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JPH03247536A - 全フッ素ドープ光ファイバ - Google Patents

全フッ素ドープ光ファイバ

Info

Publication number
JPH03247536A
JPH03247536A JP2044411A JP4441190A JPH03247536A JP H03247536 A JPH03247536 A JP H03247536A JP 2044411 A JP2044411 A JP 2044411A JP 4441190 A JP4441190 A JP 4441190A JP H03247536 A JPH03247536 A JP H03247536A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluorine
optical fiber
core
doped
porous body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2044411A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2721260B2 (ja
Inventor
Akira Iino
顕 飯野
Masahide Kuwabara
正英 桑原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP2044411A priority Critical patent/JP2721260B2/ja
Publication of JPH03247536A publication Critical patent/JPH03247536A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2721260B2 publication Critical patent/JP2721260B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、コアとクラッドの双方にフッ素をドープした
、いわゆる全フッ素ドープ光ファイバに関するものであ
る。
〔従来技術〕
今日、光通信システムの応用分野は非常に多岐にわたっ
ており、それに伴い光ファイバの特性、具体的には光フ
ァイバの伝送損失や強度に対する要求も益々多岐にわた
り、かつ厳しいものになっできている。
例えば最も光ファイバの低損失性が求められる海底ケー
ブルの分野では今日、単一モード光ファイバが使用され
ており、この単一モード光ファイバにおいては急速な低
損失化が進んでいる。従来この分野ではコア/クラッド
の組成がSiO□−Gem。
/SiO□で、Δ(コアとクラッド間の屈折率差)=0
.3%ものが主流であったが、最近ではこれに代わって
より低損失なSiO□/SiO□−Fで、Δ=0.3%
の、いわゆるフッ素ドープ光ファイバが導入されようと
している。
さらにまた、このフッ素ドープ光ファイバの一歩進んだ
ものとして、クラッドだけでなくコアにもフッ素をドー
プした光ファイバも検討されている。これは図−1に示
すように、コア1、クラッド2が共にフッ素を含有し、
その結果、双方とも純粋石英ガラスの屈折率より低い屈
折率になっているものである。このようにコアにフッ素
をドープすると、コア部分の軟化温度が下がり、線引時
にコアに集中する応力(損失増を起こす)を軽減するこ
とができる。
〔課題〕
しかし従来、全フッ素ドープ光ファイバにおいて検討さ
れているコアへのフッ素ドープ量は、純粋石英ガラスと
の屈折率差Δ−で0.07%程度である。コアの屈折率
がこの程度とすると、単一モード光ファイバの場合、コ
アとクラッドの屈折率差Δを0.30%以上とる必要が
あるから、必然的にクラッドのΔ−は0.37%以上に
することが必要となり、その結果としてフッ素の使用量
が増大し、コスト高になるという問題があった。コスト
の面を詳述すると、フッ素のドープ量はフン化物ガス分
圧の174乗に比例するため、例えばΔ−を0.32か
ら0.37に下げようとすると、ドープガスとして使用
される5iFz等の高価なフン化物ガスの使用量が2倍
も多く必要となるのである。
〔課題の解決手段とその作用〕
そこで本発明者等は、コアへのフッ素ドープ量を種々検
討した結果、フッ素ドープ量をかなり低くしても良好な
伝送特性を有する光ファイバが得られることを見出した
すなわち本発明は、コアとクラッドの双方にフッ素をド
ープしてなる光ファイバにおいて、コアのフッ素濃度を
0.1原子%以下にしたことを特徴とするものである。
フッ素濃度0.1原子%以下は純粋石英ガラスとの屈折
率差Δ−で0.03%以下になる。コアの屈折率をこの
程度とすると、クラッドの屈折率はΔで0.33%以上
でよく、高価なフン化物ガスの使用量が少なくて済む。
またフッ素濃度を0.1原子%より高くすると、コア中
に気泡が残存する場合があり、このため波長に依存しな
いロス増が見出される場合のあることも分かった。
また前記のようにコアに0.1原子%以下のフッ素をド
ープする場合、これに合わせて0.1分子%以下のGe
OxまたはPgOsをドープすることが好ましい、この
ようにすると室温における水素ロス増に関連した欠陥の
発生を防止できる。
〔実施例〕
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例1 コア/クラッドの組成がSigh  F/SiO□−F
で、コアのF濃度0.1原子%の単一モード光ファイバ
を製造した。コアの屈折率はΔ−で0.03%、クラッ
ドの屈折率はΔ−で0.33%であった。
なお、この光ファイバのしゃ断波長λCは1.45μ−
、クラッド外径は125μ−、プラスチック被覆(ウレ
タンアクリレート)外径は250 μ蒙、条長は8〜9
に−であり、製造時の線引速度は180m/分とした。
この光ファイバの特性は表−1のとおりである。
実施例2 コア/クラッドの組成が5ift  F−GeO1/S
tow−Fで、コアのFff1度0.1原子%、Ge0
1濃度0.1分子%の単一モード光ファイバを製造した
。コアの屈折率はΔ−で0.02%、クラッドの屈折率
はΔ−で0.33%であった。
λC以下は実施例1と同じである。この光ファイバの特
性は表−1のとおりである。
実施例3 コア/クラッドの組成がSiO□−F −P!os/5
i(h−Ft’、:l7(7)F濃度0,1原子%、P
tosTIA度0.1分子%の単一モード光ファイバを
製造した。コアの屈折率はΔ−で0.02%、クラッド
の屈折率はΔで0.33%であった。
λC以下は実施例1と同じである。この光ファイバの特
性は表−1のとおりである。
表−1 表=1に示すように、0.63μ−の光吸収ピーク高さ
が大きいと、室温におけるH8処理後、1.52μmに
吸収ピーク (Hz ロス増)が現れる。これに対しG
eO2またはP、0.をドープすると、0.63μ霧に
光吸収ピークを持つ構造欠陥の生成を抑制できることが
分かる。これは、線引時に発生する構造欠陥をGe01
またはP□0.の微量ドープにより抑制できることを示
している。
GeO□またはP、0.の濃度はF濃度0.1原子%に
対して0.1分子%の割合である。Fは0.1原子%ド
ープすると屈折率を0.03%低くする作用があり、G
eO2またはPtOsは0.1分子%ドープすると屈折
率を0.01%高める作用があることも分かった。
これらの原子または分子は、濃度が0.1原子または分
子%以下であっても、構造欠陥濃度(pplIのオーダ
ーと推定されている)に対しては大過剰であるので、添
加効果がある。FSGeO□またはP2O。
の濃度の最小値は、構造欠陥濃度の10倍必要とすれば
、各々約100pp+w (0,01原子または分子%
)である、よって水素ロス増に関連した構造欠陥の発生
を防止するには、F、GeO□またはP2O,が0.1
原子または分子%未満であっても十分である。
なお前記のようなフッ素トープ量のきわめて少ないコア
を製造するには、例えば次のような方法を採用するとよ
い、すなわち、石英ガラス微粒子を主成分とする光フア
イバ用多孔質体を、少なくとも塩素と不活性ガスとを含
む雰囲気中で、かつ前記光フアイバ用多孔質体が完全に
ガラス化しない温度(例えば約1100℃)にて加熱し
て脱水処理を施した後、前記脱水処理温度より低い温度
(例えば約900℃)で、少な(とも塩素と不活性ガス
とフン化物ガスとを含む雰囲気中に晒して前記光フアイ
バ用多孔質体内にフッ素をトープし、しかる後生なくと
も塩素と不活性ガスとを含む雰囲気中で加熱して透明ガ
ラス化するという方法である。
また以上の実施例では1.3μ−帯用単一モード光ファ
イバを試作したが、1.55μ−帯へ分散をシフトした
ものも本発明によるコアの組成で作ることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明に係る全フッ素ドープ光ファ
イバは、コアのフッ素トープ量が少ないためクラッドの
フッ素ドープ量が少なくて済み、低コストであると共に
、伝送特性にも優れているという利点がある。
【図面の簡単な説明】
図−1は全フッ素ドープ光ファイバの屈折率分布を示す
説明図である。 1:コア :屈折率 図− コア

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、コアとクラッドの双方にフッ素をドープしてなる光
    ファイバにおいて、コアのフッ素濃度を0.1原子%以
    下にしたことを特徴とする全フッ素ドープ光ファイバ。 2、請求項1記載の光ファイバであって、コアに、フッ
    素と共に0.1分子%以下のGeO_2又はP_2O_
    5をドープしたことを特徴とするもの。
JP2044411A 1990-02-27 1990-02-27 全フッ素ドープ光ファイバ Expired - Lifetime JP2721260B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7440673B2 (en) 2006-04-14 2008-10-21 Fujikura Ltd. Radiation resistant single-mode optical fiber and method of manufacturing thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6131328A (ja) * 1984-07-23 1986-02-13 Furukawa Electric Co Ltd:The 光フアイバ
JPS6163543A (ja) * 1984-09-01 1986-04-01 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd 石英系光フアイバ
JPS61222940A (ja) * 1985-03-29 1986-10-03 Furukawa Electric Co Ltd:The 光フアイバ
JPS61281046A (ja) * 1985-06-03 1986-12-11 Fujikura Ltd 光フアイバ

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