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JPH08511625A - ガス濃度の測定 - Google Patents

ガス濃度の測定

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JPH08511625A
JPH08511625A JP7502550A JP50255095A JPH08511625A JP H08511625 A JPH08511625 A JP H08511625A JP 7502550 A JP7502550 A JP 7502550A JP 50255095 A JP50255095 A JP 50255095A JP H08511625 A JPH08511625 A JP H08511625A
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ハーン、クライブ
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アイスイス・イノベーション・リミテッド
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Abstract

(57)【要約】 流体、例えば体液またはガス混合物中の、1以上のガス、例えばO2、CO2または麻酔ガスの濃度を測定する方法および装置である。ガスに対して浸透性を示す膜(12)は溶媒、例えばジメチルスルホキシドを保持する。好ましくは、10μm2以下の表面積を有する作用電極(24)が上記溶媒と接触している。この作用電極は上記1以上のガスの各々を還元する範囲を越えてかつガスとその還元生成物との交換反応を最小にする速度で走査される。

Description

【発明の詳細な説明】 ガス濃度の測定 本発明は流体中の1以上のガス濃度を測定する方法および装置に関するもので ある。この流体は液状またはガス状相であってよく、例えば血清のような血液流 体である。本発明の主たる対象は窒素酸化物およびある特定の麻酔ガスだけでな く、酸素および二酸化炭素の濃度の測定にある。しかし、本発明の原理は他のガ スに対しても適用可能である。 背景 臨床薬におけるO2およびCO2の連続測定は測定装置工業にとって必要である 。血液中では酸素は電流測定用クラークPO2電極によって測定され、CO2は電 位差測定用(ガラス電極)ストー−セベリングハウス電極によって測定される。 PO2およびPCO2を測定する時はこのように全く異なった原理で作用する2つ のセンサーを使用しなければならない。それ故に血液ガス分析では2つの別個の センサーを使用する。PO2のための血管内測定はポリマーカテーテルの先端に 取り付けられたクラークセルを使用して行われているにすぎない。これまでガラ ス電極の小型化は不可能であったので、血管内PCO2の測定はストー−セベリ ングハウスの技術によって行われている。小児科用血管内酸素センサーはまずD .G.Searleによって、その後ホフマン・ラ・ロシュによって十分に改良されて きた。現在はこれらのセンサーはバイオメディカル・センサーズ・リミティッド (High Wycombe在)によって製造されている。 ガス相においては安定な状態の分析(例えば麻酔機械)には酸素はクラーク型 のセンサーによって測定され、呼吸ごとの分析には迅速な常磁性分析器によって 行われる。吐き出されたCO2はほとんどの場合、赤外分析器によって測定せざ るを得ない。 医薬分野以外では、CO2の制御の重要性は種々の分野において増加している ので、高い感度および選択性を持つ安価なCO2センサーへの要望が増加してい る。このような例には一般に発酵工業、醸造、オンラインによる工業的監視およ び大気汚染の測定、大講堂におけるCO2濃度の測定、自動車排気ガスの測定が 含まれる。多くの場合、O2およびCO2の双方を測定する同一のセンサーを持っ て、同一の測定原理を使用して、同時にO2を測定することができるのが非常に 有利である。 DMSOのような非プロトン性溶媒におけるAg/AgCl参照電極に対する −0.5〜−1.0Vのオーダーの電位においては、溶液中の酸素は次の反応によ り還元される。 O2+e→O・2 - (1) この過酸化物ラジカルは非水溶性溶媒中では短時間の間安定である。しかし、 次に要約される反応式によって二酸化炭素と迅速に反応する。 2O・2 -+2CO2→C26 2- (2) −1.5〜−2.5Vの範囲の電位では溶解した二酸化炭素が最初のうちは次の 反応により還元される。 CO2+e→CO2- (3) 欧州特許第162622号には酸素および二酸化炭素の濃度の同時測定を行う ため上記反応式(1)および(2)を使用するガスセンサーおよび方法が記載さ れている。そこではパルス化されたCO2滴定技術が記載されており、それによ れば存在する全てのCO2を消費するのに十分なO2-を生成するために大きな電 極面を確保するものである。O2分子を還元するに十分な(しかしCO2を還元す るに十分でない)卑であるパルス化電圧を最初上記電極面に適用し、次いで酸化 用パルスを、CO2分子と反応後に残存しているこれらのO2-イオンを酸化する ために適用する。この技術における問題は大きなカソード面を必要とし、サンプ ル消費量が高くなるという点にある。上記CO2濃度を抽出するために複雑な関 係式を必要とする点、さらに測定されたO2濃度が上述した化学式(1)および (2)からその信号が増強されることによって複雑になる点にある。 本発明の目的はこれらの問題を解決することができる装置および方法を提供す ることにある。本発明は上記反応(2)の干渉を最小にする条件下で上記反応( 1)および(3)を使用することにより達成される。 酸素および二酸化炭素は別にしても、麻酔中に使用する窒素酸化物(N2O) およびガスのような他の濃度を測定するための技術を改良する要望がある。電流 測定用電気化学的測定に基づく、N2Oおよび麻酔ガスハロタンの臨床測定装置 は知られている。例えばN2Oおよびハロタンは水性電解質中の銀カソード上で 測定することができる(Clin.Phys.Physiol.Meas.,8(1987)3−38 参照)。しかしながら、通常の麻酔ガスであるイソフルランは今日まで水性およ び非水性溶液中では電極材料の幅広い範囲にわたり電気化学的に不活性であると 思われてきた(J.Electroanal.Chem.244(1988)203−219参照 )ため、このような測定技術には不向きであった。 特に、ある範囲のガスの濃度を別個にまたはガス混合物中の成分として正確に 測定することができ、かつ使用が容易で比較的安価な装置が必要である。本発明 はこのような装置およびそれに用いる方法を提供することを目的としている。 ある一つの観点では、本発明によれば、流体中の1以上のガス濃度を測定する 装置であって、ガスに対して浸透可能な膜と該膜によって保持される上記ガスの ための溶媒と、作用電極と、上記溶媒に対して接触状態にあるカウンタおよび/ または参照電極と、上記作用電極に対してある電位を与え、かつ上記溶媒中のガ スを還元するに有効な範囲を超える電位を、ある一つのガスと他のガスの還元生 成物との間の反応への干渉効果を最小にするに十分な速度で走査する手段と、上 記第1のガスの濃度の表示として所定の電位において発生する電流を測定する手 段とを備え、2以上のガスの濃度を測定する場合は存在する1以上の他のガスの それぞれの濃度の表示としてさらに1以上の所定の電位で発生する電流を測定す る手段を備える装置を提供するものである。 他の観点では、本発明は流体中の1以上のガスの濃度を測定するにあたり、上 記ガスに対して透過性を有する膜の一側に上記流体を適用し上記膜の他側では上 記ガスのための溶媒を保持させ、 上記溶媒中において上記ガスを還元するに十分な範囲を超えて走査される電位 を適用するために上記溶媒と接触状態にある作用電極を使用する方法であって、 あるガスと他のガスの還元生成物との間の反応による干渉効果を最小にするた めに上記電位差走査速度を十分なものにし、 上記第1のガスの濃度の表示としてある所定の電位において発生する電流を測 定し、2以上のガス濃度を測定する場合は存在する1以上のガスの濃度のそれぞ れの表示としてさらに1以上の所定の電位において発生する電流を測定する方法 を提供するものである。 上記装置および方法は単一のガス濃度を測定するためにまたは2あるいは3以 上のガス濃度を同時に測定するために使用することができる。O2、CO2および N2Oのようなガスに加えて、この方法により次の式によって示されるような麻 酔ガスの測定を行うことが発見されている。 この発見は特に驚くべきものであると考えられている。何故ならば、上述した ようにイソフルランは電気化学的に不活性なものと考えられてきたからである。 しかしながら、我々はこのようなガスが上述したサイズの作用電極と適当な溶媒 の使用によって還元することができることを示した。 ここで流体とはガスまたは液状であってよく、例えば血清のような体液であっ てよい。ここで膜とは調査対象のガスの性質に基づいて選択される。O2、CO2 および/またはN2Oガスにとっては、例えばPTFEのような材料であるのが 好ましい。しかしながら、揮発性の麻酔ガスの場合には、溶媒によって攻撃され ないであろう焼結ガラスのような不活性多孔材料で上記膜が製造されるのが好ま しい。ここで溶媒とはジメチルスルホキシド(DMSO)であるのがよい。アセ トニトリルおよびプロピレンカーボネートを含む他の非水溶媒も使用することが できる。また、この溶媒は少量のスカベンジャー、水のような過酸化イオンのた めにスカベンジャーを使用することができる。好ましくないけれども、少量の水 、例えば10容量%またはより高い量を含む溶媒を使用することは可能であり、 また便利な場合がある。TEAPのような導電率改善剤もまた存在することがで きる。ここで作用電極としては銀、炭素またはプラチナ、より好ましくは金であ るのがよい。また、カウンタ電極はプラチナであるのがよい。参照電極は、例え ばAg/AgClはこの系に含まれていてもよい。 作用電極の電位は溶媒中の各ガスを還元するに有効な範囲を超えて走査される 。このカバーされる範囲は与えられる具体例に含まれるガスに依存しているが、 典型的には−0.5〜−2.5Vまたはそれ以上(より卑)であろう。酸素および 二酸化炭素にとっては、例えば上記範囲は上述したように約−0.5〜−2.5V である。2種類のガスの還元電位は種々の他の要因に依存している。この走査作 用は一つのガス(二酸化炭素)と他のガスの還元生成物(過酸化物イオン)との 間の反応の干渉効果を最小にする条件下で行われる。換言すれば、この系は上述 した反応(2)を最小にする条件で操作される。この反応は、もし記録される酸 素および二酸化炭素の濃度測定に実質的に影響を与えないほど十分に小さいもの ならば、最小化されていると考えられる。ここに3つの主要な要因をあげ、各々 を順に議論する。 作用電極のサイズ 電位走査速度 電位走査プロフィルの他の特徴 作用電極は1万平方ミクロン(すなわち100μm2)以下の表面積を有するの が好ましい。この数字以上では上記反応(2)による増大する優位量の干渉を避 けることが困難であるか、または不可能である。作用電極の表面積は1000平 方ミクロン以下であるのが好ましい。何故ならば、この値以上では干渉反応を避 けるためにはかなり早い電位操作速度を必要とするからである。 作用電極表面積は100平方ミクロン(すなわち10μm2)を越えないのが好 ましい。以下に示すように、電位差走査速度に対する制限なくこれらの条件下で は良好な結果が得られる。さらに好ましくは、作用電極表面積は10平方ミクロ ン以下である。この場合、以下に示すように干渉反応を補償するために必要な訂 正を少なくしてより正確な結果を与える。 1平方ミクロン以下の表面積を有する作用電極はさらに有利であると思われて いる。絶縁材料シートにより上記電極列を保持してもよい。例えば該シートを通 して延びる気孔を有する。全電流は各独立のカソード電流とカソード数との積で あり、もしいくつかのカソードが破損するならば余剰分を組み入れておく。微小 電極はガス/液間差効果を減少させ、薄い膜を使用することを可能とするので、 センサーの応答時間を減少させる。微小電極には少なくとも5、好ましくは少な くとも20カソード半径だけ互いに間隔をおく必要があり、それにより隣接する 電極間の混戦を避けることができる。原理的には、微小電極のサイズには下限が ない。 電位走査速度は他の重要な要因である。この速度が早すぎると得られる結果が 正確でなく、また再現性がないことが見い出されている。複雑な装置を使用する とより早い速度が可能であるが、現存の装置を使用すると走査速度の最大は50 V/sである。電位走査速度は遅いものであるから、2つの問題が生ずる。まず 第1番目は、簡単なものであり、情報(ガス濃度測定に必要な情報)を得るのに 長い時間を要する。応答速度が重要な場合には少なくとも0.01V/s、例え ば0.1〜10V/sの走査速度が好ましいものである。 他の問題は、O2およびCO2ガス混合物の場合に、もし電位走査速度があまり にも遅いときには二酸化炭素と過酸化物イオンとの間に望まれない反応(2)か ら干渉が生ずる場合がある。我々の研究によれば、作用電極(または各々)が1 00平方ミクロンを越えない表面積を有しているならば、実際にこの問題は生じ ない。これらの条件の下では、電位走査の最適速度はできる限り迅速に正確な情 報を発生させるものであって、0.1〜10V/sの範囲にあるより大きな表面 積を有する作用電極を用いると、他の走査速度が適当なものとなる。 電位走査プロフィルの他の特徴は多くの変動を受ける。簡単な場合、例えば作 用電極の電位差が−0.5Vから始まり、0.5V/sの速度で−2.5Vまで上 昇し、0.5V/sの速度で−0.5Vまで減少し、そして再び同一の速度および その他の速度で上昇する。この2つの最終数値である−0.5Vおよび−2.5V は、関係する2種類のガスの還元電位を電位範囲がカバーするならば、変え得る ものである。電位が−2.5V〜−0.5Vまで変化する速度はより高く、例えば 不定のものである。走査速度はリニアである必要がないので、上記範囲の終端の いずれかまたはその間で休止期間があってもよい。 もし作用電極が測定開始直前に前もって調整されるならば、改善された結果を 得ることができる。例えば、作用電極は走査範囲でいくつかの電位で再調整する ことができる。例えば、短時間の間−1.0Vまたは−1.9Vであり、測定前1 〜60sの間である。本発明の装置および方法は、同一の電極および溶媒を使用 して、かつ適当な電圧範囲を走査することにより、多数のガス濃度を測定するこ とを可能とする。これらの装置および方法は血液ガス濃度の測定だけでなく、種 々の他のガス濃度をも測定するのに適するものである。この研究に基づく装置は 一般的な蒸気分析に対し使用され、かつ揮発剤モニターとして使用することもで きる。本発明の適用範囲は、例えば麻酔装置のような医療分野および食品工業分 野を含む。 以下、添付図面に基づいて説明する。 図1は本発明に係るセンサーの概略図である。 図2は作用電極を含む電池型反応セルの概要図である。なお、膜の後方は記載 していない。 図3および4は特定の作用電極を使用して得られる電圧に対する電流変化を示 すグラフである。 図5、6および7は上記同一の作用電極を使用して得られるガス濃度に対する 電流変化を示すグラフである。 図8および9は第2作用電極を使用して得られる電圧に対する電流変化を示す グラフである。 図10および11は上記第2作用電極を使用して得られるガス濃度に対する電 流変化のグラフである。 図12、13および14は上記電池型反応セルにおいて作用電極を使用して得 られる電圧に対する電流変化を示すグラフである。 図15は上記電池型反応セルにおいて作用電極を使用して得られるガス濃度( CO2)に対する電流変化を示すグラフである。 図16および17は上記電池型反応セルにおいてもう一つの作用電極を使用し て得られる電圧に対する電流変化を示すグラフである。 図18および19は上記電池型反応セルにおいて上記他の作用電極を使用して 得られるガス濃度(N2OおよびO2)に対する電流変化を示すグラフである。 図20〜23は上記電池型反応セルにおいて他の作用電極を使用して得られる 種々の麻酔ガスにおける電圧に対する電流変化を示すグラフである。 図1に示すセンサーは全体として管状をなすPTFE本体10からなり、その 一端はOリング14によって本体に対してシールされたPTFE膜12によって 閉鎖されている。作用電極は直径10μmの金線18が軸方向に延びるガラスロ ッド16からなり、その露出端20が作用電極部を構成している。このガラスロ ッドは上記PTFE本体内に位置し、上記作用電極が上記PTFE膜の内面に隣 接することになっている。ガラスロッドを囲み、PTFE本体10および膜12 によって保持された領域22はジメチルスルホキシドが充填されている。Ag/ AgC1参照電極24またはAg準参照電極は、このDMSOに接触している。 上記PTFE本体にはDMSOの漏出穴26が設けられている。リード線28お よび30は上記作用電極と参照電極とをそれぞれ図示しない電源および電流系に 接続している。 使用にあたっては、このセンサーは例えば酸素および二酸化炭素を含む気流3 2中に存在させ、気流の一部が上記PTFE膜12を通過し、上記DMSO溶媒 22内に溶解することになる。作用電極20の電位は−0.2V〜−2.3Vの間 で循環的に適当な速度で走査され、特定の電位において電流が流れるようになっ ている。例えば、−0.8Vで流れる電流は上記ガス中の酸素濃度を示すことが できる。他方、−1.9Vで流れる電流は上記ガス中の二酸化炭素の濃度を示す ことができる。電流を測定する最善の電位または電位の範囲は、装置の特性に幾 分作用されるものである。全ての電流値は特に作用電極の表面積に依存するであ ろう。一般に、未知の気流によって発生した電流と既知の組成の気流によって発 生する電流値とを比較することが必要となる。 図2に示す反応セルは、溶媒34としてDMSOおよびTEAPの混合物を含 むガラス本体33からなる。作用電極は軸方向に延びる金線36を含むガラスロ ッド35からなり、その露出端37が作用電極部を構成している。このガラスロ ッドはガラス本体に位置させると作用電極はDMSO/TEAP溶液中に浸漬さ れることになる。Ag/AgCl参照電極38またはAg準参照電極およびカウ ンター電極39はこの溶媒混合物に接触させる。これらの3つの電極はリード4 0によってポテンショスタッド(図示せず)に接続される。 使用中は分析中の気体/蒸気が入口パイプ41を通して反応セル中に導入され 、DMSO/TEAP溶媒に溶解することになる。このセルの体積は典型的には 1m以下であって、蒸気/液平衡時間が最小になっている。作用電極は直径2μm または10μmのいずれかを有する金線を有するものが利用できる。図1の装置 を用いるものとして、この作用電極の電位は循環的に適当な速度で走査され、あ る特定の電位で流れる電流値に留意する。 この図2の反応セルは図1のセンサーと同一原理に基づき作動するものである が、図1のものは作用電極が膜の後方に位置している。このように本発明による センサー装置を使用して同一のガス/蒸気混合物を分析するとき反応セルによっ て得られる結果は、再現性があるものと思われる。 実施例1 図3〜図7は図1に示すセンサーによって得られた結果を示す。この作用電極 は直径10μmの金線であった。また、この膜は、12μmのPTFEであった。 測定は室温で行われた。そこではセンサーは窒素ガス中の酸素および二酸化炭素 の 気流中に挿入された。循環ボルタモグラムは0.5V/sの走査速度において形 成され、電圧走査前に10秒間−1.0Vとする前調整信号により行われた。 図3は10容量%の酸素と3、6および9容量%の二酸化炭素、残部窒素ガス において得られたボルタモグラムである。図4は30容量%の酸素と3、6、9 および12容量%の二酸化炭素において得られた同一様式のボルタモグラムであ る。両者のグラフにおいて、酸素電流は−0.8Vで読み取ることができ、この 酸素信号に対していかなる二酸化炭素の帰還効果が示されなかった。二酸化炭素 の炭素電流は−1.9Vで読み取ることができる。 図5は二酸化炭素濃度に対する酸素電流のグラフであり、図3および4におけ るグラフから−0.8Vのデータが採用された。この酸素電流はガス中の二酸化 炭素含有量によって有意量の影響を受けてはいない。 図6は二酸化炭素濃度の3つの異なったレベルにおける酸素濃度に対する二酸 化炭素電流(酸素電流値の減算)のグラフである。また、二酸化炭素濃度は気流 中の酸素濃度に対して有意量の依存性を示さないことが明らかである。図7では 二酸化炭素濃度に対する二酸化炭素電流のグラフの形態で同一のデータが再びプ ロットされている。3%二酸化炭素における実験的バラツキを別とすると、良好 な直線性が示されている。 実施例2 図8〜11はかなり異なった系において得られた結果を示す。この電極は直径 2μmの金線の露出端によって構成されていた。このガスは乾燥それ、その温度 は37℃に調整された。他の条件は、実施例1と同様である。 図8は10容量%の酸素と3、5.7、8.5容量%の二酸化炭素を含むガスの 電流に対する電圧変化を示すグラフである。図9は20容量%の酸素を含むガス を使用して得られる対応するグラフである。 図10は酸素濃度に対する酸素電流のグラフ(図8および9に示されるデータ から得られたもの)であり、−0.85Vにおいて電流測定が行われている。こ こでは良好な直線性が示されている。 図11は二酸化炭素濃度に対する二酸化炭素電流(酸素電流は減算されている ) のグラフ(図9のデータから得られたもの)である。測定は−1.7V電位にお いて行われた良好な直線性が示されている。 実施例3 図12〜15は同一時における3種類のガスの測定を例示したもので、図2に 示す電池型反応セルを使用して得られたものである。 図12は10容量%の酸素と5、10、15、および20容量%の二酸化炭素 、残部窒素酸化物のガス混合物のための電流に対する電圧変化を示すグラフであ る。酸素信号は二酸化炭素および窒素酸化物信号に比べて非常に低いが、図13 に示すように明確に確認される(図13においては二酸化炭素電流が拡大されて いる)。図14は電圧スケールおよび二酸化炭素電流をさらに拡大している。図 15は二酸化炭素濃度に対する二酸化炭素電流の変化を示すグラフであり、二酸 化炭素信号は濃度に対して直線的である。他の結果(ここには示していないが) 、酸素および窒素酸化物電流はそれぞれのガスの濃度に対して直線的に変化する 。 実施例4 図16〜19は二酸化炭素を含まない場合の酸素および窒素酸化物の測定結果 を示すもので、図2に示す電池型反応セルを使用して得られたものである。 図16は0〜100容量%まで変化する酸素と窒素酸化物の混合物を含むガス のための電流に対する電圧変化を示すグラフである。窒素酸化物電流は酸素電流 に比べて巨大である。図17では酸素電流は拡大されている。図18および図1 9は窒素酸化物濃度および酸素濃度のそれぞれに対する電流変化を示すグラフで あり、図16および図17に示すデータから得られたものである。 実施例5 図20〜23は4種の揮発性薬剤、すなわち麻酔ガス;エンフルラン、ハロタ ン、イソフルランおよびセボフルランの濃度測定結果を示すもので、図2に示す ベンチ型反応セルを使用して得られたものである。 図20は0.6容量%のイソフルランを含む窒素ガスのための電流に対する電 流変化を示すもので、純粋N2ガスもまた比較のために示されている。 図21および22は、1)N2;2)窒素ガス中の1容量%エンフルランおよ び3)酸素33%および窒素67%混合物中における1容量%のエンフルランの ための電流に対する電圧変化を示すグラフである。この酸素の還元電圧はエンフ ルランの還元電流の微小分画であることがわかる。 図23はエンフルラン、ハロタン、イソフルランおよびセボフルランの各々の ための電流に対する電圧の変化を示すグラフであり、同一の電圧スケールで記載 されており、各還元電位を比較することができる。 1)33%O2/67%N2中における5分後の1容量%セボフルラン 2)N2中の5分後の1容量%エンフルラン 3)N2中の0.6容量%ハロタン 4)N2中の3分後の0.6容量%イソフルラン これらの結果は、本発明の装置および方法を使用すれば、検討中の麻酔ガスの 4種類がDMSO中の金微小カソード上でうまく電気化学的に還元されることを 示している。これは驚くべき発見であると考えられる。何故ならば、従来、ハロ タンだけが容易に還元できると思われてきたからである。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1995年7月18日 【補正内容】 およびガスのような他の濃度を測定するための技術を改良する要望がある。電流 測定用電気化学的測定に基づく、N2Oおよび麻酔ガスハロタンの臨床測定装置 は知られている。例えばN2Oおよびハロタンは水性電解質中の銀カソード上で 測定することができる(Clin.Phys.Physiol.Meas.,8(1987)3−38 参照)。しかしながら、通常の麻酔ガスであるイソフルランは今日まで水性およ び非水性溶液中では電極材料の幅広い範囲にわたり電気化学的に不活性であると 思われてきた(J.Electroanal.Chem.244(1988)203−219参照 )ため、このような測定技術には不向きであった。 特に、ある範囲のガスの濃度を別個にまたはガス混合物中の成分として正確に 測定することができ、かつ使用が容易で比較的安価な装置が必要である。本発明 はこのような装置およびそれに用いる方法を提供することを目的としている。 ある一つの観点では、本発明によれば、流体中の1以上のガス濃度を測定する 装置であって、ガスに対して浸透可能な膜と該膜によって保持される上記ガスの ための溶媒と、溶媒と接触状態にある10000平方ミクロン以下の表面積を有 する作用電極と、上記溶媒に対して接触状態にあるカウンタおよび/または参照 電極と、上記作用電極に対してある電位を与え、かつ上記溶媒中のガスを還元す るに有効な範囲を超える電位を、ある一つのガスと他のガスの還元生成物との間 の反応への干渉効果を最小にするに十分な速度で走査する手段と、上記第1のガ スの濃度の表示として所定の電位において発生する電流を測定する手段とを備え 、2以上のガスの濃度を測定する場合は存在する1以上の他のガスのそれぞれの 濃度の表示としてさらに1以上の所定の電位で発生する電流を測定する手段を備 える装置を提供するものである。 他の観点では、本発明は流体中の1以上のガスの濃度を測定するにあたり、上 記ガスに対して透過性を有する膜の一側に上記流体を適用し上記膜の他側では上 記ガスのための溶媒を保持させ、 上記溶媒中において上記ガスを還元するに十分な範囲を超えて走査される電位 を適用するために上記溶媒と接触状態にある10000平方ミクロン以下の表面 積を有する作用電極を使用する方法であって、あるガスと他のガスの還元生成物 との間の反応による干渉効果を最小にするために上記電位差走査速度を十分なも のにし、 請求の範囲 1. 流体中の1以上のガス濃度を測定する装置であって、ガスに対 して浸透を示す膜と該膜によって保持される上記ガスのための溶媒と、上記溶媒 と接触状態にある10000平方ミクロン以下の表面積を有する作用電極と、上 記溶媒に対して接触状態にあるカウンタおよび/または参照電極と、上記作用電 極に対してある電位を与え、かつ上記溶媒中のガスを還元するに有効な範囲を超 える電位を、ある一つのガスと他のガスの還元生成物との間の反応への干渉効果 を最小にするに十分な速度で走査する手段と、上記第1のガスの濃度の表示とし て所定の電位において発生する電流を測定する手段とを備え、2以上のガスの濃 度を測定する場合は存在する1以上の他のガスのそれぞれの濃度の表示としてさ らに1以上の所定の電位で発生する電流を測定する手段を備える装置。 2. 流体中の1以上のガスの濃度を測定するにあたり、上記ガスに対 して透過性を有する膜の一側に上記流体を適用し、上記膜の他側では上記ガスの ための溶媒を保持させ、 上記溶媒中において上記ガスを還元するに十分な範囲を超えて走査される電位 差を適用するために上記溶媒と接触状態にある10000平方ミクロン以下のの 表面積を有する作用電極を使用し、 あるガスと他のガスの還元生成物との間の反応による干渉効果を最小にするた めに上記電位操作速度を十分なものにし、 上記第1のガスの濃度の表示としてある所定の電位において発生する電流を測 定し、2以上のガス濃度を測定する場合は存在する1以上のガスの濃度のそれぞ れの表示としてさらに1以上の所定の電位において発生する電流を測定する方法 。 3. 上記作用電極の表面積を100平方ミクロン以下とする請求項2 記載の方法。 4. 上記ガスが酸素および二酸化炭素である請求項2または3のいず れかに記載の方法。 5. 上記ガスが酸素、二酸化炭素および窒素酸化物である請求項2ま たは3に記載の方法。 6. 上記ガスが麻酔ガスである請求項2または3に記載の方法。 7. 上記ガスが麻酔ガスと酸素、二酸化炭素および窒素酸化物の1以 上からなる請求項2または3に記載の方法。 8. 上記溶媒がジメチルスルホキシドである請求項2ないし7のいず れかに記載の方法。 9. 上記電位走査速度が0.1ないし10V/sである請求項2ない し8のいずれかに記載の方法。 10. 上記作用電極を測定直前に走査範囲内の電位に保持することによ り前調整する請求項2ないし9のいずれかに記載の方法。 11. 上記作用電極の表面積を100平方ミクロン以下とする請求項1 記載の装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 流体中の1以上のガス濃度を測定する装置であって、ガスに対 して浸透を示す膜と該膜によって保持される上記ガスのための溶媒と、作用電極 と、上記溶媒に対して接触状態にあるカウンタおよび/または参照電極と、上記 作用電極に対してある電位を与え、かつ上記溶媒中のガスを還元するに有効な範 囲を超える電位を、ある一つのガスと他のガスの還元生成物との間の反応への干 渉効果を最小にするに十分な速度で走査する手段と、上記第1のガスの濃度の表 示として所定の電位において発生する電流を測定する手段とを備え、2以上のガ スの濃度を測定する場合は存在する1以上の他のガスのそれぞれの濃度の表示と してさらに1以上の所定の電位で発生する電流を測定する手段を備える装置。 2. 流体中の1以上のガスの濃度を測定するにあたり、上記ガスに対 して透過性を有する膜の一側に上記流体を適用し、上記膜の他側では上記ガスの ための溶媒を保持させ、 上記溶媒中において上記ガスを還元するに十分な範囲を超えて走査される電位 差を適用するために上記溶媒と接触状態にある作用電極を使用し、 あるガスと他のガスの還元生成物との間の反応による干渉効果を最小にするた めに上記電位操作速度を十分なものにし、 上記第1のガスの濃度の表示としてある所定の電位において発生する電流を測 定し、2以上のガス濃度を測定する場合は存在する1以上のガスの濃度のそれぞ れの表示としてさらに1以上の所定の電位において発生する電流を測定する方法 。 3. 上記作用電極の表面積を10000平方ミクロン以下、好ましく は100平方ミクロン以下とする請求項2記載の方法。 4. 上記ガスが酸素および二酸化炭素である請求項2または3のいず れかに記載の方法。 5. 上記ガスが酸素、二酸化炭素および窒素酸化物である請求項2ま たは3に記載の方法。 6. 上記ガスが麻酔ガスである請求項2または3に記載の方法。 7. 上記ガスが麻酔ガスと酸素、二酸化炭素および窒素酸化物の1以 上からなる請求項2または3に記載の方法。 8. 上記溶媒がジメチルスルホキシドである請求項2ないし7のいず れかに記載の方法。 9. 上記電位走査速度が0.1ないし10V/sである請求項2ない し8のいずれかに記載の方法。 10. 上記作用電極を測定直前に走査範囲内の電位に保持することによ り前調整する請求項2ないし9のいずれかに記載の方法。 11. 上記作用電極の表面積を10000平方ミクロン以下、好ましく は100平方ミクロン以下とする請求項1記載の装置。
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