネル、５
……回収機構、８……補給螢光体スラリー。
を示す説明図、第２図はパネル１個の塗布時間に
対するパネルでの螢光体Ｂの比率を示す曲線図、
第３図はパネル塗布個数に対する塗布螢光体スラ
リー中での螢光体Ｂの比率を示す曲線図、第４図
は補給螢光体スラリー中の螢光体Ｂの比率を所定
値にした時の塗布螢光体スラリー中の螢光体Ｂの
比率を示す曲線図である。 ２……塗布螢光体スラリー、４……パネル、５
……回収機構、８……補給螢光体スラリー。
Claims (1)
- １ 電子ビームの射突によりほぼ同一色に発色す
るほぼ同一平均粒径の複数種の螢光体を所定の混
合比率で含む塗布螢光体スラリーをパネル内面に
塗布した後、乾燥、露光、現像工程などを経て螢
光体層を形成するとともに、補給螢光体スラリー
を前記塗布螢光体スラリーに補給することにより
前記塗布螢光体スラリーを調整するカラー受像管
螢光面の形成方法において、前記補給螢光体スラ
リー中での前記複数種の螢光体のうち比重の高い
螢光体の混合比率を前記塗布螢光体スラリー中で
の混合比率よりも大きくしたことを特徴とするカ
ラー受像管螢光面の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12932481A JPS5832331A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | カラ−受像管螢光面の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12932481A JPS5832331A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | カラ−受像管螢光面の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5832331A JPS5832331A (ja) | 1983-02-25 |
| JPH0330254B2 true JPH0330254B2 (ja) | 1991-04-26 |
Family
ID=15006765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12932481A Granted JPS5832331A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | カラ−受像管螢光面の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5832331A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54152461A (en) * | 1978-05-22 | 1979-11-30 | Nec Corp | Manufacture of fluorescent screen of color braun tube |
| JPS5755170A (en) * | 1980-09-17 | 1982-04-01 | Tada Seisakusho | Organ toy |
| JPS5922346A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-04 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPS5947419A (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-17 | Japan Exlan Co Ltd | 異形断面アクリル系繊維の製造法 |
| JPS6235216A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Noritoshi Nakabachi | 不均質物質層の層厚非破壊測定方法および装置 |
-
1981
- 1981-08-20 JP JP12932481A patent/JPS5832331A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54152461A (en) * | 1978-05-22 | 1979-11-30 | Nec Corp | Manufacture of fluorescent screen of color braun tube |
| JPS5755170A (en) * | 1980-09-17 | 1982-04-01 | Tada Seisakusho | Organ toy |
| JPS5922346A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-04 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPS5947419A (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-17 | Japan Exlan Co Ltd | 異形断面アクリル系繊維の製造法 |
| JPS6235216A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Noritoshi Nakabachi | 不均質物質層の層厚非破壊測定方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5832331A (ja) | 1983-02-25 |
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