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JPH03193780A - キノロン化合物およびその製法 - Google Patents

キノロン化合物およびその製法

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Publication number
JPH03193780A
JPH03193780A JP2282067A JP28206790A JPH03193780A JP H03193780 A JPH03193780 A JP H03193780A JP 2282067 A JP2282067 A JP 2282067A JP 28206790 A JP28206790 A JP 28206790A JP H03193780 A JPH03193780 A JP H03193780A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
diazabicyclo
pharmaceutically acceptable
compound
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2282067A
Other languages
English (en)
Inventor
Wan Joo Kim
金 完柱
Myoung-Hwan Park
朴 明煥
Jong Hoon Oh
鍾勲 呉
Myung Hee Jung
鄭 明姫
Bong Jin Kim
金 奉鎭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT
Original Assignee
Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT filed Critical Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT
Publication of JPH03193780A publication Critical patent/JPH03193780A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D471/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
    • C07D471/02Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D471/04Ortho-condensed systems
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D487/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • C07D487/02Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D487/04Ortho-condensed systems

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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、−数式I 3 の新規なキノロン化合物およびR,が水素である場合は
、その薬学的に許容し得る酸付加塩および水和物に関す
るものである。
上記式において、 Xは、C−H%C−FまたはNを示し、2は、水素、ハ
ロゲンまたはアミノを示し、R1は、水素または薬学的
に許容し得る陽イオンを示し、 R2は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ハロゲ
ン化アルキルまたはヒドロキシアルキル、ビニル、3〜
6個の炭素原子を有するシクロアルキルまたはフルオロ
フェニルを示し、R8は、水素、低級アルキルまたはホ
ルミルを示し、 mは、1〜3の整数であり、そして nは、1または2である。
これらの化合物は、すぐれた抗菌活性および広範囲な抗
菌スペクトルを有する。さらに、本発明は、これらの化
合物の製法に関するものである。
もし上記式Iにおいて、 Zが、ハロゲンである場合は、それは、例えば塩素また
は弗素、好ましくは弗素であり、R7が1〜4個の炭素
原子を有するアルキルである場合は、それは、例えばメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピルまたは第3
ブチル、好ましくはエチルまI;は第3ブチルであり、
R2が1〜4個、好ましくは2〜4個の炭素原子を有ス
るハロゲン化アルキルである場合は、ハロゲン原子は好
ましくは弗素でありそして好ましイ置換分は2−フルオ
ロエチルであり、R2が1〜4個好ましくは2〜4個の
炭素原子を有するヒドロキシアルキルである場合は、好
ましい置換分は2−ヒドロキシエチルであり、R2が3
〜6個の炭素原子を有するシクロアルキルである場合は
、それは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペン
チルまたはシクロヘキシル、好ましくはシクロプロピル
であり、R2がフルオロフェニルである場合は、それは
、例えば4−フルオロフェニルまたは2.4−ジフルオ
ロフェニルのような好ましくは1個または2個の弗素原
子を含有し、 R1が低級アルキルである場合は、それは、好ましくは
1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、特にメチルま
たはエチルであり、 R3が薬学的に許容し得る陽イオンである場合は、それ
は、アルカリ金属陽イオン、好ましくはナトリウムまた
はカリウム、アルカリ土類金属陽イオン、好ましくはカ
ルシウムまたはマグネシウムおよびさらにアンモニウム
または例えばトリーまたはテトラ−C1〜C4−アルキ
ルアンモニウムの陽イオンであり、 mが1〜3の整数である場合は、それは、好ましくは1
〜2であり、そして nが1〜2の整数である場合は、それは好ましくはlで
ある。
式Iの特に好ましい化合物は、XがCFまたはCHであ
り、Zが水素であり、R8が水素であり、R2がシクロ
プロピルであり、R3が水素または01〜C4−アルキ
ル、好ましくはメチルでありそしてmおよびnがそれぞ
れ整数lである化合物である。
ナリジクス酸のはじめの採用後、キノロンカルボン酸抗
菌剤が、多くの好気性ダラム陰性菌に対する抗菌活性の
ために、尿路感染症を治療するために有効に使用されて
いる。これらのキノロン抗菌剤の中で、特に、ノルフロ
キサシン、シブロア0キサジンおよびオフ0キサジンが
現在病院で種々な適応に広く使用されている。
しかしながら、これらの既存のキノロン抗菌剤がダラム
陰性菌に対して高い抗菌活性を有しているのに反して、
これらの抗菌剤は、スタフィロコッカス菌種またはスト
レプトコッカス菌種のようなダラム陽性菌に対する低い
抗菌活性のだめに、不利点を有している。
上述した既存のキノロン抗菌剤の抗菌性の欠点を解決す
るために努力した結果、本発明を完成した。
本発明の目的は、ダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対
して既存のキノロン抗菌剤よりも非常に良好な且つ広範
な抗菌活性を有しそして臨床的に重要なメチシリン−耐
性菌および既に使用されているキノロン類に対して耐性
の細菌に対してすぐれた抗菌活性を有している式Iの新
規なキノロン化合物を提供せんとするものである。
また、本発明の目的は、式■の新規なキノロン化合物お
よびその薬学的に許容し得る塩を製造する方法を提供せ
んとするものである。
−数式Iの化合物を製造する方法は、 (a、)−数式■ 2 (式中、XSZ、R,およびR2は後述した通りであり
そしてLは離脱基を示す)の化合物を一般式■ (式中、mおよびnは上述した通りでありモしてRは水
素、低級アルキルまたは保護基を示す)のジアザビシク
ロアミンまたはその酸塩と縮合させるかまたは (R2)式1[a (式中、ZlXおよびR2は上述した意義を有しそして
R/1は保護基を示す)の化合物を式I[[a(式中、
Rおよびmは上述した通りでありそしてX′は離脱基を
示す)の化合物と縮合させて、それによって−数式■ \   1 N−−(CH2)1 (式中、Z、X、R,R,、R,、mおよびnは上述し
た通りである。但し、工程a、に対してはnはlである
)の化合物を得、 (b)保護基を除去し、そして (C)場合によって、R−水素を低級アルキルまたはホ
ルミルにより置換することからなる。
離脱基りは、例えば弗素、塩素また臭素のようなハロゲ
ン、好ましくは弗素、cl〜C2−アルキルスルホニル
、好ましくはエチルスルホニルマを二はC,−C,−ア
ルキルスルホニルオキシる。
離脱基X′に対する例としては、塩素、臭素または沃素
のようなハロゲン、好ましくは臭素をあげることができ
る。
Rが保護基を示す場合は、それは、主として、それぞれ
、普通の方法、例えば縮合後加水分解を包含する加溶媒
分解、水素添加分解または還元により容易に除去するこ
とのできる文献例えばペプチドまたはβ−ラクタム化学
文献から知られているN−保護基である。
加溶媒分解により除去できる保護基の例としては、アリ
ールスルホニル例えば、p−トルエンスルホニルまたは
フェニルスルホニルまたはアルコキシカルボニル例えば
エトキシ−1第3ブトキシ−またはベンジルオキシカル
ボニルをあげることができる。
除去は、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸またはギ酸のような酸の存在下においてまた
は例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム、炭酸
ナトリウムまたは炭酸カリウムまたは酢酸ナトリウムの
ような塩基の存在下において、適当な溶剤中でよく知ら
れている方法で実施することができる。溶剤は、水また
はもし必要である場合は、単独または水と混合した例え
ばエタノール、ジオキサンまたは酢酸のような有機溶剤
である。
水素添加分解により除去できる保護基の例は、ベンジル
または置換されIこベンジル、またはアリールスルホニ
ル例えば、p−トルエンスルホニルまたはフェニルスル
ホニルである。
これらの基は、また、文献から知られている慣用方法で
異なる条件下で、例えば白金、パラジウムまたはラネー
ニッケルのような触媒の存在下不活性情剤中水素の流れ
でまたは酢酸またはメタノール中で亜鉛で除去すること
もできる。
また、例えば、NaAl2Hz(OCHzCHzOCH
s)zによるような還元によって、例えばトルエンスル
ホニルまたはフェニルスルホニルのような保護基を除去
することもできる。
Rが保護基である弐■の化合物は、好ましくは (式中、2本−保護基、L’=除去基)のように−膜化
できる環化反応によって得られるので、窒素原子と一緒
に導入することのできる保護基例エバ、アリールスルホ
ニル例工ば、p−トルエンスルホニルまたはアルキルス
ルホニル例えば、メタンスルホニル(何れも相当するス
ルホンアミドとして導入される)、アルコキシカルボニ
ル(相当するウレタンとして導入される)またはアセチ
ル(アセトアミドとして導入される)、好マしくはp−
トルエンスルホニル基が、好適である。
保護基R/1は、例えば文献から知られている容易に除
去できるカルボン酸保護基、好ましくは、既知方法例え
ば酸性または塩基性条件下で除去できるC0〜C4−ア
ルキル基、特にエチルである。
塩酸、臭化水素酸、ギ酸または酢酸、好ましくは臭化水
素酸のような無機または有機酸と弐■の化合物との塩を
使用することができる。
上記方法において、置換分R2は、好ましくはエチル、
シクロプロピル、フルオロフェニルまたは第3ブチルで
ある。
本発明による上記反応a1は、有利には、例えば、アセ
トニトリル、テトラヒドロ7ラン、低級アルコール例エ
バ、エタノール、クロロホルム、ジメチルスルホキシド
、ジメチルホルムアミド、ピリジン、ピコリンまたは水
のような不活性溶剤、好ましくはアセトニトリル中にお
いて実施することができる。
反応中に生成される酸を中和するために、般弐■の遊離
アミンを過剰に使用することができる。このようにする
代りに、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩
または重炭酸塩、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、重炭酸ナトリウムまたは重炭酸カリウム、有機塩基
たとえば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、ピリジン、ピコリンまたは特にDBU(1,8−
ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデカ−7−エン)を
、単独でまたは混合物として使用することができる。
上記縮合は、好ましくは、約1〜10時間例えば室温と
150°Cとの間の温度のような広範囲な温度例えば、
使用する溶剤の還流温度で実施される。
工程a2を使用する場合は、反応はまた、塩基例えば無
水の炭酸カリウムの存在下において例えば室温で例えば
ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリルのような不
活性溶剤中で約1〜24時間実施される。
式■の化合物の置換分P、は、式、■の化合物の製造前
または製造後に導入することができる。
例えば、−数式■のモノアルキルアミンを上述した方法
および実験条件によって導入することができる。あるい
はまた、それ自体既知の方法を使用することによって、
例えば、塩基例えば炭酸カリウムの存在下において不活
性溶剤例えば、ジメチルホルムアミド中でハロゲン化ア
ルキル例えば、沃化メチルまたは沃化エチルと反応させ
ることによって、Rが水素である式■の化合物にアルキ
ル基を導入することができる。
メチル基は、例えば、還流下で約2〜6時間ホルマリン
、好ましくは約36〜37%水性ホルマリンおよびギ酸
と反応させることにより導入することができる。ホルミ
ル基は、酢酸無水物の存在下においてギ酸と反応させる
ことにより導入することができる。Rが例えばベンジル
またはトシルのような保護基である場合は% R3はこ
の保護基を除去した後にのみ導入することができる。
本発明の出発物質としての一般式■の化合物は、キノロ
ン抗菌剤の分野において公知でありそして次の文献、す
なわち、(1)J、P、  5anchez等、J、 
Med、 Chew、 31.983(1983)、 
(2)J8M−Domagala等、J、 Med、 
Chem、 31.503(1988)。
(3)J、 Mitsumoto等、J、 Heter
ocylic Chem。
21、673(1984)によって製造することができ
る。
型maの出発物質の製造は、製造例において以下に記載
する通りである。
式■のキノロン化合物のC−7位に導入される3、7−
ジアザビシクロ[:3.3.0)オクタ−1(5) −
エンまたは3.8−ジアザビシクロ(4,3,0)ノナ
−1(6)−エンまたはそれらの酸塩のような一般式■
のジアザビシクロアミン化合物は、新規な化合物である
これらの化合物は、例えば、次の方法によって製造する
ことができる。
3.7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5
)−エンの製造 方法 A 公知のテトラキス(ブロモメチル)エチレン〔文献: 
(1)A、C,Cope等、J、 Am、 Chem、
 Soc。
80、 5499(1958)、  (2)P、W、 
Le Quesne等、J。
Org、 Chem、 40.142(1975))を
、密閉管中において、液体アンモニアおよびアルコール
溶剤と一緒に加熱する。上記化合物は、遊離アミンとし
て得られる。
方法 B テトラキス(ブロモメチル)エチレンを、塩基および極
性溶剤の存在下においてp−1−ルエンスルホンアミド
(またはメタンスルホンアミド、ウレタンまたはアセト
アミド)で環化しそしてそれから強酸の存在下において
加熱してp−トルエンスルホニル基を除去する。上記化
合物の酸塩が得られる。
3.8−ジアザビシクロ(4,3,0)ノナ−1(6)
−エンの製造 テトラキス−(ブロモメチル)エチレン全p−トルエン
スルホンアミド1当量で環化することにより、3,4−
ビス−ブロモメチル−3−ビロリンを製造する。2個の
臭素の一方をシアナイド基により置換し、次にこの基を
アミノエチル基に還元する。この化合物を塩基の存在下
において環化することによって、窒素保護された3、8
−ジアザビシクロ(4,3,0)ノナ−1(6)−エン
誘導体を製造する。
その後、この化合物の保護基を、酸の存在下において除
去する。このようにする代りに、第2の保護基例えば、
ベンジル基を、この化合物の第2級アミンに導入し、第
1の保護基を酸の存在下において選択的に除去しそして
それから第2の保護基を酸性条件下における水素添加分
解によって除去することができる。このようにして、上
記化合物の酸塩が得られる。それをアルカリで処理する
場合は、遊離アミンが得られる。
本発明の方法において、すでに上述したようなそれぞれ
の保護基は、普通の方法によって、例えば、臭化水素酸
のような酸または例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化
カリウムのようなアルカリを使用することによりまたは
水素添加分解により除去することができる。すなわち、
トルエンスルホニルのようなN−保護基は、好ましくは
還流条件下フェノールの存在下において、臭化水素酸例
えば、40%臭化水素酸で数時間処理することにより除
去することができる。
例えばベンジル基を除去するための水素添加分解は、ま
た例えば10%Pd付炭素/水素を使用することにより
普通の方法で実施することができる。
本発明は、また、薬学的に許容し得る酸付加塩および塩
基塩を包含する。塩基塩は、アルカリ金属例えば、ナト
リウムまたはカリウム、アンモニウム、アルカリ土類金
属例えば、カルシウムまたはマグネシウムまたは有機ア
ミン例えば、トリーまたはテトラアルキルアンモニウム
を使用して形成することができる。これらの塩は、例え
ば、相当する塩基例えば、水酸化ナトリウムまたは水酸
化カリウムでまたは金属塩例えば、炭酸ナトリウムまた
は炭酸カリウムで処理することにより得ることができる
酸付加塩は、適当な有機酸または無機酸を使用して形成
することができる。塩形成に適した酸は、例えば、塩酸
、硫酸、燐酸、酢酸、りエン酸、乳酸、硼酸、マロン酸
、サリチル酸、リンゴ酸、マレイン酸、グルコン酸、フ
マール酸、コハク酸、アスコルビン酸およびメタンスル
ホン酸、好ましくは塩酸である。
上記塩は、普通の方法で、遊離塩基形態の一般式Iの化
合物を七ノーまたはジー塩を形成することのできる過剰
の量の酸で処理することによって製造することができる
。すなわち、塩酸塩は、例えば、インプロパツール中の
20%塩酸またはHCl2ガスで飽和したイソプロパツ
ールまたはメタノール中の濃塩酸で処理することにより
得ることができモしてギ酸は、例えばギ酸で処理するこ
とにより得ることができる。
式Iの化合物は、無水の形態でまたは水和物として存在
することができる。水和物は、単離中にまたは普通の方
法により得ることができる。
本発明は、また、普通の薬理学的に許容し得る賦形剤ま
たは稀釈剤と一緒にした活性成分として一般的Iにより
示されるキノロン化合物またはその塩の1種または2種
以上の有効量を含有するヒトおよび動物に経口的または
非経口的に投与する抗菌組成物を包含する。
活性化合物として一般式Iの1種または2種以上の化合
物を含有する薬学的組成物は、−数式Iの化合物を、例
えば、充填剤、乳化剤、滑沢剤、風味矯正剤、染料また
は緩衝剤物質のような1種または2種以上の薬理学的に
許容し得る賦形剤または稀釈剤と混合しそしてこの混合
物を例えば錠剤、糖衣錠、カプセル、顆粒、べレッド、
シロップ、懸濁液または非経口投与に適した溶液または
懸濁液のような適当な処方形態に変換することによって
製造することができる。通常使用される賦形剤または稀
釈剤の例は、トラガントゴム、ラクトース、タルク、澱
粉、寒天、ポリグリコール、エタノールおよび水である
。好ましくは水中の懸濁液または溶液を、非経口投与に
対して使用することができる。適当な形態、例えばカプ
セルの形態の賦形剤または稀釈剤を含有しない活性化合
物それ自体を投与することもできる。
一般式■の化合物の適当な投与量は、約60kgの体重
を有する成人に対して、1日当り約0.1〜1.5g、
好ましくは1日当り0.2〜0,8gである。
この投与量は、例えば、体重、年令または患者の症状に
より変化することができる。すなわち、個々の投与量ま
たは一般に、多数回投与量を投与することができる。個
々の投与量は、約100〜750肩yの量の活性化合物
を含有することができる。
本発明による生成物は、また、例えばペニシリン、アミ
ノグリコシド、セファロスポリンまたは例えば上熱剤、
鎮痛剤または抗炎症剤のような細菌感染に影響を与える
他の化合物の系からの他の活性化合物と組み合わせて使
用することができる。
以下の実施例および製造例は、本発明を説明するために
示すものであり、本発明の範囲を限第■表 メチシリン耐性菌株に対するキノロンの試験管内抗菌活
性度l  5taphylococcus aureu
s  88 E2 5taphylococcus a
ureus 121 E3 5taphylococc
us aureus 208 E4 5taphylo
coccus aureus 256 E5 5tap
hylococcus aureus 690 E6 
5taphylococcus aureus 692
 E7 5Laphylococcus aureus
 693 E8 5iaphylococcus au
reus 694 E9 5taphylococcu
s aureus 695 Elo  5taphyl
ococcus aureus 697 EII  5
taphylococcus aureus 701 
E12 5taphylococcus aureus
 703 E13 5taphylococcus a
ureus 705 E14 5taphylococ
cus aureus 706 E15 5taphy
lococcus aureus 707 E16 5
taphylococcus aureus 708 
E17 5taphylococcus aureus
 711 E18 5taphylococcus a
ureus 714 E19 5taphylococ
cus aLIreus 725 Eo、195 0.098 0.098 0.09B 0.049 0.049 0.049 0.098 0.098 0、Q25 0.098 0.09g 0.098 0.049 0.098 0.025 0.049 0.049 0.098 0.049 0.049 0.098 0.049 0.025 0.013 0.025 0.049 0.025 0.025 0.098 0.049 (LO98 0,049 0,098 0,013 0,013 0,025 0,049 0,391 0,195 0,391 0,195 0,195 0,098 0,195 0,195 0,195 0,098 0,195 0,195 0,391 0,195 0,195 0、098 0,098 0,195 0,195 製造例1 3.7−ビス−p−トルエンスルホニル−3,7−ジア
ザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エンの製
造 テトラキス(ブロモメチル)エチレン309およびI)
−トルエンスルホンアミド30gを、ジメチルホルムア
ミド400aQに溶解する。無水の炭酸カリウム150
g(または50%水素化ナトリウム17g)を加えそし
てそれから室温で24時間撹拌する。
その後、この反応混合物を真空蒸留して溶剤を除去する
。水30mQおよび酢酸エチル100g+(lを加える
ことによって、淡黄色の粉末として標記化合物179(
収率50%)を得る。
融点250℃(分解)。
’H−NMR([1M5O−d、、 δppm): 7
.65(4B、 d、 J=8.08Hz) 、 7.
39(4H,d、 J=8.08Hz)、3.94(8
8゜5)、2.40(6H,s)。
EIMS : va/z 418(M”、 1.3%)
、m/z 419(M”+1.12%)。
製造例2 3.7−ジアザビシクロ〔:L3.0)オクタ−1(5
)−エン ジ臭化水素酸塩の製造 48%臭化水素酸60mffおよびフェノール7gを、
製造例1において製造した3、7−ビス−p−トルエン
スルホニル−3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オ
クタ−1(5)−エン10.8gに加える。
混合物を4時間還流し次に室温に冷却する。水性aを、
クロロホルム100mffおよび水50m12を加える
ことにより分離する。水性相を、クロロホルム(100
ml+X 4 )で洗浄しそして活性炭で脱色する。水
性相を、真空濃縮しそして残留する固体を1:lのメタ
ノール−エチルエーテル洗剤で洗浄する。標記化合物5
g(収率71%)を得る。
融点:220℃(分解)。
’H−NMR(DMSO−DtO,δppm): 4.
06(88,s)。
MS:  we/z  110(M”)。
製造例3 3.7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5
)−エンの製造 製造例2において製造した3、7−ジアザビシクロ(3
,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭化水素酸塩2
.72gを、10%水酸化ナトリウム水溶液1Otx(
lに加える。混合物を減圧濃縮して水を除去しそしてそ
れからエーテルで数回抽出しそして濃縮する。標記化合
物19(収率90%)を得る。
’H−NMR(0,0,a ppm): 4.02(8
H,s)。
MS : IIHz 110(M”)。
製造例4 3.7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5
)−エンの製造 テトラキス(ブロモメチル)エチレン0.7gをメタノ
ール10i+12および液体アンモニア4mQに溶解し
そして密閉し次に180℃の油浴中で8時間加熱する。
反応混合物を室温に冷却した後、アンモニアを蒸発する
。混合物を濃縮してメタノールを除去する。無水エタノ
ールlom+2を加えそして溶解しない化合物を消去し
て不溶性物質を除去する。エタノールを真空蒸留により
除去する。30%水酸化カリウム水溶液3yaQを、油
残留物に加える。溶液をテトラヒト07ラン(T)IF
)(5affX3)で抽出しそして得られた抽出液を合
しそして乾燥(Na!So、) シ、次に濃縮して標記
化合物6011g(収率31%)を得る。
’H−NMR(DMSO−ds、δppm): 4.0
4(8H,s)。
MS: Il/z 110(Mつ。
製造例5 N−(1)−)ルエンスルホニル) −3,4〜ビス(
ブロモメチル)−3−ビロリンの製造テトラキス(ブロ
モメチル)エチレン19gおよびp−)ルエンスルホン
アミド9gを、ジメチルホルムアミド22(112に溶
解する。無水の炭酸カリウム30gを加えそしてそれか
ら室温で20時間撹拌する。その後、溶剤を真空蒸留に
より除去する。酢酸エチル50峠を加えて固体の生成物
を得そして固体の生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製する。標記化合物12g(収率6θ
%)を得る。
融点;170℃。
’H−NMR(CDC(ls、δppm) : 7.6
9(2L d、 J=8.2Hz)、7.33(2H,
d、 J=8.2Hz) 、4−00(4H,s)、3
.15(4)1. s)、2.44(s、 3B)。
製造例6 N−(p−トルエンスルホニル’)−3−(ブロモメチ
ル)−4−(シアノメチル)−3−ビロリンの製造 製造例5において製造しf;N−(p−トルエンスルホ
ニル)−3,4−ビス(ブロモメチル)−3−ビロリン
10gを、ジメチルスルホキシド(DMSO) 10m
(lに溶解しそしてそれから油浴中で2時間加熱還流す
る。加熱還流中に、シアン化ナトリウム1.5gを小量
ずつ加える。反応混合物を室温に冷却しそして氷水に注
加しそしてそれから塩化メチレン(200*QX 3 
)で抽出する。抽出液を合し、Na1SO4上で乾燥し
次に濃縮する。
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製する。標記化合物5g(収率57%)を得る。
融点=182℃。
’H−NMR(CDC12s、δ、ppm) : 7.
71(2H,d、 J=8.2Hz) 、7.36(2
H,d、 J−8,2Hz) 、4.01(4H,s)
、3.20(2H,s)、3.06(2H,s)、2.
45(3H,s)。
製造例7 N−(p−)ルエンスルホニル)−3−(アミノエチル
)−4−(ブロモメチル)−3−ビロリンの製造 製造例6において製造したN−(p−)ルエンスルホニ
ル)−3−(ブロモメチル)−4−(シアノメチル)−
3−ビロリン4gを、エチルエーテルI00*Qに溶解
する。この溶液を、エチルエーテル20mQ中に水素化
アルミニウムリチウム(LAH) l gの懸濁液に徐
々に加えそして3時間加熱還流する。反応混合物を、氷
水により冷却する。水3m+1を添加した後、それを3
0分撹拌し次に濾過する。炉液を濃縮する。標記化合物
2g(収率49%)を得る。
融点:185℃。
’)I−NMR(CDC(is、δppm) : 7.
84(2)1. d、 J=8.2Hz)、7.46(
21(、d、 J=8.2Hz) 、4.20(2H,
g、 J=7Hz)、4.06(4H,s)、2.45
 (38,s)、2.26 C−2H。
t、 J−7Hz)。
製造例8 N’−(p −)ルエンスルホニル)−3,8−ジアザ
ビシクロ(4,3,0)ノナ−1(6)−エンの製造製
造例7において製造したN’−(p−トルエンスルホニ
ル)−3−(アミノエチル)−4−(ブロモメチル)−
3−ビロリン3.6gを、ジメチルホルムアミド30肩
Qに溶解する。無水の炭酸カリウム5gをこの溶液に加
えそしてそれから室温で18時間撹拌する。反応混合物
を減圧濃縮して溶剤を除去した後、混合物を塩化メチレ
ン(50mcx 3 )で抽出する。得られた抽出液を
混合した後、それを水で洗浄しそれから濃縮する。
標記化合物2.59 (収率88%)を得る。
融点+201’O0 ’H−NMR(CDCffs、δppm) : 7.8
0(2H,d、 J=8.2 ’Hz) 、7.44(
2H,d、 J=8.2Hz) : 4.05(4)!
、 s)、3.41(2H,s)、2.92(2H,t
、 J=5.8Hz)、2.44(2H。
t、 J・5.8Hz)。
製造例9 N3−(ベンジル) −N”−(p−)ルエンスルホニ
ル)−3,8−ジアザビシクロ(4,3,0)ノナ−1
(6)−エンの製造 製造例8において製造したN”−(p−トルエンスルホ
ニル)−3,8−ジアザビシクロ(4,3,0)ノーj
−−IC6>−エン1.8gを、メタノール3011I
2ニ溶解する。50%水酸化ナトリウム水溶液6iおよ
び臭化ベンジル1.5mI2をこの溶液に加えそして室
温で5時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮してメタノ
ールを除去しそしてそれから塩化メチレン(30m<l
x 3 )で抽出する。それを乾燥(NazSO*) 
Lそして濃縮しそしてそれから減圧下で乾燥する。標記
化合物2g(収率85%)を得る。
融点:196℃。
’H−NMRCCDCQx、 a ppm) : 7.
80(2H,d、 J=8.2Hz)、7.44(2H
,d、 J=8.2Hz)、7.28(5H,br、s
)、4.01(4H,s) 、3.56(2H,s) 
、3.40(2H; s)、2.90 (2H,d、 
J=5.8Hz) 、 2.22 (2H,L、 J=
5.8Hz)。
製造例IO N”−(ヘンシル)−3,8−シフfヒシクC’(4,
3,03ノナ−1(6)−エン臭化水素酸の製造製造例
9において製造したN5−(ベンジル)−N” −(p
−)ルエンスルホニル)−3,8−ジアザビシクロ(4
,3,0)ノナ−1(6)−エン2gを、48%臭化水
素酸15m12およびフェノール1.5gに懸濁しそし
て反応混合物を3時間還流する。反応混合物を冷却した
後、水20mQを加え、混合物をクロロホルム(50i
+12x 3 )で洗浄する。水性相をとりそして活性
炭により脱色する。水性相を減圧濃縮しそして得られた
固体を1:lのメタノール−エチルエーテル溶剤で洗浄
する。II記化合物1.5g(収率98%)を得る。
融点:205℃(分解)。
’H−NMRCCDCQs 、δpp+o) : 7.
29(5H,br、s)、4.00(4H,s) 、3
.55(2H,s) 、 3.38(2H,s)、2.
91 (2H,d、 J=5.8Hz) 、2.24 
(2H,t、 に5.8Hz)。
製造例11 3.8−ジアザビシクロ(4,3,0) / す−1(
6)−エン ジ臭化水素酸塩の製造 製造例8において製造したN’−(p−トルエンスルホ
ニル)−3,8−ジアザビシクロ(4,3,0)ノナ−
1(6)−エン1.5gを、48%臭化水素酸15ta
Qおよびフェノール2gに懸濁しそして反応混合物を4
時間還流する。反応混合物を冷却した後、水20mQを
加える。混合物をクロロホルム(40112X 3 )
で洗浄する。水性相をとりそして活性炭素で脱色する。
水性相を減圧濃縮しそして得られた固体をl:lのメタ
ノール−エチルエーテル溶剤で洗浄する。標記化合物0
.9g(収率98%)を得る。
融点225〜227℃(分解)。
製造例12 3.8−ジアザビシクロ(4,3,0)ノナ−1(6)
−エン ジ臭化水素厳塩の製造 製造例10において製造したN5−(ベンジル)−3,
8−ジアザビシクロ(4,3,0)ノナ−1(6)−エ
ン臭化水素酸塩0.79を、5%酢酸水溶液2(JaQ
に溶解する。10%パラジウム付炭素0.5gヲコノ溶
液に懸濁しそして反応混合物を水素の流れ下で7時間還
流する。固体を消去する。炉液を減圧濃縮しそして48
%臭素酸LOmQに溶解する。再び溶液を減圧濃縮する
ことによって、標記化合物0.59(収率73%)を得
る。
融点=225〜227℃(分解)、。
製造例13 3−メチル−3,7−ジアザピシク・口(3,3,0:
]]オクター(5)−エン ジ臭化水素酸塩の製造製造
例2において製造した3、7−ジアザビシクロ(3,3
,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭化水素酸塩(0,
81g)を、水(10aQ)に溶解する。この溶液に、
35%ホルマリン(0,312)およびギ酸(10+<
1)を加えそして4時間還流する。溶剤を留去しそして
得られた固体をイングロビルアル=+ −ル(20+*
(2) 8よび工f ルエ−f JL−(20IRQ)
で洗浄して標記化合物(0,81g、収率94%)を得
る。
融点=185〜187℃(分解) 製造例14 3−エチル−3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オ
クタ−1(5)−エン ジ臭化水素酸塩の製造アセトニ
トリル(43i+Q)中の1−p−トルエンスルホニル
−3,4−ビス(ブロモメチル)−3−ビロリン(3,
41g)の溶液に、70%エチルアミン0.73aQお
よび無水の炭酸カリウム(8g)ヲ加えそして室温で1
時間撹拌する。固体を消去しそしてか液をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフ4  (CHC(13−MeOH)
により精製して3−エチル−7−p−)ルエンスルホニ
ルー3.7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1
(5)−エン(0,95g、収率39%)を得る。この
化合物0.9gをフェノール19を含有する48%臭化
水素酸20黛α中で加水分解する。加水分解物を、クロ
ロホルム(30m(lX3)で洗浄しそして活性炭で脱
色する。溶剤を濃縮しそしてエタノールで洗浄してII
I 配化合物(0,57g、収率62%)を得る。
MS+m/z(rel、 int、%) : M”13
8(32)、123(20)、109(60)、108
(100)。
実施例 l ■−シクロプロピル−7−(3,7−ジアザビシクロ(
3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3−イル〕−6
.8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノ
リン−3−カルボン酸(KR−10679)の製造 1−シクロプロピル−6,7,8−)リフルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸0
.4g、3.7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ
−1(5)−オン ジ臭化水素酸塩0.8gおよび1.
8−ジアザビシクロ(5,4,03ウンデカ−7−工:
/ (DBU) 0.8mQをアセトニトリル301I
aニ懸濁しそして懸濁液を100℃の油浴中で8時間還
流する。反応混合物を室温で一夜保持する。生成した沈
澱を濾過し次にメタノールで洗浄する。
標記化合物0.35g(収率67%)を得る。
融点=220〜222℃(分解)。
’H−NMR(CDCQs +CD5COOD、  δ
ppm): 8.81(IH。
S)、7.87(IH,dd、 J=14.2.1.8
Hz)、4.69(4H。
s) 、4.24(4H,s) 、4.01(IN、 
m) 、1.23(4H。
m)。
実施例 2 5−アミノ−1−シクロプロピル−7−C3,7−ジア
ザビシクロ(3,3,O)オクタ−■(5)−エン−3
−イル)−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4
−オキソキノリン−3−カルボン酸(KR−10747
)の製造 5−アミノ−1−シクロプロピル−6,7,8−トリフ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−
カルボン酸0.4g、3.7−ジアザビシクロ(3,3
,0)オクタ−■(5)−エン ジ臭化水素酸塩0.8
gおよび1.8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデ
カ−7−17(DBII) Q、431II2を、7−
1=l−二トリル40tgQに懸濁しそして懸濁液を1
00 ’cの油浴中で7時間還流する。反応混合物を室
温に一夜保持する。生成した沈澱をか遇しそしてメタノ
ールで洗浄する。標記化合物0.3yC収率57%)を
得る。
融点:220〜225℃(分解)。
’H−NMR(CDC12m +CDIC0OD、  
δppw+): 8.69(IH。
S)、4.65(4Fl、 s)、4.24(41(、
’s)、3.91(IH,m)、1.18(48,m)
実施例 3 1−シクロプロピル−7−〔7−メチル−3,7−ジア
ザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3
−イル)−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4
−オキソキノリン−3−カルボン酸塩酸塩(KR−10
755)の製造 実施例1において製造した1−シクロプロピル−7−(
3,7−ジアザビシクロC3,3,0)オクタ−1(5
)−エン−3−イル)−6,8−ジフルオロ−1,4−
ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸0.1
gを、36%ホルマリン水溶液1mQおよびギ酸1.5
m4の混合物に溶解する。反応混合物を、120℃で2
時間還流しそして減圧濃縮して溶剤を除去する。イソプ
ロピルアルコールImQおよび20%塩酸l@Qを反応
混合物に加えそしてそれから1時間還流する。それを減
圧濃縮して溶剤を除去しそしてメタノール−エチルエー
テル(1: l)溶剤で洗浄する。標記化合物0.08
2g(収率78%)を得る。
融点:210〜213℃(分解)。
’H−NMR(CDCQs + CD3GOOD、δp
pm) : 8゜82(IH。
s) 、7.85(IH,d、 J=14.3Hz) 
、4.83(2H,m)、4.67(4H,br、s)
、3.98(m、 IH)、3−89(2H,m)、3
−16(3H,s)、1.24(4H,m)。
実施例 4 I−シクロプロピル−7−C3,7−ジアザビシクロ(
3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3−イル〕−5
,6,8−トリフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソキノリン−3−カルボン酸(KR−10758)の製
造 l−シクロプロピル−5,6,7,8−テトラフルオロ
−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボ
ン酸0.6g、3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)
オクタ−1(5)−エン ジ臭化水素酸塩1.2gおよ
び1.8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデカ−7
−エン(DBU) 1.3m(lを、アセトニトリル3
2mQに懸濁しそしてこの懸濁液を10時間還流する。
反応混合物を室温に一夜保持する。生成した沈澱を濾過
しそしてエタノールで洗浄する。
標記化合物0.58g(収率74%)を得る。
融点:226〜228℃(分解)。
’H−NMR(CDCI2.+CD、GOOD、 ap
9t): 8.71(IH。
S)、4.68(48,s)、4.18(4H,s)、
4.00(18,m)、1.22(4H,m)。
実施例 5 ■−シクログロピル−7−(7−メチル−3,7−ジア
ザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3
−イル) −5,6,8−トリフルオロ−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸塩酸塩の製
造 実施例4において製造したl−シクロプロピル−7−(
3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5
)−エン−3イル) −5,6,8−トリフルオロ−1
,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸
0.159を、36%ホルマリン水溶液1.2a+Qお
よびギ酸2taQの混合物に溶解する。
実施例3と同じ方法によって処理した後、標記化合物0
.14g(収率90%)を得る。
融点:230〜233℃(分解)。
’H−NMR(CDCQx + CD3COOD、δp
pm): 8.86(l)l。
S)、4.73(2H,s)、4.70(4H,s)、
4−31(28,+m)、4.02(LH,m)、3.
19(3H,m)、1.24(4H,m)。
実施例 6 1−シクロプロピル−6−フルオロ−7−(3,7−ジ
アザビシクロC3,3,0)オクタ−1(5)−エン−
3−イルツー4−オキソ−1,8−す7チリジンー3−
カルボン酸(KR−10797)の製造3.7−ジアザ
ビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭
化水素酸塩0.59および1.8−ジアザビシクロC5
,4,0)ウンデカ−7−エン(DBU)0.5gを、
アセトニトリル30mQに懸濁しそしてこの懸濁液を還
流する。還流中に、l−シクロプロピル−7−エチルス
ルホニル−6−フルオロ−4−オキソ−1,8−ナフチ
リジン−3−カルボン酸0.25gを小量づつ加える。
反応混合物をさらに1時間還流しそして室温に一夜保持
する。
生成した沈澱を枦遇しそしてエタノール−エチルエーテ
ル(1: l)溶剤で洗浄する。標記化合物0.22g
(収率84%)を得る。
融点:267℃(分解)。
’H−NMR(DMSO−d@、δppm) : 8.
87 (l)I、 s)、8.08(IH,d、 J1
2.5Hz) 、 4.60(4H,s) 、4.21
(4H,s)、3.96()1.11)、1.26(4
H,m)。
実施例 7 ■−シクログロピルー6.8−ジフルオロ−7−(3,
8−ジアザビシクロ(4,3,0)ノナ−1(6)−エ
ン−3−イルl−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリ
ン−3−カルボン酸臭化水素酸塩の製造 l−シクロプロピル−6,7,8−トリフルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸0
.3gおよ(/8−p−トルエンスルホニル− l(6)−エン0.42gを、アセトニトリル20講Q
に溶解する。1.8−ジアザビシクロ(5.4.0]ウ
ンデカ−7ーエン(DBU)0.3mQを加えそしてそ
れから5時間還流する。反応混合物を室温に一夜保持す
る。生成しt;沈澱を枦遇しそして40%臭化水素酸2
0+IQおよびフェノール1gの混合物に懸濁する。こ
の懸濁液を5時間還流する。反応混合物を室温に冷却し
そしてそれから塩化メチレン(30m12X 5 )で
5回洗浄する。水性相を減圧濃縮しそしてエタノール−
エチルエーテル(1:l)溶剤で洗浄する。標記化合物
0.34g(収率68%)を得る。
融点:287〜291”C! (分解)。
’H−NIJR(CDC123+ CD,COOD, 
δI)pRI): 8.84(IH。
S)、7.88(IH, d, J=14Hz)、4.
10(4L s)、4.00(IH. m) 、3.4
0(2H, s. br) 、2.94(2H, t,
 J=5、8Hz) 、 2.31 (2H, t, 
J=5.8Hz) 、1.25(4H。
+n)。
実施例 8 ■−ジシクロプロピル−68−ジフルオロ−7−(3.
8−ジアザビシクロ(4.3.01ノナ−1(6)−エ
ン−8−イル)−1.4−ジヒドロ−4−オキソキノリ
ン−3−カルボン酸の製造 l−シクロプロピル−6、7.8−トリフルオロ−1.
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸0
.3gおよび3−ベンジル−3,8−ジアザビシクロ(
4.3.0)ノナ−1(6)−エン臭化水素酸塩0.6
gを、アセトニトリル30112に懸濁する。1.8−
ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデカ−7ーエン(D
BU)0.6mQをこの懸濁液に加える。反応混合物を
5時間還流しそして室温に一夜保持する。生成した沈澱
をか遇しそしてエタノールの3%酢酸30m12に溶解
する。10%パラジウム付炭素0.5gを添加した後、
反応混合物を水素の流れ下で6時間撹拌しそしてそれか
ら濾過する。
炉液を減圧濃縮する。標記化合物0.25g(収率61
%)を得る。
融点=270℃(分解)。
’H−NMR(CDCI2, + CDSGOOD, 
 δppm): 8.84(IH。
S)、7.89(lH,d、J=14Hz)、4.60
(4H,s)、4.02(IH,m)、3.41(2H
,s)、2.94(2H,t+  J=5.8Hz)、
2.27 (2H,t、J=5.8Hz)  、1.2
7(4H,m)。
実施例 9 !−シクログロビルー6,8−ジフルオロ−7−〔3,
7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−
エン−3−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノ
リン−3−カルボン酸臭化水素酸塩の製造 7−アミノ−1−シクロプロピル−6,8−ジフルオロ
−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボ
ン酸エチルエステル0.33g、N−(p−トルエンス
ルホニル)−3,4−ビス(ブロモメチル)−3−ビロ
リン0.419および無水の炭酸カリウム0.5gを、
ジメチルホルムアミド20riQに懸濁しそしてこの懸
濁液を室温で24時間撹拌する。水l00IIQを添加
した後、生成した沈澱を濾過する。この沈澱を47%臭
化水素酸20ra(lおよびフェノール0.5gに懸濁
しそして反応混合物を5時間還流する。反応混合物を室
温に冷却した後、水20+aCを再び加える。混合物を
クロロホルムで数回抽出する。水性相を活性炭で脱色し
そして減圧濃縮する。標記化合物0.3g(収率75%
)を得る。
融点:280〜282℃(分解)。
実施例 10 1−シクロプロピル−7−(3,7−ジアザビシクロC
3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3−イル〕−6
.8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノ
リン−3−カルボン酸(KR−10679)の製造 l−シクロプロピル−6,7,8−)リフルオロ−■、
4−ジヒドロー4−オキソキノリン−3−カルボン酸0
.28g、3,7−ジアザビシクロ−(3,3,0)オ
クタ−1(5)−エン0.16gおよび1.8−ジアザ
ビシクロ(5,4,0)ウンデカ−7−エン(DBU)
 0.3肩Qを、アセトニトリル201Igに懸濁しそ
して100℃の油浴中で5時間還流する。反応混合物を
室温に一夜保持する。生成した沈澱を濾過しそしてエタ
ノール−エチルエーテル(1:l)溶剤で洗浄する標記
化合物0.3y (収率80%)を得る。
融点=220〜223℃(分解)。
実施例 11 1−シクロプロピル−7−(3,7−ジアザビシクロ(
3,3,0)オクタ−■(5)−エン−3−イル〕−6
,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノ
リン−3−カルボン酸(KR−10679)の製造 アセトニトリル(IQ)中の1−シクロプロピル−6,
7,8−トリフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
キノリン−3−カルボン酸(14,7g)、3.7−ジ
アザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン 
ジ臭化水素酸塩(14,19)およびジイソプロピル−
エチルアミン(45m(2)の懸濁液を、5時間還流す
る。反応混合物を室温に冷却しそして生成した沈澱を枦
遇しそしてそれから順次にアセトニトリル(200m1
2)および水(200m12)で洗浄する。真空乾燥し
て標記化合物(16,6g、収率85%)を得る。
融点:220〜222℃(分解)。
実施例 12 1−シクロプロピル−7−C3,7−ジアザビシクロ(
3,3,O)オクタ−1(5)−エン−3−イル〕−6
.8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノ
リン−3−カルボン酸ギ酸塩(KR−10802)の製
造 実施例11において製造した1−シクロプロピル−7−
C3,7−ジアザビシクロC3,3,0)オクタ−1(
5)−工ン−3−イル)−6,8−ジフルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸(0
,1g)を、真空下で一掃して徽量の溶剤を除去しそし
て標記化合物(0,959、収率85%)を得る。
融点:197〜200℃(分解)。
実施例 I3 ■−シクロプロピル−7−(3,7−ジアザビシクロ〔
3゜3.0〕オクタ−1(5)−エン−3−イルツー6
,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−才キソキノ
リン−3−カルボン酸塩酸塩(KR−10777)の製
造 実施例11において製造したl−シクロプロピル−7−
(3,7−ジアザビシクロC3,3,0)オクタ−1(
5)−エン−3−イル)−6,8−ジフルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸0.
59を、濃塩酸(101171)およびメタノール(1
0e(1)に溶解する。不溶性部分を消去しそしてか液
を濃縮乾固しそしてそれから順次に50%エタノール(
5IIQ)およびエタノール(10m(1)で洗浄する
。標記化合物(0,42g、収率77%)を得る。
融点=197〜201”l:! (分解)。
IH−NMR(D30.  δppm): 8−69(
IH,s)、7.20(IH。
d、 J=14.2Hz)、4.52(4H,br、 
s)、4−20(4H,s)、3.92(IH,m)、
1.24−1.08(4H,l11)。
実施例 14 1−シクロプロピル−7−(3,7−ジアザビシクロ(
3,3,0)オクタ−1(5)−工ン−3−イル〕−6
.8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノ
リン−3−カルボン酸塩酸塩(KR−10777)の製
造 実施例11において製造した1−シクロプロピル−7−
[3,7−ジアザビシクロC3,3,0)オクタ−1(
5)−エン−3−イル)−6,8−ジフルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸0.
6gを、2%酢酸(50m(1)に溶解する。この溶液
に、濃塩酸(5mff)およびエタノール(100mQ
)を加えそして水浴中に保持する。
沈澱を標記化合物(0,4g、収率60%)として濾過
する。
融点=197〜201″C(分解)。
実施例 】5 1−フクロプロビル−6−フルオロ−7−〔7−メチル
−3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(
5)−エン−3−イルゴー4−オキソ−1,8−す7チ
リゾンー3−カルボン酸塩酸塩(KR−10816)の
製造 ピリジン(40+*(1)中の1.8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデカ−7−エン(DBU)の溶液に
、7−クロロ−1−シクロプロピル−6−フルオロ−1
,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−
3−カルボン酸(2,1g)および3,7−ジアザビシ
クロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭化水
素酸塩(2g)を加えそして室温で1.5時間撹拌する
。生成した沈澱を濾過しそしてアセトニトリル(20m
4)で洗浄してl−シクロプロピル−6−フルオロ−7
−(3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1
(5)−エン−3−イル〕−4−オキソー1.8−ナフ
チリジン−3−カルボン酸(KR−10797,2,6
g、収率97%)を得る。
この化合物に、37%ホルマリン(20+*12)およ
び98%ギ酸(20m<1)を加えそして6時間還流す
る。
試薬を真空下で除去しそしてメタノール(20tQ)お
よび濃塩酸(1012)を加えそして室温で30分撹拌
する。溶剤を除去し、インプロパツール(50m12)
で洗浄して標記化合物(2,5g、収率84%)を得る
融点240〜245℃(分解)。
実施例 16 ■−シクσグaビル−7−(3,7−ジアザビシクロ(
3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3−イルツー6
−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−
3−カルボン酸の製造 1−シクロプロピル−6,7−ジフルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸(4,4
g)および3.7−ジアザビシクロ(3,3,0)オク
タ−1(5)−エン ジ臭化水素酸塩(4,2g) ’
t、アセトニトリル(12oIIQ)中のジイソプロピ
ルエチルアミン(Il、6m(1)に加えそして7時間
還流する。生成した沈澱を濾過し、アセトニトリル(1
00*Q) 、水(50mQ) 、エタ)−ル(50m
12)そしてそれからエチルエーテル(50峠)で洗浄
して標記化合物C4,2y、収率77%)を得る。
融点:239〜242℃。
’H−NMR(CDsCOOD、  δppm)  +
  8.57 (IH,s)  、7.82 (IH,
d、 J=12.2Hz) 、7.12(IH,d、 
J=7.4Hz)、4.52(4H,s)、4.20(
4B、 s)、3.82(IH,m)、137(2H,
m)、1.20(2o、 m)。
実施例 17 ■−シクロプロピル−7−(3,7−ジアザビシクロC
3,3,0)オクタ−I(5)−工ン−3−イル〕−6
−フルオロー1.4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−
3−カルボン酸ギ酸塩(KR−10824)の製造 実施例16で製造したl−シクロプロピル−7−(3,
7−ジアザビシクロ(3,3,0]オクタ−1(5)−
エン−3−イル)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−
4−オキソキノリン−3−カルボン酸1.6gを、98
%ギ酸(150*Q)に溶解する。不溶性部分をか過に
より除去しそしてか液を真空濃縮し、エタノール(30
+mff)およびエチルエーテル(30m+2)で洗浄
して標記化合物(1,79、収率94%)を得る。
融点245〜250℃(分解)。
実施例 18 1−シクロプロピル−7−(3,7−ジアザビシクロ(
3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3−イル〕−6
−フルオロー1.4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−
3−カルボン酸塩酸塩(KR−10787)の製造 1−シクロプロピル−6,7−ジフルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸(1,0
79)、3,7−ジアザビシクロ(3,3,03オクタ
−1(5)−エン ジ臭化水素酸塩(1,08g)およ
び1.8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデカ−7
−エン(DBU、  2肩Q)を、アセトニトリル(2
0Ilc)に懸濁しそして3時間還流する。反応混合物
を冷却した後、生成した沈澱をか過により集めモしてア
セトニトリルおよびメタノールで洗浄する。固体をメタ
ノール(5yr(t)および濃塩酸(5raQ)に溶解
しそしてそれから不溶性部分を消去する。炉液を真空濃
縮し、エタノールで洗浄して標記化合物(0,95g、
収率60%)を得る。
融点:260〜263℃。
’H−NMRCCDCQs + CD5COOD、  
δppm): 9.36(IH。
s)  、7.87(IH,d、J=12.2Hz)、
6.85(1B、d、J−7,4Hz)、4.50(4
H,s)、4.27(4H,s)、3.53(18゜m
)、1.40(2H,m)、1.27(2H,m)。
実施例 19 1−シクロプロピル−6−フルオロ−7−(7−メチル
−3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(
5)−エン−3−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソキノリン−3−カルボン酸塩酸塩(KR−10820
)の製造 実施例I6において製造した1−シクロプロピル−7−
(3,7−ジアザビシクロC3,3,0)オクタ−1(
5)−エン−3−イル)−6−フルオロ−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸1.59を
、98%ギ酸(18+*(1)および37%ホルマリン
(18m12)に溶解しそして5時間還流する。生成物
に、HCQガスを飽和したインプロパツール150m(
lを加えそして1時間還流する。
溶剤を真空下で一掃し、インプロパツールで洗浄して標
記化合物(1,48g、収率86%)を得る。
融点:260〜263°C0 +1(−NMI?(020、δppm): 8.27(
IH,s)、6.93(11(。
d、  +13.8Hz)  、  5.58(IH,
d、  J=7.3Hz) 、4.25(2H,br、
s) 、3.99(4H,s)、3.80(2H,br
、s)、3.23(LH,m) 、2.88(3H,s
) 、1.12−0.89(4H。
n+)。
実施例 20 1−シクロプロピル−6,8−ジフルオロ−7−〔7−
エチル−3,フージアザビシクロ(3,3,O)オクタ
−1(5)−エン−3−イル)−1,4−ジヒドロ−4
−オキソキノリン−3−カルボン酸(KR−10831
)の製造 l−シクロプロピル−6,7,8−トリフルオロ−IH
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸(
0,48g) 、N−エチル−3,7−ジアザビシクロ
(3,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭化水素酸
塩(0,57g)および1.8〜ジアザビシクC1(5
,4,03ウンデカ−7−x :/ CDBU、 0.
87+++11)を、アセトニトリル(20m12)に
溶解しそして3時間還流する。反応混合物を冷却した後
、生成した沈澱をか過により集めモしてアセトニトリル
(10+l)およびメタノール(lo肩11)で洗浄し
て標記化合物(0,5凱収率73%)を得る。
融点:188〜192℃。
’H−NMR(CDCIIs + CD5GOOD、δ
ppm): 8.86(IH。
S)、7.86(IH,d、 J=14.2Hz)、4
.82(2H,br、s)、4.68(4M、 s)、
4−30(2H,q、 J=7.1Hz)、3.96(
IH。
+w)、3.88(2)1. br、s)、1.48(
3H,t、 J=7.1Hz)、1.27(4)1. 
m)。
実施例 21 7−(3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−
1(5)−オン−3−イル)−6,8−ジフルオロ−1
−(4−フルオロフェニル)−1,4−ジヒドロ−4−
オキソキノリン−3−カルボン酸(Kli’−1079
8)の製造 1−(4−フルオロフェニル) −6,7,8−トリフ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−
カルボン酸(0,339) 、3.7−ジアザビシクロ
(3,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭化水素酸
塩(0,27g)および1,8−ジアザビシクロ(5,
4,0)ウンデカ−7−z ン(DBIJ、  I y
aQ)を、アセトニトリル(10mQ)に溶解しそして
4時間還流する。反応混合物を室温で一夜保持しそして
生成した沈澱を濾過し、アセトニトリル、メタノールで
洗浄して標記混合物(0,28g、収率66%)を得る
融点:195〜198℃。
’)I−NIR(CDCL + CDjCOOD、  
δppn+): 8.55(IH。
S)、7.94(IH,d、 J=14.3Hz) 、
7−43C2H,m)、7.25(2H,m)、 4.
55(4H,s)、 4.15(4H,s)。
実施例 22 7−(3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−
1(5)−エン−3−イル)−1−(2,4−ジフルオ
ロフェニル)−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ
−4−オキソキノリン−3−カルボン酸(KR−108
17)の製造 1− (2,4−ジフルオロフェニル)−6,7,8−
トリフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン
−3−カルボン酸(1,07g) 、3.7−ジアザビ
シクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭化
水素厳塩(1g)および1,8−ジアザビシクロ(5,
4,0)ウンデカ−7−エン(DBU、 2 m12)
を、アセトニトリル(30m1+)に溶解しそして7時
間還流する。反応混合物を室温で一夜保持しそして生成
しt;沈澱を枦遇しそしてそれからメタノール(10+
12)に懸濁しそして30分音波破壊する。
不溶性生成物を濾過により集めて標記化合物(1g、収
率74%)を得る。
融点;231〜235°C(分解)。
’H−NMR(CDCIIs 十CD5GOOD、  
δppm): 8.60(IH。
S)、7.96 (LH,d、 J=14.2Hz)、
7.39−7.23(3H。
■) 、4.51(4L s)、4.14C4H,s)
実施例 23 I−エチル−7−(3,7−ジアザビシクロ(3,3,
0)オクタ−1(5)−エン−3−イルツー6−フルオ
ロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カル
ボン酸の製造 アセトニトリル(10m12)中の7−クロロ−1−エ
チル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキ
ノリン−3−カルボン酸(0,279)、3.7−ジア
ザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ
臭化水素酸塩(0,31g)および1.8−ジアザビシ
クロ(5,4,0)ウンデカ−7−エン(DBU。
0.52+*(1)を、7時間還流する。反応混合物を
室温で一夜保持しそして生成した沈澱を濾過し、アセト
ニトリル、水で洗浄し次に真空乾燥して標記化合物(0
,25g、収率72%)を得る。
融点=229〜232°C(分解)。
’H−NMR(CDCI2. + CD、C00D、δ
ppm): 8.55(IH。
s) 、7.85(IH,d、 J=12.3Hz)、
7.14(IH,d、 J=7.3Hz)、4.54(
48,s)、4.36(2B、  q、  J=7.1
Hz)、4.23(4H,s)、1.46(3H,t、
  J=7.1Hz)。
実施例 24 ■−第3ブチル−7−(3,7−ジアザビシクロ(3,
3,0)オクタ−1(5)−エン−3−イル〕−6,8
−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン
−3−カルボン酸の製造 アセトニトリル(12m12)中のl−第3ブチル−6
,7,8−トリフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソキノリン−3−カルボン酸(0,329)、3.7−
ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン
 ジ臭化水素酸塩(0,39)および1.8−ジアザビ
シフl:’ (5,4,0)ウンデカ−7−エフ ([
)131゜0.55+*12)を、5時間還流する。生
成した沈澱をが過により集め、アセトニトリルおよびメ
タノールで洗浄して標記化合物(0,38g、収率92
%)を得る。
融点=265〜268℃。
’H−NMR(CDC12,+CD3COOD、  δ
ppm): 8.57(IH。
s)  、8.02(IH,d、J=14.2Hz) 
 、4.50(4H,s)、4.17(4H,s)、1
.87(98,s)。
実施例 25 ■−シクログロピルー6.8−ジフルオロ−7−(7−
エチル−3,フージアザビシクロ(3,3,0)オクタ
−1(5)−エン−3−イル)−1,4−ジヒドロ−4
−オキソキノリン−3−カルボン酸の製造 実施例11において製造したジメチルホルムアミド(3
0m(1)中の1−シクロプロピル−6,8−ジフルオ
ロ−7−、(3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オ
クタ−1(5)−エン−3−イル)−1,4−ジヒドロ
−4−オキソキノリン−3−カルボン酸(0,37g)
の溶液に、沃化エチル(0,179)および炭酸カリウ
ム(粉末、19)を加えそして室温で24時間撹拌する
。反応混合物に水(100mQ)を加えそして沈澱物を
濾過する。濾過ケーキをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーCCHCQs:メタノール:酢酸−6:3:1)
により精製して標記化合物(0,21g、収率52%)
を得る。
融点=188〜192℃。
実施例 26 ■−ジシクロプロピル−68−ジフルオロ−7−(7−
メチル−3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ
−1(5)−エン−3−イル)−1,4−ジヒドロ−4
−オキソキノリン−3−カルボン酸(KR−10845
)の製造 ■−ジシクロプロピル−67,8−1−リフルオロ−1
,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸
(0,42g) 、3−メチル−3,7−ジアザビシク
ロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭化水素
酸塩(0,47g)および1.8−ジアザビシクロ(5
,4,0)ウンデカ−7−エン(DBU、 0.63g
)を、アセトニトリル(20mff)に溶解しそして7
時間還流する。反応混合物を室温に一夜保持しそしてそ
れから生成した沈澱を濾過し、アセトニトリルおよびメ
タノールで洗浄して標記化合物0.36g(収率62%
)を得る。
’H−NMRCCDC(is + CD5COOD、 
δppm): 8.84(IH。
S)、7.87(l)l、 dd、 J=14.3.1
.8Hz)、4.68(4H。
S)、4.32(4H,s)、4.01(IH,m)、
3.09(3H,s)、1.28(2H,m)、l−1
9(2H,m)。
実施例 27 1−フクロプロピル−6,8−ジフルオロ−7−〔7−
メチル−3,7−ジアザビシクロ(3,3,0)オクタ
−1(5)−エン−3−イル)−1,4−ジヒドロ−4
−オキソキノリン−3−カルボン酸塩酸塩(KR−10
755)の製造 実施例26において製造したl−シクロプロピル−6,
8−ジフルオロ−7−〔7−メチル−3,7−ジアザビ
シクロ(3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3−イ
ル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カ
ルボン酸0.3gを、水中の5%酢酸IQm(lに溶解
しそしてそれから35%塩酸2raQおよびエタノール
20m(lを加える。混合物を、氷水浴中に1時間保持
しそしてそれから得られた沈澱を濾過し、エチル−エー
テルで洗浄しそして真空乾燥して標記化合物0.25g
(収率78%)を得る。
融点=21θ〜213℃(分解)。
実施例 28 6.8−ジフルオロ−7−(3,7−ジアザビシクロ(
3,3,0)オクタ−1(5)−エン−3−イル〕1−
(2−フルオロエチル)−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソキノリン−3−カルボン酸の製造 1−(2−フルオロエチル’)−6,7,8−トリフル
オロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カ
ルボン酸(0,29g) 、3.7−ジアザビシクロ(
3,3,0)オクタ−1(5)−エン ジ臭化水素酸塩
(0,33g)および1.8−ジアザビシクロ(5,4
,O)ウンデカ−7−エン(DBU、 0.46g)を
、アセトニトリル(15Q)に溶解しそして3時間還流
する。反応混合物を室温で一夜保持しそして沈澱を濾過
により集め、アセトニトリルおよびメタノールで洗浄し
て標記化合物(0,29g、収率76%)を得る。
融点:241〜245℃(分解)。
’H−NMRCCDC(1,+ CD5COOD、δp
p+i): 8.86(IH。
S)、7.88(IH,dd、 J=14.2.1.8
Hz)、4.68(4H。
s) 、 4.50(IH,t、 J=7.8Hz) 
、 4.23(41(、s)、3.46(IH,t、 
J−7,8Hz)、3.05(IH,t、 J=7.8
Hz)、2.91(IH,t、 J・7.8Hz)。
実施例 29 7−〔7−メチル−3,7−ジアザビシクロ(3,3,
0)オクタ−1(5)−エン−3−イル)−1−(2,
4−ジフルオロフェニル) −6,8−ジフルオロ−1
,4−−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン
酸塩酸塩(KR−10819)の製造実施例22におい
て製造した7 −(3,7−ジアザビシクロ(3,3,
0)オクタ−1(5)−エン−3−イル)−1−(2,
4−ジフルオロフェニル)−6,8−ジフルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸(
445B)を、98%ギ酸lOmQに溶解しそして37
%ホルマリン’2aQヲ加りる。混合物を4時間還流し
そして過剰の試薬を減圧下で除去する。得られた固体を
水5+*12に溶解しそして不溶性部分をか過により除
去する。
炉液に、4N−NaOHを加えてpH8にする。沈澱を
枦遇しそして真空乾燥しそしてそれから固体物質をジク
ロロメタン(5m<1)およびエタノール(l mQ)
に溶解する。乾燥H(4ガスを導入して沈澱を生成させ
る。この沈澱を枦遇しそしてエチルエーテルで洗浄して
標記化合物(40411g、収率88%)を得る。
融点:247〜251’O(分解)。
’)l−NMR(CDCI2s+ CD、OD、  δ
ppm): 8.57(IH,s)、7.94(l)l
、d、J=14−IHz)  、7.42(IH,11
+)  、7.17(2H,m)、4.67(4H,s
)、4.10(4H,s)、3.20(3H。
S)・ 上記実施例において製造したキノロン化合物を、寒天稀
釈試験方法により抗菌活性度について試験した。結果は
、第1表および第■表に示される通りである。
本発明の一般式Iのキノロン化合物は、例えば、シブロ
ア0キサジンおよびオフロキサシンのような既知のキノ
ロン抗菌剤よりも、グラム陽性細菌に対して非常に良好
な抗菌活性を有しそしてダラム陰性細菌に対してはシグ
ロフロキサシンまたはオフロキサシンと同様なまたはそ
れより良好抗菌活性を有す。これらの化合物は、また、
シュードモナス・エールギノサに対してすぐれた抗菌活
性を有す。また、これらの化合物は、メチシリン耐性ス
タフィロコッカス・オーレウスに対して既存のキノロン
抗菌剤よりもくずれI;抗菌活性を有しく第■表)そし
てまたすでに使用されているキノロンに耐性の細菌に対
する抗菌試験において、すぐれI;作用を有す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) のキノロン化合物およびR_1が水素である場合は、そ
    の薬学的に許容し得る酸付加塩および水和物。 上記式において、 Xは、C−H、C−FまたはNを示し、 Zは、水素、ハロゲンまたはアミノを示 し、 R_1は、水素または薬学的に許容し得る陽イオンを示
    し、 R_2は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ハロ
    ゲン化アルキルまたはヒドロキシアルキル、ビニル、3
    〜6個の炭素原子を有するシクロアルキルまたはフルオ
    ロフェニルを示し、 R_3は、水素、低級アルキルまたはホルミルを示し、 mは、1〜3の整数であり、そして nは、1または2である。 2)(a_1)一般式II ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、X、Z、R_1およびR_2は後述する通りで
    ありそしてLは離脱基を示す)の化合物を一般式III ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、mおよびnは後述する通りでありそしてRは水
    素、低級アルキルまたは保護基を示す)のジアザビシク
    ロアミンまたはその酸塩と縮合させるかまたは (a_2)式IIa ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) (式中、Z、XおよびR_2は後述する意義を有しそし
    てR′_1は保護基を示す)の化合物を式IIIa ▲数式、化学式、表等があります▼(IIIa) (式中、Rおよびmは後述する通りでありそしてX′は
    離脱基を示す)の化合物と縮合させて、それによって一
    般式IV ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、Z、X、R、R_1、R_2、mおよびnは後
    述する通りである。但し、工程a_2に対してはnは1
    である)の化合物を得、 (b)保護基を除去し、そして (c)場合によってはR=水素を低級アルキルまたはホ
    ルミルにより置換しそして必要に応じて化合物をその薬
    学的に許容し得る塩に変換することからなる式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、XはC−H、C−FまたはNを示し、Zは水素
    、ハロゲンまたはアミノを示し、R_1は水素または薬
    学的に許容し得る陽イオンを示し、R_2は1〜4個の
    炭素原子を有するアルキル、ハロゲン化アルキルまたは
    ヒドロキシアルキル、ビニル、3〜6個の炭素原子を有
    するシクロアルキルまたはフルオロフェニルを示し、R
    _3は水素、低級アルキルまたはホルミルを示し、mは
    1〜3の整数でありそしてnは1または2である)のキ
    ノロン化合物およびその薬学的に許容し得る塩および水
    和物の製法。 3)一般式 I のキノロンまたはその薬学的に許容し得
    る塩または水和物の有効量を含有する細菌感染に対して
    活性な薬学的組成物。 4)薬学的に慣用の賦形剤または稀釈剤を使用して式
    I のキノロンまたはその薬学的に許容し得る塩または水
    和物を薬学的に許容し得る投与形態にすることからなる
    細菌感染に対して活性な薬学的組成物の製法。 5)細菌感染の治療用薬学的組成物を製造するための一
    般式 I のキノロンまたはその薬学的に許容し得る塩ま
    たは水和物の使用。 6)一般式 I のキノロンまたはその薬学的に許容し得
    る塩または水和物またはこのような化合物を含有する薬
    学的組成物を投与することからなる温血動物の細菌感染
    を治療する方 法。
JP2282067A 1989-10-23 1990-10-22 キノロン化合物およびその製法 Pending JPH03193780A (ja)

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