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JPH08298069A - Manufacture of shadow mask - Google Patents

Manufacture of shadow mask

Info

Publication number
JPH08298069A
JPH08298069A JP10328595A JP10328595A JPH08298069A JP H08298069 A JPH08298069 A JP H08298069A JP 10328595 A JP10328595 A JP 10328595A JP 10328595 A JP10328595 A JP 10328595A JP H08298069 A JPH08298069 A JP H08298069A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
etching
resin
temperature
mask material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10328595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Okazaki
康弘 岡崎
Nagaru Ogawa
▲ながる▼ 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP10328595A priority Critical patent/JPH08298069A/en
Publication of JPH08298069A publication Critical patent/JPH08298069A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a highly fine shadow mask with small opening diameter and a large number of openings by forming an etching preventing layer after controlling the surface temperature of a metal material at a desired temperature. CONSTITUTION: A shadow mask material 1 of a belt-shaped long thin plate made of invar or the like is continuously carried, the arrangement of recesses having different sizes is formed on both surfaces in first etching, photo-curing type resin 7 which is an ultraviolet-ray curing type is applied to the surface on small hole side with a resin coating roll 12, then the shadow mask material 1 is carried to second etching. A heating means 16 having a sheet heating element 16 comprising a ceramic heater emitting infrared rays for example is arranged in the position facing the surface where the photo-curing type resin 7 is coated of the shadow mask material 1, in front of the resin coating roll 12, and uniformly heats the surface where the photo-curing resin 7 is coated. A laser type surface thermometer 17 is arranged soon before the resin coating roll 12, and temperature of the surface where the photo-curing type resin 7 is coated is controlled so as to become 35-37 deg.C with a temperature control means 18.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フォトエッチング法に
よってシャドウマスクを製造する方法に係わり、特に開
孔の径が小さく開孔の数が多い高精細シャドウマスクの
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a shadow mask by a photoetching method, and more particularly to a method for producing a high-definition shadow mask having a small diameter of apertures and a large number of apertures.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラー受像管等に用いるシャドウ
マスクは、例えば図3に示すような工程で造られる。す
なわち、金属素材(以下、シャドウマスク材1と記す)
として巻取りロールから供給された長尺帯状の金属板、
例えば板厚0.13mmの低炭素鋼板を用い、その両面を脱
脂、整面、洗浄処理した後、その両面にカゼインやポリ
ビニルアルコールと重クロム酸アンモニウムからなる水
溶性感光液を塗布乾燥して、フォトレジスト膜2を形成
する。次いで、シャドウマスク材1の一方の面に小孔像
のネガパターンを、他方の面に大孔像のネガパターンを
露光する。その後、温水にて、未露光未硬化のフォトレ
ジスト膜を溶解する現像処理を行なえば、図3(a)に
示すように、小孔レジスト膜2aと大孔レジスト膜2bを表
裏に有するシャドウマスク材1が得られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a shadow mask used for a color picture tube or the like is manufactured by a process as shown in FIG. That is, metal material (hereinafter referred to as shadow mask material 1)
Long strip metal plate supplied from the winding roll as
For example, using a low-carbon steel plate with a plate thickness of 0.13 mm, degreasing, surface conditioning, and cleaning treatment on both sides, then apply a water-soluble photosensitive solution consisting of casein or polyvinyl alcohol and ammonium dichromate on both sides and dry it. The resist film 2 is formed. Next, one surface of the shadow mask material 1 is exposed with a negative pattern of a small hole image and the other surface is exposed with a negative pattern of a large hole image. After that, by performing a developing treatment with hot water to dissolve the unexposed and uncured photoresist film, as shown in FIG. 3A, a shadow mask having a small hole resist film 2a and a large hole resist film 2b on the front and back sides is formed. Material 1 is obtained.

【0003】その後、レジスト膜2に対して硬膜処理お
よびバーニング処理を施し、第一段階のエッチングを表
裏両面から行った後、水洗洗浄および乾燥を行なう。エ
ッチング液には塩化第二鉄のボーメ濃度35〜50を用い、
スプレー圧 1.5〜3.5kg/cm2のスプレーエッチングで行
なうのが一般的である。この第一エッチング工程では、
図3(b)に示すように、エッチング進度は、途中で止
めるのが肝要である。また、この第一エッチング工程で
は、シャドウマスク材1の大孔レジスト膜2bを有する面
に保護フィルムを貼り付け、小孔側からのみシャドウマ
スク材1を中途までエッチングする方法もある。
After that, the resist film 2 is subjected to a film hardening process and a burning process, and the first stage etching is performed from both front and back surfaces, followed by washing with water and drying. The etching solution used is a Baume concentration of 35 to 50 of ferric chloride,
Spray etching with a spray pressure of 1.5 to 3.5 kg / cm 2 is generally used. In this first etching step,
As shown in FIG. 3B, it is important to stop the etching progress in the middle. Further, in this first etching step, there is also a method in which a protective film is attached to the surface of the shadow mask material 1 having the large hole resist film 2b and the shadow mask material 1 is etched halfway only from the small hole side.

【0004】次いで、図3(c)に示すように、シャド
ウマスク材1にエッチング防止層用樹脂(以下、樹脂と
記す)を塗布し、前段のエッチングで形成された小孔側
の凹部3aを完全に埋め尽くすエッチング防止層4を形成
する。なお、エッチング防止層4の形成面は、小孔側で
あっても大孔側であっても、差し支えないが、多くの場
合、小孔側に形成される。続いて、図3(d)に示すよ
うに、大孔側からのみシャドウマスク材1をエッチング
する第二エッチング工程を行ない、大孔側から小孔に貫
通する開孔5を形成する。最後に、エッチング防止層4
およびレジスト膜2を剥がし、水洗乾燥して図3(e)
に示すフラット型のシャドウマスク6を得るものであ
る。
Next, as shown in FIG. 3 (c), a resin for etching prevention layer (hereinafter referred to as a resin) is applied to the shadow mask material 1 and the small hole side concave portion 3a formed by the preceding etching is formed. An etching prevention layer 4 that completely fills up is formed. The etching prevention layer 4 may be formed on the small hole side or the large hole side, but in most cases, the etching prevention layer 4 is formed on the small hole side. Subsequently, as shown in FIG. 3D, a second etching step of etching the shadow mask material 1 only from the large hole side is performed to form an opening 5 penetrating from the large hole side to the small hole. Finally, the etching prevention layer 4
Then, the resist film 2 is peeled off, washed with water and dried, and then, as shown in FIG.
The flat type shadow mask 6 shown in FIG.

【0005】このエッチング防止層を用いた従来法で
は、フォトエッチング法では避けることのできないサイ
ドエッチング現象を小孔側で抑えている、ということが
できる。すなわち、小孔側の凹部にエッチング防止層4
を充填し、第二エッチング工程では小孔はサイドエッチ
ングされないことにより、第一エッチング工程における
精確な小孔パターンを維持できる。したがって、例えば
材料金属板の厚さより小さい孔径の開孔も可能としてい
た。
It can be said that in the conventional method using this etching prevention layer, the side etching phenomenon, which cannot be avoided by the photo etching method, is suppressed on the small hole side. That is, the etching prevention layer 4 is formed in the concave portion on the small hole side.
And the small holes are not side-etched in the second etching step, so that the accurate small hole pattern in the first etching step can be maintained. Therefore, for example, it is possible to open a hole having a hole diameter smaller than the thickness of the material metal plate.

【0006】上記の小孔側へのエッチング防止層4の塗
布手段として、例えばロールコート法またはグラビアコ
ート法等に代表される、樹脂塗布用シリンダーロール
(以下、樹脂塗布用ロールと記す)を用いて行うことが
一手段となっている。すなわち、図2の例に示すよう
に、小孔レジスト膜2aと大孔レジスト膜2bを表裏に有す
るシャドウマスク材1は、第一エッチングチャンバー8
内にて第一エッチングされ、次いで水洗チャンバー9内
で水洗洗浄後、乾燥ユニット10にて、例えばヒーター11
等により加熱乾燥される。次いで、樹脂7を表面に有す
る樹脂塗布用ロール12をシャドウマスク材1のエッチン
グ防止層を形成する面、例えば小孔レジスト膜2a側に接
触させ、樹脂7をシャドウマスク材1に塗布、充填する
ものである。なお、図2の例においては、シャドウマス
ク材1は左から右に、小孔レジスト膜2a側を下にして搬
送され、樹脂塗布用ロール12の回転方向はシャドウマス
ク材1の進行方向と逆になる回り方としている。
As a means for applying the etching preventive layer 4 to the small hole side, a resin applying cylinder roll (hereinafter referred to as a resin applying roll), which is represented by, for example, a roll coating method or a gravure coating method, is used. This is one means. That is, as shown in the example of FIG. 2, the shadow mask material 1 having the small-hole resist film 2a and the large-hole resist film 2b on the front and back sides is the first etching chamber 8
It is first etched in the inside, then washed in the washing chamber 9 with water, and then in the drying unit 10, for example, the heater 11
And dried by heating. Next, the resin application roll 12 having the resin 7 on its surface is brought into contact with the surface of the shadow mask material 1 on which the etching prevention layer is to be formed, for example, the small-hole resist film 2a side, and the resin 7 is applied and filled in the shadow mask material 1. It is a thing. In the example of FIG. 2, the shadow mask material 1 is conveyed from left to right with the small hole resist film 2a side facing down, and the rotation direction of the resin coating roll 12 is opposite to the traveling direction of the shadow mask material 1. I am going to turn around.

【0007】このとき樹脂7として、紫外線硬化型の樹
脂、または、加熱硬化型の樹脂を用いることが一般的と
なっている。すなわち、樹脂7の塗布されたシャドウマ
スク材1に対し、加熱するとともに紫外線照射を行う、
または、単に加熱のみを行うことにより樹脂を硬化し、
最終的にエッチング防止層4を形成するものである。
At this time, it is general to use an ultraviolet curable resin or a heat curable resin as the resin 7. That is, the shadow mask material 1 coated with the resin 7 is heated and irradiated with ultraviolet rays.
Alternatively, the resin is cured by simply heating it,
Finally, the etching prevention layer 4 is formed.

【0008】前述したように、エッチング防止層4の役
目として、第二エッチング工程においてエッチング防止
層が充填された凹部へのエッチング液の接触を防止する
ことにある。このため、形成されたエッチング防止層は
気泡を含まないことが重要であるといえる。
As described above, the role of the etching prevention layer 4 is to prevent the etching solution from coming into contact with the recess filled with the etching prevention layer in the second etching step. Therefore, it can be said that it is important that the formed etching prevention layer does not contain bubbles.

【0009】すなわち、図4(a)に示すように小孔凹
部3aを充填したエッチング防止層4に気泡13があった場
合、第二エッチングにおいて大孔側から小孔に貫通する
開孔5が形成される際、この気泡13内にエッチング液が
流入し、図4(b)に示すようにシャドウマスク材1に
不要なエッチングをもたらすことがあり、その結果、開
孔の形状が拡大したり、所定の円形にならないなどの孔
形不良の原因となるものである。
That is, as shown in FIG. 4A, when there are bubbles 13 in the etching prevention layer 4 filling the small hole concave portion 3a, the opening 5 penetrating from the large hole side to the small hole is formed in the second etching. At the time of formation, the etching liquid may flow into the bubbles 13 and cause unnecessary etching on the shadow mask material 1 as shown in FIG. 4 (b), resulting in enlargement of the shape of the openings. This is a cause of defective hole shape such as not forming a predetermined circle.

【0010】従来、シャドウマスク材1は長尺帯状とな
っており、図2の例に示すように搬送用ローラー14上を
搬送されているものである。このため、乾燥ユニット10
内にて加熱乾燥されたシャドウマスク材1であっても、
周囲の雰囲気温度により搬送途中で逐次冷却されるもの
である。このため、樹脂7の塗布時におけるシャドウマ
スク材1の温度は室温程度、例えば23℃程度と低くなっ
ており、これがエッチング防止層4中に気泡発生をもた
らす原因となりうると推定されていた。
Conventionally, the shadow mask material 1 has a long strip shape and is transported on a transport roller 14 as shown in the example of FIG. For this reason, the drying unit 10
Even if the shadow mask material 1 is heated and dried inside,
It is sequentially cooled during transportation depending on the ambient temperature. Therefore, the temperature of the shadow mask material 1 at the time of applying the resin 7 is about room temperature, for example, about 23 ° C., which is low, and it has been estimated that this may cause bubbles to be generated in the etching prevention layer 4.

【0011】一般的に樹脂は、温度が高いと粘度が下が
り、温度が低いと粘度が上がる性質を持っている。この
ため、樹脂7の塗布時、シャドウマスク材1の温度が低
い場合、シャドウマスク材1上に塗布された樹脂7は温
度が下がり、粘度が上がるといえる。樹脂7の塗布時
に、樹脂7が空気を抱き込み、凹部3内に気泡13が発生
しても、樹脂7の温度が適正な範囲、すなわち粘度が適
正であれば気泡13は樹脂7から抜ける場合が多い。しか
し、シャドウマスク材1の温度が適正な温度範囲より低
く、樹脂7の粘度が高くなった場合、凹部3内に発生し
た気泡13は樹脂7より抜け難くなるといえる。
Generally, a resin has a property that the viscosity decreases when the temperature is high and the viscosity increases when the temperature is low. Therefore, when the temperature of the shadow mask material 1 is low during the application of the resin 7, it can be said that the temperature of the resin 7 applied on the shadow mask material 1 decreases and the viscosity increases. When the resin 7 entraps air during the application of the resin 7 and bubbles 13 are generated in the recess 3, the bubbles 13 escape from the resin 7 if the temperature of the resin 7 is in an appropriate range, that is, if the viscosity is appropriate. There are many. However, when the temperature of the shadow mask material 1 is lower than the appropriate temperature range and the viscosity of the resin 7 is high, it can be said that the bubbles 13 generated in the recess 3 are less likely to escape than the resin 7.

【0012】また、第一エッチングを行った後の水洗洗
浄後の乾燥が不十分であったり、または、シャドウマス
ク材1が搬送中に冷却される際に周囲の水蒸気が付着す
る等で、樹脂7の塗布時にシャドウマスク材1の表面が
湿気を持っている場合も、エッチング防止層4中に気泡
発生をもたらす原因となると推定されていた。
In addition, the resin may be insufficiently dried after washing with water after the first etching, or the surrounding water vapor may adhere when the shadow mask material 1 is cooled during transportation. It was estimated that even if the surface of the shadow mask material 1 had moisture during the application of No. 7, it might cause bubbles in the etching prevention layer 4.

【0013】前述したように、樹脂7は硬化時に加熱さ
れるが、シャドウマスク材1の表面に湿気、すなわち水
分があった場合、樹脂7内に閉じ込められたこの水分が
加熱により気化蒸発し、これによって、エッチング防止
層4中に気泡13が発生するものである。
As described above, the resin 7 is heated at the time of curing. However, when the surface of the shadow mask material 1 has moisture, that is, water, the water trapped in the resin 7 is vaporized and evaporated by heating, As a result, bubbles 13 are generated in the etching prevention layer 4.

【0014】このように、従来のシャドウマスクの製造
方法においては、樹脂7の塗布時におけるシャドウマス
ク材1の温度が低い、または、シャドウマスク材1の表
面に湿気があることで、エッチング防止層4中に気泡が
生じ、得られるシャドウマスクに形状不良の開孔が生じ
るという問題があった。
As described above, in the conventional method for producing a shadow mask, the temperature of the shadow mask material 1 at the time of applying the resin 7 is low, or the surface of the shadow mask material 1 has moisture, so that the etching prevention layer is formed. There was a problem that air bubbles were generated in the sample No. 4 and the resulting shadow mask had open holes with poor shape.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑み、シャドウマスクの製造方法において、気
泡を生じないエッチング防止層の形成法を立案して、本
発明に至ったものであり、得られるシャドウマスクに形
状不良の開孔が生じないシャドウマスクの製造方法を提
供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, the present invention has been accomplished in the shadow mask manufacturing method by devising a method for forming an etching prevention layer that does not generate bubbles. Therefore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a shadow mask in which the resulting shadow mask does not have openings with defective shapes.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、両
面に所定パターンに従って一部金属面を露出させている
レジスト膜が形成されている板状の金属素材の少なくと
も一方の面をエッチングして、少なくともこの一方の面
の金属露出部分に凹部を形成した後、水洗洗浄、乾燥を
行なう第一エッチング工程と、前記第一エッチング工程
にて形成された凹部を有する一方の面に樹脂を塗布して
この凹部内部に樹脂を充填、硬化しエッチング防止層を
形成する工程と、前記エッチング防止層の設けられた面
とは反対の面をエッチングして、この反対の面から前記
一方の面に形成された凹部に通じる凹孔を形成する第二
エッチング工程と、前記エッチング防止層とレジスト膜
を除去する剥膜工程とを少なくとも有するシャドウマス
クの製造方法において、前記第一エッチング工程とエッ
チング防止層形成工程との間を搬送中の金属素材を加熱
する手段と、前記加熱手段により加熱された金属素材へ
樹脂を塗布する際の金属素材表面の温度を測定する手段
と、前記温度測定手段により得られた測定結果をもと
に、前記加熱手段による金属素材への加熱温度を制御す
る手段とを具備したことで、所望する表面温度とした金
属素材に対しエッチング防止層形成工程を行うことを特
徴とするシャドウマスクの製造方法を提供することで、
上記の課題を解決したものである。
That is, according to the present invention, at least one surface of a plate-shaped metal material having a resist film on which both surfaces are partially exposed according to a predetermined pattern is etched. , A first etching step of forming a concave portion on at least this one surface of the metal exposed portion, followed by washing with water and drying, and applying a resin to one surface having the concave portion formed in the first etching step. Forming an etching prevention layer by filling and hardening resin inside the lever recess and etching the surface opposite to the surface on which the etching prevention layer is provided, and forming from this opposite surface to the one surface In the method for producing a shadow mask, which comprises at least a second etching step of forming a concave hole communicating with the formed concave portion and a film peeling step of removing the etching prevention layer and the resist film. The means for heating the metal material being conveyed between the first etching step and the etching prevention layer forming step, and the temperature of the metal material surface when applying the resin to the metal material heated by the heating means. By providing a means for measuring and a means for controlling the heating temperature of the metal material by the heating means on the basis of the measurement result obtained by the temperature measuring means, a metal material having a desired surface temperature can be obtained. By providing a method for manufacturing a shadow mask, which is characterized by performing an etching prevention layer forming step,
This is a solution to the above problem.

【0017】以下に、本発明を用いたシャドウマスクの
製造方法の一例の要部を示す図1を用い、説明を行う。
図1において、シャドウマスク材1は巻取りロールから
供給された長尺物の金属板であって、前述した(従来の
技術)の項に記した工程等に従い第一エッチング、水洗
洗浄、乾燥工程まで終了し、図3(b)に示すように両
面に凹部を得ているものとする。次いで、シャドウマス
ク材1に対し、例えばグラビアコート法等を用いシャド
ウマスク材1の小孔側すなわち小孔レジスト膜2aの面側
に、例えば紫外線硬化型の光硬化型樹脂7を塗布するも
のである。なお、本例ではロール表面に樹脂7を有する
樹脂塗布用ロール12を用い、シャドウマスク材1の下面
を小孔レジスト膜2a側として樹脂の塗布を行っている。
A description will be given below with reference to FIG. 1 showing an essential part of an example of a method for producing a shadow mask according to the present invention.
In FIG. 1, the shadow mask material 1 is a long metal plate supplied from a take-up roll, and the first etching, washing with water, and drying steps are performed according to the steps described in the above (Prior Art). It is assumed that recesses are formed on both sides as shown in FIG. 3 (b). Then, for example, an ultraviolet curable photocurable resin 7 is applied to the shadow mask material 1 by using, for example, a gravure coating method on the small hole side of the shadow mask material 1, that is, the surface side of the small hole resist film 2a. is there. In this example, the resin coating roll 12 having the resin 7 on the roll surface is used, and the resin is coated with the lower surface of the shadow mask material 1 facing the small hole resist film 2a.

【0018】ここで、本発明者らは、(従来の技術)の
項で記したように、エッチング防止層形成の際に、エッ
チング防止層中に気泡をもたらす原因が、搬送中のシャ
ドウマスク材1が周囲の雰囲気により冷却されるためと
推定された点に着目し、搬送中のシャドウマスク材1を
加熱することを提案するものである。
Here, as described in the section ((Prior Art)), the inventors of the present invention cause the bubbles in the etching-preventing layer during the formation of the etching-preventing layer, which is a cause of the shadow mask material being conveyed. It is proposed that the shadow mask material 1 being heated is heated, paying attention to the point that 1 is cooled by the surrounding atmosphere.

【0019】すなわち、本発明のシャドウマスクの製造
方法においては、第一エッチング工程が終了し、樹脂7
が塗布される前の、搬送中のシャドウマスク材1に対
し、図1に示すように加熱手段15により、例えば赤外線
照射等を行い加熱するものである。ここで、加熱手段15
によりシャドウマスク材1は加熱されるが、その際、シ
ャドウマスク材1の部位により温度のバラツキが生じた
場合、塗布された樹脂7が温度差により粘度の差を生じ
る。その結果、塗布された樹脂7が部位により膜厚がバ
ラツクこととなる。これを防止するため、本発明者ら
は、シャドウマスク材1面を均一に加熱する手段とし
て、図1に示すように面発熱体16を用いることを提案す
るものである。面発熱体16の発熱面を、搬送されるシャ
ドウマスク材1の面と対向させ、シャドウマスク材1面
と平行に設置することで、面発熱体16と対向する部位の
シャドウマスク材1面は均一に加熱されるものである。
That is, in the method for manufacturing a shadow mask of the present invention, the first etching step is completed and the resin 7
The heating means 15 heats the shadow mask material 1 before being coated by the heating means 15 as shown in FIG. Here, the heating means 15
As a result, the shadow mask material 1 is heated, but when the temperature of the shadow mask material 1 varies at this time, the applied resin 7 has a difference in viscosity due to the temperature difference. As a result, the film thickness of the applied resin 7 varies depending on the site. In order to prevent this, the present inventors propose to use the surface heating element 16 as shown in FIG. 1 as a means for uniformly heating the surface of the shadow mask material 1. By placing the heat generating surface of the surface heating element 16 so as to face the surface of the shadow mask material 1 to be conveyed and set parallel to the surface of the shadow mask material 1, the surface of the shadow mask material 1 facing the surface heating element 16 is It is heated uniformly.

【0020】一般的に、シャドウマスク材1へ塗布する
際の樹脂7の温度として、例えば30〜45℃程度が適正と
されている。しかし、上記の手段で加熱されるシャドウ
マスク材1の温度が適正値より高くなりすぎた場合、形
成されたエッチング防止層4の耐エッチング性が低下す
るという問題が生じる。すなわち前述したように、樹脂
は温度が高いと粘度が下がる傾向がある。このため、シ
ャドウマスク材1の温度が高すぎた場合、塗布された樹
脂7の粘度が下がり流動性を持つため、塗布された樹脂
7は塗布時の厚みを維持できず、ひいてはエッチング防
止層4の膜厚が薄くなり耐エッチング性が低下する。こ
のため、第二エッチングの際、エッチング液がエッチン
グ防止層4を透してシャドウマスク材1に接触し、不要
なエッチングを行なってしまうといえる。
Generally, the temperature of the resin 7 applied to the shadow mask material 1 is, for example, about 30 to 45 ° C. However, if the temperature of the shadow mask material 1 heated by the above means becomes higher than an appropriate value, there is a problem that the etching resistance of the formed etching prevention layer 4 deteriorates. That is, as described above, the viscosity of the resin tends to decrease when the temperature is high. For this reason, when the temperature of the shadow mask material 1 is too high, the viscosity of the applied resin 7 decreases and the resin 7 has fluidity, so that the applied resin 7 cannot maintain the thickness at the time of application, and thus the etching prevention layer 4 is not formed. The film thickness is reduced and the etching resistance is reduced. For this reason, it can be said that, during the second etching, the etching liquid penetrates the etching prevention layer 4 and comes into contact with the shadow mask material 1 to perform unnecessary etching.

【0021】これを防止するため、以下の方法を提案す
るものである。すなわち、図1に示すように樹脂塗布用
ロール12の手前に温度測定手段17を設け、加熱されたシ
ャドウマスク材1への樹脂塗布時の表面温度を測定す
る。次いで、温度測定手段17により得られたシャドウマ
スク材1の表面温度値は、温度制御手段18、例えばコン
ピュータ等に送られる。温度制御手段18では、得られた
シャドウマスク材1の表面温度値と、あらかじめ設定さ
れている、樹脂塗布時にシャドウマスク材1が持つべき
適正な温度値との比較を行なう。次いで、温度比較をも
とに、温度制御手段18は加熱手段15の温度調節を行なう
ものである。すなわち、加熱されたシャドウマスク材1
の表面温度が高すぎた場合、加熱手段によるシャドウマ
スク材1への加熱温度を低くし、また、低すぎた場合、
加熱手段による加熱温度を高くするという制御である。
これにより、シャドウマスク材1は、所望される表面温
度にて樹脂7の塗布が行われることとなる。
In order to prevent this, the following method is proposed. That is, as shown in FIG. 1, a temperature measuring means 17 is provided in front of the resin coating roll 12 to measure the surface temperature of the heated shadow mask material 1 during resin coating. Then, the surface temperature value of the shadow mask material 1 obtained by the temperature measuring means 17 is sent to the temperature controlling means 18, for example, a computer. The temperature control means 18 compares the obtained surface temperature value of the shadow mask material 1 with a preset proper temperature value that the shadow mask material 1 should have when applying the resin. Then, based on the temperature comparison, the temperature control means 18 adjusts the temperature of the heating means 15. That is, the heated shadow mask material 1
If the surface temperature of the shadow mask material 1 is too high, the heating temperature of the shadow mask material 1 by the heating means is lowered.
The control is to raise the heating temperature by the heating means.
As a result, the shadow mask material 1 is coated with the resin 7 at a desired surface temperature.

【0022】なお、本発明によるシャドウマスク材1の
表面温度制御は、樹脂7の塗布時においてシャドウマス
ク材1の表面温度を所望される表面温度とすることを目
的としているが、特に、樹脂7が塗布されるエッチング
防止層形成面側の温度制御を行うことが望ましいといえ
る。そのため、図1に示すように加熱手段による加熱は
エッチング防止層形成面側より行うことが望ましいとい
え、また、温度測定においてもエッチング防止層形成面
側にて行うことが望ましいといえる。
The surface temperature control of the shadow mask material 1 according to the present invention is intended to make the surface temperature of the shadow mask material 1 a desired surface temperature when the resin 7 is applied. It can be said that it is desirable to control the temperature on the side of the surface on which the etching prevention layer is coated. Therefore, as shown in FIG. 1, it can be said that the heating by the heating means is preferably performed from the etching prevention layer forming surface side, and it is also desirable to perform the heating on the etching prevention layer forming surface side in temperature measurement.

【0023】次いで、温度測定の際、温度測定手段17が
シャドウマスク材1と接触すると、シャドウマスク材1
に傷を付けるおそれがある。このため本発明者らは、温
度測定手段17として、サーモグラフィーもしくはレーザ
ー式表面温度計等の、測定物に接触することなしに測定
物の表面温度を測定できる手段を提案するものである。
なお、図1の例においては、温度測定手段17としてレー
ザー式表面温度計を用いており、レーザー式表面温度計
よりレーザー光をシャドウマスク材1表面に照射し、反
射した光を受けることでシャドウマスク材1の表面温度
を測定しているものである。
Next, when the temperature measuring means 17 comes into contact with the shadow mask material 1 during the temperature measurement, the shadow mask material 1
May be scratched. Therefore, the present inventors propose, as the temperature measuring means 17, a means such as a thermography or laser type surface thermometer capable of measuring the surface temperature of the measured object without contacting the measured object.
In the example of FIG. 1, a laser-type surface thermometer is used as the temperature measuring means 17, and the surface of the shadow mask material 1 is irradiated with laser light from the laser-type surface thermometer, and the reflected light is received. The surface temperature of the mask material 1 is measured.

【0024】次いで、樹脂塗布用ロール12にて樹脂7を
塗布されたシャドウマスク材1に対し、従来通りの製造
方法、すなわち、樹脂7の硬化を行ないエッチング防止
層4を形成した後、第二エッチングおよび剥膜等を行な
い、図3(e)に示すフラット型のシャドウマスク6を
得るものである。
Next, the shadow mask material 1 coated with the resin 7 by the resin coating roll 12 is subjected to a conventional manufacturing method, that is, the resin 7 is cured to form the etching prevention layer 4, and then the second layer is formed. Etching and film removal are performed to obtain the flat shadow mask 6 shown in FIG.

【0025】なお、本発明によるシャドウマスクの製造
方法は、図1の形態に限定されるものではない。例え
ば、図1ではシャドウマスク材1の下面を小孔レジスト
膜2a側として樹脂の塗布を行っているが、シャドウマス
ク材1の上面を小孔レジスト膜2a側として樹脂の塗布を
行うことであっても構わず、この場合、加熱手段15およ
び温度測定手段17もシャドウマスク材1の上面に設ける
ことが望ましいといえる。また、温度測定手段17は一箇
所としているが、測定精度を上げるため温度測定手段17
を複数箇所に設けても構わないといえる。要は、加熱手
段、温度測定手段および温度制御手段を持ち、第一エッ
チング後のシャドウマスク材1のエッチング防止層形成
面側を所望される表面温度とし、しかる後、樹脂の塗布
が行われる構成となっていれば構わないといえる。
The method for manufacturing a shadow mask according to the present invention is not limited to the form shown in FIG. For example, in FIG. 1, the resin is applied with the lower surface of the shadow mask material 1 on the side of the small hole resist film 2a, but the resin is applied with the upper surface of the shadow mask material 1 on the side of the small hole resist film 2a. However, in this case, it can be said that it is desirable to provide the heating means 15 and the temperature measuring means 17 on the upper surface of the shadow mask material 1. Further, although the temperature measuring means 17 is provided at one place, the temperature measuring means 17 is provided in order to improve the measurement accuracy.
It can be said that it may be provided at a plurality of locations. The point is that the heating means, the temperature measuring means, and the temperature control means are provided, and the surface of the shadow mask material 1 after the first etching on which the etching prevention layer is formed is set to a desired surface temperature, and then the resin is applied. It can be said that if it is.

【0026】[0026]

【作用】本発明によるシャドウマスクの製造方法におい
ては、第一エッチング工程を終了後の搬送中のシャドウ
マスク材を加熱手段にて加熱後、樹脂塗布前にシャドウ
マスク材の表面温度を測定している。次いで、温度制御
手段は、測定結果と樹脂塗布時にシャドウマスク材1が
持つべき適正な温度との比較を行なった後、加熱手段に
よるシャドウマスク材1への加熱温度を制御しており、
これによりシャドウマスク材1は、所望される表面温度
にて樹脂の塗布が行われることとなる。
In the method for producing a shadow mask according to the present invention, the surface temperature of the shadow mask material is measured after heating the shadow mask material being conveyed after the first etching step by the heating means and before applying the resin. There is. Next, the temperature control means controls the heating temperature of the shadow mask material 1 by the heating means after comparing the measurement result with an appropriate temperature that the shadow mask material 1 should have when applying the resin.
As a result, the shadow mask material 1 is coated with the resin at a desired surface temperature.

【0027】[0027]

【実施例】本発明の実施例を、以下に記す。 <実施例>シャドウマスク材1として、巻取りロールか
ら供給された長尺物の金属板であって、板厚0.13mmの低
膨張性のアンバー材を用いた。次いで、前述した(従来
の技術)の項で説明した工程に従い、第一エッチング工
程まで行い、図3(b)に示す、凹部3を表裏に有する
シャドウマスク材1を得た。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. <Example> As the shadow mask material 1, a long-expansion metal plate supplied from a winding roll and having a low expansion coefficient of 0.13 mm was used. Then, the steps up to the first etching step were performed in accordance with the steps described in the above-mentioned (Prior Art) to obtain the shadow mask material 1 having the recesses 3 on the front and back sides, as shown in FIG.

【0028】次いで、図1に示すように小孔レジスト膜
2a側を下面にして搬送されるシャドウマスク材1の小孔
側の面に、直径30mmの樹脂塗布用ロール12を用い紫外線
硬化型樹脂7を膜厚30μm にて塗布した。この時、本発
明により、搬送されるシャドウマスク材1の小孔面側
に、板状のセラミックヒーターを発熱体とする面発熱体
16を加熱手段15として、シャドウマスク材1面と面平行
に設けた。なお、発熱面とシャドウマスク材1面との距
離は30mmとした。
Then, as shown in FIG. 1, a small hole resist film is formed.
The UV-curable resin 7 was applied to the surface of the small hole side of the shadow mask material 1 conveyed with the 2a side as the lower surface, using a resin application roll 12 having a diameter of 30 mm to a film thickness of 30 μm. At this time, according to the present invention, a surface heating element having a plate-shaped ceramic heater as a heating element is provided on the small hole surface side of the shadow mask material 1 to be conveyed.
16 was provided as the heating means 15 in parallel to the surface of the shadow mask material 1. The distance between the heating surface and one surface of the shadow mask material was 30 mm.

【0029】次いで、面発熱体16にて加熱されたシャド
ウマスク材1の表面温度を、図1に示すように、樹脂塗
布用ロール12の手前に設けたレーザー式表面温度計
((株)キーエンス社製、形式名「IT2−60」)を
用い、レーザー光をシャドウマスク材1の表面に照射す
ることで測定し、測定温度値を温度制御手段18に送っ
た。
Next, as shown in FIG. 1, the surface temperature of the shadow mask material 1 heated by the surface heating element 16 is a laser type surface thermometer (Keyence Co., Ltd.) provided in front of the resin coating roll 12. It was measured by irradiating the surface of the shadow mask material 1 with laser light using a model name "IT2-60" manufactured by the company), and the measured temperature value was sent to the temperature control means 18.

【0030】次いで、本実施例に用いた樹脂7の場合、
樹脂塗布時にシャドウマスク材1が持つべき適正な温度
として35〜37℃が望まれることから、温度制御手段18は
測定温度結果をもとに面発熱体16によるシャドウマスク
材1への加熱温度の調整制御を行なった。これにより、
搬送されるシャドウマスク材1の周囲の雰囲気温度は23
℃であったが、シャドウマスク材1が樹脂塗布用ロール
12と接触するときの表面温度は35〜37℃の範囲に保たれ
た。
Next, in the case of the resin 7 used in this example,
Since 35 to 37 ° C. is desired as an appropriate temperature that the shadow mask material 1 should have when applying the resin, the temperature control means 18 determines the heating temperature of the surface heating element 16 to the shadow mask material 1 based on the measurement temperature result. Adjustment control was performed. This allows
The ambient temperature around the conveyed shadow mask material 1 is 23.
Although it was ℃, the shadow mask material 1 is a resin coating roll.
The surface temperature on contact with 12 was kept in the range of 35-37 ° C.

【0031】次いで、樹脂塗布用ロール12により塗布さ
れた紫外線硬化型樹脂7に、加熱と同時に紫外線を照射
することで樹脂の光硬化を行い、図3(c)に示すエッ
チング防止層4とした。次いで、前述した(従来の技
術)の項で説明した工程に従い、第二エッチング、剥膜
等を行いフラット型シャドウマスク6を得た。
Next, the ultraviolet curable resin 7 applied by the resin applying roll 12 is irradiated with ultraviolet rays at the same time as being heated so that the resin is photocured to form the etching preventive layer 4 shown in FIG. 3C. . Next, according to the steps described in the above-mentioned section (prior art), second flat etching, stripping, etc. were performed to obtain the flat shadow mask 6.

【0032】次いで、上記実施例で得られたシャドウマ
スクにおいて、前述した(従来の技術)の項で記したよ
うに、樹脂塗布時にシャドウマスク材1の表面温度が低
いことを原因として生じる孔形不良を調べたが、孔形不
良は認められなかった。
Next, in the shadow masks obtained in the above-mentioned embodiments, as described in the above-mentioned (prior art), the hole shape caused by the low surface temperature of the shadow mask material 1 at the time of resin application. The defect was examined, but no defective pore shape was observed.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明によるシャドウマスクの製造方法
においては、第一エッチング工程を終了後の搬送中のシ
ャドウマスク材を加熱手段にて加熱後、樹脂塗布前にシ
ャドウマスク材の表面温度を測定している。次いで、温
度制御手段は、測定結果と樹脂塗布時にシャドウマスク
材1が持つべき適正な温度との比較を行なった後、加熱
手段によるシャドウマスク材1への加熱温度を制御して
おり、これによりシャドウマスク材1は、所望される表
面温度にて樹脂の塗布が行われることとなる。
In the method for producing a shadow mask according to the present invention, the surface temperature of the shadow mask material is measured after the shadow mask material being conveyed after the first etching step is heated by the heating means and before the resin is applied. are doing. Next, the temperature control means controls the heating temperature of the shadow mask material 1 by the heating means after comparing the measurement result with the proper temperature that the shadow mask material 1 should have when applying the resin. The shadow mask material 1 is coated with resin at a desired surface temperature.

【0034】これにより本発明のシャドウマスクの製造
方法では、従来のシャドウマスクの製造方法で生じてい
た問題、すなわち、樹脂塗布時のシャドウマスク材の温
度が低いため樹脂の粘度が上がり、エッチング防止層中
に気泡が発生し、エッチング時に孔形不良が生じるとい
う問題を防止できる。
Thus, in the shadow mask manufacturing method of the present invention, the problem that has occurred in the conventional shadow mask manufacturing method, that is, since the temperature of the shadow mask material at the time of resin application is low, the viscosity of the resin increases, and etching prevention is performed. It is possible to prevent the problem that air bubbles are generated in the layer and a defective pore shape is generated during etching.

【0035】また従来は、第一エッチング工程における
乾燥不十分、または、シャドウマスク材搬送中の冷却に
よる水分付着等によりシャドウマスク材表面が湿気を持
ち、これによりエッチング防止層中に気泡が発生し、エ
ッチング時に孔形不良が生じるという問題があった。し
かし、本発明のシャドウマスクの製造方法では、シャド
ウマスク材の加熱を行なうため、シャドウマスク材表面
の湿気を蒸発除去し、エッチング防止層中の気泡発生を
防止でき孔形不良の開孔が生じない品質の良好なシャド
ウマスクを得ることが出来る等、本発明は高品質の高精
細型シャドウマスクを得る上で実用上優れているといえ
る。
Further, conventionally, the surface of the shadow mask material is moist due to insufficient drying in the first etching step or adhesion of water due to cooling during transportation of the shadow mask material, which causes bubbles in the etching prevention layer. However, there is a problem that a defective hole shape occurs during etching. However, in the method for manufacturing a shadow mask of the present invention, since the shadow mask material is heated, moisture on the surface of the shadow mask material is removed by evaporation, and it is possible to prevent the generation of bubbles in the etching prevention layer, which results in the formation of defective pores. It can be said that the present invention is practically excellent in obtaining a high-quality, high-definition shadow mask, such as being able to obtain a good quality shadow mask.

【0036】[0036]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のシャドウマスクの製造方法における一
実施例の要部を示す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing a main part of an embodiment of a method for manufacturing a shadow mask according to the present invention.

【図2】従来のシャドウマスクの製造方法の一例の要部
を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory view showing a main part of an example of a conventional shadow mask manufacturing method.

【図3】(a)〜(e)はシャドウマスクの製造方法の
一例を工程順に示す説明図。
3A to 3E are explanatory views showing an example of a method of manufacturing a shadow mask in the order of steps.

【図4】(a)〜(b)は凹部に生じた気泡によるエッ
チング孔形不良の一例を工程順に示す説明図。
4A to 4B are explanatory views showing an example of an etching hole shape defect due to bubbles generated in a concave portion in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シャドウマスク材 2 レジスト膜 3 凹部 4 エッチング防止層 5 開孔 6 シャドウマスク 7 樹脂 8 エッチングチャンバー 9 水洗チャンバー 10 乾燥ユニット 11 ヒーター 12 樹脂塗布用ロール 13 気泡 14 搬送用ローラー 15 加熱手段 16 面発熱体 17 温度測定手段 18 温度制御手段 1 Shadow Mask Material 2 Resist Film 3 Recess 4 Etching Prevention Layer 5 Opening Hole 6 Shadow Mask 7 Resin 8 Etching Chamber 9 Water Washing Chamber 10 Drying Unit 11 Heater 12 Resin Coating Roll 13 Bubbles 14 Conveying Roller 15 Heating Means 16 Surface Heating Element 17 Temperature measuring means 18 Temperature control means

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】両面に所定パターンに従って一部金属面を
露出させているレジスト膜が形成されている板状の金属
素材の少なくとも一方の面をエッチングして、少なくと
もこの一方の面の金属露出部分に凹部を形成した後、水
洗洗浄、乾燥を行なう第一エッチング工程と、前記第一
エッチング工程にて形成された凹部を有する一方の面に
樹脂を塗布してこの凹部内部に樹脂を充填、硬化しエッ
チング防止層を形成する工程と、前記エッチング防止層
の設けられた面とは反対の面をエッチングして、この反
対の面から前記一方の面に形成された凹部に通じる凹孔
を形成する第二エッチング工程と、前記エッチング防止
層とレジスト膜を除去する剥膜工程とを少なくとも有す
るシャドウマスクの製造方法において、前記第一エッチ
ング工程とエッチング防止層形成工程との間を搬送中の
金属素材を加熱する手段と、前記加熱手段により加熱さ
れた金属素材へ樹脂を塗布する際の金属素材表面の温度
を測定する手段と、前記温度測定手段により得られた測
定結果をもとに、前記加熱手段による金属素材への加熱
温度を制御する手段とを具備したことで、所望する表面
温度とした金属素材に対しエッチング防止層形成工程を
行うことを特徴とするシャドウマスクの製造方法。
1. At least one surface of a plate-shaped metal material having a resist film on both surfaces of which a metal film is partially exposed according to a predetermined pattern is etched to expose at least one metal surface. After forming a concave portion in the concave portion, a first etching step of washing with water and drying, and a resin is applied to one surface having the concave portion formed in the first etching step, the resin is filled in the concave portion and cured. And a step of forming an etching prevention layer, and etching the surface opposite to the surface on which the etching prevention layer is provided to form a concave hole leading from this opposite surface to the concave portion formed on the one surface. In a method for producing a shadow mask, which comprises at least a second etching step and a film removing step for removing the etching prevention layer and the resist film, the first etching step and the etching step Means for heating the metal material being conveyed between the anti-corrosion layer forming step, means for measuring the temperature of the metal material surface when the resin is applied to the metal material heated by the heating means, and the temperature measurement By providing a means for controlling the heating temperature of the metal material by the heating means based on the measurement result obtained by the means, the etching prevention layer forming step is performed on the metal material having a desired surface temperature. A method for manufacturing a shadow mask, comprising:
【請求項2】加熱手段として、搬送される金属素材面に
対し発熱面を平行とした面発熱体を用いることを特徴と
する請求項1記載のシャドウマスクの製造方法。
2. The method for manufacturing a shadow mask according to claim 1, wherein a surface heating element having a heating surface parallel to the surface of the metal material being conveyed is used as the heating means.
【請求項3】加熱手段による加熱をエッチング防止層形
成面側より行い、温度測定をエッチング防止層形成面側
にて行うことを特徴とする請求項1または2記載のシャ
ドウマスクの製造方法。
3. The method for producing a shadow mask according to claim 1, wherein heating by the heating means is performed from the etching prevention layer forming surface side and temperature measurement is performed on the etching prevention layer forming surface side.
【請求項4】温度測定手段を、サーモグラフィーもしく
はレーザー式表面温度計を用い、金属素材に対し非接触
式とすることを特徴とする請求項1、2または3記載の
シャドウマスクの製造方法。
4. The method for producing a shadow mask according to claim 1, wherein the temperature measuring means is a non-contact type with a metal material using a thermographic or laser type surface thermometer.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1074725C (en) * 1999-02-08 2001-11-14 边学军 Art for mfg. pictures by photoetching technology
KR101882916B1 (en) * 2018-04-12 2018-07-30 정인택 Mask manufacturing system
KR101889967B1 (en) * 2018-04-13 2018-08-20 정인택 Carrier flip device and mask manufacturing system having the same

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