JPH08268977A - 芳香族アミン類の製造方法 - Google Patents
芳香族アミン類の製造方法Info
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- JPH08268977A JPH08268977A JP8035161A JP3516196A JPH08268977A JP H08268977 A JPH08268977 A JP H08268977A JP 8035161 A JP8035161 A JP 8035161A JP 3516196 A JP3516196 A JP 3516196A JP H08268977 A JPH08268977 A JP H08268977A
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- C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来技術に比較して改善された芳香族アミン
類の製造方法の提供。 【解決手段】 この方法は、水と水不溶性有機溶剤との
溶剤混合物中でパラジウムと水溶性ホスフィンとを含む
触媒によって5〜300barの圧力および50〜20
0℃の温度において芳香族ニトロ化合物を一酸化炭素と
反応させ、そして水性相と有機相とを分離することを特
徴とする。
類の製造方法の提供。 【解決手段】 この方法は、水と水不溶性有機溶剤との
溶剤混合物中でパラジウムと水溶性ホスフィンとを含む
触媒によって5〜300barの圧力および50〜20
0℃の温度において芳香族ニトロ化合物を一酸化炭素と
反応させ、そして水性相と有機相とを分離することを特
徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は従来技術に比較して改善
されている芳香族アミン類の製造方法に関する。
されている芳香族アミン類の製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】芳香族アミン類を製造するのに多く使用さ
れる方法は、例えばニッケルまたはパラジウムを含有す
る担持触媒を使用して芳香族ニトロ化合物を水素化する
ものである。この方法では担持触媒は固定床として配置
されているかまたはスラリー(懸濁物)の状態で使用さ
れる。固定床として配置された担持触媒を使用する場合
の欠点は、この方法の実施が特殊の反応容器、例えば内
部冷却系を備えた管状反応器を必要とする点である。担
持触媒をスラリーとして使用する場合には、反応の間の
熱の除去の制御に問題が生じ、更に担持触媒を反応の完
了の後に例えば複雑な濾過によって除かなければならな
い欠点がある。
れる方法は、例えばニッケルまたはパラジウムを含有す
る担持触媒を使用して芳香族ニトロ化合物を水素化する
ものである。この方法では担持触媒は固定床として配置
されているかまたはスラリー(懸濁物)の状態で使用さ
れる。固定床として配置された担持触媒を使用する場合
の欠点は、この方法の実施が特殊の反応容器、例えば内
部冷却系を備えた管状反応器を必要とする点である。担
持触媒をスラリーとして使用する場合には、反応の間の
熱の除去の制御に問題が生じ、更に担持触媒を反応の完
了の後に例えば複雑な濾過によって除かなければならな
い欠点がある。
【0003】これらの二つの方法を実施する場合には、
固体床として配置される触媒の摩耗に起因してまたは触
媒スラリーの不十分な濾去に起因して触媒残渣が反応生
成物中に残ってしまうことがないように常に注意しなけ
ればならない。非常に少量の担持触媒でも反応生成物の
加工性に問題をもたらし得ることが知られている。更
に、パラジウム−およびニッケル担持触媒の両方共が芳
香族化合物の水素化の選択性に関して不充分である。こ
れらは一連の敏感な置換基に対してこれら置換基を分解
してしまうかまたは水素化してしまうという不所望の反
応をもらす。
固体床として配置される触媒の摩耗に起因してまたは触
媒スラリーの不十分な濾去に起因して触媒残渣が反応生
成物中に残ってしまうことがないように常に注意しなけ
ればならない。非常に少量の担持触媒でも反応生成物の
加工性に問題をもたらし得ることが知られている。更
に、パラジウム−およびニッケル担持触媒の両方共が芳
香族化合物の水素化の選択性に関して不充分である。こ
れらは一連の敏感な置換基に対してこれら置換基を分解
してしまうかまたは水素化してしまうという不所望の反
応をもらす。
【0004】J.Chem.Soc.、Chem.Co
mmun.、1994、第863〜864頁には芳香族
モノニトロ−および−ジニトロ化合物を還元的にカルボ
ニル化する方法が開示されている。芳香族モノニトロ−
および−ジニトロ化合物はベンゼン/メタノール−混合
物中で触媒量の1,3−ビス(ジフェニルホスフィン)
プロパン−パラジウムジクロライドと炭酸カリウムとの
存在下に一酸化炭素と反応せしめてウレタンを生ぜしめ
得る。この反応は主生成物として所望のウレタン(カル
バメート)をもたらす。その他にアミン類および場合に
よってはアゾ−およびアゾキシ化合物も生じる。この方
法は、原料としてp−ニトロアニソールを使用した時の
最大のアミン収率が僅か40% であるので、アミンの製
造にあまり適していないと思われる。他のいずれの場合
も、アミン収率は表1に示した通り、更に低い。
mmun.、1994、第863〜864頁には芳香族
モノニトロ−および−ジニトロ化合物を還元的にカルボ
ニル化する方法が開示されている。芳香族モノニトロ−
および−ジニトロ化合物はベンゼン/メタノール−混合
物中で触媒量の1,3−ビス(ジフェニルホスフィン)
プロパン−パラジウムジクロライドと炭酸カリウムとの
存在下に一酸化炭素と反応せしめてウレタンを生ぜしめ
得る。この反応は主生成物として所望のウレタン(カル
バメート)をもたらす。その他にアミン類および場合に
よってはアゾ−およびアゾキシ化合物も生じる。この方
法は、原料としてp−ニトロアニソールを使用した時の
最大のアミン収率が僅か40% であるので、アミンの製
造にあまり適していないと思われる。他のいずれの場合
も、アミン収率は表1に示した通り、更に低い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】それ故に上記の欠点を
避けそして簡単な方法で実施することができる芳香族ア
ミンの製造方法を提供することが望まれている。更に通
常の芳香族アミン類のみならず敏感な置換基を持つ芳香
族アミン類をも容易に製造できる方法が提供される。
避けそして簡単な方法で実施することができる芳香族ア
ミンの製造方法を提供することが望まれている。更に通
常の芳香族アミン類のみならず敏感な置換基を持つ芳香
族アミン類をも容易に製造できる方法が提供される。
【0006】
【課題を解決するための手段】この課題は、驚くべきこ
とに、本発明の芳香族アミン類の製造方法によって解決
される。この方法は、水と水不溶性有機溶剤との溶剤混
合物中でパラジウムと水溶性ホスフィンとを含む触媒に
よって5〜300barの圧力および50〜200℃の
温度において芳香族ニトロ化合物を一酸化炭素と反応さ
せ、そして水性相と有機相とを分離することを特徴とし
ている。
とに、本発明の芳香族アミン類の製造方法によって解決
される。この方法は、水と水不溶性有機溶剤との溶剤混
合物中でパラジウムと水溶性ホスフィンとを含む触媒に
よって5〜300barの圧力および50〜200℃の
温度において芳香族ニトロ化合物を一酸化炭素と反応さ
せ、そして水性相と有機相とを分離することを特徴とし
ている。
【0007】本発明の方法は沢山の長所を有している。
一つは、特別な反応容器(内部冷却手段を備えた管状反
応器)を使用する必要がない点およびもう一つは、時間
の浪費および反応終了後の触媒の複雑な分離が避けられ
る点である。ここで、濾過によって分離される担持触媒
が高活性の状態にあり、それ故に特別に用心して取り扱
われるべきであることを指摘する。これらの問題は、本
発明の方法を実施する時には生じない。何故ならばパラ
ジウムと水溶性ホスフィンとを含む触媒が水に溶解した
溶液として存在しており、反応混合物から水性相を単な
る分離によって除くことができるからである。この触媒
含有水性相は、活性触媒を含有する水溶液を取り扱う為
の特別な保護手段を講じる必要なしに、後続の反応で再
び使用することができる。
一つは、特別な反応容器(内部冷却手段を備えた管状反
応器)を使用する必要がない点およびもう一つは、時間
の浪費および反応終了後の触媒の複雑な分離が避けられ
る点である。ここで、濾過によって分離される担持触媒
が高活性の状態にあり、それ故に特別に用心して取り扱
われるべきであることを指摘する。これらの問題は、本
発明の方法を実施する時には生じない。何故ならばパラ
ジウムと水溶性ホスフィンとを含む触媒が水に溶解した
溶液として存在しており、反応混合物から水性相を単な
る分離によって除くことができるからである。この触媒
含有水性相は、活性触媒を含有する水溶液を取り扱う為
の特別な保護手段を講じる必要なしに、後続の反応で再
び使用することができる。
【0008】更に本発明の反応の間に放出される反応熱
の除去は、反応が特に高い熱容量の熱緩衝液、即ち水の
存在下に進行しそして更に過剰の熱が水の蒸発によって
効果的に搬出できるので、問題がない。更に温度制御
も、CO2 の発生下でのCOによる芳香族ニトロ化合物
の還元反応で放出される熱の量は水の形成下での芳香族
ニトロ化合物の接触的水素化反応で生じる熱の量より少
ないので、簡単である。
の除去は、反応が特に高い熱容量の熱緩衝液、即ち水の
存在下に進行しそして更に過剰の熱が水の蒸発によって
効果的に搬出できるので、問題がない。更に温度制御
も、CO2 の発生下でのCOによる芳香族ニトロ化合物
の還元反応で放出される熱の量は水の形成下での芳香族
ニトロ化合物の接触的水素化反応で生じる熱の量より少
ないので、簡単である。
【0009】本発明の方法は、複数のニトロ基を有して
いてもよい任意の芳香族ニロト化に適用できる点に特徴
がある。使用される芳香族ニトロ化合物は一般に式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 、R3 は互いに同一でも異なってい
てもよく、それぞれ水素原子、炭素原子数1〜6のアル
キル−またはアルコキシ基、炭素原子数1〜4のハロゲ
ン化アルキル基、ハロゲン原子、−OH、−CHO、−
CO−R4 、−CO2 R4 、−CONHR4 、−CON
(R4 )2 、−SR4 、−CNまたは−CH=CH−R
5 であり、ただしR4 は炭素原子数1〜6の残基であり
そしてR5 は水素原子または炭素原子数1〜6の残基で
あり、そしてArは芳香族残基である。〕で表される化
合物である。
いてもよい任意の芳香族ニロト化に適用できる点に特徴
がある。使用される芳香族ニトロ化合物は一般に式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 、R3 は互いに同一でも異なってい
てもよく、それぞれ水素原子、炭素原子数1〜6のアル
キル−またはアルコキシ基、炭素原子数1〜4のハロゲ
ン化アルキル基、ハロゲン原子、−OH、−CHO、−
CO−R4 、−CO2 R4 、−CONHR4 、−CON
(R4 )2 、−SR4 、−CNまたは−CH=CH−R
5 であり、ただしR4 は炭素原子数1〜6の残基であり
そしてR5 は水素原子または炭素原子数1〜6の残基で
あり、そしてArは芳香族残基である。〕で表される化
合物である。
【0010】多くの場合、使用する芳香族ニトロ化合物
は式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 およびR3 は水素原子、炭素原子数
1〜4のアルキル−またはアルコキシ基、炭素原子数1
または2のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、−O
H、−CO−R4 、−CNまたは−CH=CH−R5 で
ある。〕で表される化合物である。
は式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 およびR3 は水素原子、炭素原子数
1〜4のアルキル−またはアルコキシ基、炭素原子数1
または2のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、−O
H、−CO−R4 、−CNまたは−CH=CH−R5 で
ある。〕で表される化合物である。
【0011】ハロゲン原子、−OH、−CO−R4 、−
CNまたは−CH=CH−R5 は、接触的水素化の過程
で分解するかまたは還元される問題の置換基であるかま
たはOH基の場合には不活性化作用を示す。1つ以上の
これらの置換基を持つ芳香族アミンの製造を目的とする
場合には、使用する芳香族ニトロ化合物は、式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、残基R1 、R2 およびR3 の少なくとも1つが
ハロゲン原子、−OH、−CO−R4 、−CNまたは−
CH=CH−R5 であるか、または残基R1 、R2 およ
びR3 の1つまたは2つがハロゲン原子、−OH、−C
O−R4 、−CNまたは−CH=CH−R5 でありそし
て特に残基R1 、R2 およびR3 の1つまたは2つが−
Cl、−Br、−OH、−CO−R4 、−CNまたは−
CH=CH−R5 であり、ただしR4 は炭素原子数1〜
4のアルキル残基であるかまたはフェニル残基であり、
R5 は水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル残基また
はフェニル残基である。〕で表される化合物である。
CNまたは−CH=CH−R5 は、接触的水素化の過程
で分解するかまたは還元される問題の置換基であるかま
たはOH基の場合には不活性化作用を示す。1つ以上の
これらの置換基を持つ芳香族アミンの製造を目的とする
場合には、使用する芳香族ニトロ化合物は、式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、残基R1 、R2 およびR3 の少なくとも1つが
ハロゲン原子、−OH、−CO−R4 、−CNまたは−
CH=CH−R5 であるか、または残基R1 、R2 およ
びR3 の1つまたは2つがハロゲン原子、−OH、−C
O−R4 、−CNまたは−CH=CH−R5 でありそし
て特に残基R1 、R2 およびR3 の1つまたは2つが−
Cl、−Br、−OH、−CO−R4 、−CNまたは−
CH=CH−R5 であり、ただしR4 は炭素原子数1〜
4のアルキル残基であるかまたはフェニル残基であり、
R5 は水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル残基また
はフェニル残基である。〕で表される化合物である。
【0012】使用する芳香族ニトロ化合物は式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、Arが炭素原子数6〜20の芳香族残基、殊に
フェニル−、ナフチル−、フェナントリル−、ビフェニ
ル−またはビナフチル残基、特にフェニル−、ナフチル
−またはビフェニル残基、中でもフェニル残基であ
る。〕で表される化合物である。
フェニル−、ナフチル−、フェナントリル−、ビフェニ
ル−またはビナフチル残基、特にフェニル−、ナフチル
−またはビフェニル残基、中でもフェニル残基であ
る。〕で表される化合物である。
【0013】反応は一方の相の水ともう一方の相の水不
溶性有機溶剤とより成る二相系で行う。使用される水不
溶性有機溶剤は芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、塩素
化芳香族炭化水素または−脂肪族炭化水素またはそれら
の混合物、例えばトルエン、オルト−キシレン、メタ−
キシレン、パラ−キシレン、異性体キシレンの混合物、
エチルベンゼン、メスチレン、クロロトルエン、クロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼンまたは上記溶剤の混合物で
ある。
溶性有機溶剤とより成る二相系で行う。使用される水不
溶性有機溶剤は芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、塩素
化芳香族炭化水素または−脂肪族炭化水素またはそれら
の混合物、例えばトルエン、オルト−キシレン、メタ−
キシレン、パラ−キシレン、異性体キシレンの混合物、
エチルベンゼン、メスチレン、クロロトルエン、クロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼンまたは上記溶剤の混合物で
ある。
【0014】反応を実施するために必要とされる触媒は
パラジウムと水溶性ホスフィンとを含む。パラジウムは
一般に水溶性パラジウム塩、特に塩化パラジウム、硝酸
パラジウム、酢酸パラジウムまたは硫酸パラジウムの形
で使用する。本方法を実施する場合、パラジウムとホス
フィンとの間の特定の比には拘束されない。パラジウム
と水溶性ホスフィンとは一般に1:0.2〜1:10
0、殊に1:1〜1:50、特に1:2〜1:20のモ
ル比で使用することができる。
パラジウムと水溶性ホスフィンとを含む。パラジウムは
一般に水溶性パラジウム塩、特に塩化パラジウム、硝酸
パラジウム、酢酸パラジウムまたは硫酸パラジウムの形
で使用する。本方法を実施する場合、パラジウムとホス
フィンとの間の特定の比には拘束されない。パラジウム
と水溶性ホスフィンとは一般に1:0.2〜1:10
0、殊に1:1〜1:50、特に1:2〜1:20のモ
ル比で使用することができる。
【0015】水溶性ジホスフィンを使用する場合には、
一般にパラジウムとジホスフィンとを1:1〜1:1
0、特に1:2〜1:6のモル比で使用すれば十分であ
る。水溶性モノホスフィンを使用する場合には、大抵の
場合には、パラジウムとモノホスフィンとを1:2〜
1:20、特に1:4〜1:12のモル比で使用すれば
十分である。
一般にパラジウムとジホスフィンとを1:1〜1:1
0、特に1:2〜1:6のモル比で使用すれば十分であ
る。水溶性モノホスフィンを使用する場合には、大抵の
場合には、パラジウムとモノホスフィンとを1:2〜
1:20、特に1:4〜1:12のモル比で使用すれば
十分である。
【0016】特に好適な水溶性ホスフィンは、Mが水素
原子、アンモニウム、一価の金属または当量の多価金属
である−SO3 M基を含有するホスフィンおよび/また
はジホスフィンである。殊にMがアンモニウムまたはア
ルカリ金属、特にナトリウムまたはカリウム、中でもナ
トリウムである−SO3 M基を含有するホスフィンが有
利である。種々のホスフィンの混合物または異なるスル
ホン化度のホスフィンの混合物を用いると良い結果を得
ることができる。
原子、アンモニウム、一価の金属または当量の多価金属
である−SO3 M基を含有するホスフィンおよび/また
はジホスフィンである。殊にMがアンモニウムまたはア
ルカリ金属、特にナトリウムまたはカリウム、中でもナ
トリウムである−SO3 M基を含有するホスフィンが有
利である。種々のホスフィンの混合物または異なるスル
ホン化度のホスフィンの混合物を用いると良い結果を得
ることができる。
【0017】多くの場合、1〜6個、好ましくは1〜3
個の−SO3 M基を含有しかつアリール残基が互いに同
一でも異なっていてもよい、それぞれフェニルまたはナ
フチルであるトリアリールホスフィンまたはかゝるトリ
アリールホスフィンの混合物、特に1〜3個の−SO3
M基を含有する比較的に容易に製造できるトリフェニル
ホスフィンを使用するのが有利である。
個の−SO3 M基を含有しかつアリール残基が互いに同
一でも異なっていてもよい、それぞれフェニルまたはナ
フチルであるトリアリールホスフィンまたはかゝるトリ
アリールホスフィンの混合物、特に1〜3個の−SO3
M基を含有する比較的に容易に製造できるトリフェニル
ホスフィンを使用するのが有利である。
【0018】水溶性ホスフィンとして式(A)
【0019】
【化3】
【0020】〔式中、Arはm−C6 H4 SO3 Mであ
り、Mは水素原子、アンモニウム、一価の金属または当
量の多価金属であり、Phはフェニル残基であり、mは
互いに同一でも異なっていてもよく、1または2の値で
ありそしてnは互いに同一でも異なっていてもよく、そ
れぞれ0、1または2である。〕で表されるものである
かまたはかゝるホスフィンの混合物を使用することによ
って良い結果が達成できる。
り、Mは水素原子、アンモニウム、一価の金属または当
量の多価金属であり、Phはフェニル残基であり、mは
互いに同一でも異なっていてもよく、1または2の値で
ありそしてnは互いに同一でも異なっていてもよく、そ
れぞれ0、1または2である。〕で表されるものである
かまたはかゝるホスフィンの混合物を使用することによ
って良い結果が達成できる。
【0021】本発明の方法は、水溶性ホスフィンとして
式(B)
式(B)
【0022】
【化4】
【0023】〔式中、Mは水素原子、アンモニウム、一
価の金属または当量の多価金属であり、a+b+c+d
が1〜4の整数であるという条件のもとでa、b、cお
よびdはそれぞれ0または1であり、Arはm−(MS
O3 )−C6 H4 残基(ただしMは上に規定した通り)
であり、nは0、1または2であり、Phはフェニル残
基であり、R1 およびR2 は互いに同じでも異なってい
てもよく、1〜10の炭素原子を持つアルキル残基であ
るかまたは環中炭素原子数5〜10の脂環式残基であ
る。〕で表されるものであるかまたはこれらホスフィン
の混合物を使用することによって特に良好な結果を伴っ
て実施することができる。
価の金属または当量の多価金属であり、a+b+c+d
が1〜4の整数であるという条件のもとでa、b、cお
よびdはそれぞれ0または1であり、Arはm−(MS
O3 )−C6 H4 残基(ただしMは上に規定した通り)
であり、nは0、1または2であり、Phはフェニル残
基であり、R1 およびR2 は互いに同じでも異なってい
てもよく、1〜10の炭素原子を持つアルキル残基であ
るかまたは環中炭素原子数5〜10の脂環式残基であ
る。〕で表されるものであるかまたはこれらホスフィン
の混合物を使用することによって特に良好な結果を伴っ
て実施することができる。
【0024】R1 およびR2 がそれぞれシクロヘキシル
残基である式(B)のホスフィンが特に適している。こ
れらのホスフィンの混合物も使用することができる。式
(B)のホスフィンが新規はホスフィンであって、それ
は本願と同日出願のドイツ特許出願P1950627
9.5の発明の対象である。本発明の方法は<5bar
の圧力でおよび>300barの圧力でも実施すること
ができる。5barより下の圧力では反応時間を著しく
増加させる必要があり、300barより上の圧力では
対応して設計された耐圧反応器が必要とされる。
残基である式(B)のホスフィンが特に適している。こ
れらのホスフィンの混合物も使用することができる。式
(B)のホスフィンが新規はホスフィンであって、それ
は本願と同日出願のドイツ特許出願P1950627
9.5の発明の対象である。本発明の方法は<5bar
の圧力でおよび>300barの圧力でも実施すること
ができる。5barより下の圧力では反応時間を著しく
増加させる必要があり、300barより上の圧力では
対応して設計された耐圧反応器が必要とされる。
【0025】ほとんどの場合、10〜200bar、特
に50〜150barの圧力で十分であることが判って
いる。本発明の方法は<50℃の温度で実施することも
できるが、この場合には反応時間の著しい増加を甘受し
なければならない。>200℃の温度は反応を著しく促
進させるが、副生成物の生成をも促進させ得る。本発明
の方法は一般に70〜160℃、特に80〜150℃で
実施する。これらの温度範囲は多くの場合にとって十分
であることが判っている。
に50〜150barの圧力で十分であることが判って
いる。本発明の方法は<50℃の温度で実施することも
できるが、この場合には反応時間の著しい増加を甘受し
なければならない。>200℃の温度は反応を著しく促
進させるが、副生成物の生成をも促進させ得る。本発明
の方法は一般に70〜160℃、特に80〜150℃で
実施する。これらの温度範囲は多くの場合にとって十分
であることが判っている。
【0026】反応が完了した後に、反応混合物を冷却し
そして放圧する。次いで所望の生成物を含む有機相と触
媒を含有する水性相とを互いに分離する。触媒を容易に
分離できることは、触媒の煩雑な分離および回収を必要
としないので、本発明の方法の長所である。分離除去さ
れた水性相は場合によってはパラジウムおよび/または
水溶性ホスフィンの添加後に、反応に再使用することが
できる。
そして放圧する。次いで所望の生成物を含む有機相と触
媒を含有する水性相とを互いに分離する。触媒を容易に
分離できることは、触媒の煩雑な分離および回収を必要
としないので、本発明の方法の長所である。分離除去さ
れた水性相は場合によってはパラジウムおよび/または
水溶性ホスフィンの添加後に、反応に再使用することが
できる。
【0027】本発明は、パラジウムおよび式(B)のホ
スフィンを1:1〜1:10、特に1:2〜1:6のモ
ル比で含有する、本発明の方法を実施するのに適する新
規の触媒にも関する。この触媒はパラジウムと特にR1
およびR2 がそれぞれシクロヘキシル残基である式
(B)のホスフィンとを1:1〜1:10、特に1:2
〜1:6のモル比で含有している。
スフィンを1:1〜1:10、特に1:2〜1:6のモ
ル比で含有する、本発明の方法を実施するのに適する新
規の触媒にも関する。この触媒はパラジウムと特にR1
およびR2 がそれぞれシクロヘキシル残基である式
(B)のホスフィンとを1:1〜1:10、特に1:2
〜1:6のモル比で含有している。
【0028】本発明の方法を実施するために、触媒の個
々の成分、即ちパラジウム、例えば水溶性塩の状態のも
のと水溶性ホスフィンとを反応に使用することができ
る。場合によっては、触媒は水溶性Pd塩と水溶性ホス
フィンとを水溶液中で一緒にし、水溶液としてまたは単
離した状態で本発明の方法で使用することができる。
々の成分、即ちパラジウム、例えば水溶性塩の状態のも
のと水溶性ホスフィンとを反応に使用することができ
る。場合によっては、触媒は水溶性Pd塩と水溶性ホス
フィンとを水溶液中で一緒にし、水溶液としてまたは単
離した状態で本発明の方法で使用することができる。
【0029】以下の実施例によって本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれらに制限されない。
説明するが、本発明はこれらに制限されない。
【0030】
【実施例】実験部分 実施例1a :4−クロロ−3−アミノアセトフェノンの
製造 40mmolの4−クロロ−3−ニトロアセトフェノン
(出発化合物)と60mlのキシレンとの脱気済み溶液
をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れる。ホ
スフィンとして5mmolのTPPTS(1kgの溶液
中に0.546molのTPPTSを含有する水溶液
9.2g )および2.4g (60mmol)のNaO
H、23.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのPd
Cl2 を添加する。pHは10.5〜11.0である。
製造 40mmolの4−クロロ−3−ニトロアセトフェノン
(出発化合物)と60mlのキシレンとの脱気済み溶液
をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れる。ホ
スフィンとして5mmolのTPPTS(1kgの溶液
中に0.546molのTPPTSを含有する水溶液
9.2g )および2.4g (60mmol)のNaO
H、23.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのPd
Cl2 を添加する。pHは10.5〜11.0である。
【0031】オートクレーブを閉じ、排気しそして窒素
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
【0032】実施例1b:4−クロロ−3−アミノアセ
トフェノンの製造 40mmolの4−クロロ−3−ニトロアセトフェノン
(出発化合物)と60mlのキシレンとの脱気済み溶液
をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れる。ホ
スフィンとして2.5mmolのBINAS(1kgの
溶液中に0.173molのBINASを含有する水溶
液14.4g )および2.4g (60mmol)のNa
OH、23.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのP
dCl2を添加する。pHは10.5〜11.0であ
る。
トフェノンの製造 40mmolの4−クロロ−3−ニトロアセトフェノン
(出発化合物)と60mlのキシレンとの脱気済み溶液
をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れる。ホ
スフィンとして2.5mmolのBINAS(1kgの
溶液中に0.173molのBINASを含有する水溶
液14.4g )および2.4g (60mmol)のNa
OH、23.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのP
dCl2を添加する。pHは10.5〜11.0であ
る。
【0033】オートクレーブを閉じ、排気しそして窒素
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCO充填を二度繰り返す。次に
オートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に90℃に加熱する。反応時間は2
0時間である。この混合物を次に室温に冷し、オートク
レーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。有
機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相を
減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によっ
ては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によって
精製する。
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCO充填を二度繰り返す。次に
オートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に90℃に加熱する。反応時間は2
0時間である。この混合物を次に室温に冷し、オートク
レーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。有
機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相を
減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によっ
ては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によって
精製する。
【0034】実施例2a:2−クロロ−5−トリフルオ
ロメチルアニリンの製造 40mmolの2−クロロ−5−トリフルオロメチルニ
トロベンゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの
脱気済み溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中
に入れる。ホスフィンとして5.0mmolのTPPT
S(1kgの溶液中に0.546molのTPPTSを
含有する水溶液9.2g )および2.4g (60mmo
l)のNaOH、23.8mlのH2 Oおよび1.0m
molのPdCl2 を添加する。pHは10.5〜1
1.0である。
ロメチルアニリンの製造 40mmolの2−クロロ−5−トリフルオロメチルニ
トロベンゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの
脱気済み溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中
に入れる。ホスフィンとして5.0mmolのTPPT
S(1kgの溶液中に0.546molのTPPTSを
含有する水溶液9.2g )および2.4g (60mmo
l)のNaOH、23.8mlのH2 Oおよび1.0m
molのPdCl2 を添加する。pHは10.5〜1
1.0である。
【0035】オートクレーブを閉じ、排気しそして窒素
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
【0036】実施例2b:2−クロロ−5−トリフルオ
ロメチルアニリンの製造 40mmolの2−クロロ−5−トリフルオロメチルニ
トロベンゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの
脱気済み溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中
に入れる。ホスフィンとして3.0mmolのBINA
S(1kgの溶液中に0.173molのBINASを
含有する水溶液17.3g )および2.4g (60mm
ol)のNaOH、23.8mlのH2 Oおよび1.0
mmolのPdCl2 を添加する。pHは10.5〜1
1.0である。
ロメチルアニリンの製造 40mmolの2−クロロ−5−トリフルオロメチルニ
トロベンゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの
脱気済み溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中
に入れる。ホスフィンとして3.0mmolのBINA
S(1kgの溶液中に0.173molのBINASを
含有する水溶液17.3g )および2.4g (60mm
ol)のNaOH、23.8mlのH2 Oおよび1.0
mmolのPdCl2 を添加する。pHは10.5〜1
1.0である。
【0037】続いて実施例2aに記載した様に後処理す
る。実施例3a :4−クロロ−3−アミノベンゾニトリルの
製造 40mmolの4−クロロ−3−ニトロベンゾニトリル
(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み溶液
をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れる。ホ
スフィンとして5.0mmolのTPPTS(1kgの
溶液中に0.546molのTPPTSを含有する水溶
液9.2g )および2.4g (60mmol)のNaO
H、23.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのPd
Cl2 を添加する。pHは10.5〜11.0である。
る。実施例3a :4−クロロ−3−アミノベンゾニトリルの
製造 40mmolの4−クロロ−3−ニトロベンゾニトリル
(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み溶液
をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れる。ホ
スフィンとして5.0mmolのTPPTS(1kgの
溶液中に0.546molのTPPTSを含有する水溶
液9.2g )および2.4g (60mmol)のNaO
H、23.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのPd
Cl2 を添加する。pHは10.5〜11.0である。
【0038】オートクレーブを閉じ、排気しそして窒素
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
【0039】実施例3b:4−クロロ−3−アミノベン
ゾニトリルの製造 40mmolの4−クロロ−3−ニトロベンゾニトリル
(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み溶液
をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れる。ホ
スフィンとして2.5mmolのBINAS(1kgの
溶液中に0.173molのBINASを含有する水溶
液14.4g )および2.4g (60mmol)のNa
OH、23.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのP
dCl2を添加する。pHは10.5〜11.0であ
る。
ゾニトリルの製造 40mmolの4−クロロ−3−ニトロベンゾニトリル
(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み溶液
をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れる。ホ
スフィンとして2.5mmolのBINAS(1kgの
溶液中に0.173molのBINASを含有する水溶
液14.4g )および2.4g (60mmol)のNa
OH、23.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのP
dCl2を添加する。pHは10.5〜11.0であ
る。
【0040】続いて実施例3aに記載した様に後処理す
る。実施例4a :4−クロロアニリンの製造 40mmolの4−クロロニトロベンゼン(出発化合
物)と40mlのキシレンとの脱気済み溶液をオートク
レーブ(容量:200ml)中に入れる。ホスフィンと
して5.0mmolのTPPTS(1kgの溶液中に
0.546molのTPPTSを含有する水溶液9.2
g )および2.4g (60mmol)のNaOH、2
3.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのPdCl2
を添加する。pHは10.5〜11.0である。
る。実施例4a :4−クロロアニリンの製造 40mmolの4−クロロニトロベンゼン(出発化合
物)と40mlのキシレンとの脱気済み溶液をオートク
レーブ(容量:200ml)中に入れる。ホスフィンと
して5.0mmolのTPPTS(1kgの溶液中に
0.546molのTPPTSを含有する水溶液9.2
g )および2.4g (60mmol)のNaOH、2
3.8mlのH2 Oおよび1.0mmolのPdCl2
を添加する。pHは10.5〜11.0である。
【0041】オートクレーブを閉じ、排気しそして窒素
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返ス。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返ス。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
【0042】実施例4b:4−クロロアニリンの製造 35mmolの4−クロロニトロベンゼン(出発化合
物)と40mlのキシレンとの脱気済み溶液をオートク
レーブ(容量:200ml)中に入れる。ホスフィンと
して2.57mmolのBINAS(1kgの溶液中に
0.173molのBINASを含有する水溶液14.
85g )および2.4g (60mmol)のNaOH、
22.0mlのH2 Oおよび0.85mmolのPdC
l2 を添加する。pHは10.5〜11.0である。
物)と40mlのキシレンとの脱気済み溶液をオートク
レーブ(容量:200ml)中に入れる。ホスフィンと
して2.57mmolのBINAS(1kgの溶液中に
0.173molのBINASを含有する水溶液14.
85g )および2.4g (60mmol)のNaOH、
22.0mlのH2 Oおよび0.85mmolのPdC
l2 を添加する。pHは10.5〜11.0である。
【0043】続いて実施例4aに記載した様に後処理す
る。実施例5a :5−クロロ−2−ヒドロキシアニリンの製
造 10mmolの5−クロロ−2−ヒドロキシニトロベン
ゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み
溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れ
る。ホスフィンとして0.25mmolのTPPTS
(1kgの溶液中に0.546molのTPPTSを含
有する水溶液4.6g )および0.6g (15mmo
l)のNaOH、41mlのH2 Oおよび0.25mm
olのPdCl 2 を添加する。pHは10〜10.5で
ある。
る。実施例5a :5−クロロ−2−ヒドロキシアニリンの製
造 10mmolの5−クロロ−2−ヒドロキシニトロベン
ゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み
溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れ
る。ホスフィンとして0.25mmolのTPPTS
(1kgの溶液中に0.546molのTPPTSを含
有する水溶液4.6g )および0.6g (15mmo
l)のNaOH、41mlのH2 Oおよび0.25mm
olのPdCl 2 を添加する。pHは10〜10.5で
ある。
【0044】オートクレーブを閉じ、排気しそして窒素
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
【0045】実施例5b:5−クロロ−2−ヒドロキシ
アニリンの製造 10mmolの5−クロロ−2−ヒドロキシニトロベン
ゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み
溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れ
る。ホスフィンとして0.125mmolのBINAS
(1kgの溶液中に0.173molのBINASを含
有する水溶液0.72g )および0.6g(15mmo
l)のNaOH、41mlのH2 Oおよび0.25mm
olのPdCl2 を添加する。pHは10〜11であ
る。
アニリンの製造 10mmolの5−クロロ−2−ヒドロキシニトロベン
ゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み
溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れ
る。ホスフィンとして0.125mmolのBINAS
(1kgの溶液中に0.173molのBINASを含
有する水溶液0.72g )および0.6g(15mmo
l)のNaOH、41mlのH2 Oおよび0.25mm
olのPdCl2 を添加する。pHは10〜11であ
る。
【0046】続いて実施例5aに記載した様に後処理す
る。実施例5c :5−クロロ−2−ヒドロキシアニリンの製
造 10mmolの5−クロロ−2−ヒドロキシニトロベン
ゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み
溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れ
る。ホスフィンとして0.125mmolのリガンドA
(1kgの溶液中に0.1molのリガンドAを含有す
る水溶液1.25g )および0.6g (15mmol)
のNaOH、41mlのH2 Oおよび0.25mmol
のPdCl 2 を添加する。pHは10.5〜11.0で
ある。
る。実施例5c :5−クロロ−2−ヒドロキシアニリンの製
造 10mmolの5−クロロ−2−ヒドロキシニトロベン
ゼン(出発化合物)と40mlのキシレンとの脱気済み
溶液をオートクレーブ(容量:200ml)中に入れ
る。ホスフィンとして0.125mmolのリガンドA
(1kgの溶液中に0.1molのリガンドAを含有す
る水溶液1.25g )および0.6g (15mmol)
のNaOH、41mlのH2 Oおよび0.25mmol
のPdCl 2 を添加する。pHは10.5〜11.0で
ある。
【0047】続いて実施例5aに記載した様に後処理す
る。実施例5aおよび5bと比較すると、ホスフィンと
して使用したリガンドAは収率を著しく増加させる(後
記表参照)。実施例6 :3−アミノスチレンの製造 40mmolの3−ニトロスチレン(出発化合物)と4
0mlのキシレンとの脱気済み溶液をオートクレーブ
(容量:200ml)中に入れる。ホスフィンとして
2.0mmolのBINAS(1kgの溶液中に0.1
73molのBINASを含有する水溶液11.56g
)および1.92g (48mmol)のNaOH、2
3mlのH2 Oおよび0.8mmolのPdCl2 を添
加する。pHは10.0〜10.5である。
る。実施例5aおよび5bと比較すると、ホスフィンと
して使用したリガンドAは収率を著しく増加させる(後
記表参照)。実施例6 :3−アミノスチレンの製造 40mmolの3−ニトロスチレン(出発化合物)と4
0mlのキシレンとの脱気済み溶液をオートクレーブ
(容量:200ml)中に入れる。ホスフィンとして
2.0mmolのBINAS(1kgの溶液中に0.1
73molのBINASを含有する水溶液11.56g
)および1.92g (48mmol)のNaOH、2
3mlのH2 Oおよび0.8mmolのPdCl2 を添
加する。pHは10.0〜10.5である。
【0048】オートクレーブを閉じ、排気しそして窒素
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
ガスを充填する。排気と窒素ガス充填を二度繰り返し、
次いでオートクレーブにCOを充填し、排気しそしてC
Oを再充填する。排気とCOの充填を二度繰り返す。次
にオートクレーブに120barの圧力までCOを圧入
し、混合物を攪拌下に100℃に加熱する。反応時間は
20時間である。この混合物を次に室温に冷し、オート
クレーブを空にしそして有機相を水性相から分離する。
有機相から痕跡量のパラジウムを濾去し、そして有機相
を減圧下に濃縮する。その際に所望の生成物を場合によ
っては結晶化処理またはクロマトグラフィー処理によっ
て精製する。
【0049】略字のTPPTS、BINASおよびリガ
ンドAを以下に説明する:TPPTSは、スルホン化ト
リフェニルホスフィンのナトリウム塩の混合物であり、
モノスルホン化−、ジスルホン化−およびトリスルホン
化トリフェニルホスフィンの各ナトリウム塩を含有して
いる。かゝる塩の製造はドイツ特許第2,627,35
4号明細書に開示されている。
ンドAを以下に説明する:TPPTSは、スルホン化ト
リフェニルホスフィンのナトリウム塩の混合物であり、
モノスルホン化−、ジスルホン化−およびトリスルホン
化トリフェニルホスフィンの各ナトリウム塩を含有して
いる。かゝる塩の製造はドイツ特許第2,627,35
4号明細書に開示されている。
【0050】BINASは、式(A)
【0051】
【化5】
【0052】〔式中、Arはm−C6 H4 SO3 Naで
ありそしてPhはフェニル残基であり、mは互いに同一
でも異なっていてもよく、1または2の値でありそして
nは互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ0、
1または2である。〕で表されるスルホン化2,2’−
トリフェニルホスフィノメチル)−1,1’−ビナフタ
レン類のナトリウム塩の混合物である。
ありそしてPhはフェニル残基であり、mは互いに同一
でも異なっていてもよく、1または2の値でありそして
nは互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ0、
1または2である。〕で表されるスルホン化2,2’−
トリフェニルホスフィノメチル)−1,1’−ビナフタ
レン類のナトリウム塩の混合物である。
【0053】これの塩または塩混合物の製法はヨーロッ
パ特許第571,819号明細書に開示されている。リ
ガンドAは式(B)
パ特許第571,819号明細書に開示されている。リ
ガンドAは式(B)
【0054】
【化6】
【0055】〔式中、MはNaであり、a+b+c+d
が1〜4の整数であるという条件のもとでa、b、cお
よびdはそれぞれ0または1であり、Arはm−(Na
SO3 )−C6 H4 残基であり、nは0、1または2で
あり、Phはフェニル残基であり、R1 およびR2 はそ
れぞれシクロヘキシル残基である。〕で表されるホスフ
ィンである。
が1〜4の整数であるという条件のもとでa、b、cお
よびdはそれぞれ0または1であり、Arはm−(Na
SO3 )−C6 H4 残基であり、nは0、1または2で
あり、Phはフェニル残基であり、R1 およびR2 はそ
れぞれシクロヘキシル残基である。〕で表されるホスフ
ィンである。
【0056】この化合物またはこれらの化合物の混合物
の製法は、本願と同日出願のドイツ特許出願第P195
06279.5に開示されている。上記の各実施例の結
果を以下の表に示す。各実施例に記載の反応は実質的に
最初の実験結果を基準としている。それ故に反応操作を
適切に最適なものとすることが、結果、特に収率を更に
改善することを可能とするはずである。
の製法は、本願と同日出願のドイツ特許出願第P195
06279.5に開示されている。上記の各実施例の結
果を以下の表に示す。各実施例に記載の反応は実質的に
最初の実験結果を基準としている。それ故に反応操作を
適切に最適なものとすることが、結果、特に収率を更に
改善することを可能とするはずである。
【0057】表
【表1】
【0058】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 215/76 C07C 215/76 221/00 221/00 225/22 225/22 253/30 253/30 255/58 255/58 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 クリスチャン・コールペイントナー アメリカ合衆国、テキサス州78413 、ケ ニス・サークル、エイチシーシー・コーパ ス・クリスティ、522 (72)発明者 クリストフ・ナウマン ドイツ連邦共和国、65527 ニーデルンハ ウゼン、イトシユタイナー・ストラーセ、 90
Claims (21)
- 【請求項1】 水と水不溶性有機溶剤との溶剤混合物中
でパラジウムと水溶性ホスフィンとを含む触媒によって
5〜300barの圧力および50〜200℃の温度に
おいて芳香族ニトロ化合物を一酸化炭素と反応させ、そ
して水性相と有機相とを分離することを特徴とする、芳
香族アミン類の製造方法。 - 【請求項2】 使用するニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 、R3 は互いに同一でも異なってい
てもよく、それぞれ水素原子、炭素原子数1〜6のアル
キル−またはアルコキシ基、炭素原子数1〜4のハロゲ
ン化アルキル基、ハロゲン原子、−OH、−CHO、−
CO−R4 、−CO2 R4 、−CONHR4 、−CON
(R4 )2 、−SR4 、−CNまたは−CH=CH−R
5 であり、ただしR4 は炭素原子数1〜6の残基であり
そしてR5 は水素原子または炭素原子数1〜6の残基で
あり、そしてArは芳香族残基である。〕で表される化
合物である請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 使用する芳香族ニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 およびR3 は水素原子、炭素原子数
1〜4のアルキル−またはアルコキシ基、炭素原子数1
または2のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、−O
H、−CO−R4 、−CNまたは−CH=CH−R5 で
ある。〕で表される化合物である請求項1または2に記
載の方法。 - 【請求項4】 使用する芳香族ニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 およびR3 の少なくとも1つはハロ
ゲン原子、−OH、−CO−R4 、−CNまたは−CH
=CH−R5 である。〕で表される化合物である請求項
1〜3のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項5】 使用する芳香族ニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 およびR3 の1つまたは2つはハロ
ゲン原子、−OH、−CO−R4 、−CNまたは−CH
=CH−R5 である。〕で表される化合物である請求項
1〜4のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項6】 使用する芳香族ニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、R1 、R2 およびR3 の1つまたは2つは−C
l、−Br、−OH、−CO−R4 、−CNまたは−C
H=CH−R5 であり、ただしR4 は炭素原子数1〜4
のアルキル残基であるかまたはフェニル残基であり、R
5 は水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル残基または
フェニル残基である。〕で表される化合物である請求項
1〜5のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項7】 使用する芳香族ニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、Arが炭素原子数6〜20の芳香族残基であ
る。〕で表される方法である請求項1〜6のいずれか一
つに記載の方法。 - 【請求項8】 使用する芳香族ニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、Arがフェニル−、ナフチル−、フェナントリ
ル−、ビフェニル−またはビナフチル残基である。〕で
表される方法である請求項1〜7のいずれか一つに記載
の方法。 - 【請求項9】 使用する芳香族ニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、Arがフェニル−、ナフチル−またはビフェニ
ル残基である。〕で表される方法である請求項1〜8の
いずれか一つに記載の方法。 - 【請求項10】 使用する芳香族ニトロ化合物が式 R1 R2 R3 ArNO2 〔式中、Arがフェニル残基である。〕で表される方法
である請求項1〜9のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項11】 使用する水不溶性有機溶剤が芳香族炭
化水素、脂肪族炭化水素、塩素化芳香族炭化水素または
−脂肪族炭化水素またはそれらの混合物である請求項1
〜10のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項12】 パラジウムを水溶性パラジウム塩、特
にPdCl2 、Pd(NO3 )2 、Pd(アセテート)
2 またはPdSO4 の形で使用する請求項1〜11のい
ずれか一つに記載の方法。 - 【請求項13】 使用する水溶性ホスフィンが−SO3
M基を含有するホスフィンであり、その際にMが水素原
子、アンモニウム、一価の金属または当量の多価金属で
ある請求項1〜12のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項14】 Mがアンモニウムまたはアルカリ金
属、特にナトリウムまたはカリウム、好ましくはナトリ
ウムである−SO3 M基を含有するホスフィンを使用す
る請求項1〜13のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項15】 1〜6個、好ましくは1〜3個の−S
O3 M基を含有するトリアリールホスフィンまたはかゝ
るトリアリールホスフィンの混合物を使用し、その際に
アリール残基が互いに同一でも異なっていてもよく、そ
れぞれフェニルまたはナフチルである請求項1〜14の
いずれか一つに記載の方法。 - 【請求項16】 1〜3個の−SO3 M基を含有するト
リフェニルホスフィンを使用する請求項1〜15のいず
れか一つに記載の方法。 - 【請求項17】 使用するホスフィンが式(A) 【化1】 〔式中、Arはm−C6 H4 SO3 Mであり、Mは水素
原子、アンモニウム、一価の金属または当量の多価金属
であり、Phはフェニル残基であり、mは互いに同一で
も異なっていてもよく、1または2の値でありそしてn
は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ0、1
または2である。〕で表されるものであるかまたはかゝ
るホスフィンの混合物である、請求項1〜14のいずれ
か一つに記載の方法。 - 【請求項18】 使用されるホスフィンが式(B) 【化2】 〔式中、Mは水素原子、アンモニウム、一価の金属また
は当量の多価金属であり、a+b+c+dが1〜4の整
数であるという条件のもとでa、b、cおよびdはそれ
ぞれ0または1であり、Arはm−(MSO3 )−C6
H4 残基(ただしMは上に規定した通り)であり、nは
0、1または2であり、Phはフェニル残基であり、R
1 およびR2 は互いに同じでも異なっていてもよく、1
〜10の炭素原子を持つアルキル残基であるかまたは環
中炭素原子数5〜10の脂環式残基である。〕で表され
るものであるかまたはこれらホスフィンの混合物である
請求項1〜14のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項19】 R1 およびR2 がそれぞれシクロヘキ
シル残基である式(B)のホスフィンを使用する請求項
14〜18のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項20】 請求項1〜14および18〜19のい
ずれか一つに記載の方法を実施するための触媒におい
て、該触媒がPdおよび式(B)のホスフィンを1:1
〜1:10、特に1:2〜1:6のモル比で含有するこ
とを特徴とする、上記触媒。 - 【請求項21】 請求項1〜14および18〜19のい
ずれか一つに記載の方法を実施するための触媒におい
て、該触媒がPdとR1 およびR2 がそれぞれシクロヘ
キシル残基である式(B)のホスフィンとを1:1〜
1:10、特に1:2〜1:6のモル比で含有すること
を特徴とする、上記触媒。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19506278A DE19506278A1 (de) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | Verfahren zur Herstellung aromatischer Amine |
DE19506278:7 | 1995-02-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08268977A true JPH08268977A (ja) | 1996-10-15 |
Family
ID=7754818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8035161A Withdrawn JPH08268977A (ja) | 1995-02-23 | 1996-02-22 | 芳香族アミン類の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5744643A (ja) |
EP (1) | EP0728734B1 (ja) |
JP (1) | JPH08268977A (ja) |
DE (2) | DE19506278A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014062083A (ja) * | 2012-03-02 | 2014-04-10 | Osaka Univ | 選択的水素化方法、その方法に使用する触媒 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7010645B2 (en) * | 2002-12-27 | 2006-03-07 | International Business Machines Corporation | System and method for sequentially staging received data to a write cache in advance of storing the received data |
US7069382B2 (en) * | 2003-09-24 | 2006-06-27 | Aristos Logic Corporation | Method of RAID 5 write hole prevention |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4120901A (en) * | 1977-08-31 | 1978-10-17 | Monsanto Company | Production of primary and secondary amines by reaction of ammonia with conjugated diene in the presence of Pd/phosphine catalyst and primary or secondary aliphatic alcohol solvent medium |
FR2636943B1 (fr) * | 1988-09-26 | 1991-04-12 | Rhone Poulenc Sante | Procede de preparation d'aldehydes satures par hydrogenation d'aldehydes (alpha),(beta)-insatures |
EP0369864B1 (en) * | 1988-11-18 | 1994-03-09 | Sumitomo Chemical Company Limited | Process for producing aromatic amines |
US5105012A (en) * | 1989-03-24 | 1992-04-14 | Fmc Corporation | Catalytic reduction of dinitrobenzenes using a noble metal catalyst and iron or iron salts |
PL164923B1 (pl) * | 1990-10-08 | 1994-10-31 | Inst Chemii Przemyslowej | Sposób wytwarzania aniliny PL |
IL105558A (en) * | 1992-05-18 | 1998-04-05 | Zeneca Ltd | Tertiary carbinols with channel activity potassium process for their preparation and pharmaceutical preparations containing them |
-
1995
- 1995-02-23 DE DE19506278A patent/DE19506278A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-02-17 EP EP96102416A patent/EP0728734B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-17 DE DE59600522T patent/DE59600522D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-21 US US08/604,572 patent/US5744643A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-22 JP JP8035161A patent/JPH08268977A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014062083A (ja) * | 2012-03-02 | 2014-04-10 | Osaka Univ | 選択的水素化方法、その方法に使用する触媒 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19506278A1 (de) | 1996-08-29 |
US5744643A (en) | 1998-04-28 |
EP0728734A1 (de) | 1996-08-28 |
DE59600522D1 (de) | 1998-10-15 |
EP0728734B1 (de) | 1998-09-09 |
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---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030506 |