JPH0935493A - 半導体メモリ装置、マイクロコントローラ及び半導体メモリ装置の製造方法 - Google Patents
半導体メモリ装置、マイクロコントローラ及び半導体メモリ装置の製造方法Info
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- JPH0935493A JPH0935493A JP7201535A JP20153595A JPH0935493A JP H0935493 A JPH0935493 A JP H0935493A JP 7201535 A JP7201535 A JP 7201535A JP 20153595 A JP20153595 A JP 20153595A JP H0935493 A JPH0935493 A JP H0935493A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/18—Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
- G11C29/24—Accessing extra cells, e.g. dummy cells or redundant cells
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヒューズ素子を溶断する前にリダンダンシー
セルのテストを可能にするテストの効率化を図った不揮
発性の記憶手段及びヒューズ素子を備えた半導体メモリ
装置及びその製造方法及び1チップマイクロコントロー
ラ提供する。 【解決手段】 半導体基板20上の絶縁膜に形成された
所定の深さとパターンを有す記憶手段から読み出された
データを格納する第1のレジスタ21と、外部からのデ
ータを格納する第2のレジスタ22と、第1のレジスタ
及び第2のレジスタの各出力を所定のモード信号に基づ
いて選択的に出力させる選択回路25とを備え、テスト
モード以外の第1のモードでは、第1のレジスタのデー
タのアドレスの救済情報に基づいて不良ビットをリダン
ダンシーセルと置き換え、テストモードである第2のモ
ードでは、第2のレジスタのデータのアドレスの救済情
報に基づいて不良ビットをリダンダンシーセルと置き換
えてテストを行う。
セルのテストを可能にするテストの効率化を図った不揮
発性の記憶手段及びヒューズ素子を備えた半導体メモリ
装置及びその製造方法及び1チップマイクロコントロー
ラ提供する。 【解決手段】 半導体基板20上の絶縁膜に形成された
所定の深さとパターンを有す記憶手段から読み出された
データを格納する第1のレジスタ21と、外部からのデ
ータを格納する第2のレジスタ22と、第1のレジスタ
及び第2のレジスタの各出力を所定のモード信号に基づ
いて選択的に出力させる選択回路25とを備え、テスト
モード以外の第1のモードでは、第1のレジスタのデー
タのアドレスの救済情報に基づいて不良ビットをリダン
ダンシーセルと置き換え、テストモードである第2のモ
ードでは、第2のレジスタのデータのアドレスの救済情
報に基づいて不良ビットをリダンダンシーセルと置き換
えてテストを行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、冗長回路を有する
半導体メモリ装置及びこの半導体メモリ装置を内蔵した
1チップマイクロコントローラ及び半導体メモリ装置に
関する。
半導体メモリ装置及びこの半導体メモリ装置を内蔵した
1チップマイクロコントローラ及び半導体メモリ装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の半導体基板(チップ)に組
み込まれている半導体素子が微細化され、1チップの中
に含まれる素子数が巨大化するにつれて、欠陥密度に対
する対策の水準も向上するが、開発段階や量産の初期に
おいては低い歩留まりが問題になっている。この問題を
解決するために冗長回路(以下、リダンダンシー(re
dundancy)又はリダンダンシー回路という)技
術が提案され、実用化されてきた。ここで、例えば、メ
モリ素子において製造工程中に作られる欠陥を救済する
冗長回路について説明する。メモリセルの配列中に欠陥
のロー又はカラムが存在した場合に、スペアのローやカ
ラムを各々何本か用意しておき、欠陥部分に相当するア
ドレス信号が入力されたときに、スペアのローやカラム
を選択するように回路を構成することで欠陥を含みなが
らも良品として扱うことができる。この冗長回路によっ
てチップ面積は若干増大するが歩留まりが大幅に向上す
る。こうした冗長回路を実現する上で、各チップにラン
ダムに発生する欠陥箇所に対応するアドレスをスペア部
に割り付ける1種のプログラミング手段の選択が非常に
重要になってくる。
み込まれている半導体素子が微細化され、1チップの中
に含まれる素子数が巨大化するにつれて、欠陥密度に対
する対策の水準も向上するが、開発段階や量産の初期に
おいては低い歩留まりが問題になっている。この問題を
解決するために冗長回路(以下、リダンダンシー(re
dundancy)又はリダンダンシー回路という)技
術が提案され、実用化されてきた。ここで、例えば、メ
モリ素子において製造工程中に作られる欠陥を救済する
冗長回路について説明する。メモリセルの配列中に欠陥
のロー又はカラムが存在した場合に、スペアのローやカ
ラムを各々何本か用意しておき、欠陥部分に相当するア
ドレス信号が入力されたときに、スペアのローやカラム
を選択するように回路を構成することで欠陥を含みなが
らも良品として扱うことができる。この冗長回路によっ
てチップ面積は若干増大するが歩留まりが大幅に向上す
る。こうした冗長回路を実現する上で、各チップにラン
ダムに発生する欠陥箇所に対応するアドレスをスペア部
に割り付ける1種のプログラミング手段の選択が非常に
重要になってくる。
【0003】従来のリダンダンシー回路を含む半導体メ
モリ装置の回路構成図を図2、図11及び図12に示
す。図に示す半導体メモリ装置は不良ビットのあるワー
ドライン(ローライン)を救済する例であり、不良のロ
ーアドレスを決めるアドレス信号(A0〜An)に対し
て不良アドレスを記憶させ、各入力アドレスビットと記
憶アドレスビットとの一致を検出する回路10を置換ロ
ーアドレス数(m個)だけ備えている。そして、不良ア
ドレスと一致した場合に成立する信号(AE1〜AE
m)に対してそれぞれスペアローライン(SWL1〜S
WLm)3が設けられ、ローライン5がアクセスされる
とともにメインローデコーダ8の成立をスペアイネーブ
ル信号/(SE) (「 /」は、SEの上に記すバーを表
し、イネーブル反転信号を示す。以下同様である。)に
よって禁止することができる構成になっている。
モリ装置の回路構成図を図2、図11及び図12に示
す。図に示す半導体メモリ装置は不良ビットのあるワー
ドライン(ローライン)を救済する例であり、不良のロ
ーアドレスを決めるアドレス信号(A0〜An)に対し
て不良アドレスを記憶させ、各入力アドレスビットと記
憶アドレスビットとの一致を検出する回路10を置換ロ
ーアドレス数(m個)だけ備えている。そして、不良ア
ドレスと一致した場合に成立する信号(AE1〜AE
m)に対してそれぞれスペアローライン(SWL1〜S
WLm)3が設けられ、ローライン5がアクセスされる
とともにメインローデコーダ8の成立をスペアイネーブ
ル信号/(SE) (「 /」は、SEの上に記すバーを表
し、イネーブル反転信号を示す。以下同様である。)に
よって禁止することができる構成になっている。
【0004】半導体メモリ装置のメモリ部にはメモリセ
ルアレイ1とリダンダンシーセル2が設けられている
(図2)。リダンダンシーセル2のゲートは、m本の前
記スペアローライン3に接続され、1本のスペアローラ
イン3には、k個のリダンダンシーセル2が接続されて
いる。一方メモリセルアレイ1のメモリセル4のゲート
は、ローライン(WL1〜WLm)5に接続され、1本
のローライン5にはk個のメモリセル4が接続されてい
る。メモリセル4及びリダンダンシーセル2のソース/
ドレイン電極の一方は、GND線6に接続され、他方
は、k本のビットライン7に接続されている。ビットラ
イン7は、カラムセレクタ及びセンスアンプ9に接続さ
れ、各センスアンプからのデータ信号(D0〜Dn)
は、データバスに伝えられるように構成されている。
ルアレイ1とリダンダンシーセル2が設けられている
(図2)。リダンダンシーセル2のゲートは、m本の前
記スペアローライン3に接続され、1本のスペアローラ
イン3には、k個のリダンダンシーセル2が接続されて
いる。一方メモリセルアレイ1のメモリセル4のゲート
は、ローライン(WL1〜WLm)5に接続され、1本
のローライン5にはk個のメモリセル4が接続されてい
る。メモリセル4及びリダンダンシーセル2のソース/
ドレイン電極の一方は、GND線6に接続され、他方
は、k本のビットライン7に接続されている。ビットラ
イン7は、カラムセレクタ及びセンスアンプ9に接続さ
れ、各センスアンプからのデータ信号(D0〜Dn)
は、データバスに伝えられるように構成されている。
【0005】不良のローアドレスを決めるアドレス信号
に対して不良アドレスを記憶させ、各入力アドレスビッ
トと記憶アドレスビットとの一致を検出する回路10の
出力は、AND回路11に入力され、その出力(AE1
〜AEm)は、各レベルシフタ回路12を介してスペア
ローライン3に入力される。また、AND回路11の出
力(AE1〜AEm)は、NOR回路13に入力され、
その出力/(SE) は、ローデコーダ8を介してローライ
ン5に入力される。アドレスバスからのアドレス信号
(A0〜An)もその反転信号とともにローデコーダ8
を介してローライン5に入力される。
に対して不良アドレスを記憶させ、各入力アドレスビッ
トと記憶アドレスビットとの一致を検出する回路10の
出力は、AND回路11に入力され、その出力(AE1
〜AEm)は、各レベルシフタ回路12を介してスペア
ローライン3に入力される。また、AND回路11の出
力(AE1〜AEm)は、NOR回路13に入力され、
その出力/(SE) は、ローデコーダ8を介してローライ
ン5に入力される。アドレスバスからのアドレス信号
(A0〜An)もその反転信号とともにローデコーダ8
を介してローライン5に入力される。
【0006】図13に、従来の不良アドレスを記憶さ
せ、各入力アドレスと記憶アドレスビットとの一致を検
出する回路の回路構成図を示す。まず、リダンダンシー
回路を使用する場合に利用するアドレス検知回路をイネ
ーブルにする必要がある。そのためのビットがFE1〜
FEmであり、一方がGNDに接続されたヒューズ素子
Fは、抵抗Rを介して電源に接続されている。このヒュ
ーズ素子Fが電流またはレーザによって溶断されると抵
抗Rとヒューズ素子の接続点fgは“H”レベルにな
り、これがバッファに入力されてスペアイネーブル信号
(SE)が“1”になる。不良アドレス情報も同様にヒ
ューズ素子のオン/オフ状態で記憶される。例えば、ア
ドレス信号A0=0、A1=1、・・・が不良アドレス
の場合、F01ビットのヒューズ素子を切断すると、A
0=0が入力されたときにSA0=1になり、F11ビ
ットのヒューズ素子をオンのままにすると、A1=1が
入力されたときにSA1=1になるように、それぞれの
ヒューズ素子からの入力とアドレス入力とを排他的論理
和回路(exOR)に入力させ、不良アドレスが入力さ
れると、その出力のSA0〜SAnがすべて1が成立す
るようにする。
せ、各入力アドレスと記憶アドレスビットとの一致を検
出する回路の回路構成図を示す。まず、リダンダンシー
回路を使用する場合に利用するアドレス検知回路をイネ
ーブルにする必要がある。そのためのビットがFE1〜
FEmであり、一方がGNDに接続されたヒューズ素子
Fは、抵抗Rを介して電源に接続されている。このヒュ
ーズ素子Fが電流またはレーザによって溶断されると抵
抗Rとヒューズ素子の接続点fgは“H”レベルにな
り、これがバッファに入力されてスペアイネーブル信号
(SE)が“1”になる。不良アドレス情報も同様にヒ
ューズ素子のオン/オフ状態で記憶される。例えば、ア
ドレス信号A0=0、A1=1、・・・が不良アドレス
の場合、F01ビットのヒューズ素子を切断すると、A
0=0が入力されたときにSA0=1になり、F11ビ
ットのヒューズ素子をオンのままにすると、A1=1が
入力されたときにSA1=1になるように、それぞれの
ヒューズ素子からの入力とアドレス入力とを排他的論理
和回路(exOR)に入力させ、不良アドレスが入力さ
れると、その出力のSA0〜SAnがすべて1が成立す
るようにする。
【0007】このような従来のリダンダンシー回路のテ
ストフローを図14に示す。最初に全ビットが初期状態
(消去)になっているか否かをチェックし(1)、OK
ならば書き込みのチェックを行う(2)。リダンダンシ
ーによる救済を行わない場合は、ここでOKのものを信
頼性試験のために一旦テスタから外して高温放置試験を
行う(3)。そして、書き込んだデータが消えていない
かどうかを再びテスタで全ビット読み出しを行い、チェ
ックしてウェーハテストが終了する(4)。リダンダン
シーによる救済を行う場合は、消去でNGのものについ
て規定のロー置換数で救済可能かどうかの判定を行い
(5)、次に書き込みでのNGのものについて規定のロ
ー置換数で救済可能かどうかの判定を行い(6)、救済
可能なものについては置換アドレス情報に基づいてリダ
ンダンシー回路のヒューズ素子のカットを行う(7)。
この従来のテストフロー行程はテスタにかけたまま行う
ことができないため、一旦、テスタマシンから外して別
のマシンで行う必要がある。そして、またヒューズ素子
をカットしたものをテスタに戻して置換されたローに対
する消去、書き込みチェックを行い(8)、その後全ビ
ットの読み出しチェックを行い(9)、またテスタから
外して高温放置試験を行う(3)。その後、再びテスタ
で全ビット読み出しを行いチェックする(4)。
ストフローを図14に示す。最初に全ビットが初期状態
(消去)になっているか否かをチェックし(1)、OK
ならば書き込みのチェックを行う(2)。リダンダンシ
ーによる救済を行わない場合は、ここでOKのものを信
頼性試験のために一旦テスタから外して高温放置試験を
行う(3)。そして、書き込んだデータが消えていない
かどうかを再びテスタで全ビット読み出しを行い、チェ
ックしてウェーハテストが終了する(4)。リダンダン
シーによる救済を行う場合は、消去でNGのものについ
て規定のロー置換数で救済可能かどうかの判定を行い
(5)、次に書き込みでのNGのものについて規定のロ
ー置換数で救済可能かどうかの判定を行い(6)、救済
可能なものについては置換アドレス情報に基づいてリダ
ンダンシー回路のヒューズ素子のカットを行う(7)。
この従来のテストフロー行程はテスタにかけたまま行う
ことができないため、一旦、テスタマシンから外して別
のマシンで行う必要がある。そして、またヒューズ素子
をカットしたものをテスタに戻して置換されたローに対
する消去、書き込みチェックを行い(8)、その後全ビ
ットの読み出しチェックを行い(9)、またテスタから
外して高温放置試験を行う(3)。その後、再びテスタ
で全ビット読み出しを行いチェックする(4)。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図14に示すようにリ
ダンダンシーによる救済を行うとオフラック(テスタか
ら一旦外すこと)回数が2回になり、救済しない場合よ
りも1回増えることになる。このようなオフラック回数
が多いと、ウェーハにテスタの針を接触させる回数が増
え、LSIなどの半導体装置が形成された半導体基板上
のパッドに損傷を与える危険が大きくなるという問題が
ある。また、リダンダンシースペアセル(スペアローラ
イン)のテストもヒューズ素子を切ってからでないとで
きないので、スペアセルにもともと不良があった場合は
救済できないのにテストする時間だけが増加してしまう
という問題がある。本発明は、このような事情によりな
されたものであり、ヒューズ素子を溶断する前にリダン
ダンシーセルのテストを可能にするテストの効率化を図
った不揮発性の記憶手段及びヒューズ素子を備えた半導
体メモリ装置及びこの半導体メモリ装置を内部に備えた
1チップマイクロコントローラを提供する。
ダンダンシーによる救済を行うとオフラック(テスタか
ら一旦外すこと)回数が2回になり、救済しない場合よ
りも1回増えることになる。このようなオフラック回数
が多いと、ウェーハにテスタの針を接触させる回数が増
え、LSIなどの半導体装置が形成された半導体基板上
のパッドに損傷を与える危険が大きくなるという問題が
ある。また、リダンダンシースペアセル(スペアローラ
イン)のテストもヒューズ素子を切ってからでないとで
きないので、スペアセルにもともと不良があった場合は
救済できないのにテストする時間だけが増加してしまう
という問題がある。本発明は、このような事情によりな
されたものであり、ヒューズ素子を溶断する前にリダン
ダンシーセルのテストを可能にするテストの効率化を図
った不揮発性の記憶手段及びヒューズ素子を備えた半導
体メモリ装置及びこの半導体メモリ装置を内部に備えた
1チップマイクロコントローラを提供する。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置は、複数のワードラインに配列された複数のメモリセ
ルからなるメモリセルアレイと、前記ワードラインの内
不良ビットが接続されているワードラインの前記不良ビ
ットをリダンダンシーセルと置き換えて救済する手段
と、アドレスの救済情報及びリダンダンシーセルの置換
許可情報を記憶する不揮発性の記憶手段と、前記記憶手
段からデータを読み出し、そのデータを格納する第1の
レジスタと、外部からのデータを格納する第2のレジス
タと、前記第1のレジスタ及び前記第2のレジスタの各
出力を所定のモード信号に基づいて選択的に出力させる
選択回路とを備え、テストモード以外の第1のモードで
は、前記第1のレジスタのデータのアドレスの救済情報
に基づいて前記不良ビットを前記リダンダンシーセルと
置き換え、テストモードである第2のモードでは、前記
第2のレジスタのデータのアドレスの救済情報に基づい
て前記不良ビットをリダンダンシーセルと置き換えてテ
ストを行うようにすることを特徴とする。
置は、複数のワードラインに配列された複数のメモリセ
ルからなるメモリセルアレイと、前記ワードラインの内
不良ビットが接続されているワードラインの前記不良ビ
ットをリダンダンシーセルと置き換えて救済する手段
と、アドレスの救済情報及びリダンダンシーセルの置換
許可情報を記憶する不揮発性の記憶手段と、前記記憶手
段からデータを読み出し、そのデータを格納する第1の
レジスタと、外部からのデータを格納する第2のレジス
タと、前記第1のレジスタ及び前記第2のレジスタの各
出力を所定のモード信号に基づいて選択的に出力させる
選択回路とを備え、テストモード以外の第1のモードで
は、前記第1のレジスタのデータのアドレスの救済情報
に基づいて前記不良ビットを前記リダンダンシーセルと
置き換え、テストモードである第2のモードでは、前記
第2のレジスタのデータのアドレスの救済情報に基づい
て前記不良ビットをリダンダンシーセルと置き換えてテ
ストを行うようにすることを特徴とする。
【0010】そして、リダンダンシーセルのデータの読
み出し/書き込みを外部より行うアドレス領域を設け、
さらに別のアドレス領域に前記第1のレジスタの読み出
しを行うアドレス領域と前記第2のレジスタの書き込み
/読み出し行うアドレス領域とをそれぞれ設けた第3の
モードを有する事を特徴とする。また、前記アドレスの
救済情報及びリダンダンシーセルの置換許可情報を記憶
する不揮発性の記憶手段が電流又はレーザで溶断するヒ
ューズ素子であっても良い。また、本発明の1チップマ
イクロコントローラは、前記半導体メモリ装置を備え、
リセット期間中に前記不揮発性の記憶手段からデータを
読み出し、リセット解除信号によって前記第1のレジス
タにデータを格納し、このデータの情報を基に不良アド
レスのビットを置換して救済することを特徴とする。
み出し/書き込みを外部より行うアドレス領域を設け、
さらに別のアドレス領域に前記第1のレジスタの読み出
しを行うアドレス領域と前記第2のレジスタの書き込み
/読み出し行うアドレス領域とをそれぞれ設けた第3の
モードを有する事を特徴とする。また、前記アドレスの
救済情報及びリダンダンシーセルの置換許可情報を記憶
する不揮発性の記憶手段が電流又はレーザで溶断するヒ
ューズ素子であっても良い。また、本発明の1チップマ
イクロコントローラは、前記半導体メモリ装置を備え、
リセット期間中に前記不揮発性の記憶手段からデータを
読み出し、リセット解除信号によって前記第1のレジス
タにデータを格納し、このデータの情報を基に不良アド
レスのビットを置換して救済することを特徴とする。
【0011】さらに、前記第1のモードにおいて全ビッ
トが初期状態化されているかをチェックする第1の工程
と、全ビットが初期状態化されているならば書き込みに
対するチェックを行う第2の工程と、前記第2の工程に
基づいてリダンダンシー回路による救済を行わない場合
は、書き込みがOKのものを信頼性試験のために一旦テ
スタから外して高温放置試験を行う第3の工程と、書き
込んだデータが第3の工程後に消えていないかどうかを
テスタで全ビット読み出しを行い、チェックする第4の
工程と、前記第1の工程に基づいて前記リダンダンシー
回路による救済を行う場合は全ビットが初期化されてい
ないものについて規定のロー(ワードライン)置換数で
救済可能かどうかの判定を行う第5の工程と、前記第2
の工程に基づいて全ビットの内一部のビットが書き込み
できないものに関して前記リダンダンシー回路により規
定のロー(ワードライン)置換数で救済可能かどうかの
判定を行う第6の工程と、前記第6の工程に基づいてリ
ダンダンシー回路により救済可能なものについては前記
第3のモードにおいてリダンダンシーセルの初期化(消
去)および書き込みのチェックを行い、前記第2のレジ
スタに救済アドレス及び置換許可情報の書き込みを行う
第7の工程と、前記第2のモードにおいて前記第2のレ
ジスタに格納された救済アドレスに基づいてロー置換さ
れた状態での全ビットの読み出しチェックを行う第8の
工程と、前記第8の工程に基づいて置換アドレス及び置
換許可情報に基づきリダンダンシー回路のヒューズ素子
のカットを行う第9の工程を備え、前記第9の工程後に
リダンダンシー回路による救済を行わない場合と同様に
前記第3及び第4の工程を経てデータのチェックを行う
ことを特徴とする。
トが初期状態化されているかをチェックする第1の工程
と、全ビットが初期状態化されているならば書き込みに
対するチェックを行う第2の工程と、前記第2の工程に
基づいてリダンダンシー回路による救済を行わない場合
は、書き込みがOKのものを信頼性試験のために一旦テ
スタから外して高温放置試験を行う第3の工程と、書き
込んだデータが第3の工程後に消えていないかどうかを
テスタで全ビット読み出しを行い、チェックする第4の
工程と、前記第1の工程に基づいて前記リダンダンシー
回路による救済を行う場合は全ビットが初期化されてい
ないものについて規定のロー(ワードライン)置換数で
救済可能かどうかの判定を行う第5の工程と、前記第2
の工程に基づいて全ビットの内一部のビットが書き込み
できないものに関して前記リダンダンシー回路により規
定のロー(ワードライン)置換数で救済可能かどうかの
判定を行う第6の工程と、前記第6の工程に基づいてリ
ダンダンシー回路により救済可能なものについては前記
第3のモードにおいてリダンダンシーセルの初期化(消
去)および書き込みのチェックを行い、前記第2のレジ
スタに救済アドレス及び置換許可情報の書き込みを行う
第7の工程と、前記第2のモードにおいて前記第2のレ
ジスタに格納された救済アドレスに基づいてロー置換さ
れた状態での全ビットの読み出しチェックを行う第8の
工程と、前記第8の工程に基づいて置換アドレス及び置
換許可情報に基づきリダンダンシー回路のヒューズ素子
のカットを行う第9の工程を備え、前記第9の工程後に
リダンダンシー回路による救済を行わない場合と同様に
前記第3及び第4の工程を経てデータのチェックを行う
ことを特徴とする。
【0012】また、前記第7の工程おいて置換されるリ
ダンダンシーセルに書き込むデータは前記第2の工程に
おいてその置換すべきロー(ワードライン)のセルに書
き込むデータと同じデータにしても良い。不揮発性の記
憶手段がレーザ溶断ヒューズ素子タイプのメモリの場合
に実際にヒューズ素子溶断する前の第1回目のテスター
試験のときにリダンダンシーセルの書き込み/読み出し
テストが可能となるので、ヒューズ素子溶断後にリダン
ダンシーセルだけのために書き込み/読み出しテストを
行わずに済み、高温放置テスト後、第2回目のテストに
おいて実際に不良メモリセルがリダンダンシーセルに置
き換っているかテストするだけでよく、半導体基板上に
形成された半導体装置のパッドに与える損傷を最小限に
抑えることができるとともにテストの効率化を図ること
が可能になる。
ダンダンシーセルに書き込むデータは前記第2の工程に
おいてその置換すべきロー(ワードライン)のセルに書
き込むデータと同じデータにしても良い。不揮発性の記
憶手段がレーザ溶断ヒューズ素子タイプのメモリの場合
に実際にヒューズ素子溶断する前の第1回目のテスター
試験のときにリダンダンシーセルの書き込み/読み出し
テストが可能となるので、ヒューズ素子溶断後にリダン
ダンシーセルだけのために書き込み/読み出しテストを
行わずに済み、高温放置テスト後、第2回目のテストに
おいて実際に不良メモリセルがリダンダンシーセルに置
き換っているかテストするだけでよく、半導体基板上に
形成された半導体装置のパッドに与える損傷を最小限に
抑えることができるとともにテストの効率化を図ること
が可能になる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の半
導体メモリ装置の実施の形態を説明する。まず、図1乃
至図3を参照して第1の発明の実施の形態を説明する。
図1は、半導体メモリ装置の回路構成図、図2は、半導
体メモリ装置のメモリセルアレイ及びリダンダンシーセ
ルが形成されたメモリ部の回路構成図、図3は、図1の
半導体メモリ装置のリダンダンシー回路部の回路構成図
である。この半導体メモリ装置は、不良のローアドレス
を決めるアドレス信号(A0〜An)に対して不良アド
レスを記憶させ、各入力アドレスビットと記憶アドレス
ビットとの一致を検出する回路20を置換ローアドレス
数(m個)備え、不良アドレスと一致した場合に成立す
る信号(AE1〜AEm)に対してそれぞれスペアロー
ライン(SWL1〜SWLm)が設けられ、これらのう
ちいづれかのスペアローラインがアクセスされるとメイ
ンデコーダの成立をスペアイネーブル信号/(SE) によ
って禁止する構成になっている。各回路20は、リダン
ダンシー回路を使用する場合に利用するアドレス検知回
路をイネーブルにするためのリダンダンシーイネーブル
ビット(F′E1〜F′Em)及び置換アドレス検知用
ビット(F′01〜F′nm)を備えている。
導体メモリ装置の実施の形態を説明する。まず、図1乃
至図3を参照して第1の発明の実施の形態を説明する。
図1は、半導体メモリ装置の回路構成図、図2は、半導
体メモリ装置のメモリセルアレイ及びリダンダンシーセ
ルが形成されたメモリ部の回路構成図、図3は、図1の
半導体メモリ装置のリダンダンシー回路部の回路構成図
である。この半導体メモリ装置は、不良のローアドレス
を決めるアドレス信号(A0〜An)に対して不良アド
レスを記憶させ、各入力アドレスビットと記憶アドレス
ビットとの一致を検出する回路20を置換ローアドレス
数(m個)備え、不良アドレスと一致した場合に成立す
る信号(AE1〜AEm)に対してそれぞれスペアロー
ライン(SWL1〜SWLm)が設けられ、これらのう
ちいづれかのスペアローラインがアクセスされるとメイ
ンデコーダの成立をスペアイネーブル信号/(SE) によ
って禁止する構成になっている。各回路20は、リダン
ダンシー回路を使用する場合に利用するアドレス検知回
路をイネーブルにするためのリダンダンシーイネーブル
ビット(F′E1〜F′Em)及び置換アドレス検知用
ビット(F′01〜F′nm)を備えている。
【0014】従来の回路(図12の回路)との違いは、
不良アドレスを記憶させ各入力のアドレスビットと記憶
アドレスビットとの一致を検出する回路20に対してデ
ータバスが接続され、データの入出力を制御するRDF
USE/WRFUSE信号、FUSEデータをレジスタ
にラッチするためのRESET信号及びレジスタ選択信
号(RSELECT)が入力されている点にある。ま
た、アドレス信号(A0〜An)は、各回路20の各ビ
ット(F′01〜F′nm)に入力される。メモリ領域
には、メモリセルアレイ1とリダンダンシーセル2が設
けられている。リダンダンシーセル2のゲートは、m本
の前記スペアローライン3に接続され、1本のスペアロ
ーライン3には、k個のリダンダンシーセル2が接続さ
れている。一方、メモリセルアレイ1を構成するメモリ
セル4のゲートは、ローライン(WL1〜WLm′)5
に接続され、1本のローライン5にはk個のメモリセル
4が接続されている。メモリセル4及びリダンダンシー
セル2のソース/ドレイン電極の一方は、GND線6に
接続され、他方はk本のビットライン7に接続されてい
る。ビットライン7はカラムセレクタ及びセンスアンプ
9に接続され、各センスアンプからのデータ信号(D0
〜Dn)は、データバスに伝えられるように構成されて
いる(図1、図2)。
不良アドレスを記憶させ各入力のアドレスビットと記憶
アドレスビットとの一致を検出する回路20に対してデ
ータバスが接続され、データの入出力を制御するRDF
USE/WRFUSE信号、FUSEデータをレジスタ
にラッチするためのRESET信号及びレジスタ選択信
号(RSELECT)が入力されている点にある。ま
た、アドレス信号(A0〜An)は、各回路20の各ビ
ット(F′01〜F′nm)に入力される。メモリ領域
には、メモリセルアレイ1とリダンダンシーセル2が設
けられている。リダンダンシーセル2のゲートは、m本
の前記スペアローライン3に接続され、1本のスペアロ
ーライン3には、k個のリダンダンシーセル2が接続さ
れている。一方、メモリセルアレイ1を構成するメモリ
セル4のゲートは、ローライン(WL1〜WLm′)5
に接続され、1本のローライン5にはk個のメモリセル
4が接続されている。メモリセル4及びリダンダンシー
セル2のソース/ドレイン電極の一方は、GND線6に
接続され、他方はk本のビットライン7に接続されてい
る。ビットライン7はカラムセレクタ及びセンスアンプ
9に接続され、各センスアンプからのデータ信号(D0
〜Dn)は、データバスに伝えられるように構成されて
いる(図1、図2)。
【0015】前記不良のローアドレスを決めるアドレス
信号に対して不良アドレスを記憶させ、各入力アドレス
ビットと記憶アドレスビットとの一致を検出する回路2
0の出力は、AND回路11に入力され、その出力(A
E1〜AEm)は、テストモード2のときに“1”にな
る信号(TEST2)によって制御され、スペアローア
ドレスを決めるアドレス信号とのマルチプレクサ回路2
5に入力され、各レベルシフタ12を介してスペアロー
ライン3に入力される。また、AND回路11の出力
(AE1〜AEm)とTEST2信号は、NOR回路1
3に入力され、その出力/(SE) は、ローデコーダ8を
介してローライン5に入力される。また、アドレスバス
からのアドレス信号(A0〜An)もその反転信号とと
もにローデコーダ8を介してローライン5に入力される
(図1、図3)。
信号に対して不良アドレスを記憶させ、各入力アドレス
ビットと記憶アドレスビットとの一致を検出する回路2
0の出力は、AND回路11に入力され、その出力(A
E1〜AEm)は、テストモード2のときに“1”にな
る信号(TEST2)によって制御され、スペアローア
ドレスを決めるアドレス信号とのマルチプレクサ回路2
5に入力され、各レベルシフタ12を介してスペアロー
ライン3に入力される。また、AND回路11の出力
(AE1〜AEm)とTEST2信号は、NOR回路1
3に入力され、その出力/(SE) は、ローデコーダ8を
介してローライン5に入力される。また、アドレスバス
からのアドレス信号(A0〜An)もその反転信号とと
もにローデコーダ8を介してローライン5に入力される
(図1、図3)。
【0016】回路20の具体的な回路構成図を図4に示
す。各リダンダンシイネーブルビット(F′E1〜F′
Em)において、一端がGNDに接続されたヒューズ素
子Fの他端にゲートにRESET反転信号が入力されて
いるPチャネル負荷トランジスタTrを接続し、その接
続点fEを第1のレジスタ21のデータ入力とする。第
1のレジスタ21は、ヒューズ素子Fからのデータを格
納するためのものでラッチ信号入力は、RESET信号
とする。さらに外部からテスト用の置換アドレスデータ
を格納するための第2のレジスタ22を設け、データ入
力DATAは、データバスより供給し、ラッチ信号は、
FUSEデータ書き込み制御信号(WRFUSE)とす
る。そして第1と第2のレジスタ21、22の出力をレ
ジスタ選択信号によってマルチプレクスする回路(選択
回路)25を設け、通常のモード(RSELECT=
0)のときは、第1のレジスタ21のデータを出力し、
TESTモード(RSELECT=1)のときは、第2
のレジスタ22のデータを出力するようにする。また、
さらにこの出力をデータバスに掃き出す3ステートバッ
ファ23をデータ出力DATAと前記マルチプレクス回
路25の出力の間に設け、FUSEデータの読み出し信
号(RDFUSE)で制御する。リダンダンシーイネー
ブルビット(F′E1〜F′Em)は先のマルチプレク
ス回路25の出力をそのまま取り出してスペアイネーブ
ル信号(SE)として使用する。
す。各リダンダンシイネーブルビット(F′E1〜F′
Em)において、一端がGNDに接続されたヒューズ素
子Fの他端にゲートにRESET反転信号が入力されて
いるPチャネル負荷トランジスタTrを接続し、その接
続点fEを第1のレジスタ21のデータ入力とする。第
1のレジスタ21は、ヒューズ素子Fからのデータを格
納するためのものでラッチ信号入力は、RESET信号
とする。さらに外部からテスト用の置換アドレスデータ
を格納するための第2のレジスタ22を設け、データ入
力DATAは、データバスより供給し、ラッチ信号は、
FUSEデータ書き込み制御信号(WRFUSE)とす
る。そして第1と第2のレジスタ21、22の出力をレ
ジスタ選択信号によってマルチプレクスする回路(選択
回路)25を設け、通常のモード(RSELECT=
0)のときは、第1のレジスタ21のデータを出力し、
TESTモード(RSELECT=1)のときは、第2
のレジスタ22のデータを出力するようにする。また、
さらにこの出力をデータバスに掃き出す3ステートバッ
ファ23をデータ出力DATAと前記マルチプレクス回
路25の出力の間に設け、FUSEデータの読み出し信
号(RDFUSE)で制御する。リダンダンシーイネー
ブルビット(F′E1〜F′Em)は先のマルチプレク
ス回路25の出力をそのまま取り出してスペアイネーブ
ル信号(SE)として使用する。
【0017】置換アドレス検知用ビット(F′01〜
F′n1)は、先のマルチプレクス回路25の出力とア
ドレス信号(A0〜An)とを排他的論理和回路(ex
OR)24に入力させて得られる出力信号(SA0〜S
An)を使用し、他の構成は、リダンダンシーイネーブ
ルビットと同じ構成であり、ヒューズ素子FとPチャネ
ル負荷トランジスタTrとを接続する接続点f01〜f
nmを第1のレジスタ21のデータ入力とする。次に、
1チップマイコンに本発明のリダンダンシー付き不揮発
性メモリ回路を組み込んだ装置の動作を説明する。本発
明の不揮発性メモリを内蔵したマイコンは図9に示すよ
うな4つのモード、すなわち1チップモード、ライター
モード、テストモード1、テストモード2を有する。こ
のうち、1チップモードとライターモードはユーザーに
開放された通常の使用モードで、テストモード1とテス
トモード2はユーザーに開放されないメーカーでの専用
テストモードである。まず最初に1チップモード(メモ
リのプログラムデータを読み出しながら命令を実行して
いくモード)でのリダンダンシー回路のリセット解除後
のスペアロー置換動作について説明する。マイコンは必
ず最初にリセット状態にして初期化した後リセットを解
除することによってメモリからプログラムデータを読み
出して命令を実行していく。
F′n1)は、先のマルチプレクス回路25の出力とア
ドレス信号(A0〜An)とを排他的論理和回路(ex
OR)24に入力させて得られる出力信号(SA0〜S
An)を使用し、他の構成は、リダンダンシーイネーブ
ルビットと同じ構成であり、ヒューズ素子FとPチャネ
ル負荷トランジスタTrとを接続する接続点f01〜f
nmを第1のレジスタ21のデータ入力とする。次に、
1チップマイコンに本発明のリダンダンシー付き不揮発
性メモリ回路を組み込んだ装置の動作を説明する。本発
明の不揮発性メモリを内蔵したマイコンは図9に示すよ
うな4つのモード、すなわち1チップモード、ライター
モード、テストモード1、テストモード2を有する。こ
のうち、1チップモードとライターモードはユーザーに
開放された通常の使用モードで、テストモード1とテス
トモード2はユーザーに開放されないメーカーでの専用
テストモードである。まず最初に1チップモード(メモ
リのプログラムデータを読み出しながら命令を実行して
いくモード)でのリダンダンシー回路のリセット解除後
のスペアロー置換動作について説明する。マイコンは必
ず最初にリセット状態にして初期化した後リセットを解
除することによってメモリからプログラムデータを読み
出して命令を実行していく。
【0018】このモードのときに、リセット期間中にリ
ダンダンシーヒューズ素子データを読み出すために先の
Pch負荷トランジスタTrをRESET反転信号によ
ってオンさせる。Pch負荷トランジスタTrのオン抵
抗はヒューズ素子Fの抵抗よりも高く設定されているの
で、ヒューズ素子Fが接続状態のままに設定されている
場合はヒューズ素子FとPch負荷トランジスタTrと
の接続ノードfE(fn)に“0”が出力され、ヒュー
ズ素子Fが切断されている場合は、“1”が出力され
る。fE(fn)は、fE、f1〜fnの信号レベルを
示し、ヒューズ素子が切断されている場合と、ヒュー
ズ素子が接続状態のままに設定されている場合とがあ
る。また、このモードのときは、前記マルチプレクス回
路25の出力選択信号RSELECT=0に設定され、
前記第1のレジスタのデータ、すなわちヒューズデータ
に基づいてSE(SAn)は、SE,SA1〜SAnの
信号レベルも、やはり、ヒューズ素子が切断されている
場合と、ヒューズ素子が接続状態のままに設定されて
いる場合とがある。
ダンダンシーヒューズ素子データを読み出すために先の
Pch負荷トランジスタTrをRESET反転信号によ
ってオンさせる。Pch負荷トランジスタTrのオン抵
抗はヒューズ素子Fの抵抗よりも高く設定されているの
で、ヒューズ素子Fが接続状態のままに設定されている
場合はヒューズ素子FとPch負荷トランジスタTrと
の接続ノードfE(fn)に“0”が出力され、ヒュー
ズ素子Fが切断されている場合は、“1”が出力され
る。fE(fn)は、fE、f1〜fnの信号レベルを
示し、ヒューズ素子が切断されている場合と、ヒュー
ズ素子が接続状態のままに設定されている場合とがあ
る。また、このモードのときは、前記マルチプレクス回
路25の出力選択信号RSELECT=0に設定され、
前記第1のレジスタのデータ、すなわちヒューズデータ
に基づいてSE(SAn)は、SE,SA1〜SAnの
信号レベルも、やはり、ヒューズ素子が切断されている
場合と、ヒューズ素子が接続状態のままに設定されて
いる場合とがある。
【0019】読み出されたヒューズ素子データは、リセ
ットが解除されると先の第1のレジスタ21にデータが
ラッチされるとともに、Pch負荷トランジスタTrは
オフし、ヒューズ素子Fへの貫通電流を遮断し、無駄な
電流を流さないようにする。そして、CPUが動作し始
めメモリへのアクセスがなされて、もしアドレスがメイ
ンメモリの不良セルのアドレス、すなわち、置換すべき
アドレスにきた場合、先の第1のレジスタ21に格納さ
れたヒューズ素子に基づいてアドレスの一致が検知さ
れ、SE=“1”(すなわち/ SE=“0”)になり、
もともと不良ビットが存在するメインセルのワードライ
ン(WLx)へのアクセスが禁止されると共にスペアロ
ーラインが選択(SWL=“1”)され、スペアセルが
読み出され置換が行われる。
ットが解除されると先の第1のレジスタ21にデータが
ラッチされるとともに、Pch負荷トランジスタTrは
オフし、ヒューズ素子Fへの貫通電流を遮断し、無駄な
電流を流さないようにする。そして、CPUが動作し始
めメモリへのアクセスがなされて、もしアドレスがメイ
ンメモリの不良セルのアドレス、すなわち、置換すべき
アドレスにきた場合、先の第1のレジスタ21に格納さ
れたヒューズ素子に基づいてアドレスの一致が検知さ
れ、SE=“1”(すなわち/ SE=“0”)になり、
もともと不良ビットが存在するメインセルのワードライ
ン(WLx)へのアクセスが禁止されると共にスペアロ
ーラインが選択(SWL=“1”)され、スペアセルが
読み出され置換が行われる。
【0020】次にライターモードの場合このモードは、
ユーザーがマイコンに内蔵されているメモリ(ここでは
EPROM)に汎用ライターなどでデータを書き込むモ
ードで、CPUは動作させないため、RESET状態に
する。このときは、先のPch負荷トランジスタTrを
RESET反転信号によって常にオンさせた状態でヒュ
ーズ素子データを読み出すようにして、ヒューズ素子F
が接続状態のままに設定されている場合は、fE(f
n)に“0”が出力され、ヒューズ素子Fが切断されて
いる場合は、“1”が出力される。そして、fE(f
n)は、fE、f1〜fnの信号レベルは、ヒューズ素
子が切断されている場合と、ヒューズ素子が接続状態
のままに設定されている場合とがある。また、このモ
ードのときも1チップモードと同様、RSELECT=
0に設定され、前記第1のレジスタのデータ、すなわち
ヒューズデータに基づいてSE(SAn)は、SE,S
A1〜SAnの信号レベルもやはり、ヒューズ素子が切
断されている場合と、ヒューズ素子が接続状態のまま
に設定されている場合とがある。
ユーザーがマイコンに内蔵されているメモリ(ここでは
EPROM)に汎用ライターなどでデータを書き込むモ
ードで、CPUは動作させないため、RESET状態に
する。このときは、先のPch負荷トランジスタTrを
RESET反転信号によって常にオンさせた状態でヒュ
ーズ素子データを読み出すようにして、ヒューズ素子F
が接続状態のままに設定されている場合は、fE(f
n)に“0”が出力され、ヒューズ素子Fが切断されて
いる場合は、“1”が出力される。そして、fE(f
n)は、fE、f1〜fnの信号レベルは、ヒューズ素
子が切断されている場合と、ヒューズ素子が接続状態
のままに設定されている場合とがある。また、このモ
ードのときも1チップモードと同様、RSELECT=
0に設定され、前記第1のレジスタのデータ、すなわち
ヒューズデータに基づいてSE(SAn)は、SE,S
A1〜SAnの信号レベルもやはり、ヒューズ素子が切
断されている場合と、ヒューズ素子が接続状態のまま
に設定されている場合とがある。
【0021】ライター(外部)からのアドレスがメイン
メモリの不良セルのアドレスすなわち置換すべきアドレ
スにきた場合、1チップモードのときのRESET期間
中と同様に第1のレジスタを介して読み出されているヒ
ューズデータに基づいてアドレスの一致が検知され、S
E=“1”になるとスペアローラインSWL=“1”に
なり、ワードラインの置換が行われる。このとき、書き
込み信号(WR)がくればスペアセルへの書き込みが行
われ、読み出し信号(RD)がくれば読み出しが行われ
る。次に、本発明ではテストモードとして2つのモード
(テストモード1,テストモード2)を有し、テストモ
ード1は前記ライターモードと同様マイコンに内蔵うさ
れているメモリ(ここではEPROM)を読み出すモー
ドであるが、前記ライターモードと異なるのは、第1,
第2のレジスタ出力の選択回路25に入力されるレジス
タ選択信号RSELECTは“1”に設定され、図4に
示す前記回路20においてテスト用の置換アドレスデー
タを格納する第2のレジスタ22のデータに基づいて不
良ビットをリダンダンシーセルと置き換えてテストを行
うようにしている点である。
メモリの不良セルのアドレスすなわち置換すべきアドレ
スにきた場合、1チップモードのときのRESET期間
中と同様に第1のレジスタを介して読み出されているヒ
ューズデータに基づいてアドレスの一致が検知され、S
E=“1”になるとスペアローラインSWL=“1”に
なり、ワードラインの置換が行われる。このとき、書き
込み信号(WR)がくればスペアセルへの書き込みが行
われ、読み出し信号(RD)がくれば読み出しが行われ
る。次に、本発明ではテストモードとして2つのモード
(テストモード1,テストモード2)を有し、テストモ
ード1は前記ライターモードと同様マイコンに内蔵うさ
れているメモリ(ここではEPROM)を読み出すモー
ドであるが、前記ライターモードと異なるのは、第1,
第2のレジスタ出力の選択回路25に入力されるレジス
タ選択信号RSELECTは“1”に設定され、図4に
示す前記回路20においてテスト用の置換アドレスデー
タを格納する第2のレジスタ22のデータに基づいて不
良ビットをリダンダンシーセルと置き換えてテストを行
うようにしている点である。
【0022】そしてテストモード2は不良ビットを置換
するために設けたスペアビットの書き込み/読み出しの
チェックをリダンダンシーヒューズをカットする前でも
直接行うことが出来ると共に前記第1のレジスタに格納
されているデータ、すなわちヒューズデータの読み出し
と、第2のレジスタに先のテストモード1におけるテス
ト用の置換アドレスデータ(疑似ヒューズデータ)を書
き込み、また読み出すことが可能なようにそれぞれのア
ドレス領域を設けている。このモードでのスペアロー
(リダンダンシーセル)の読み出し及び書き込みのとき
は、外部よりリダンダンシーセルのローアドレスを決め
るアドレス信号を入力すると、その信号は図1における
マルチプレクサ回路25に入力され、テストモード2の
ときにTEST2=1に設定されるため各レベルシフタ
12を介してスペアローライン3に入力される。また、
TEST2信号は、NOR回路13に入力されその出力
/SEはこの時“0”になり、ローデコーダ8をすべて
入力禁止状態にしてメインセルのローライン5をすべて
非選択状態にして、ライターモードと同様にスペアーセ
ルの読み出し、書き込みができる。
するために設けたスペアビットの書き込み/読み出しの
チェックをリダンダンシーヒューズをカットする前でも
直接行うことが出来ると共に前記第1のレジスタに格納
されているデータ、すなわちヒューズデータの読み出し
と、第2のレジスタに先のテストモード1におけるテス
ト用の置換アドレスデータ(疑似ヒューズデータ)を書
き込み、また読み出すことが可能なようにそれぞれのア
ドレス領域を設けている。このモードでのスペアロー
(リダンダンシーセル)の読み出し及び書き込みのとき
は、外部よりリダンダンシーセルのローアドレスを決め
るアドレス信号を入力すると、その信号は図1における
マルチプレクサ回路25に入力され、テストモード2の
ときにTEST2=1に設定されるため各レベルシフタ
12を介してスペアローライン3に入力される。また、
TEST2信号は、NOR回路13に入力されその出力
/SEはこの時“0”になり、ローデコーダ8をすべて
入力禁止状態にしてメインセルのローライン5をすべて
非選択状態にして、ライターモードと同様にスペアーセ
ルの読み出し、書き込みができる。
【0023】また、外部より第1のレジスタ用に設けら
れたアドレスを設定するとRSELECT=0に設定さ
れ、第1のレジスタ21の出力はマルチプレクサ25及
びレジスタデータ読み出し信号RDFUSEによってデ
ータバスへの出力を制御される3ステートバッファ23
を介してデータバスに出力され、外部よりビューズデー
タを読み出すことが可能になっている。さらに、外部よ
り第2のレジスタ用に設けられたアドレスを設定し、第
2のレジスタ22のデータ入力端子DにデータバスDa
teからテスト用の置換アドレスデータ(疑似ヒューズ
データ)を入力し、ラッチ信号端子φに接続されている
第2のレジスタ22への書き込み信号WRFUSEを制
御することによって、第2のレジスタへのデータの書き
込みを行うことができ、RSELECT=1に設定し
て、その書き込んだデータをマルチプレクサ25及び3
ステートバッファ23を介して外部から読み出すことも
可能になっている。
れたアドレスを設定するとRSELECT=0に設定さ
れ、第1のレジスタ21の出力はマルチプレクサ25及
びレジスタデータ読み出し信号RDFUSEによってデ
ータバスへの出力を制御される3ステートバッファ23
を介してデータバスに出力され、外部よりビューズデー
タを読み出すことが可能になっている。さらに、外部よ
り第2のレジスタ用に設けられたアドレスを設定し、第
2のレジスタ22のデータ入力端子DにデータバスDa
teからテスト用の置換アドレスデータ(疑似ヒューズ
データ)を入力し、ラッチ信号端子φに接続されている
第2のレジスタ22への書き込み信号WRFUSEを制
御することによって、第2のレジスタへのデータの書き
込みを行うことができ、RSELECT=1に設定し
て、その書き込んだデータをマルチプレクサ25及び3
ステートバッファ23を介して外部から読み出すことも
可能になっている。
【0024】ところで、本発明の最も大きな特徴は次に
説明するリダンダンシーのテストフローとそのテストを
実現するための回路にある。図5のリダンダンシーのテ
ストフローに基づいて説明すると、まず、前記ライター
モードにおいてメモリの全ビットが初期状態化(消去)
されているかをチェックする(第1の工程)。そこで全
ビットが初期状態化されているならば書き込みに対する
チェックを行う(第2の工程)。この第2の工程をパス
したものは信頼性試験のために一旦テスターから外して
高温放置試験を行い(第3の工程)、前記第2の工程で
書き込んだデータが前記第3の工程後に消えていないか
どうかをテスターで全ビット読み出しを行いチェックす
る(第4の工程)。前記第1の工程にてNGとなったも
のは前記リダンダンシー回路による救済を行う場合に規
定のロー(ワードライン)置換数で救済可能かどうかの
判定を行い(第5の工程)、さらに前記第2の工程にて
書き込みできないものに関しても前記リダンダンシー回
路により規定のロー(ワードライン)置換数で救済可能
かどうかの判定を行い(第6の工程)、救済可能と判定
されたものについては図9のテストモード2において、
リダンダンシーセルの初期化(消去)及び書き込みのチ
ェックを行い、第5、第6の救済判定において算出した
救済アドレス及び置換許可情報の前記第2のレジスタへ
の書き込みを行う(第7の工程)。
説明するリダンダンシーのテストフローとそのテストを
実現するための回路にある。図5のリダンダンシーのテ
ストフローに基づいて説明すると、まず、前記ライター
モードにおいてメモリの全ビットが初期状態化(消去)
されているかをチェックする(第1の工程)。そこで全
ビットが初期状態化されているならば書き込みに対する
チェックを行う(第2の工程)。この第2の工程をパス
したものは信頼性試験のために一旦テスターから外して
高温放置試験を行い(第3の工程)、前記第2の工程で
書き込んだデータが前記第3の工程後に消えていないか
どうかをテスターで全ビット読み出しを行いチェックす
る(第4の工程)。前記第1の工程にてNGとなったも
のは前記リダンダンシー回路による救済を行う場合に規
定のロー(ワードライン)置換数で救済可能かどうかの
判定を行い(第5の工程)、さらに前記第2の工程にて
書き込みできないものに関しても前記リダンダンシー回
路により規定のロー(ワードライン)置換数で救済可能
かどうかの判定を行い(第6の工程)、救済可能と判定
されたものについては図9のテストモード2において、
リダンダンシーセルの初期化(消去)及び書き込みのチ
ェックを行い、第5、第6の救済判定において算出した
救済アドレス及び置換許可情報の前記第2のレジスタへ
の書き込みを行う(第7の工程)。
【0025】そして前記テストモード1において前記第
2のレジスタに格納された救済アドレスに基づいてロー
置換された状態での全ビットの読み出しチェックを行い
(第8の工程)、前記第5、第6の工程における置換ア
ドレス及び置換許可情報に基づきリダンダンシー回路の
ヒューズ素子のカットを行う(第9の工程)。最後にリ
ダンダンシー回路による救済を行わない場合と同様に高
温放置試験(前記第3の工程)及びその後の全ビット読
み出しを行い、書き込んだデータがきえていないかをチ
ェック(前記第4の工程)してウェハーテストは終了す
る。また、前記第7の工程に置いて置換されるリダンダ
ンシーセルに書き込むデータは前記第2の工程において
その置換すべきロー(ワードライン)のセルに書き込む
データと同じデータにしても良い。たとえば、図10に
示すようなダイアゴナルパターンを前記第2の工程で書
き込むようにして、このうちワードラインWLaに不良
ビットが存在する場合に、このワードラインWLaに書
き込まれているパターンを置換するスペアローSWLa
に書き込むようにすれば、前記第4及び第8の工程にお
いて全ビットのデータを読み出すときに用いる比較用デ
ータパターンをリダンダンシー救済を行わないものと同
じにすることができ、テストの効率化、パターンメモリ
の削減の効果がある。
2のレジスタに格納された救済アドレスに基づいてロー
置換された状態での全ビットの読み出しチェックを行い
(第8の工程)、前記第5、第6の工程における置換ア
ドレス及び置換許可情報に基づきリダンダンシー回路の
ヒューズ素子のカットを行う(第9の工程)。最後にリ
ダンダンシー回路による救済を行わない場合と同様に高
温放置試験(前記第3の工程)及びその後の全ビット読
み出しを行い、書き込んだデータがきえていないかをチ
ェック(前記第4の工程)してウェハーテストは終了す
る。また、前記第7の工程に置いて置換されるリダンダ
ンシーセルに書き込むデータは前記第2の工程において
その置換すべきロー(ワードライン)のセルに書き込む
データと同じデータにしても良い。たとえば、図10に
示すようなダイアゴナルパターンを前記第2の工程で書
き込むようにして、このうちワードラインWLaに不良
ビットが存在する場合に、このワードラインWLaに書
き込まれているパターンを置換するスペアローSWLa
に書き込むようにすれば、前記第4及び第8の工程にお
いて全ビットのデータを読み出すときに用いる比較用デ
ータパターンをリダンダンシー救済を行わないものと同
じにすることができ、テストの効率化、パターンメモリ
の削減の効果がある。
【0026】図7に、第7の工程でのテストのタイミン
グチャートを示す。第7の工程では、テストモード2に
設定するためTEST2=1にして、まずリダンダンシ
ーセルの消去状態の読み出しを行うため、図9のテスト
モード2のメモリマップで、例えばアドレス00000
−000FF番地まで順次入力すると、図1のマルチプ
レクサ25を介してスペアローがアクセスされ、そのセ
ルのデータの読み出しを行うことができる。ここでリダ
ンダンシーセルの消去状態がチェックがOKであれば、
次に、第5、第6の工程において判定された救済アドレ
スデータに基づいて、不良ワードラインに本来書き込む
べきテストパターンをそれと置き換えるべきスペアロー
に書き込み、それがOKならばその次にアドレスを第2
のレジスタ22(例えば、この場合0FF00番地)に
設定し、外部より、リダンダンシーセルの置換許可情報
及び置換アドレス情報を第2のレジスタ22の各ビット
に格納するため、RSELECT=1に設定し、WRF
USE信号を“1”にするとデータが第2のレジスタに
入力され、WRFUSE信号を“1”から“0”にする
とそのデータはラッチされる。また、実際にデータが格
納されたかを確認するために、RDFUSE信号を
“1”にすると第2のレジスタの出力が図4のマルチプ
レクサ回路及び3ステートバッファを介してデータバス
に出力され読み出すことができる。
グチャートを示す。第7の工程では、テストモード2に
設定するためTEST2=1にして、まずリダンダンシ
ーセルの消去状態の読み出しを行うため、図9のテスト
モード2のメモリマップで、例えばアドレス00000
−000FF番地まで順次入力すると、図1のマルチプ
レクサ25を介してスペアローがアクセスされ、そのセ
ルのデータの読み出しを行うことができる。ここでリダ
ンダンシーセルの消去状態がチェックがOKであれば、
次に、第5、第6の工程において判定された救済アドレ
スデータに基づいて、不良ワードラインに本来書き込む
べきテストパターンをそれと置き換えるべきスペアロー
に書き込み、それがOKならばその次にアドレスを第2
のレジスタ22(例えば、この場合0FF00番地)に
設定し、外部より、リダンダンシーセルの置換許可情報
及び置換アドレス情報を第2のレジスタ22の各ビット
に格納するため、RSELECT=1に設定し、WRF
USE信号を“1”にするとデータが第2のレジスタに
入力され、WRFUSE信号を“1”から“0”にする
とそのデータはラッチされる。また、実際にデータが格
納されたかを確認するために、RDFUSE信号を
“1”にすると第2のレジスタの出力が図4のマルチプ
レクサ回路及び3ステートバッファを介してデータバス
に出力され読み出すことができる。
【0027】図8に、第8の工程でのテストのタイミン
グチャートを示す。第8の工程では、テストモード1に
設定するためTEST2=0にして、全ビットの読み出
しを先の第7の工程で第2のレジスタに格納されたテス
ト用の置換アドレスデータに基づいて不良ビットを置換
してテストを行う。そのため、RSELECT=1に設
定し、第2のレジスタのデータがマルチプレクサ25を
介して出力されるようにする。あとはライターモードと
同様に外部よりアドレスを順次入力すると不良ビットの
アドレスに来れば、そのアドレスがあらかじめ第2のレ
ジスタに格納されているためアドレスの一致検出回路2
0の出力AEが“1”になり/ SE=0でメインのワー
ドラインがすべて非選択になりスペアロー(SWLx)
がアクセスされてリダンダンシーセルのデータが読み出
される。この様にユーザーが使用する1チップモードと
ライターモード(すなわちメーカーが使用するテストモ
ード以外のモード)では、不良ビットを前記第1のレジ
スタのデータすなわちヒューズデータのアドレス救済情
報に基づいて置換が行われるようになっている。これに
対して、メーカーがテスト時に使用するテストモードに
おいては、前記第2のレジスタのデータすなわちテスト
用疑似ヒューズデータのアドレス救済情報に基づいて置
換が行われるようにしているところが本発明の特徴であ
る。
グチャートを示す。第8の工程では、テストモード1に
設定するためTEST2=0にして、全ビットの読み出
しを先の第7の工程で第2のレジスタに格納されたテス
ト用の置換アドレスデータに基づいて不良ビットを置換
してテストを行う。そのため、RSELECT=1に設
定し、第2のレジスタのデータがマルチプレクサ25を
介して出力されるようにする。あとはライターモードと
同様に外部よりアドレスを順次入力すると不良ビットの
アドレスに来れば、そのアドレスがあらかじめ第2のレ
ジスタに格納されているためアドレスの一致検出回路2
0の出力AEが“1”になり/ SE=0でメインのワー
ドラインがすべて非選択になりスペアロー(SWLx)
がアクセスされてリダンダンシーセルのデータが読み出
される。この様にユーザーが使用する1チップモードと
ライターモード(すなわちメーカーが使用するテストモ
ード以外のモード)では、不良ビットを前記第1のレジ
スタのデータすなわちヒューズデータのアドレス救済情
報に基づいて置換が行われるようになっている。これに
対して、メーカーがテスト時に使用するテストモードに
おいては、前記第2のレジスタのデータすなわちテスト
用疑似ヒューズデータのアドレス救済情報に基づいて置
換が行われるようにしているところが本発明の特徴であ
る。
【0028】従来リダンダンシーによる救済を行うに
は、初期化/書き込みでNGのものについて規定のロー
ライン置換数で救済可能かどうかの判定を行い、救済可
能なものについて、次の段階で置換アドレス情報に基づ
いてリダンダンシーヒューズ素子のカットを行うために
テスターから外す必要があった。しかし、本発明におい
ては、このまま先のテストモードにおいて外部からテス
トアドレスを入力して置換すべきスペアローラインの初
期状態/書き込みチェックを行うことができ、テスト置
換アドレスデータ(疑似ヒューズデータ)を入力し第2
のレジスタに格納することによって、実際にヒューズ素
子をカットしなくても不良アドレスの置換を行い
(7)、さらに全ビット読み出しチェックを行うことが
できる(8)。そして、このプロセスをパス(OK)し
たものに関してのみ次のプロセス(9)で実際にヒュー
ズカットを行うようにすればヒューズ素子カット後の不
良率を低くするとともに、テスト時間が短縮される。
は、初期化/書き込みでNGのものについて規定のロー
ライン置換数で救済可能かどうかの判定を行い、救済可
能なものについて、次の段階で置換アドレス情報に基づ
いてリダンダンシーヒューズ素子のカットを行うために
テスターから外す必要があった。しかし、本発明におい
ては、このまま先のテストモードにおいて外部からテス
トアドレスを入力して置換すべきスペアローラインの初
期状態/書き込みチェックを行うことができ、テスト置
換アドレスデータ(疑似ヒューズデータ)を入力し第2
のレジスタに格納することによって、実際にヒューズ素
子をカットしなくても不良アドレスの置換を行い
(7)、さらに全ビット読み出しチェックを行うことが
できる(8)。そして、このプロセスをパス(OK)し
たものに関してのみ次のプロセス(9)で実際にヒュー
ズカットを行うようにすればヒューズ素子カット後の不
良率を低くするとともに、テスト時間が短縮される。
【0029】そして、ヒューズ素子カットをしたものに
ついては、従来と同様に高温放置試験を行い、またテス
タにて全ビット読出しを行いチェックする。したがっ
て、このテストフローに従えば、リダンダンシーによる
救済を行わない場合と同様にOFFラック(テスタから
一旦外すことをオフラックという)回数が一回だけにな
り、ウェーハに針を接触させる回数も変わらないことか
らLSIなどの半導体装置のパットに与える損傷を最小
限に抑えることができるとともに、テスト時間もハンド
リング回数が減るので短縮され、テストの効率化を図る
ことができる。
ついては、従来と同様に高温放置試験を行い、またテス
タにて全ビット読出しを行いチェックする。したがっ
て、このテストフローに従えば、リダンダンシーによる
救済を行わない場合と同様にOFFラック(テスタから
一旦外すことをオフラックという)回数が一回だけにな
り、ウェーハに針を接触させる回数も変わらないことか
らLSIなどの半導体装置のパットに与える損傷を最小
限に抑えることができるとともに、テスト時間もハンド
リング回数が減るので短縮され、テストの効率化を図る
ことができる。
【0030】
【発明の効果】アドレスの救済情報を記憶する不揮発性
の記憶手段からデータを読み出して格納する第1のレジ
スタと外部からテスト用の置換アドレスデータを格納す
る第2のレジスタ設け、通常の使用モードでは前記第1
のレジスタのデータのアドレス救済情報に基づいて不良
ビットのセルをリダンダンシーと置き換え、テストモー
ドにおいては、前記第2のレジスタのデータのアドレス
救済情報に基づいて不良ビットのセルをリダンダンシー
セルと置き換えてテストが可能なようにすることによっ
て、不揮発性の記憶手段がレーザ溶断ヒューズ素子を備
えた不揮発性メモリの実際にヒューズ素子を溶断する前
の第1回目のテスタ試験のときにリダンダンシーセルの
書き込み/読み出しテストが可能となり、ヒューズ素子
溶断後にリダンダンシーセルだけのために書き込み/読
み出しテストを行わずに済み、高温放置後、第2回目の
テストにおいて実際に置き換わっているかテストするだ
けでよく、LSIなどの半導体装置のパッドに与える損
傷を最小限に抑えるとともにテストの効率化を図ること
ができる。
の記憶手段からデータを読み出して格納する第1のレジ
スタと外部からテスト用の置換アドレスデータを格納す
る第2のレジスタ設け、通常の使用モードでは前記第1
のレジスタのデータのアドレス救済情報に基づいて不良
ビットのセルをリダンダンシーと置き換え、テストモー
ドにおいては、前記第2のレジスタのデータのアドレス
救済情報に基づいて不良ビットのセルをリダンダンシー
セルと置き換えてテストが可能なようにすることによっ
て、不揮発性の記憶手段がレーザ溶断ヒューズ素子を備
えた不揮発性メモリの実際にヒューズ素子を溶断する前
の第1回目のテスタ試験のときにリダンダンシーセルの
書き込み/読み出しテストが可能となり、ヒューズ素子
溶断後にリダンダンシーセルだけのために書き込み/読
み出しテストを行わずに済み、高温放置後、第2回目の
テストにおいて実際に置き換わっているかテストするだ
けでよく、LSIなどの半導体装置のパッドに与える損
傷を最小限に抑えるとともにテストの効率化を図ること
ができる。
【図1】本発明の第1の実施の形態の半導体メモリ装置
の回路図。
の回路図。
【図2】図1、図12及び図13のメモリ部の回路構成
図。
図。
【図3】図1、図12のリダンダンシー回路部の回路構
成図。
成図。
【図4】本発明のリダンダンシー回路図。
【図5】本発明のリダンダンシー回路のテストフローチ
ャート図。
ャート図。
【図6】本発明のリダンダンシー回路のタイミングチャ
ート図。
ート図。
【図7】本発明のリダンダンシー回路のタイミングチャ
ート図。
ート図。
【図8】本発明のリダンダンシー回路のタイミングチャ
ート図。
ート図。
【図9】本発明の半導体メモリ装置のメモリマッピング
図。
図。
【図10】本発明の半導体メモリ装置のテストパターン
図。
図。
【図11】従来の半導体メモリ装置の回路構成図。
【図12】図10のリダンダンシー回路部の回路構成
図。
図。
【図13】従来のリダンダンシー回路図。
【図14】従来のリダンダンシー回路のテストフローチ
ャート図。
ャート図。
1・・・メモリセルアレイ、 2・・・リダンダンシ
ーセル、3・・・スペアローライン、 4・・・メモ
リセル、5・・・ローライン、 6・・・GND線、
7・・・ビットライン、8・・・ローデコーダ、
9・・・カラムセレクタ及びセンスアンプ、10、2
0・・・入力アドレスビットと記憶アドレスビットとの
一致を検出する回路、 11・・・AND回路、
12・・・レベルシフタ、13・・・NOR回路、
21・・・第1のレジスタ、22・・・第2のレジス
タ、 23・・・3ステートバッファ、24・・・排
他的論理和回路(exOR)、25・・・マルチプレク
サ回路、 26・・・OR回路
ーセル、3・・・スペアローライン、 4・・・メモ
リセル、5・・・ローライン、 6・・・GND線、
7・・・ビットライン、8・・・ローデコーダ、
9・・・カラムセレクタ及びセンスアンプ、10、2
0・・・入力アドレスビットと記憶アドレスビットとの
一致を検出する回路、 11・・・AND回路、
12・・・レベルシフタ、13・・・NOR回路、
21・・・第1のレジスタ、22・・・第2のレジス
タ、 23・・・3ステートバッファ、24・・・排
他的論理和回路(exOR)、25・・・マルチプレク
サ回路、 26・・・OR回路
フロントページの続き (72)発明者 金山 健次郎 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センタ−内
Claims (6)
- 【請求項1】 複数のワードラインに配列された複数の
メモリセルからなるメモリセルアレイと、 前記ワードラインの内不良ビットが接続されているワー
ドラインの前記不良ビットをリダンダンシーセルと置き
換えて救済する手段と、 アドレスの救済情報及びリダンダンシーセルの置換許可
情報を記憶する不揮発性の記憶手段と、 前記記憶手段からデータを読み出し、そのデータを格納
する第1のレジスタと、外部からのデータを格納する第
2のレジスタと、 前記第1のレジスタ及び前記第2のレジスタの各出力を
所定のモード信号に基づいて選択的に出力させる選択回
路とを備え、 テストモード以外の第1のモードでは、前記第1のレジ
スタのデータのアドレスの救済情報に基づいて前記不良
ビットをリダンダンシーセルと置き換え、 テストモードである第2のモードでは、前記第2のレジ
スタのデータのアドレスの救済情報に基づいて前記不良
ビットをリダンダンシーセルと置き換えてテストを行う
ようにすることを特徴とする半導体メモリ装置。 - 【請求項2】 リダンダンシーセルのデータの読み出し
/書き込みを外部より行うアドレス領域を設け、さらに
別のアドレス領域に前記第1のレジスタの読み出しを行
うアドレス領域と前記第2のレジスタの書き込み/読み
出しを行うアドレス領域とをそれぞれ設けた第3のモー
ドを有していることを特徴とする請求項1に記載の半導
体メモリ装置。 - 【請求項3】 前記アドレスの救済情報及びリダンダン
シーセルの置換許可情報を記憶する不揮発性の記憶手段
が電流又はレーザで溶断するヒューズ素子からなること
を特徴とする請求項1乃至請求項2のいづれかに記載の
半導体メモリ装置。 - 【請求項4】 請求項1乃至請求項3のいづれかに記載
の半導体メモリ装置を搭載し、リセット期間中に前記不
揮発性の記憶手段からデータを読み出し、リセット解除
信号によって前記第1のレジスタにデータを格納し、こ
のデータの情報を基に不良アドレスのビットを置換して
救済することを特徴とするマイクロコントローラ。 - 【請求項5】 前記第1のモードにおいて全ビットが初
期状態化されているかをチェックする第1の工程と
(1)、 全ビットが初期状態化されているならば書き込みに対す
るチェックを行う第2の工程と(2)、 前記第2の工程に基づいてリダンダンシー回路による救
済を行わない場合は、書き込みがOKのものを信頼性試
験のために一旦テスターから外して高温放置試験を行う
第3の工程と(3)、 書き込んだデータが第3の工程後に消えていないかどう
かをテスターで全ビット読み出しを行いチェックする第
4の工程と(4)、 前記第1の工程に基づいて前記リダンダンシー回路によ
る救済を行う場合は全ビットが初期化されていないもの
について規定のロー(ワードライン)置換数で救済可能
かどうかの判定を行う第5の工程と(5)、 前記第2の工程に基づいて全ビットの内一部のビットが
書き込みできないものに関して前記リダンダンシー回路
により規定のロー(ワードライン)置換数で救済可能か
どうかの判定を行う第6の工程と(6)、 前記第6の工程に基づいてリダンダンシー回路により救
済可能なものについては前記第3のモードにおいてリダ
ンダンシーセルの初期化(消去)および書き込みのチェ
ックを行い、前記第2のレジスタに救済アドレス及び置
換許可情報の書き込みを行う第7の工程と(7)、 前記第2のモードに基づいて前記第2のレジスタに格納
された救済アドレスに基づいてロー置換された状態での
全ビットの読み出しチェックを行う第8の工程と
(8)、 前記第8の工程に基づいて置換アドレス及び置換許可情
報に基づきリダンダンシー回路のヒューズ素子のカット
を行う第9の工程(9)を備え、 前記第9の工程後にリダンダンシー回路による救済を行
わない場合と同様に前記第3及び第4の工程を経てデー
タのチェックを行うことを特徴とする請求項1乃至請求
項4のいづれかに記載の半導体メモリ装置の製造方法。 - 【請求項6】前記第7の工程において置換されるリダン
ダンシーセルに書き込むデータは前記第2の工程におい
てその置換すべきロー(ワードライン)のセルに書き込
むデータと同じデータにしたことを特徴とする請求項5
に記載の半導体メモリ装置の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7201535A JPH0935493A (ja) | 1995-07-15 | 1995-07-15 | 半導体メモリ装置、マイクロコントローラ及び半導体メモリ装置の製造方法 |
TW085108186A TW298650B (ja) | 1995-07-15 | 1996-07-06 | |
US08/679,712 US5801986A (en) | 1995-07-15 | 1996-07-12 | Semiconductor memory device having both redundancy and test capability and method of manufacturing the same |
EP96111385A EP0758785A3 (en) | 1995-07-15 | 1996-07-15 | Semiconductor memory device and method of manufacturing the same |
KR1019960028581A KR100210528B1 (ko) | 1995-07-15 | 1996-07-15 | 반도체 메모리 장치, 마이크로콘트롤러 및 반도체 메모리 장치의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7201535A JPH0935493A (ja) | 1995-07-15 | 1995-07-15 | 半導体メモリ装置、マイクロコントローラ及び半導体メモリ装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0935493A true JPH0935493A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16442667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7201535A Abandoned JPH0935493A (ja) | 1995-07-15 | 1995-07-15 | 半導体メモリ装置、マイクロコントローラ及び半導体メモリ装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5801986A (ja) |
EP (1) | EP0758785A3 (ja) |
JP (1) | JPH0935493A (ja) |
TW (1) | TW298650B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002015595A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 冗長メモリ回路 |
JP2003016797A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP2008305517A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Hitachi Ulsi Systems Co Ltd | 半導体集積回路装置 |
WO2009008078A1 (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Fujitsu Microelectronics Limited | 半導体記憶装置及びシステム |
JP2009199640A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Nec Electronics Corp | メモリテスト回路及び半導体メモリ装置 |
US10825546B2 (en) | 2018-07-19 | 2020-11-03 | Winbond Electronics Corp. | Memory device and memory peripheral circuit |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1166882A (ja) * | 1997-08-19 | 1999-03-09 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
US6173425B1 (en) | 1998-04-15 | 2001-01-09 | Integrated Device Technology, Inc. | Methods of testing integrated circuits to include data traversal path identification information and related status information in test data streams |
JP2000076898A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体メモリ装置、その検査方法、および、その製造方法 |
US6240525B1 (en) * | 1998-11-17 | 2001-05-29 | Oak Technology, Inc. | Method and apparatus for re-addressing defective memory cells |
US6243305B1 (en) * | 1999-04-30 | 2001-06-05 | Stmicroelectronics, Inc. | Memory redundancy device and method |
JP4600792B2 (ja) * | 2000-07-13 | 2010-12-15 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体装置 |
US6535436B2 (en) | 2001-02-21 | 2003-03-18 | Stmicroelectronics, Inc. | Redundant circuit and method for replacing defective memory cells in a memory device |
JP2002279794A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JP2003233999A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路及び半導体集積回路の製造方法 |
US7111193B1 (en) * | 2002-07-30 | 2006-09-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. | Semiconductor memory having re-configurable fuse set for redundancy repair |
JP4481588B2 (ja) * | 2003-04-28 | 2010-06-16 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路装置 |
US20070081403A1 (en) * | 2005-10-11 | 2007-04-12 | Yasuhiro Nanba | Semiconductor memory device |
JP2007323726A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
US7751240B2 (en) * | 2007-01-24 | 2010-07-06 | Anobit Technologies Ltd. | Memory device with negative thresholds |
KR20170008553A (ko) * | 2015-07-14 | 2017-01-24 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 및 그 리페어 방법 |
KR20200101651A (ko) * | 2019-02-20 | 2020-08-28 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 및 메모리의 동작 방법 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62293598A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-21 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US5289417A (en) * | 1989-05-09 | 1994-02-22 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device with redundancy circuit |
JP2773271B2 (ja) * | 1989-07-26 | 1998-07-09 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
JPH0378199A (ja) * | 1989-08-18 | 1991-04-03 | Mitsubishi Electric Corp | 不揮発性半導体メモリ |
JPH07105159B2 (ja) * | 1989-11-16 | 1995-11-13 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置の冗長回路 |
US5206583A (en) * | 1991-08-20 | 1993-04-27 | International Business Machines Corporation | Latch assisted fuse testing for customized integrated circuits |
JP2501993B2 (ja) * | 1992-02-24 | 1996-05-29 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
FR2699301B1 (fr) * | 1992-12-16 | 1995-02-10 | Sgs Thomson Microelectronics | Procédé de traitement d'éléments défectueux dans une mémoire. |
US5345110A (en) * | 1993-04-13 | 1994-09-06 | Micron Semiconductor, Inc. | Low-power fuse detect and latch circuit |
JP3224317B2 (ja) * | 1993-10-08 | 2001-10-29 | 富士通株式会社 | 冗長アドレスデコーダ |
-
1995
- 1995-07-15 JP JP7201535A patent/JPH0935493A/ja not_active Abandoned
-
1996
- 1996-07-06 TW TW085108186A patent/TW298650B/zh active
- 1996-07-12 US US08/679,712 patent/US5801986A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-15 EP EP96111385A patent/EP0758785A3/en not_active Withdrawn
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002015595A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 冗長メモリ回路 |
JP2003016797A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP2008305517A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Hitachi Ulsi Systems Co Ltd | 半導体集積回路装置 |
WO2009008078A1 (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Fujitsu Microelectronics Limited | 半導体記憶装置及びシステム |
JPWO2009008078A1 (ja) * | 2007-07-11 | 2010-09-02 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 半導体記憶装置及びシステム |
US7933159B2 (en) | 2007-07-11 | 2011-04-26 | Fujitsu Semiconductor Limited | Semiconductor memory device and system with redundant element |
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