JPH08279148A

JPH08279148A - テープ状磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH08279148A
Application number: JP10323795A
Authority: JP
Inventors: Masatoshi Takahashi; 昌敏高橋; Mitsuyoshi Asada; 順義浅田; Jiyunichi Nakamigawa; 順一中三川; Nobuyuki Kobayashi; 信行小林
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1995-04-05
Filing date: 1995-04-05
Publication date: 1996-10-22

Abstract

(57)【要約】【目的】磁性層のエッジの削れ性を改善することによ
り、磁性層表面への粉落ち及び磁気ヘッドと磁性層表面
との間の目詰まり等の頻度が減少され、その結果ドロッ
プアウト等が極端に少ないテープ状磁気記録媒体を提供
する。【構成】非磁性支持体の一面上に磁性層を設け長手方
向にスリットされて得られる磁気記録媒体において、ス
リット断面の非磁性支持体最大凸部の頂点から垂直方向
に引かれた線に分割される該非磁性支持体最大凸部の頂
点より突出した磁性層部分の０．０３ｍｍあたりの体積
が０より大きく１００μｍ³未満であること、又は、磁
性層のエッジ部分のクラック数が０〜１００個／ｍｍで
あることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体、特に非磁
性支持体上に磁性層を塗布して長手方向にスリットした
テープ状の磁気記録媒体、更に詳しくは厚目の単層磁性
層を有しデジタル信号を高密度で記録再生するハイビジ
ョンＶＴＲ用の磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に磁気記録媒体としては、強磁性粉
末を結合剤（バインダー）中に分散させた磁性層を非磁
性支持体上に設けた磁気記録媒体が用いられている。特
に、テープ状の磁気記録媒体は、強磁性粉末を結合剤、
添加剤、有機溶剤とともに混合分散して磁性塗布液をつ
くり、この磁性塗布液を非磁性支持体上に塗布した後、
乾燥して幅の広い磁気記録媒体（原反）をつくり、これ
をスリッター装置を用いて８ｍｍ、１／２インチ、１イ
ンチ等の所要の幅に裁断することにより製造されてい
る。その裁断のやり方は、例えば図３に示すように磁気
記録媒体原反１１を多数の上刃１２と下刃１３を向かい
合わせて構成したスリッター１０により所要の幅に裁断
し、得られたテープ状の磁気記録媒体１をガイドローラ
１４を経てパンケーキ１５で巻き取るという方式が取ら
れている。

【０００３】上記の裁断によりえられた磁気記録媒体の
スリット断面は、通常、図１に示すように磁性層３が非
磁性支持体４の最大凸部の頂点よりも突出していたり、
図２に示すように磁性層３のエッジ部分にクラック７を
多数持った形状をしている。長波長のデジタル信号の記
録再生に好適な、厚目の単層磁性層をもつハイビジョン
用の磁気記録媒体では、このスリット断面の形状、即ち
磁性層の突出やエッジ部分のクラック発生が特に顕著で
ある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のスリッ
ト断面形状を持つ磁気記録媒体は、突出したりエッジ部
分にクラックが発生した磁性層が長期間使用されて傷つ
いたガイドフランジにより削られ、磁性層表面への粉落
ち及び磁気ヘッドと磁性層表面との間の目詰まり等を生
じ、その結果ドロップアウト等が頻繁に現れるという問
題点があった。この問題点を解決する手段として、特開
平３−２４８３２４号公報には、スリット断面にて非磁
性支持体を突出させることにより、磁性層の削れを防止
することが記載されている。しかし、この磁気記録媒体
においては、非磁性支持体が傷ついたガイドフランジの
ナイフ効果により損傷を受けたり、またこの突出した非
磁性支持体がガイドフランジを更に傷つけるという欠点
があった。本発明は上記の問題を解決し、磁性層のエッ
ジの削れ性を改善することにより、磁性層表面への粉落
ち及び磁気ヘッドと磁性層表面との間の目詰まり等の頻
度が減少され、その結果ドロップアウト等が極端に少な
い磁気記録媒体を提供することを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、スリット
断面における非磁性支持体の最大凸部よりも突出した磁
性層部分（以下、磁性層突出部ともいう）が小さくなる
ほど、または磁性層のエッジ部分のクラックが少なくな
るほど、傷ついたフランジによる該磁性層削れが少なく
なることを見いだし、この知見に基づいて本発明をなす
に至った。即ち本発明の第１は、非磁性支持体の一面上
に磁性層を設け長手方向にスリットされて得られる磁気
記録媒体において、スリット断面の非磁性支持体最大凸
部の頂点から垂直方向に引かれた線（以下、分割線とも
いう）に分割される該非磁性支持体最大凸部の頂点より
突出した磁性層部分の体積が、０．０３ｍｍ当たり、０
より大きく１００μｍ³未満であることを特徴とするテ
ープ状磁気記録媒体である。また本発明の第２は、非磁
性支持体の一面上に磁性層を設け長手方向にスリットさ
れて得られる磁気記録媒体において、磁性層のエッジ部
分のクラック数が０〜１００個／ｍｍであることを特徴
とするテープ状磁気記録媒体である。

【０００６】本発明の第１を、図１にて詳細に説明する
と、非磁性支持体４の一面上に磁性層３（必要に応じて
他の面にバック層５も）を設け長手方向にスリットされ
て得られる磁気記録媒体１であり、スリット断面の非磁
性支持体最大凸部の頂点から垂直方向に引かれた線（分
割線）６に分割される該非磁性支持体最大凸部より突出
した磁性層部分（磁性層突出部）２の体積が、０．０３
ｍｍ当たり、０より大きく１００μｍ³未満、好ましく
は５０μｍ³以下であることを特徴とするものである。

【０００７】磁性層突出部２の０．０３ｍｍ当たりの体
積が１００μｍ³以上では、削れが著しく、磁性層の粉
落ちが多くなり、その結果磁気記録媒体の走行経路およ
び磁性層表面を汚したり、磁性層と磁気ヘッドとの間に
目詰まり等が生じる。これらの汚れや目詰まりは、先述
のようにドロップアウト等の原因となる。また、磁性層
突出部２の体積が０、即ち磁性層が突出していない場合
は、該磁性層が削られて粉落ちする事はないが、摩擦抵
抗が大きくなり走行性が悪くなるという問題が生じた
り、非磁性支持体４が損傷を受けたりガイドフランジに
更に傷を付けることになるため好ましくない。また、本
発明の第２を、図２にて詳細に説明すると、磁性層３の
エッジ部分のクラック７の数が０〜１００個／ｍｍであ
ることを特徴とするものである。

【０００８】

【作用】本発明の第１では、突出した磁性層部分２の体
積が０．０３ｍｍ当たり１００μｍ³未満と少ないた
め、ガイドフランジへの接触が少なく磁性層の削れが少
ない。また、突出した磁性層部分２の体積が０より大き
いため、磁性層に含まれる潤滑剤や研磨剤が作用するた
め走行性が良好に保たれる。本発明の第２では、磁性層
エッジ部分の強度に悪影響を及ぼすクラック７の数が０
〜１００個／ｍｍと少ないため、エッジ部分は強度に優
れることになる。

【０００９】本発明の磁気記録媒体のスリット断面を実
現するための方法としては、先述したスリット装置を用
いた裁断において、スリット速度、噛み合い深さ、上刃
（雄刃）と下刃（雌刃）の周速比（上刃周速／下刃周
速）、スリット刃の連続使用時間や、磁性層のバインダ
ー組成における硬化剤比率を調整することにより達成さ
れる。スリット速度としては速いほうが好ましいが、具
体的には２００〜８００ｍ／分の範囲が適当であり、好
ましくは３００〜６００ｍ／分、より好ましくは４００
〜５００ｍ／分である。噛み合い深さとしては深いほう
が好ましいが、具体的には０．１〜０．８ｍｍの範囲が
適当であり、好ましくは０．２５〜０．７ｍｍ、より好
ましくは０．４〜０．５ｍｍである。上刃と下刃の周速
比としては、具体的には０〜１０の範囲が適当であり、
好ましくは０．５〜８、より好ましくは３〜６である。
磁性層のバインダー組成における硬化剤比率としては多
いほうが好ましく、具体的には磁性層中１０〜４０ｗｔ
％の範囲が適当であり、好ましくは１５〜３５ｗｔ％、
より好ましくは２０〜３０ｗｔ％である。特に、クラッ
ク数を好ましい範囲にするためには、刃の噛み合い深さ
を調整することが有効である。また、クラック数に影響
を与える因子としては、磁性層の脆さがあり、硬化剤の
量を増大し過ぎると磁性層は脆くなってクラック数は増
大する傾向がある。

【００１０】以下、本発明の磁気記録媒体を構成するも
のについて更に詳細に説明する。本発明の磁気記録媒体
は、非磁性支持体と、この支持体上に設けられた磁性層
と必要に応じて磁性層と反対側に設けられるバックコー
ト層（単にバック層ともいう）からなる。磁性層は強磁
性微粉末と必要に応じてカーボンブラック、研磨剤、粉
末状潤滑剤などの粉状成分とこの粉状成分が分散してい
る結合剤からなり、バックコート層は、強磁性微粉末を
の代わりに非磁性粉末を使用する以外は、磁性層と同様
のものからなる。結合剤は樹脂成分とさらに必要に応じ
て配合される硬化剤とにより構成されている。

【００１１】先ず、本発明の磁気記録媒体の非磁性支持
体について説明する。本発明で使用する非磁性支持体
は、特に限定されないが、厚み５〜１０μｍ程度、特に
６〜９μｍ程度が好ましく、幅方向のヤング率は１００
０Ｋｇ／ｍｍ²以上、特に１２００Ｋｇ／ｍｍ²以上が
好ましい。また、長手方向のヤング率は、４００〜１２
００Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは４５０〜１０００Ｋｇ／
ｍｍ²の範囲である。

【００１２】本発明の磁性層の物性を得るためには、磁
性層の結合剤樹脂組成、添加剤組成及びそれらの配合量
をコントロールし、さらに磁性層の表面平滑化処理であ
るカレンダー処理条件をコントロールすることが重要で
ある。

【００１３】素材としては、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポ
リプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリア
セテート、セルロースダイアセテート等のセルロース誘
導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン等のプ
ラスチックが使用できるが、好ましくはポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド
およびポリイミド、特に好ましくは、ポリエチレンナフ
タレート（ＰＥＮ）が使用される。これら支持体は塗布
に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処
理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、アルカリ処理
を行ってもよい。これら支持体に関しては、例えば、西
独特許３３３８８５４Ａ明細書、特開昭５９−１１６９
２６号公報、米国特許４３８８３６８号明細書；三石幸
夫著、「繊維と工業」３１巻ｐ５０〜５５、１９７５
年などに記載されている。これら支持体の中心線平均表
面粗さは、０．００１〜０．５μｍ（カットオフ値０．
２５ｍｍ）が好ましい。

【００１４】又、本発明におけるポリエチレンナフタレ
ートは、エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレ
ートホモポリマーを始め、エチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレート繰り返し単位を７０重量％以上含
む共重合体、これらと他種ポリマーとの混合体（但し、
ＰＥＮ成分が７０重量％以上を占める）の如く本質的に
ＰＥＮの性質を失わないポリエステル組成物を包含す
る。このＰＥＮはフィルム形成能を有するポリマーであ
る。

【００１５】本発明で使用されるＰＥＮフィルムは未延
伸フィルムを２軸配向させることによって、製造するこ
とができる。２軸配向は、例えば逐次２軸配向ではＰＥ
Ｎのガラス転移温度よりも高い温度、好ましくは３〜１
０℃高い温度で１段目の延伸を行い、次いで１段目の延
伸温度と同じ、ないし１０℃高い温度範囲で２段目の延
伸を行う。延伸倍率は少なくとも１軸方向で２以上、更
に好ましくは２．５以上とし、面積倍率で６倍以上さら
には８倍以上とするのが好ましい。熱処理（ヒートセッ
ト）は１７０℃以上、さらに好ましくは１９０℃以上の
温度で緊張下に行うのが好ましい。熱処理温度の上限は
処理時間にもよるが、フィルムが安定した形状をとる温
度であるのはいうまでもない。熱処理時間は数秒から数
十秒、さらには３〜３０秒間が好ましい。その後、さら
に（ガラス転移温度から１０℃低い温度）〜（溶融温度
から４０℃低い温度）の範囲の条件で縦方向に１．０５
〜２．５倍、横方向に１．０５〜２．５倍の逐次延伸を
行い、再熱処理は（ガラス転移温度から５０℃低い温
度）〜（溶融温度から１０℃低い温度）の範囲で行うの
が好ましい。

【００１６】本発明の磁性層で使用する強磁性粉末は、
特に限定されないが、鉄、コバルトあるいはニッケルを
含む強磁性金属粉末を用いるとその効果が顕著であっ
て、α−Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｎｉ−Ｃｏ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金などの強磁性金属微粉末が好
ましい。

【００１７】これらの強磁性金属粉末の形状は特に制限
はなく、通常は、針状、粒状、サイコロ状、米粒状およ
び板状のものなどが使用される。粒子サイズは、針状の
場合は、０．０５〜０．５μｍ、好ましくは０．０５〜
０．３μｍ、特に好ましくは０．１０〜０．２５μｍの
長軸長で、長軸長／短軸長は２／１〜２５／１、好まし
くは３／１〜１５／１、特に好ましくは４／１〜１２／
１であり、板状の場合は、板径は、０．０２〜０．２０
μｍ、好ましくは０．０３〜０．１０μｍ、特に好まし
くは０．０４〜０．０７μｍで、板径／板厚は、１／１
〜３０／１、好ましくは２／１〜１０／１、特に好まし
くは２．５〜７／１である。

【００１８】また、これらの強磁性金属粉末の比表面積
（比表面積Ｓ_BET）は、４７〜８０ｍ²／ｇ、より好ま
しくは５３〜７０ｍ²／ｇ、抗磁力（Ｈｃ）は、１２５
０〜２５００Ｏｅ、飽和磁化（σ_S）は、１００〜１８
０ｅｍｕ／ｇ、好ましくは１１０〜１５０ｅｍｕ／ｇで
ある。含水率は、０．１〜２．０重量％、ｐＨは３〜１
１（５ｇ強磁性粉末／１００ｇ水）が好ましい。これら
の強磁性金属粉末の表面に、後で述べる防錆剤、表面処
理剤、分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的
の為に分散に先立って溶剤中で含浸させて吸着させても
よい。

【００１９】また、強磁性金属粉末として、その金属分
は６０重量％以上であり、そして金属分の７０重量％以
上が少なくとも１種類の強磁性金属粉末あるいは合金
（例、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ）であ
り、該金属分の４０重量％以下、より好ましくは２０重
量％以下の範囲で他の成分（例、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓ
ｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、
Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｂ、Ｐ）を含むことのある合金や、窒化鉄や炭化鉄
等を挙げることができる。特にこの中で金属鉄の強度を
補うためにＡｌ、Ｓｉ、Ｃｒを単独乃至混合して表層に
設けることが望ましい。また、上記強磁性金属粉末が少
量の水酸化物または酸化物、アルカリ金属元素（Ｎａ、
Ｋ等）、アルカリ土類金属元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ）を
含むものなどであってもよい。これらの強磁性金属粉末
の製造方法は既に公知であり、本発明で用いる強磁性金
属粉末の代表例である強磁性金属粉末についてもこれら
公知の方法に従って、製造することができる。

【００２０】特に、本発明において、強磁性粉末として
用いられる強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下
記の方法を挙げることができる。（ａ）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）を水素など
の還元性気体で還元する方法：（ｂ）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあ
るいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法：（ｃ）金属カルボニル化合物を熱分解する方法：（ｄ）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、
次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加し
て還元する方法：（ｅ）水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法：（ｆ）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法：

【００２１】また本発明に使用する強磁性粉末として
は、板状六方晶のバリウムフェライトも使用できる。バ
リウムフェライトの粒子サイズは約０．００１〜１ミク
ロンの直径で厚みが直径の１／２〜１／２０である。バ
リウムフェライトの比重は４〜６ｇ／ccで、比表面積は
１ｍ²／ｇ〜７０ｍ²／ｇである。また、所望により、
ＦｅＯ_X（Ｘ＝１．３３〜１．５０）、Ｃｏ含有ＦｅＯ
_X、等を使用することもできる。本発明の必要に応じて
設けられるバック層に使用できる非磁性粉末としては、
例えば特開昭５９−１１００３８号公報に開示されてい
るような、各種の粉末がある。即ち、カーボンブラッ
ク、グラファイト、二硫化タングステン、窒化ホウ素、
二酸化ケイ素、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸
化鉄、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸
化カルシウム、リトポン、タルク、酸化第二スズ等が挙
げられる。

【００２２】本発明の磁性層とバック層に使用される結
合剤の樹脂成分としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱
硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬
化型樹脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用
される。

【００２３】熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃
以下、数平均分子量が１００００〜３０００００、重合
度が約５０〜２０００程度のもので、より好ましくは２
００〜６００程度であり、例えば塩化ビニル酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリ
ル酸エステルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エ
ステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステルス
チレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロニトリ
ル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重
合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレタ
ンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセ
ルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビ
ニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジエンアクリ
ロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチ
ラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチ
レート、セルロースダイアセテート、セルローストリア
セテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス、エチルセルロース、メチルセルロース、プロピルセ
ルロース、メチルエチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、アセチルセルロース等）、スチレンブタジ
エン共重合体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合
体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及び
これらの混合物等が使用される。

【００２４】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布
液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗布、
乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の反応
により分子量は無限大のものとなる。又、これらの樹脂
のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融し
ないものが好ましい。具体的には例えばフェノール樹
脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネート
樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリ
コン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹脂）、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリ
フェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミ
ン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等である。

【００２５】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸（ＳＯ₃Ｍ）、燐酸（ＰＯ（ＯＭ）（ＯＭ））、ホ
スホン酸、硫酸（ＯＳＯ₃Ｍ）およびこれらのエステル
基等の酸性基（Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、炭化水素基）、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、
イミド基、アミド基等また、水酸基、アルコキシル基、
チオール基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、
Ｂｒ、Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イ
ソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アク
リル基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、
各々の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6当量〜１×１
０^-2当量含む事が好ましい。

【００２６】硬化剤としては、通常はポリイソシアネー
ト化合物が使用される。本発明の磁性層及び或いはバッ
ク層に用いるポリイソシアネート化合物としては、トリ
レンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイ
ソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシア
ネート類、又当該イソシアネート類とポリアルコールと
の生成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した
２〜１０量体のポリイソシアネート、またはトリイソシ
アネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基がイソ
シアネートであるもの等を使用することができる。これ
らポリイソシアネート類の平均分子量は、１００〜２０
０００のものが好適である。これらポリイソシアネート
化合物の市販されている商品名としては、コロネート
Ｌ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート
２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（日
本ポリウレタン（株）、タケネートＤ−１０２、タケネ
ートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネート
Ｄ−２０２、タケネート３００Ｓ、タケネート５００
（武田薬品（株）製）、スミジュールＴ−８０、スミジ
ュール４４Ｓ、スミジュールＰＦ、スミジュールＬ、ス
ミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモジュールＩ
Ｌ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、デスモジ
ュールＴ６５、デスモジュール１５、デスモジュール
Ｒ、デスモジュールＲＦ、デスモジュールＳＬ、デスモ
ジュールＺ４２７３（住友バイエル社製）等があり、こ
れらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若し
くはそれ以上の組み合わせによって使用することができ
る。又、硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジ
オール、ヘキサンジオール、分子量が１０００〜１００
００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モノメチルア
ミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等）を有する
化合物や金属酸化物の触媒を併用する事も出来る。これ
らの水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能である事
が望ましい。これらのポリイソシアネートは磁性層、バ
ック層とも結合剤樹脂とポリイソシアネートの総量１０
０重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは５〜５０重量部である。これらの例
示は、特開昭６０−１３１６２２号公報、特開昭６１−
７４１３８号公報等において示されている。

【００２７】これらの結合剤の単独又は組合わされたも
のが使われ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁
性粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性粉末１０
０重量部に対して結合剤５〜３００重量部の範囲で使用
される。バック層の粉末と結合剤の混合割合は重量比で
粉末１００重量部に対して結合剤８〜４００重量部の範
囲で使用される。添加剤としては、カーボンブラック、
研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止
剤、酸化防止剤、溶剤等が加えられる。

【００２８】本発明の磁性層とバック層に使用されるカ
ーボンブラックとしてはゴム用ファーネス、ゴム用サー
マル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用い
ることができる。これらカーボンブラックはテープの帯
電防止、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的と
して使用される。これらカーボンブラックの米国におけ
る略称の具体例をしめすと、SAF 、ISAF、IISAF 、T 、
HAF 、SPF 、FF、FEF 、HMF 、GPF 、APF 、SRF 、MPF
、ECF 、SCF 、CF、FT、MT 、HCC 、HCF 、MCF 、LFF
、RCF 等があり、米国のASTM規格のD-1765-82aに分類
されているものを使用することができる。本発明に使用
されるこれらカーボンブラックの平均粒子サイズは5 〜
1000nm( 電子顕微鏡) 、窒素吸着法比表面積は１〜８０
０ｍ²／ｇ、pHは４〜１１(JIS規格K-6221-1982 法)、
ジブチルフタレート(DBP) 吸油量は１０〜８００ｍＬ
（ミリリットル）/100g(JIS 規格K-6221-1982 法) であ
る。本発明に使用されるカーボンブラックのサイズは、
塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で5 〜100nm のカー
ボンブラックを、また塗布膜の強度を制御するときに50
〜1000nmのカーボンブラックを使用することができる。
また塗布膜の表面粗さを制御する目的でスペーシングロ
ス減少のための平滑化のためにより微粒子のカーボンブ
ラック(100nm未満) を、粗面化して摩擦係数を下げる目
的で粗粒子のカーボンブラック(100nm以上) を用いる。
このようにカーボンブラックの種類と添加量は磁気記録
媒体に要求される目的に応じて使い分けられる。

【００２９】また、これらのカーボンブラックを、後述
の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して
使用してもよい。また、カーボンブラックを製造すると
きの炉の温度を2000℃以上で処理して表面の一部をグラ
ファイト化したものも使用できる。また、特殊なカーボ
ンブラックとして中空カーボンブラックを使用すること
もできる。

【００３０】これらのカーボンブラックは磁性層の場
合、強磁性粉末100 重量部に対して0.1 〜30重量部で用
いることが望ましく、また、バック層の場合は、樹脂１
００重量部に対し２０〜４００重量部で用いることが望
ましい。本発明に使用できるカーボンブラックは、例え
ば、『カーボンブラック便覧』、カーボンブラック協会
編（昭和46年発行) を参考にすることができる。これら
カーボンブラックの例示は米国特許４５３９２５７号明
細書、同４６１４６８５号明細書、特開昭６１−９２４
２４号公報、特開昭６１−９９９２７号公報等に記載さ
れている。

【００３１】本発明の磁性層およびバック層に使用され
る研磨材は磁気記録媒体の耐久性やＶＴＲのヘッドクリ
ーニング効果を向上させるために用いられ、一般的に研
磨作用もしくは琢磨作用をもつ材料で、α−アルミナ、
γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、炭化
珪素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダム、人造ダ
イヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリー（主成
分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネット、珪石、窒化珪
素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タング
ステン、チタンカーバイド、クオーツ、トリポリ、珪藻
土、ドロマイト等で、主としてモース硬度６以上、より
好ましくはモース硬度８以上の材料が１内至４種迄の組
合わせで使用される。これらの研磨材は平均粒子サイズ
が０．００５〜５ミクロンの大きさのものが使用され、
特に好ましくは０．０１〜２ミクロンである。これらの
研磨材は磁性層の場合、強磁性粉末１００重量部に対し
て０．０１〜２０重量部の範囲で添加される。また、バ
ック層の場合、後述する樹脂１００重量部に対して０．
０１〜５重量部で用いることが望ましい。これらの具体
例としては、住友化学（株）製のＡＫＰ１、ＡＫＰ１
５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫＰ５０、ＡＫＰ８
０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００等が挙げられる。これら
については特公昭５２−２８６４２号公報等に記載され
ている。

【００３２】本発明の磁性層とバック層に使用される粉
末状潤滑剤としては、グラファイト、二硫化モリブデ
ン、窒化硼素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化
タングステン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂
微粉末、ベンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹
脂微粉末、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリエステル
系樹脂微粉末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系
樹脂微粉末、ポリ弗化エチレン系樹脂微粉末等の樹脂微
粉末等がある。

【００３３】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン（信越化学製ＫＦ９６、ＫＦ６９
等）、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコール、
ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロピレ
ン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポリエ
チレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチレン
オキシドワックス、ポリテトラフルオログリコール、パ
ーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪酸、パ
ーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸
エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エステル、
パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステル、パ
ーフルオロアルキル燐酸エステル等のフッ素や珪素を導
入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルスルホ
ン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、アル
キルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸ジエ
ステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等の有
機酸および有機酸エステル化合物、トリアザインドリジ
ン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベンゾ
ジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素、硫黄を含む複素（ヘテ
ロ）環化合物、炭素数１０〜４０の一塩基性脂肪酸と炭
素数２〜４０個の一価のアルコールもしくは二価のアル
コール、三価のアルコール、四価のアルコール、六価の
アルコールのいずれか１つもしくは２つ以上とから成る
脂肪酸エステル類、炭素数１０個以上の一塩基性脂肪酸
と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が１１〜７０個と
成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エステル
類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは脂肪酸アミド類、脂
肪酸アルキルアミド類、脂肪族アルコール類も使用でき
る。

【００３４】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
が有り単独若しくは組合わせ使用出来る。

【００３５】また本発明に使用される潤滑剤としては所
謂潤滑油添加剤も単独若しくは組合わせで使用出来、防
錆剤として知られている酸化防止剤（アルキルフェノー
ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファ
ミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキ
ノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフ
テン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォス
フェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール
等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤は結合剤１００重量部に対して０．
０１〜３０重量部の範囲で添加される。

【００３６】本発明に使用する分散剤、分散助剤として
は、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライ
ジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸、ベ
ヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２〜４０個の
脂肪酸（Ｒ₁ＣＯＯＨ、Ｒ₁は炭素数１〜３９個のアル
キル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の脂肪酸の
アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等）またはアルカリ土類
金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、ＮＨ₄ ⁺、Ｃｕ、Ｐｂ等
から成る金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミド；レ
シチン（大豆油レシチン）等が使用される。この他に炭
素数４〜４０の高級アルコール（ブタノール、オクチル
アルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコ
ール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、フェニ
ルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステ
ル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸トリエス
テル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン酸、アミ
ン化合物等も使用可能である。また、ポリエチレングリ
コール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀酸、スル
ホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能で
ある。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一
種類の分散剤は結合剤１００重量部に対して０．００５
〜２０重量部の範囲で添加される。これら分散剤の使用
方法は、強磁性粉末や非磁性粉末の表面に予め被着させ
ても良く、また分散途中で添加してもよい。このような
ものは、例えば特公昭３９−２８３６９号公報、特公昭
４４−１７９４５号公報、特公昭４８−１５００１号公
報、米国特許３３８７９９３号明細書、同３４７００２
１号明細書等に於いて示されている。

【００３７】本発明に用いる防黴剤としては、２−（４
−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロ
ジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０，１０′−
オキシビスフェノキシサルシン、２，４，５，６−テト
ラクロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジョードメチ
ルスルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロア
セト酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチ
ル錫）、サリチルアニライド等がある。

【００３８】このようなものは、例えば「微生物災害と
防止技術」１９７２年工学図書、「化学と工業」３２，
９０４（１９７９）等に於いて示されている。本発明に
用いるカーボンブラック以外の帯電防止剤としてはグラ
ファイト、変性グラファイト、カーボンブラックグラフ
トポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チ
タン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性粉末；サポ
ニン等の天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グ
リセリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価ア
ルコールエステル、アルキルフェノールＥＯ付加体等の
ノニオン界面活性剤；高級アルキルアミン類、環状アミ
ン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミ
ド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素
環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオ
ン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、
燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エステル、燐酸エス
テル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ
酸類；アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸ま
たは燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面
活性剤等が使用される。これらの界面活性剤は単独また
は混合して添加しても良い。また、磁気記録媒体におけ
るこれらの界面活性剤の使用量は、強磁性粉末１００重
量部当たり０．０１〜１０重量部である。また、バック
層での使用量は結合剤１００重量部当たり０．０１〜３
０重量部である。これらは帯電防止剤として用いられる
ものであるが、時としてそのほかの目的、例えば分散、
磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助剤、湿潤剤、硬
化促進剤、分散促進剤として適用される場合もある。

【００３９】磁性層の形成は、通常の方法に従って行う
ことができる。例えば、上記強磁性粉末および樹脂成分
ならびに必要に応じて配合される研磨剤および硬化剤な
どの磁性層形成成分を溶剤とともに混練分散して磁性塗
料を調製し、この磁性塗料を非磁性支持体上に塗布する
方法を利用できる。本発明の分散、混練、塗布の際に使
用する有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン
系；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、
メチルシクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸
イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチル
エーテル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、グリコールジメチルエーテル、グリコール
モノエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベン
ゼン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等の塩素化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアル
デヒド、ヘキサン等のものが使用できる。これらの溶媒
は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以
下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等）を含んでもよい。これらの溶剤は磁性層形
成塗料もしくはバック層形成塗料、下塗液の合計固形分
１００重量部に対して１００〜２００００重量部で用い
られる。好ましい磁性層形成塗料の固形分率は１０〜４
０重量％である。また、バック層形成塗料の好ましい固
形分率は５〜２０重量％である。有機溶媒の代わりに水
系溶媒（水、アルコール、アセトン等）を使用すること
もできる。

【００４０】分散、混練の方法には特に制限はなく、ま
た各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、
分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０℃）など
は適宜設定することができる。磁性層形成塗料およびバ
ック層形成塗料の調製には、通常の混練機、例えば、二
本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミ
ル、トロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Ｓｚ
ｅｇｖａｒｉ）、アトライター、高速インペラー、分散
機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、
ニーダー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダ
ー、インテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、
ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し
出し機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機
などを用いることができる。通常分散・混練にはこれら
の分散・混練機を複数備え、連続的に処理を行う。混練
分散に関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著
（テー．シー．パットン）“ Paint Flow and Pigment
Dispersion" （ペイントフローアンドピグメント
ディスパージョン）１９６４年John Wiley & Sons社
発行（ジョンウイリーアンドサンズ）や田中信一
著「工業材料」２５巻３７（１９７７）などや当該書籍
の引用文献に記載されている。これら分散、混練の補助
材料として分散・混練を効率よく進めるため、球相当径
で１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの径のスチールボール、
スチールビーズ、セラミックビーズ、ガラスビーズ、有
機ポリマービーズを用いることができる。またこれら材
料は球形に限らない。また、米国特許第２５８１４１４
号及び同第２８５５１５６号などの明細書にも記載があ
る。本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献
などに記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料
およびバック層塗料を調製することができる。

【００４１】支持体上へ前記の磁性塗料ならびにバック
層塗料を塗布する方法としては、塗布液の粘度を１〜２
００００センチストークス（２５℃）に調製し、エアー
ドクターコート、ブレードコート、エアナイフコート、
スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、
トランスファーロールコート、グラビアコート、キスコ
ート、キャストコート、スプレイコート、ロッドコー
ト、正回転ロールコート、カーテンコート、バーコー
ト、押出しコート、スピンコート等が利用出来、その他
の方法も可能であり、これらの具体的説明は浅倉書店発
行の「コーテイング工業」２５３頁〜２７７頁（昭和４
６．３．２０．発行）に詳細に記載されている。

【００４２】これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支持体
との密着力向上のためにコロナ放電処理を等を行っても
良い。また磁性層もしくはバック層を多層で構成したい
ときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行ってもよ
い。これらは、例えば、特開昭５７−１２３５３２号公
報、特公昭６２−３７４５１号公報等に示されている。

【００４３】このような方法により、支持体上に約１〜
２００μｍほどで塗布された磁性塗料は必要により層中
の強磁性粉末を直ちに２０℃〜１３０℃で多段階で乾燥
しながら５００〜５０００Ｇ程で所望の方向（垂直、長
手、幅、ランダム、斜め等）へ配向させる処理、すなわ
ち磁場配向処理を施した後、形成した磁性層を０．１〜
３０μｍ厚みに乾燥する。このときの支持体の搬送速度
は、通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分で行われ、複数の乾
燥ゾーンで乾燥温度を２０℃〜１３０℃で制御し塗布膜
の残留溶剤量を０．１〜４０ｍｇ／（１／２吋）／ｍ²
とする。

【００４４】また、このようにして乾燥された後、塗布
層に必要によりカレンダー処理を行う。カレンダー処理
には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用され
る。カレンダー処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の
除去によって生じた空孔が減少し磁性層中の強磁性粉末
の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録
媒体を得ることができる。

【００４５】前記のカレンダー処理された段階では、結
合剤の形成成分として硬化剤を使用した場合、磁性層に
含まれる硬化剤のうち、通常９０重量％以上が未反応の
状態で磁性層に含有されているので、硬化処理を行っ
て、少なくとも硬化剤の５０重量％（特に好ましくは８
０重量％以上）を反応させた後に、その次の処理を行う
ことが望ましい。硬化処理には、加熱硬化処理と電子線
硬化処理とがあり、本発明においては、いずれの方法で
あっても利用することができる。この硬化処理によりカ
レンダー処理された磁性層に含有される未反応の硬化剤
が、例えば塩化ビニル系共重合体およびポリウレタン系
樹脂のような樹脂成分と三次元網状の架橋構造を形成す
るように反応する。加熱処理の工程自体は既に公知であ
り、本発明においてもこれらの方法に準じて加熱処理を
行うことができる。例えば、加熱処理は、加熱時間を通
常４０℃以上（好ましくは５０〜８０℃の範囲内）、加
熱時間を通常２０時間以上（好ましくは２４時間〜７日
間）に設定して行われる。また、電子線照射による硬化
処理の工程自体も既に公知であり、本発明においてもこ
れらの方法に準じて硬化処理を行うことができる。

【００４６】本発明においては、このように作成した磁
気記録媒体をスリッター等の通常の裁断機等を使用して
通常の条件で所望の形状に裁断した後、プラスチックや
金属のリールに巻き取る。本発明においては、こうして
作成した磁性層の表面、または磁性層の表面およびバッ
ク層の表面を、巻き取る直前ないしそれ以前の工程にお
いて磁気記録媒体（磁性層、バック層、エッジ端面、ベ
ース面）を研磨テープによりバーニッシュ処理を行って
もよい。これらは、例えば、特開昭６３−２５９８３０
号公報等に開示されている。

【００４７】また、磁気記録媒体の拭き取り処理は、磁
気記録媒体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で
磁気記録媒体表層を不織布などで磁性層面、バック層
面、エッジ端面、バック側のベース面をワイピングする
ことにより行う。このようなワイピングの材料として
は、例えば日本バイリーン製の各種バイリーンや東レ製
のトレシー、エクセーヌやクラレ製のクラレＷＲＰシリ
ーズ、また不織布としてナイロン製不織布、ポリエステ
ル製不織布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル製不
織布、混紡不織布等も使用できる。その他、ティッシュ
ペーパー、キムワイプ等も使用できる。これらは、特開
平１−２０１８２４号公報等に記載されている。この拭
き取り処理によって、磁性層および／またはバック層の
付着物および有機物質の除去が完全に行われることにな
り、ドロップアウトあるいは目詰まり発生頻度が低下す
る。

【００４８】これらの製造方法は粉体の予備処理・表面
処理、混練・分散、塗布・配向・乾燥、カレンダー処
理、硬化処理（熱処理、放射線照射（ＥＢ）処理）、裁
断、バーニッシュ処理、拭き取り処理および巻き取りの
工程を連続して行う事が望ましい。また特公昭４１−１
３１８１号公報にしめされる方法はこの分野における基
本的、かつ重要な技術と考えられている。但し、処理を
行う順序は、上記順序に限定するものではない。

【００４９】本発明に使用される強磁性粉末または非磁
性粉末、結合剤、添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止
剤、表面処理剤、カーボンブラック、研磨材、遮光剤、
酸化防止剤、防黴剤等）、溶剤及び支持体（下塗層、バ
ック層、バック下塗を有してもよい）或いは磁気記録媒
体の製法等は特公昭５６−２６８９０号公報等に記載さ
れているものも参考にできる。

【００５０】なお、本明細書には第１の発明である磁気
記録媒体と第２の発明である磁気記録媒体をそれぞれ別
の発明として記載したが、第１の発明の構成と第２の発
明の構成とを兼ね備えた磁気記録媒体も本発明の範疇に
属することは、当然のことである。

【００５１】

【実施例】以下に本発明を実施例により更に具体的に説
明する。ここに示す成分、割合、操作順序等は本発明の
精神から逸脱しない範囲において変更しうるものである
ことは本業界に携わるものにとっては容易に理解される
ことである。従って、本発明は下記の実施例に制限され
るべきではない。尚、実施例及び比較例中の部は重量部
をしめす。

【００５２】〔実施例１〕下記磁性塗料組成物の〔Ｉ〕
をニーダーに入れ充分混練した後、〔II〕を追加投入
し、充分混練し、塗布前に〔III〕を入れ混合分散して
磁性塗料を作成した。得られた磁性塗料の粘度を調整し
た後、厚さ７μｍの非磁性支持体のポリエチレンナフタ
レート（ＭＤ方向のヤング率８００Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ
方向のヤング率７５０Ｋｇ／ｍｍ²）上に乾燥膜厚３μ
ｍになるように塗布した。

【００５３】磁性塗料組成物〔Ｉ〕強磁性金属粉末１００部（Fe金属粉末で、Feに対してCoが２２原子％、Alが１０原子％含有、長軸長：０．０８μｍ、比表面積（Ｓ_BET）：５７ｍ²／ｇ）燐酸エステル（フェニルフォスフォン酸）２部塩化ビニル共重合体樹脂９．５部（日本ゼオン（株）製：ＭＲ１１０）ポリウレタン樹脂（東洋紡社製：ＵＲ８６００) ５部パルミチン酸２エチルヘキシル０．６部シクロヘキサノン６０部メチルエチルケトン８０部〔II〕分散物１カーボンブラック１部（三菱化成製：＃３２５０Ｂ）ポリウレタン樹脂（東洋紡社製：ＵＲ８６００) １部メチルエチルケトン１０部分散物２研磨材１３部（住友化学（株）製：ＨＩＴ５５〔α−Ａｌ₂Ｏ₃〕塩化ビニル共重合体樹脂１部（日本ゼオン（株）製：ＭＲ１１０）シクロヘキサノン６０部メチルエチルケトン４０部〔III〕ポリイソシアネート４部（日本ポリウレタン社製：コロネート3040）ステアリン酸アミド０．５部パルミチン酸０．５部ステアリン酸ブトキシエチル０．５部メチルエチルケトン５０部トルエン３０部この磁性塗料を塗布した非磁性支持体を、磁性塗料が未
乾燥の状態で磁場配向処理、乾燥を行い、引き続き下記
のバック層塗料組成物〔Ｉ〕に塗布直前に同〔II〕を加
えて、磁性塗料が塗布された支持体の裏面に乾燥厚みが
０．６μｍに成るように塗布した。

【００５４】バック層塗料組成物〔Ｉ〕カーボンブラック９７部（キャボット社製：ＢＰ８００）カーボンブラック３部（カンカルブ社製：ＭＴＣＩ） α−Ａｌ₂Ｏ₃ ０．１部（住友化学（株）製：ＨＩＴ５５）ステアリン酸２エチルヘキシル０．５部オレイン酸銅０．１部塩化ビニル共重合体樹脂５０部（日本ゼオン（株）製：ＭＲ１１０）ポリウレタン樹脂４０部（東洋紡社製：ＵＲ８３００）シクロヘキサノン２００部メチルエチルケトン３００部〔II〕ポリイソシアネート２０部 (日本ポリウレタン（株）製：コロネート３０４０）メチルエチルケトン３５００部トルエン２００部シリコーン化合物０．１部（信越化学（株）製：ＫＦ６９）さらに、乾燥後、引き続きカレンダー処理を温度９０
℃、線圧３５０Ｋｇ／ｃｍ、速度２００ｍ／ｍｉｎで５
回行い、非磁性支持体と磁性層およびバック層からなる
積層体を作成した。

【００５５】この積層体を６０℃で２４時間加熱処理を
行い積層体中に含有されるポリイソシアネート化合物を
硬化させた後、下記のスリット条件で１／２吋幅にスリ
ットした。スリット速度４００ｍ／分噛み合い深さ０．５ｍｍ周速比１．０５スリット後、研磨テープ（富士写真フィルム（株）製：
Ｋ１００００）で磁性層表面のバーニッシュ処理を行っ
た後、ワイピング材（クラレ（株）製：ＷＲＰ７３６）
を用いて拭き取り処理を施して、１／２吋ビデオテープ
を作成した。

【００５６】〔実施例２〕実施例１において、磁性塗料
組成物〔III〕を下記組成に変えた以外は、実施例１と
同様にして磁性塗料組成物を作成した。〔III 〕ポリイソシアネート４．５部（日本ポリウレタン社製：コロネート3040）ステアリン酸アミド０．５部パルミチン酸０．５部ステアリン酸ブトキシエチル０．５部メチルエチルケトン５０部トルエン３０部

【００５７】〔実施例３〕実施例１において、スリット
条件を下記組成に変えた以外は、実施例１と同様にして
磁性塗料組成物を作成した。スリット速度５００ｍ／分噛み合い深さ０．７ｍｍ周速比１．０５

【００５８】〔比較例１〕実施例１において、磁性塗料
組成物〔III〕を下記組成に変えた以外は、実施例１と
同様にして磁性塗料組成物を作成した。〔III 〕ポリイソシアネート２部（日本ポリウレタン社製：コロネート3040）ステアリン酸アミド０．５部パルミチン酸０．５部ステアリン酸ブトキシエチル０．５部メチルエチルケトン５０部トルエン３０部

【００５９】〔比較例２〕実施例１において、スリット
条件を下記組成に変えた以外は、実施例１と同様にして
磁性塗料組成物を作成した。スリット速度２００ｍ／分噛み合い深さ０．０５ｍｍ周速比１．００

【００６０】〔比較例３〕実施例１において、スリット
条件を下記組成に変えた以外は、実施例１と同様にして
磁性塗料組成物を作成した。スリット速度４００ｍ／分噛み合い深さ０．９ｍｍ周速比１．０５

【００６１】〔評価方法〕磁性層突出部の体積：レーザーテック社製のモノクロー
ム走査型レーザー顕微鏡１ＬＭ２１で１００倍の対物レ
ンズを使用して、画像処理ソフトＳＡＬＴ−IVで画像処
理して磁性層突出部の体積を求めた。

【００６２】クラック数：スリットされた磁性層のエッ
ジ部分を微分干渉顕微鏡で４００倍で観察し、エッジ部
分１ｍｍあたりのクラック数を測定した。

【００６３】ガイド汚れ：Ｄ３方式のビデオテープレコ
ーダー（松下電産（株）製：Ｄ３５０）を用いて、９０
分長のテープを２３℃７０％ＲＨの温湿度雰囲気下で１
００回連続繰り返し走行させ、ＶＴＲ内の各ガイドの汚
れを肉眼で観察した。ガイドの汚れ ○・・・・・汚れが全く見られな
い。 △・・・・・汚れが部分的に見られた。 ×・・・・・全面に汚れが見られた。

【００６４】ドロップアウト：上記ＶＴＲを用いて初期
値、繰り返し走行後のテープを走行させ５μsec-８dB以
上の出力低下数をドロップアウトカウンターで測定し
た。上記の実施例および比較例にて得られた磁気記録媒
体の上記評価結果を、表１に示す。

【００６５】

【表１】

【００６６】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、表１の実施例
から明らかのように、磁性層突出部の体積が、０．０３
ｍｍ当たり、１００μｍ³未満、特に５０μｍ³以下の
もの、及び／又は磁性層のエッジ部分のクラック数が１
００個／ｍｍ以下のものは、ヘッド汚れがなくドロップ
アウトも少なかった。これに対し、磁性層突出部が全く
無いものは摩擦抵抗が大きく走行性が悪く、更に、非磁
性支持体のエッジ部分に損傷を受けたものや、ガイドフ
ランジに傷を付けたものがあった。また、磁性層突出部
の０．０３ｍｍ当たりの体積が１００μｍ³以上、また
は磁性層のエッジ部分のクラック数が１００個／ｍｍを
越えるものは、ヘッド汚れ、ドロップアウトともに多か
った。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の磁性層突出部の形状を
示す図。

【図２】本発明の磁気記録媒体の磁性層のエッジ部分を
示す図。

【図３】本発明の磁気記録媒体を裁断するためのスリッ
ターを示す図。

【符号の説明】

１磁気記録媒体２磁性層突出部３磁性層４非磁性支持体５バックコート層６分割線７クラック８ガイドフランジ９テープ走行方向１０スリッター１１磁気記録媒体原反１２スリッター上刃１３スリッター下刃１４ガイドローラ１５パンケーキ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小林信行神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号富士写真フイルム株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体の一面上に磁性層を設け長
手方向にスリットされて得られる磁気記録媒体におい
て、スリット断面の非磁性支持体最大凸部の頂点から垂
直方向に引かれた線に分割される該非磁性支持体最大凸
部の頂点より突出した磁性層部分の体積が、０．０３ｍ
ｍ当たり、０より大きく１００μｍ³未満であることを
特徴とするテープ状磁気記録媒体。
【請求項２】非磁性支持体の一面上に磁性層を設け長
手方向にスリットされて得られる磁気記録媒体におい
て、磁性層のエッジ部分のクラック数が０〜１００個／
ｍｍであることを特徴とするテープ状磁気記録媒体。