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JPH08222369A - 多色発光装置 - Google Patents

多色発光装置

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Publication number
JPH08222369A
JPH08222369A JP7049089A JP4908995A JPH08222369A JP H08222369 A JPH08222369 A JP H08222369A JP 7049089 A JP7049089 A JP 7049089A JP 4908995 A JP4908995 A JP 4908995A JP H08222369 A JPH08222369 A JP H08222369A
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JP
Japan
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organic
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layer
light emitting
transparent
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JP7049089A
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Noboru Sakaeda
暢 栄田
Masahide Matsuura
正英 松浦
Hiroshi Shoji
弘 東海林
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 優れた発光寿命を有するとともに、優れた視
野角特性を有する有機EL素子を用いた多色発光装置を
提供する。 【構成】 有機EL素子1と蛍光体層3との間に、有機
EL素子1と間隙6を保持しながら蛍光体層3を配置す
る透明ガラス基板4を配設し、この透明ガラス基板4と
支持基板2との間で有機EL素子1を封止手段5によっ
て封止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、多色発光装置に関す
る。さらに詳しくは、各種発光型のマルチカラーまたは
フルカラーの薄型ディスプレイに好適に用いられる多色
発光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】エレクトロルミネッセンス素子(以下E
L素子という)は、自己発光のため視認性が高く、また
完全固体のため耐衝撃性に優れるという特徴を有してお
り、現在、無機、有機化合物を発光層に用いた様々なE
L素子が提案され、実用化が試みられている。EL素子
の中でも、有機EL素子が高輝度、高効率の発光素子と
して有望であることが知られている。特に、発光層が有
機物であるため、種々の発光色が有機物の分子設計によ
り得られる可能性が高く、有機EL素子の実用化の一つ
として、多色発光装置への応用が期待されている。しか
しながら、有機EL素子は外部からの水蒸気、酸素、お
よび有機物のガス等の化学的要因により、黒点の発生に
付随して輝度の低下等の劣化が起こり、また、素子構成
が低分子の有機物の積層体であるため、熱、または衝撃
等の物理的(機械的)要因により比較的破壊しやすいと
いう問題があった。したがって、多色化のために、三原
色(RGB)の発光をする各々の有機EL素子を平面的
に分離配置する方法は、フォトリソグラフィー法のよう
に、ウェットな、または熱処理のあるプロセスでは困難
であった。
【0003】このような問題を解消するため、たとえば
図8に示す、基板上に下部電極と透光性の上部電極とに
よって挟まれたEL発光層を設け、前記透光性電極を介
して取り出されたEL光を、前記透光性電極と対向して
透光性基板上に設けられたカラーフィルタを介して前記
透光性基板外に取り出すことを特徴とするカラーELデ
ィスプレイ装置が開示されている(特開昭64−408
88号公報)。しかしながら、この装置では、EL発光
がカラーフィルタによって、一つの発光色の輝度が高々
3分の1に減少してしまう。また、EL(素子)とカラ
ーフィルタが対向することにより、カラーフィルタから
発生する水蒸気、酸素または有機物のモノマー、低分子
成分等のガスによって、EL素子の発光寿命が低下する
ことを避けることができなかった。
【0004】また、近年では、有機EL素子の発光部分
に対応する部分(積層または並列)に、有機EL素子の
発光を吸収して可視光の蛍光を発光する蛍光体層を設置
する技術が開示されている(特開平3−152897号
公報)。この技術によれば、例えば有機EL素子の青色
または青緑色の発光に対し、より長波長の可視光への蛍
光に変換が可能である。この技術の応用として緑または
赤色に変換できる蛍光体層を平面的に分離配置した多色
(三原色)発光装置が開示されている(特開平5−25
8860号公報)。
【0005】ここで、蛍光体層を設置するメリットは、
カラーフィルタを設置した場合と比較して高効率の多色
発光が期待できることにある。すなわち、有機EL素子
からの青色発光に対して、特に緑色への蛍光変換膜の青
色発光の吸収効率が少なくとも80%以上として、次に
吸収した光に対して少なくとも80%以上の効率で蛍光
を発光する各種の蛍光材料が知られている。従って、8
0%の吸収効率と80%の蛍光効率とを仮定すると、有
機EL素子の青色発光の64%が長波長の可視光に変換
することができる計算になる。
【0006】このようにして有機EL素子と蛍光体層を
用いて多色発光装置を得ることができるが、特開平5−
258860号公報によると、その多色発光装置の構成
として、透明基板上に有機EL素子の発光を吸収してそ
れぞれ緑色,赤色の蛍光を発光する蛍光体を平面的に分
離配置し、その蛍光体を含む透明基板上に有機モノマー
またはポリマーの重合および/または架橋物、ゾルゲル
ガラス技法による透明な電気絶縁性硬質平面化層(保護
層)をスピンキャストして積層し、その平面化層上に有
機EL素子の透明電極を配置している。また、別の構成
として、透明な電気絶縁性である硬質要素を蛍光体上に
スピンキャストする代わりに単に配置したり、基板の上
面に蛍光体を付着させる代わりに平面化層の機能を発揮
する硬質要素の下面に蛍光体を付着させることが記載さ
れている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平5−2
58860号公報に記載された構成の場合、有機モノマ
ーまたはポリマーの重合および/または架橋物の平面化
層上に有機EL素子の透明電極を配置しただけでは、平
面化層の有機物に微量に吸着または含まれている水蒸
気,酸素またはモノマー等のガスによって、有機EL素
子の発光寿命を著しく低下させ、不均一な発光とならざ
るを得ないという問題があった。また、ゾルゲルガラス
技法による平面化層の作製には通常400℃以上の高温
処理が必要で、有機物の蛍光体を劣化させる可能性が高
い上、本質的に多孔質のゾルゲルガラスではさらに下地
の蛍光体有機物から発生するガスを制御することができ
ないという問題があった。また、前記の別構成の場合、
硬質要素について明確な説明が必ずしも十分になされな
かった。
【0008】一方、無機EL素子のガラス基板の裏面に
カラーフィルタを印刷したガラス板を載置する方法が開
示されている(特開昭57−119494号公報)。し
かし、この方法では、先に記載したようにカラーフィル
タによる発光効率のロスが容易に予想されることに加え
て、無機EL素子とカラーフィルタとを独立して製造す
るため、例えば無機EL素子の基板の厚さを厚くしない
と(700μm以上)、基板のそり、ゆがみの問題が発
生し、安定してEL素子を作製することができなかっ
た。しかもその基板を厚くした結果、カラーフィルタと
EL素子とのギャップが広がり、多色発光させる場合、
所望の発光色以外の発光色が漏れ出て、視野角が著しく
悪化するという問題があった。
【0009】本発明は上述の問題に鑑みなされたもので
あり、優れた発光寿命を有するとともに、優れた視野角
特性を有する有機EL素子を用いた多色発光装置を提供
することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、支持基板と、この支持基板上に配
設した有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子と、
この有機EL素子からの発光を吸収して異なった可視光
の蛍光を発光し得るようにこの有機EL素子の透明電極
または電極に対応して配設した蛍光体層とを備えた多色
発光装置において、前記有機EL素子と蛍光体層との間
に、有機EL素子と間隙を保持しながら蛍光体層を配置
する透明ガラス基板を配設し、この透明ガラス基板と前
記支持基板との間で有機EL素子を封止手段によって封
止してなることを特徴とする多色発光装置が提供され
る。
【0011】また、その好ましい態様として、前記蛍光
体層が、前記透明ガラス基板上に平面的に分離配置され
てなることを特徴とする多色発光装置提供される。
【0012】また、前記蛍光体層上に、さらに蛍光体保
護層および/または透明基板を配設したことを特徴とす
る多色発光装置提供される。
【0013】さらに、前記透明ガラス基板の板厚が、1
〜200μmであることを特徴とする多色発光装置提供
される。
【0014】以下、本発明の多色発光装置およびその製
造方法を具体的に説明する。本発明の有機EL多色発光
装置としては、有機EL素子の発光(特に青色または青
緑色)が減衰,散乱されず、効率よく蛍光体層に吸収さ
れ、かつ、発光した可視光の蛍光が減衰,散乱されず、
外部へ取り出せる構成であることが必要である。この観
点からすると、具体的には、以下の構成(1)〜(3)
を挙げることができる。この構成(1)〜(3)は、そ
れぞれ図1〜図3に示される。なお、蛍光体による有機
EL素子の発光色の変換は、有機EL素子の発光波長よ
りも長波長の発光色であればよい。 (1)支持基板/有機EL素子(電極/有機物層/透明
電極)/間隙/透明ガラス基板/蛍光体層 (2)支持基板/有機EL素子(電極/有機物層/透明
電極)/間隙/透明ガラス基板/蛍光体層/蛍光体保護
膜 (3)支持基板/有機EL素子(電極/有機物層/透明
電極)/間隙/透明ガラス基板/蛍光体層/透明基板 なお、本発明の装置においては、透明ガラス基板と支持
基板をたとえば接着剤で接合した封止手段によって有機
EL素子を封止している。さらに図4に示すように、上
記構成(1),(2),(3)において、異なった蛍光
を発光する蛍光体層を平面的に分離配置して、RGB三
原色の発光を得ることができる。この場合、透明ガラス
基板の板厚は1μm以上200μm以下が好ましい。ま
た、図5に示すように、各蛍光体層上に蛍光色の色調整
をして色純度を高めるためにカラーフィルタを配置して
もよいし、各蛍光体層またはカラーフィルタの間に漏れ
光を防止して多色発光の視認性を高めるために、ブラッ
クマトリックスを配置してもよい。以下、本発明の多色
発光装置およびその製造方法を各構成要素ごとに具体的
に説明する。なお、この構成要素に用いられる材料は最
小必要限のものを記載するものであり、これに限定され
るものではない。
【0015】1.有機EL素子 本発明に用いられる有機EL素子としては、近紫外線か
ら青緑色まで発光するものであることが好ましく、この
発光を得るためには、たとえば以下の構造を挙げること
ができる。基本的に、二つの電極(透明陽極(陽極)と
電極(陰極))の間に、有機物層の発光層を挟持した構
造として、これに必要に応じて他層を介在させればよ
い。具体的には、 (1)透明電極(陽極)/発光層/電極(陰極) (2)透明電極(陽極)/正孔注入層/発光層/電極
(陰極) (3)透明電極(陽極)/発光層/電子注入層/電極
(陰極) (4)透明電極(陽極)/正孔注入層/発光層/電子注
入層/電極(陰極) などの構造を挙げることができる。
【0016】透明電極(陽極) 陽極の材料としては、仕事関数の大きい(4ev以上)
金属,合金,電気伝導性化合物またはこれらの混合物が
好ましく用いられる。具体例としては、Au等の金属、
CuI,ITO,SnO2 ,ZnO等の導電性透明材料
が挙げられる。陽極は、蒸着法やスパッタ法等の方法
で、所望の基板上に上記材料の薄膜を成膜する有機EL
素子を発光体とする多色発光装置では、例えば透明電極
(陽極)のパターンラインに対して垂直の電極パターン
ラインを形成する。本発明では透明電極は、発光層等の
有機物層上に形成するため、ウェットエッチングを行う
フォトリソグラフィー法では有機物層の劣化が激しく安
定性がない。従って、上記材料の蒸着やスパッタ時に所
望の形状のマスクを介して透明電極(陽極)のパターン
を形成する。このように発光層からの発光を陽極から取
り出す場合、陽極の透過率10%より大きいことが望ま
しい。また、陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下が好
ましい。陽極の膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜
1μm、好ましくは10〜200nmの範囲で選択され
る。
【0017】発光層 有機EL素子の発光材料は主に有機化合物であり、具体
的には所望の色調により次のような化合物が挙げられ
る。まず、紫外域から紫色の発光を得る場合には、下記
の一般式であらわされる化合物が挙げられる。
【0018】
【化1】
【0019】この一般式において、Xは下記化合物を示
す。
【0020】
【化2】
【0021】ここでnは、2,3,4または5である。
また、Yは下記化合物を示す。
【0022】
【化3】
【0023】上記化合物のフェニル基,フェニレン基,
ナフチル基に炭素数1〜4のアルキル基,アルコキシ
基,水酸基,スルホニル基,カルボニル基,アミノ基,
ジメチルアミノ基またはジフェニルアミノ基等が単独ま
たは複数置換したものであってもよい。また、これらは
互いに結合し、飽和5員環,6員環を形成してもよ。ま
た、フェニル基,フェニレン基,ナフチル基にパラ位で
結合したものが、結合性がよく平滑な蒸着膜の形成のた
めに好ましい。具体的には以下の化合物である。特に、
p−クォーターフェニル誘導体,p−クィンクフェニル
誘導体が好ましい。
【0024】
【化4】
【0025】
【化5】
【0026】
【化6】
【0027】
【化7】
【0028】次に、青色から青緑色の発光を得るために
は、例えば、ベンゾチアゾール系,ベンゾイミダゾール
系,ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレー
ト化オキシノイド化合物,スチリルベンゼン系化合物を
挙げることができる。例えば、ベンゾチアゾール系,ベ
ンゾイミダゾール系,ベンゾオキサゾール系等の蛍光増
白剤、スチリルベンゼン系化合物を挙げることができ
る。
【0029】具体的に化合物名を示せば、例えば、特開
昭59−194393号公報に開示されているものを挙
げることができる。その代表例としては2,5−ビス
(5,7−ジ−t−ペンチル−2−ベンゾオキサゾリ
ル)−1,3,4−チアジアゾール、4,4’−ビス
(5,7−t−ペンチル−2−ベンゾオキサゾリル)ス
チルベン、4,4’−ビス[5,7−ジ−(2−メチル
−2−ブチル)−2−ベンゾオキサゾリル]スチルベ
ン、2,5−ビス(5,7−ジ−t−ペンチル−2−ベ
ンゾオキサゾリル)チオフェン、2,5−ビス[5−
α,α−ジメチルベンジル−2−ベンゾオキサゾリル]
チオフェン、2,5−ビス[5,7−ジ−(2−メチル
−2−ブチル)−2−ベンゾオキサゾリル]−3,4ジ
オフェニルチオフェン、2,5−ビス(5−メチル−2
−ベンゾオキサゾリル)チオフェン、4,4’−ビス
(2−ベンゾオキサゾリル)ビフェニル、5−メチル−
2−[2−[4−(5−メチル−2−ベンゾオキサゾリ
ル)フェニル]ビニル]ベンゾオキサゾール、2−[2
−(4−クロロフェニル)ビニル]ナフト[1,2−
d]オキサゾール等のベンゾオキサゾール系、2−2’
−(p−フェニレンジビニレン)−ビスベンゾチアゾー
ル等のベンゾチアゾール系、2−[2−[4−(2−ベ
ンゾイミダゾリル)フェニル]ビニル]ベンゾイミダゾ
ール、2−[2−(4−カルボキシフェニル)ビニル]
ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系等の蛍光
増白剤を挙げることができる。さらに、他の有用な化合
物は、ケミストリー・オブ・シンセティック・ダイズ1
971,628〜637頁および640頁に列挙されて
いる。
【0030】前記キレート化オキシノイド化合物として
は、例えば特開昭63−295695号公報に開示され
ているものを用いることができる。その代表例として
は、トリス(8−キノリノール)アルミニウム、ビス
(8−キノリノール)マグネシウム、ビス(ベンゾ
[f]−8−キノリノール)亜鉛、ビス(2−メチル−
8−キノリノラート)アルミニウムオキシド、トリス
(8−キノリノ−ル)インジウム、トリス(5−メチル
−8−キノリノール)アルミニウム、8−キノリノール
リチウム、トリス(5−クロロ−8−キノリノール)ガ
リウム、ビス(5−クロロ−8−キノリノール)カルシ
ウム、ポリ[亜鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−
キノリノニル)メタン]等の8−ヒドロキシキノリン系
金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げること
ができる。
【0031】また、前記スチリルベンゼン系化合物とし
ては、例えば欧州特許第0319881号明細書や欧州
特許第0373582号明細書に開示されているものを
用いることができる。その代表例としては、1,4−ビ
ス(2−メチルスチリル)ベンゼン、1,4−ビス(3
−メチルスチリル)ベンゼン、1,4−ビス(4−メチ
ルスチリル)ベンゼン、ジスチリルベンゼン、1,4−
ビス(2−エチルスチリル)ベンゼン、1,4−ビス
(3−エチルスチリル)ベンゼン、1,4−ビス(2−
メチルスチリル)−2−メチルベンゼン、1,4−ビス
(2−メチルスチリル)−2−エチルベンゼン等を挙げ
ることができる。
【0032】また、特開平2−252793号公報に開
示されているジスチリルピラジン誘導体も発光層の材料
として用いることができる。その代表例としては、2,
5−ビス(4−メチルスチリル)ピラジン、2,5−ビ
ス(4−エチルスチリル)ピラジン、2,5−ビス[2
−(1−ナフチル))ビニル]ピラジン、2,5−ビス
(4−メトキシスチリル)ピラジン、2,5−ビス[2
−(4−ビフェニル)ビニル]ピラジン、2,5−ビス
[2−(1−ピレニル)ビニル]ピラジン等を挙げるこ
とができる。その他のものとして、例えば欧州特許第0
387715号明細書に開示されているポリフェニル系
化合物も発光層の材料として用いることもできる。
【0033】さらに、上述した蛍光増白剤、金属キレー
ト化オキシノイド化合物、およびスチリルベンゼン系化
合物等以外に、例えば12−フタロペリノン(J. Appl.
Phys., 第27巻,L713(1988年))、1,4
−ジフェニル−1,3−ブタジエン、1,1,4,4−
テトラフェニル−1,3ブタジエン(以上Appl. Phys.
Lett.,第56巻,L799(1990年))、ナフタル
イミド誘導体(特開平2−305886号公報)、ペリ
レン誘導体(特開平2−189890号公報)、オキサ
ジアゾール誘導体(特開平2−216791号公報、ま
たは第38回応用物理学関係連合講演会で浜田らによっ
て開示されたオキサジアゾール誘導体)、アルダジン誘
導体(特開平2−220393号公報)、ピラジリン誘
導体(特開平2−220394号公報)、シクロペンタ
ジエン誘導体(特開平2−289675号公報)、ピロ
ロピロール誘導体(特開平2−296891号公報)、
スチリルアミン誘導体(Appl. Phys. Lett.,第56巻,
L799(1990年))、クマリン系化合物(特開平
2−191694号公報)、国際公開公報WO90/1
3148やAppl. Phys. Lett.,vol 58,18,P1982(1991)
に記載されているような高分子化合物等も、発光層の材
料として用いることができる。
【0034】本発明では、特に発光層の材料として、芳
香族ジメチリディン系化合物(欧州特許第038876
8号明細書や特開平3−231970号公報に開示のも
の)を用いることが好ましい。具体例としては、1,4
−フェニレンジメチリディン、4,4−フェニレンジメ
チリディン、2,5−キシレンジメチリディン、2,6
−ナフチレンジメチリディン、1,4−ビフェニレンジ
メチリディン、1,4−p−テレフェニレンジメチリデ
ィン、9,10−アントラセンジイルジルメチリディ
ン、4,4’−ビス(2,2−ジ−t−ブチルフェニル
ビニル)ビフェニル、(以下、DTBPBBiと略記す
る)、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビ
フェニル(以下DPVBiと略記する)等、およびそれ
らの誘導体を挙げることができる。
【0035】さらに、特開平5−258862号公報等
に記載されている一般式(R2 −Q)3 −AL−O−L
であらわされる化合物も挙げられる。(上記式中、Lは
フェニル部分を不運でなる炭素原子6〜24個の炭化水
素であり、O−Lはフェニラート配位子であり、Qは置
換8−キノリノラート配位子を表し、R2 はアルミニウ
ム原子に置換8−キノリノラート配位子が2個上回り結
合するのを立体的に妨害するように選ばれた8−キノリ
ノラート環置換基を表す) 具体的には、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(パラ−フェニルフェノラート)アルミニウム(III )
(以下PC−7)、ビス(2−メチル−8−キノリノラ
ート)(1−ナフトラート)アルミニウム(III )(以
下PC−17)等が挙げられる。その他、特開平6−9
953号公報等によるドーピングを用いた高効率の青色
と緑色の混合発光を得る方法が挙げられる。この場合、
ホストとしては上記に記載した発光材料、ドーパントと
しては、青色から緑色にまでの強い蛍光色素、例えばク
マリン系あるいは上記記載のホストとして用いられてい
るものと同様な蛍光色素を挙げることができる。具体的
には、ホストとしてジスチリルアリーレン骨格の発光材
料、特に好ましくは例えばDPVBi、ドーパントとし
てはジフェニルアミノビニルアリーレン、特に好ましく
は例えばN,N−ジフェニルアミノビニルベンゼン(D
PAVB)を挙げることができる。上記前記材料を用い
て、発光層を形成する方法としては、例えば蒸着法,ス
ピンコート法,LB法等の公知の方法を適用することが
できる。発光層は、特に分子堆積膜であることが好まし
い。ここで分子堆積膜とは、気相状態の材料化合物から
沈着され形成された薄膜や、溶液状態または液相状態の
材料化合物から固体化され形成された膜のことであり、
通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜
(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それ
に起因する機能的な相違により区分することができる。
また、特開昭57−51781号公報に開示されている
ように、樹脂等の結着剤と材料化合物とを溶剤に溶かし
て溶液とした後、これをスピンコート法等により薄膜化
することによっても、発光層を形成することができる。
このようにして、形成される発光層の膜厚については特
に制限はなく、状況に応じて適宜選択することができる
た、通常5nm〜5μmの範囲が好ましい。有機EL素
子の発光層は以下の機能を併せ持つものである。すなわ
ち、注入機能;電界印加時に陽極または正孔注入層よ
り正孔を注入することができ、陰極または電子注入層よ
り電子を注入することができる機能、輸送機能;注入
した電荷(電子と正孔)を電解の力で移動させる機能、
発光機能;電子と正孔の再結合の場を提供し、これを
発光につなげる機能、がある。但し、正孔の注入されや
すさと電子の注入されやすさに違いがあってもよく、ま
た正孔と電子の移動度であらわされる輸送能に大小があ
てもよいが、どちらか一方の電荷を移動することが好ま
しい。
【0036】正孔注入層 必要に応じて設けられる正孔注入層の材料としては、従
来より光伝導材料の正孔注入材料として慣用されている
ものや有機EL素子の正孔注入層に使用されている公知
のものの中から任意のものを選択して用いることができ
る。正孔注入層の材料は、正孔の注入、電子の障壁性の
いづれかを有するものであり、有機物あるいは無機物の
どちらでもよい。
【0037】具体例としては、例えばトリアゾール誘導
体(米国特許3,112,197号明細書等参照)、オ
キサジアゾール誘導体(米国特許3,189,447号
明細書等参照)、イミダゾール誘導体(特公昭37−1
6096号公報等参照)、ポリアリールアルカン誘導体
(米国特許3,615,402号明細書、同第3,82
0,989号明細書、同第3,542,544号明細
書、特公昭45−555号公報、同51−10983号
公報、特開昭51−93224号公報、同55−171
05号公報、同56−4148号公報、同55−108
667号公報、同55−156953号公報、同56−
36656号公報等参照)、ピラゾリン誘導体およびピ
ラゾロン誘導体(米国特許第3,180,729号明細
書、同第4,278,746号明細書、特開昭55−8
8064号公報、同55−88065号公報、同49−
105537号公報、同55−51086号公報、同5
6−80051号公報、同56−88141号公報、同
57−45545号公報、同54−112637号公
報、同55−74546号公報等参照)、フェニレンジ
アミン誘導体(米国特許第3,615,404号明細
書、特公昭51−10105号公報、同46−3712
号公報、同47−25336号公報、特開昭54−53
435号公報、同54−110536号公報、同54−
119925号公報等参照)、アリールアミン誘導体
(米国特許第3,567,450号明細書、同第3,1
80,703号明細書、同第3,240,597号明細
書、同第3,658,520号明細書、同第4,23
2,103号明細書、同第4,175,961号明細
書、同第4,012,376号明細書、特公昭49−3
5702号公報、同39−27577号公報、特開昭5
5−144250号公報、同56−119132号公
報、同56−22437号公報、西独特許第1,11
0,518号明細書等参照)、アミノ置換カルコン誘導
体(米国特許第3,526,501号明細書等参照)、
オキサゾール誘導体(米国特許第3,257,203号
明細書等に開示のもの)、スチリルアントラセン誘導体
(特開昭56−46234号公報等参照)、フルオレノ
ン誘導体(特開昭54−110837号公報等参照)、
ヒドラゾン誘導体(米国特許第3,717,462号明
細書、特開昭54−59143号公報、同55−520
63号公報、同55−52064号公報、同55−46
760号公報、同55−85495号公報、同57−1
1350号公報、同57−148749号公報、特開平
2−311591号公報等参照)、スチルベン誘導体
(特開昭61−210363号公報、同61−2284
51号公報、同61−14642号公報、同61−72
255号公報、同62−47646号公報、同62−3
6674号公報、同62−10652号公報、同62−
30255号公報、同60−93445号公報、同60
−94462号公報、同60−174749号公報、同
60−175052号公報等参照)、シラザン誘導体
(米国特許第4,950,950号明細書)、ポリシラ
ン系(特開平2−204996号公報)、アニリン系共
重合体(特開平2−282263号公報)、特開平1−
211399号公報に開示されている導電性高分子オリ
ゴマー(特にチオフェンオリゴマー)等を挙げることが
できる。
【0038】正孔注入層の材料としては上記のものを使
用することができるが、ポルフィリン化合物(特開昭6
3−2956965号公報等に開示のもの)、芳香族第
三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物(米国特
許第4,127,412号明細書、特開昭53−270
33号公報、同54−58445号公報、同54−14
9634号公報、同54−64299号公報、同55−
79450号公報、同55−144250号公報、同5
6−119132号公報、同61−295558号公
報、同61−98353号公報、同63−295695
号公報等参照)、特に芳香族第三級アミン化合物を用い
ることが好ましい。
【0039】上記ポルフィリン化合物の代表例として
は、ポルフィン、1,10,15,20−テトラフェニ
ル−21H,23H−ポルフィン銅(II)、1,10,
15,20−テトラフェニル−21H,23H−ポルフ
ィン亜鉛(II)、5,10,15,20−テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)−21H,23H−ポルフ
ィン、シリコンフタロシアニンオキシド、アルミニウム
フタロシアニンクロリド、フタロシアニン(無金属)、
ジリチウムフタロシアニン、銅テトラメチルフタロシア
ニン、銅フタロシアニン、クロムフタロシアニン、亜鉛
フタロシアニン、鉛フタロシアニン、チタニウムフタロ
シアニンオキシド、Mgフタロシアニン、銅オクタメチ
ルフタロシアニン等を挙げることができる。
【0040】また、前記芳香族第三級アミン化合物およ
びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,
N’,N’−テトラフェニル−4,4’−ジアミノフェ
ニル、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス−(3−
メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,
4’−ジアミン、2,2−ビス(4−ジ−p−トリルア
ミノフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ジ−p−
トリルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N,
N’,N’−テトラ−p−トリル−4,4’−ジアミノ
フェニル、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフ
ェニル)−4−フェニルシクロヘキサン、ビス(4−ジ
メチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン、
ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメ
タン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(4−メト
キシフェニル)−4,4’−ジアミノビフェニル、N,
N,N’,N’−テトラフェニル−4,4’−ジアミノ
フェニルエーテル、4,4’−ビス(ジフェニルアミ
ノ)クオードリフェニル、N,N,N−トリ(p−トリ
ル)アミン、4−(ジ−p−トリルアミノ)−4’−
[4(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]スチルベン、
4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニ
ル)ベンゼン、3−メトキシ−4’−N,N−ジフェニ
ルアミノスチルベンゼン、N−フェニルカルバゾール等
を挙げることができる。また、発光層の材料として示し
た前述の芳香族ジメチリディン系化合物p型−Si,p
型SiC等の無機化合物も正孔注入層の材料として使用
することができる。正孔注入層は、上述した化合物を、
例えば真空蒸着法,スピンコート法,キャスト法,LB
法等の公知の方法により薄膜化することにより形成する
ことができる。正孔注入層としての膜厚は、特に制限さ
れないが、通常は5nm〜5μmである。この正孔注入
層は、上述した材料の1種類または2種類以上からなる
一層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の
複数層からなる複数構造であってもよい。
【0041】電子注入層 必要に応じて設けられる電子注入層は、陰極より注入さ
れた電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、
その材料としては従来公知の化合物の中から任意のもの
を選択して用いることができる。具体例としては、ニト
ロ置換フルオレン誘導体、特開昭57−149259号
公報、同58−55450号公報、同63−10406
1号公報等に開示されているアントラキノジメタン誘導
体、Polymer Preprints, Japan Vol.37. No.3(1988) p.
681 等に記載されているジフェニルキノン誘導体,チオ
ピランジオキシド誘導体,ナフタレンペリレン等の複素
環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、Japanese
Journal of Applied Physics, 27, L269(1988)、特開昭
60−696657号公報、 同61−143764号公
報、 同61−148159号公報等に開示されているフ
レオレニリデンメタン誘導体、特開昭61−22515
1号公報、同61−233750号公報等に開示されて
いるアントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、Ap
pl. Phys. Lett., 55, 15. 1489 や前述の第38回応用
物理学関係連合会で浜田らによって開示されたオキサジ
アゾール誘導体、特開昭59−194393号公報に開
示されている一連の電子伝達性化合物が挙げられる。な
お、特開昭59−194393号方法では前記電子伝達
性化合物を発光層の材料として開示しているが、本発明
者の検討によれば、電子注入層の材料としても用いるこ
とができることが明らかとなった。また、上記オキサジ
アゾール環の酸素原子とイオウ原子に置換したチアゾー
ル誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン
環を有したキノキサリン誘導体を挙げることができる。
また、8−キノリノール誘導体の金属錯体、具体的に
は、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(以下A
lqと略す)、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリ
ノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノ
リノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キ
ノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)
亜鉛(以下Znqと略す)、これらの金属錯体の中心金
属が、In,Mg,Cu,Ca,Sn,GaまたはPb
に置き代わった金属錯体も電子注入層の材料として用い
ることができる。その他に、メタルフリーもしくはメタ
ルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基,
スルホン酸基等で置換されているものも好ましい。ま
た、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘
導体も、電子注入材料として用いることができる。ま
た、正孔注入層と同様に、n型−Si、n型−SiC等
の無機半導体も用いることができる。電子注入層は、上
述した化合物を、例えば真空蒸着法,スピンコート法,
キャスト法,LB法の公知の方法により薄膜化すること
により形成することができる。電子注入層としての膜厚
は、特に制限されないが、通常は5nm〜5μmであ
る。この電子注入層は上述した材料の1種類または2種
類以上からなる一層構造であってもよいし、同一組成ま
たは異種組成の複数層からなる複数構造であってもよ
い。
【0042】電極(陰極) 陰極としては、仕事関数の小さい(4ev以下)金属
(これを電子注入性金属と称する),合金電気伝導性化
合物およびこれらの混合物を電極物質とするものが用い
られる.このような電極物質の具体例としては、ナトリ
ウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチ
ウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合
物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム
/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム
(Al23)、インジウム、リチウム/アルミニウム、
希土類金属などが挙げられる。好ましくは、電子注入性
および電極としての酸化等に対する耐久性を考えると、
電子注入性金属とこれにより仕事関数の値が大きく安定
な金属である第二金属との混合物が挙げられる。例え
ば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニ
ウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミ
ニウム/酸化アルミニウム(Al23)、リチウム/ア
ルミニウムなどを挙げることができる。この陰極は、こ
れらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法によ
り、支持基板上に上記材料の薄膜を形成させフォトリソ
グラフィー法で所望の形状にパターニングして陰極のパ
ターンを作製することができる。パターン精度を問わな
い(100μmライン以上)ならば、上記材料の蒸着や
スパッタリング時に所望の形状のマスクを介して陰(電
極)のパターンを形成することもできる。ここで、陰電
極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜
厚は通常10nm〜1μm、好ましくは50〜200n
mの範囲で選ばれる。
【0043】有機EL素子の作製(例) 以上例示した材料および方法により電極、発光層、透明
電極、必要に応じて正孔注入層、および必要に応じて電
子注入層を形成することにより、有機EL素子を作製す
ることができる。以下に、支持基板上に電極/電子注入
層/発光層/正孔注入層/透明電極が順次設けられた構
成の有機EL素子の作製例を記載する。まず、適当な基
板上に、電極材料からなる薄膜を1μm以下、好ましく
は10〜200nmの範囲の膜厚になるように蒸着やス
パッタリング等の方法により形成して、電極を作製す
る。次に、この電極上に電子注入層を設ける。電子注入
層の形成は、前述したように真空蒸着法,スピンコート
法,キャスト法,LB法等の方法により行なうことがで
きるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが発
生しにくい等の点から、真空蒸着法により形成すること
が好ましい。真空蒸着法により電子注入層を形成する場
合、その蒸着条件は、使用する化合物(電子注入層の材
料)、目的とする電子注入層の結晶構造や再結合構造等
により異なるが、一般に蒸着源温度50〜450℃、真
空度10-5〜10-3Pa、蒸着速度0.01〜50nm
/sec、基板温度−50〜300℃、膜厚5nm〜5
μmの範囲で適宜選択することが好ましい。次に、電子
注入層上に発光層を設ける。発光層の形成も、所望の有
機発光材料を用いて、真空蒸着法,スパッタリング,ス
ピンコート法,キャスト法等の方法により有機発光材料
を薄膜化することにより形成できるが、均質な膜が得ら
れやすく、かつピンホールが生成しにくい等の点から、
真空蒸着法により形成することが望ましい。真空蒸着法
により発光層を形成する場合、その蒸着条件は、使用す
る化合物により異なるが、一般的に電子注入層と同じ様
な条件範囲の中から選択することができる。次に、この
発光層上に正孔注入層を設ける。電子注入層、発光層と
同様、均質な膜を得る必要から真空蒸着法により形成す
ることが好ましい。蒸着条件は、電子注入層、発光層と
同様条件範囲から選択することができる。最後に、透明
電極を積層して、有機EL素子を得ることができる。
【0044】透明電極は、金属から構成されるもので、
蒸着法,スパッタリングを用いることができる。しか
し、下地の有機物層を成膜時の損傷から守るためには、
真空蒸着法が好ましい。これまで記載してきた有機EL
素子の作製は、一回の真空引きで一貫して電極から透明
電極までを作製することが好ましい。なお、有機EL素
子に直流電圧を印加する場合、透明電極(陽極)を+、
電極(陰極)を−の極性にして、5〜40Vの電圧を印
加すると、発光が観測できる。また、逆の極性で電圧を
印加しても電流は流れず、発光は全く生じない。さらに
交流電圧を印加した場合には、陽極が+、陰極が−の極
性になったときのみ均一な発光が観測される。印加する
交流の波形は任意でよい。
【0045】2.支持基板 本発明に用いられる支持基板としては、有機物で構成さ
れていない材料が好ましく、透明性を問わない。むし
ろ、蛍光体層側から光を取り出すので、遮光さているも
のがより好ましい。ただし、さらに積層する電極パター
ンの電気的絶縁をとるため、少なくとも有機EL素子側
表面が絶縁体であるものがより好ましい。また、後で積
層する薄厚の透明ガラス板のそり、ゆがみ、を生じさせ
ず、補強できる程度の支持基板であるならば、板厚は特
に問わない。具体的には、たとえばセラミックス板や、
金属板等にシリカ、アルミナ等の無機酸化物で絶縁処理
したもの等、を挙げることができるが、ガラス板(ソー
ダーライムガラス、低膨張ガラス等)、石英板など透明
な材料については、有機EL素子の反対側に遮光フィル
ムや黒色塗膜等を配置すればよい。
【0046】3.蛍光体層 本発明に用いられる蛍光体層としては、たとえば、蛍光
色素および樹脂、または蛍光色素のみからなり、蛍光色
素を樹脂中に溶解または分離させた固体状態のものを挙
げることができる。具体的には、近紫外光からは紫色の
発光素子の発光から青色発光に変換する蛍光色素として
は、1,4−ビス(2−メチルスチリン)ベンゼン(以
下Bis−MSB)、トランス−4,4’−ジフェニル
スチルベン(以下DPS)の等スチルベン系色素、7−
ヒドロキシ−4−メチルクマリン(以下クマリン4)等
のクマリン系色素を挙げることができる。次に、青色ま
たは青緑色の発光素子の発光から緑色発光に変換する蛍
光色素については、たとえば、2,3,5,6−1H,
4H−テトラヒドロ−8−トリフロルメチルキノリジノ
(9,9s,1−gh)クマリン(以下クマリン15
3)、3−(2’−ベンゾチアゾイル)−7−ジエチル
アミノクマリン(以下クマリン6)、3−(2’−ベン
ズイミダゾイル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリ
ン(以下クマリン7)等のクマリン色素、他クマリン色
素系染料であるがベーシックイエロー51を挙げること
ができる。また、青色から緑色の発光素子の発光から橙
色から赤色発光に変換する蛍光色素については、たとえ
ば、4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジ
メチルアミノスチルリン)−4H−ビラン(以下DC
M)等のシアニン系色素、1−エチル−2−(4−(p
−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル)
−ピリジウム−パーコラレイト(以下ピリジン1)等の
ピリジン系色素、ローダミンB、ローダミン6G等のキ
サンチン系色素、他にオキサジン系が挙げられる。さら
に、各種染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散
染料等)も蛍光性があれば可能である。また、前記蛍光
色素を樹脂中にあらかじめ練りこんで顔料化したもので
もよい。これらの蛍光色素は、必要に応じて、単独また
は混合して用いてもよい。特に赤色への蛍光変換効率が
低いので、上記色素を混合して用いて、発光から蛍光へ
の変換効率を高めることもできる。一方、樹脂は、透明
な(可視光50%以上)の材料が好ましい。たとえば、
ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース等の透明樹脂(高分子)が挙げられる。な
お、蛍光体層を平面的に分離配置するために、フォトリ
ソグラフィー法が適用できる透明な感光性樹脂も選ばれ
る。たとえば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケ
イ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する
光硬化型レジスト材料が挙げられる。また、印刷法を用
いる場合には、透明な樹脂を用いた印刷インキ(メジウ
ム)が選ばれる。たとえば、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹
脂のモノマー、オリゴマー、ポリマーまた、ポリメチル
メタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス等の透明樹脂を用いることができる。蛍光体層が主に
蛍光色素からなる場合は、所望の蛍光体層パターンのマ
スクを介して真空蒸着またはスパッタリング法で成膜さ
れ、一方、蛍光色素と樹脂からなる場合は、蛍光色素と
上記樹脂およびレジストを混合、分離または可溶化さ
せ、スピンコート、ロールコート、キャスト法等の方法
で製膜し、フォトリソグラフィー法で所望の蛍光体層パ
ターンでパターニングしたり、スクリーン印刷等の方法
で所望の蛍光体層パターンでパターニングするのが一般
的である。蛍光体層が蛍光色素または、蛍光色素および
樹脂からなるものの膜厚は、有機EL素子の発光を十分
に吸収し、蛍光を発生する機能を妨げるものでなければ
制限はなく、通常蛍光色素により若干異なるが、10n
m〜1mm程度が適当である。また、特に蛍光体層が蛍
光色素と樹脂からなるものは、蛍光色素の濃度が、蛍光
の濃度消光を起こすことなく、かつ、有機EL素子の発
光を十分吸収できる範囲であればよい。蛍光色素の種類
によるが、使用する樹脂に対して1〜10-4mol/k
g程度が適当である。なお、特に赤色への蛍光変換効率
が低いので、緑色と赤色の蛍光体層を重ねて効率をあげ
ることも可能である。
【0047】4.透明ガラス基板 本発明に用いられる透明ガラス基板としては、たとえば
ソーダーライムガラス、低膨張ガラス、石英板等、一般
にノンアルカリガラスと呼ばれているもの等を挙げるこ
とができる。このようなガラス板は、特に水蒸気、酸
素、有機物のガス等の遮断効果が大きい。板厚は、RB
G三原色のような多色発光を行うために、有機EL素子
の発光を吸収して異なる蛍光を発光する蛍光体層を平面
的に分離配置した場合には、限りなく小さくした方が、
視野角を向上させるために好ましい。板ガラスの厚さと
しては、通常液晶用として700μmから1.1mmの
ものが用いられることが多いが、上記の場合には、1μ
m以上700μm以下、より好ましくは1μm以上20
0μm以下のものを用いる。なお、厚さを1μm未満と
すると、ガラス板の取扱いが難しく、容易に破壊しやす
い。また、有機EL素子の積層した支持基板と封止手段
によって張り合わせると、ガラス板が撓んだり、そり、
ゆがみの程度が著しい。一方200μmを超えると、蛍
光体の精細度にもよるが、有機EL素子の発光が蛍光体
層とのギャップから洩れだし、多色発光の視野角を狭め
て実用性を低下させる場合がある。
【0048】5.封止手段 本発明に用いられる封止手段としては特に制限はなく、
たとえば通常の接着剤によるものを挙げることができ
る。具体的には、アクリレート系オリゴマー,メタクリ
レート系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化お
よび熱硬化型接着剤、2−シアノアクリレートなどの湿
気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポ
キシ系などの熱および化学硬化型(二液混合)を挙げる
ことができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポ
リエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。な
お、有機EL素子が熱処理により劣化する場合があるの
で、室温から80℃までに接着硬化できるものが好まし
い。封止部分への接着剤の塗布は、市販のディスペンサ
ーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷して
もよい。塗布後の光硬化について、可視光の場合はよい
が、紫外線では、有機EL素子が劣化する場合がある。
よって、紫外線照射時は、有機EL素子に照射されない
ようなマスキング等の方法が有効である。
【0049】6.間隙 本発明において、前記透明ガラス基板と有機EL素子と
の間に設けられる間隙は、有機EL素子への衝撃または
応力を緩和するために用いられる。有機EL素子上に直
接、封止手段の材料をベタ塗りすると、その材料の硬化
持の応力により素子が破壊されやすい。また、間隙に
は、空気だけでは素子が酸化される恐れがあるので、窒
素,アルゴン等の不活性ガスや、フッ化炭化水素のよう
な不活性液体を封入することが好ましい。高精細な多色
発光の場合、間隙の距離が大きくなると、光の洩れが大
きくなり、視野角を著しく悪くする。従って、この場合
の間隙の距離は精細度にもよるが、距離は小さい方がよ
く、通常数μmから200μmが好ましい。
【0050】7.蛍光体保護層(透明平坦膜) 本発明において、必要に応じて用いられる発光体保護層
(透明平坦膜)は、多色発光装置の外側にある蛍光体層
やカラーフィルタ(ブラックマトリックスを含む)が物
理的に傷つくこと、外部の環境因子(水、酸素、光)に
より劣化するのを保護するために用いられる。その材料
としては、透明な(可視光50%以上)材料であること
が好ましい。具体的には、光硬化型樹脂および/または
熱硬化型樹脂のように、アクリレート系、メタクリレー
ト系の反応性ビニル基を有するものを挙げることができ
る。また、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂のモノマー、オリ
ゴマー、ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を挙げる
ことができる。蛍光体保護層は、上記材料を、液状の場
合はスピンコート、ロールコート、キャスト法等の方法
で製膜し、光硬化型樹脂は紫外線照射後必要に応じて熱
硬化させ、熱硬化型は製膜後そのまま熱硬化させる。フ
ィルム状の場合は、そのまま、粘着剤を塗布して貼着し
てもよい。蛍光体保護層の厚さは、視野角にほとんど影
響を及ぼさないので、特に制限はないが、厚くなりすぎ
ると、光の透過率に影響を及ぼすので、通常1μmから
5mmの範囲で選ぶことができる。
【0051】8.透明基板 本発明において必要に応じて用いられる透明基板として
は、ガラス基板(ソーダライムガラス、低膨張ガラス、
石英板等)、ポリマー基板等の透明(通常可視光透過率
50%以上)な基板を挙げることができる。板厚は、視
野角にほとんど影響を及ぼさないので、特に制限はない
が、厚くなりすぎると、光の透過率に影響を及ぼすの
で、通常1μmから5mmの範囲で選ぶことができる。
この透明基板は、蛍光体の保護ならび蛍光体を製膜する
ときの支持基板としても使われ、蛍光体の製膜後、先の
透明ガラス板を封止手段に用いたような通常の透明な接
着剤で張り合わせ、その基板を、有機EL素子の積層し
た支持基板と接合して有機EL素子を封止してもよい。
【0052】9.カラーフィルタおよびブラックマトリ
ックス 本発明において必要に応じて用いられるカラーフィルタ
およびブラックマトリックスは、たとえば、公知の材料
を選んで、フォトリソグラフィー法または印刷法等の方
法で所望の位置に所望のパターニングを行うことによっ
て形成することができる。
【0053】
【作用】本発明においては、蛍光体層を透明なガラス基
板を介して、有機EL素子の反対側に配置することによ
って、蛍光体層から発生する有機物のモノマー、水蒸気
などの、素子を劣化させるガスをガラス基板で遮断し、
有機EL素子、延いては、それを用い多々色発光装置の
発光寿命を向上させることができる。また、有機EL素
子のある一つの発光色を吸収して、異なる蛍光を発光す
る蛍光体層を平面的に分離配置することによって、RB
G三原色等の複数色の発光を得ることができるが、本発
明では、蛍光体を有機EL素子の反対側に透明なガラス
基板を用いることによって、先に記載する効果が期待で
きる。さらに透明なガラス板の板厚を1μm以上200
μm以下とすることによって、先に記載した効果のみな
らず、有機EL素子の発光が、所望の蛍光体層以外の蛍
光体層に吸収されたり、蛍光体層の隙間から漏れること
が低減され、所望の発光色を得ることが可能となり、結
果的には、多色発光の視野角を向上させることができ
る。ここで、蛍光体層をカラーフィルタの代わりに用い
るのは、カラーフィルタを設置した場合と比較して、先
に記載したように高効率の多色発光が期待できるからで
ある。さらに、蛍光体層を多色発光装置の外側に配置し
ておくと、取扱い上、蛍光体層を傷つける場合や、外部
の環境因子(水、酸素、光)から劣化させる場合があ
る。そのため、蛍光体上に透明な保護膜を配置すること
によって、蛍光体層を保護することができる。また、透
明な基板を蛍光体保護層または、蛍光体層を作製する上
での支持基板として用いることもできる。
【0054】
【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明する。 [実施例1]25mm×75mm×1.1mmのノンア
ルカリガラス支持基板(コーニング社製 7059)の
片面にカーボンブラック含有メタクリレート系レジスト
(富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製 CK
2000)をスピンコートし、200℃でベークして約
2μm膜厚の黒色ベタ膜を製膜した。次に、この基板の
黒色膜の反対面上をIPA洗浄、UV洗浄した後、真空
蒸着装置(日本真空技術社製)の基板ホルダーに固定し
た。蒸着源は、モリブデン製の抵抗加熱ボートに正孔注
入材料としてMTDATA及びNPD、発光材料として
DPVBi、電子注入材料としてAlqをそれぞれ仕込
み、電極の第二金属としてAgをタングステン製フィラ
メントに、電極の電子注入性金属としてMgをモリブデ
ン製ボートに装着した。その後、真空槽を5×10-7
orrまで減圧後、10mm×60mmの範囲がベタ成
膜できるようなマスクを介して、以下の順序で順次積層
していった。なお、電極から正孔注入層まで途中で真空
を破らず一回の真空引きで行なった。まず電極として
は、MgとAgを同時蒸着した。すなわち、Mgは、蒸
着速度1.3〜1.4nm/s、Agは、蒸着速度0.
1nm/sで膜厚を200nmとした。次に、電子注入
層としては、Alqを蒸着速度0.1〜0.3nm/
s、膜厚20nm、発光層としてはDPVBiを蒸着速
度0.1〜0.3nm/s、膜厚50nm、正孔注入層
としてはMTDATAを蒸着速度0.1〜0.3nm/
s、膜厚200nm、NPDを蒸着速度0.1〜0.3
nm/s、膜厚20nm、の条件で蒸着した。次に、こ
の基板上にスパッタリング装置に移動し、室温で120
nm膜厚、20Ω/□の透明電極としてITOを10m
m×60mmの範囲がベタ成膜できるようなマスクを介
して成膜し、有機EL素子を作製した。なおここで、電
極と透明電極の範囲が交差(10mm×55mmの範
囲)させ、それぞれの電極の端子がとれるようにマスク
をずらした。次に、この基板上の電極と透明電極の交差
範囲(10mm×55mmの範囲)の周辺部に、ディス
ペンサーにて、エポキシ系二液混合型接着剤(CIBA
−GEIGY社製 アラルダイド)を1mm程度の幅で
一部隙間を開けて塗布した(基板A)。次に、この基板
A上に25mm×75mm×1.1mmのノンアルカリ
ガラス基板(コーニング社製 7059)(基板B)を
張り合わせ、接着剤を硬化させた。次いで、窒素雰囲気
下、フッ化炭化水素(米国3M社製 フロリナート)を
注射針にて先の硬化した接着剤の隙間から、支持基板
(基板A)と張り合わせたガラス基板(基板B)の間隙
に注入した。次いで、接着剤の隙間にさらに先の接着剤
を充填し硬化させた。次に、この基板上に、0.03m
ol/kg(固形分中)の濃度のクマリン6/ポリ塩化
ビニル樹脂(分子量 20,000)をシクロヘキサノ
ンに溶かしたインキ(粘度 8,000cp)を用い
て、先の電極と透明電極の交差範囲(10mm×55m
mの範囲)に対応する部分内に、1mm幅のELの文字
をクリーン版を介してスクリーン印刷し、風乾して、E
Lという文字の蛍光体のパターンを得た。このようにし
て、図1に示す。有機EL多色発光装置(セグメント
型)を作製し、直流8Vの電圧を有機EL素子の透明電
極(陽極)と電極(陰極)に印加すると、電圧を印加し
た透明電極と電極の交差範囲が発光し、蛍光体層のない
部分から見える光の発光輝度は、100cd/m2 、C
IE色度座標(JIS Z8701)はx=0.15、
y=0.15で青色の発光が出ていることを確認した。
一方、ELという文字をパターン化した蛍光体層から見
える光の発光輝度は、120cd/m2 、CIE色度座
標はx=0.28、y=0.62で黄味がかった緑色
(イエロイッシュグリーン)の発光が出ていることを確
認した。以後二週間、大気中で保存したところ、輝度お
よび色度座標に全く変化がなく、劣化とともに発生する
黒点もなく、均一な発光を維持していた。
【0055】[実施例2]実施例1と同一の条件で、有
機EL素子を作製した支持基板(基板A)とガラス基板
(基板B)を張り合わせ、この基板の間隙にフッ化炭化
水素を充填した基板上に、43%(固形分中)のローダ
ミン含有顔料/ポリ塩化ビニル樹脂(分子量 20,0
00)をシクロヘキサノンに溶かしたインキ(粘度
8,000cp)を用いて、電極と透明電極の交差範囲
(10mm×55mmの範囲)に対応する部分内に、1
mm幅のELの文字をクリーン版を介してスクリーン印
刷し、風乾して、ELという文字の蛍光体のパターンを
得た。このようにして、図1に示す有機EL多色発光装
置(セグメント型)を作製し、直流8Vの電圧を有機E
L素子の透明電極(陽極)と電極(陰極)に印加する
と、電圧を印加した透明電極と電極の交差範囲が発光
し、蛍光体層のない部分から見える光の発光輝度は、1
00cd/m2 、CIE色度座標(JIS Z870
1)はx=0.15、y=0.15で青色の発光が出て
いることを確認した。一方、ELという文字をパターン
化した蛍光体層から見える光の発光輝度は、30cd/
2 、CIE色度座標はx=0.60、y=0.31で
赤色の発光が出ていることを確認した。以後二週間、大
気中で保存したところ、輝度および色度座標に全く変化
がなく、劣化とともに発生する黒点もなく、均一な発光
を維持していた。
【0056】[実施例3]100mm×100mm×
1.1mmのノンアルカリガラス支持基板(コーニング
社製 7059)の片面にカーボンブラック含有メタク
リレート系レジスト(富士ハントエレクトロニクステク
ノロジー社製 CK2000)をスピンコートし、20
0℃でベークして約2μm膜厚の黒色ベタ膜を製膜し
た。次に、この基板の黒色膜の反対面上を、IPA洗
浄、UV洗浄した後、真空蒸着装置の基板ホルダーに固
定した。蒸着源は、モリブデン製の抵抗加熱ボートに正
孔注入材料としてMTDATA及びNPD、発光材料と
してDPVBi、電子注入材料としてAlqをそれぞれ
仕込み、電極の第二金属としてAgをタングステン製フ
ィラメントに、電極の電子注入性金属としてMgをモリ
ブデン製ボートに装着した。その後、真空槽を5×10
-7torrまで減圧後、72mm×72mmの範囲にお
いて、1.5mmピッチ(1.4mmライン0.1mm
ギャップ)のストライプ状に成膜できるようなマスクを
介して、まず、電極のパターンを成膜し、次いで、72
mm×72mmの範囲のベタ成膜ができるマスクを介し
て、電子注入層から正孔注入層まで成膜した。なお、電
極から正孔注入層を順次積層するときは、途中で真空を
破らず一回の真空引きで行なった。まず電極としては、
MgとAgを同時蒸着した。すなわち、Mgは、蒸着速
度1.3〜1.4nm/s、Agを蒸着速度0.1nm
/sで膜厚を200nmとした。次に、電子注入層とし
ては、Alqを蒸着速度0.1〜0.3nm/s、膜厚
20nm、発光層としてはDPVBiを蒸着速度0.1
〜0.3nm/s、膜厚50nm、正孔注入層として
は、MTDATAを蒸着速度0.1〜0.3nm/s、
膜厚400nm、NPDを蒸着速度0.1〜0.3nm
/s、膜厚20nm、の条件で蒸着した。次に、この基
板をスパッタリング装置に移動し、室温で120nm膜
厚、20Ω/□の透明電極としてITOを、72mm×
72mmの範囲において4.5mmピッチ(4.0mm
ライン1.0mmギャップ)のストライプ状に成膜でき
るようなマスクを介して、成膜し、有機EL素子を作製
した。なおここで、電極と透明電極を交差させ、それぞ
れの電極の端子がとれるようにマスクを配置した。次
に、この基板上の電極と透明電極の交差範囲(72mm
×72mmの範囲)の周辺部に、ディスペンサーにて、
エポキシ系二液混合型接着剤(CIBA−GEIGY社
製 アラルダイド)を1mm程度の幅で一部隙間を開け
て塗布した(基板C)。次に、この基板C上に100m
m×100mm×0.15mmのノンアルカリガラス基
板(コーニング社製 7059)(基板D)を張り合わ
せ、接着剤を硬化させた。次いで、窒素雰囲気下、フッ
化炭化水素(米国3M社製 フロリナート)を注射針に
て先の硬化した接着剤の隙間から、支持基板(基板C)
と張り合わせたガラス基板(基板D)の隙間に注入し
た。次いで、接着剤の間隙にさらに先の接着剤を充填し
硬化させた。次に、この基板上に、0.03mol/k
g(固形分中)の濃度のクマリン6/ポリ塩化ビニル樹
脂(分子量 20,000)をシクロヘキサノンに溶か
したインキ(粘度 8,000cp)を用いて、1.4
mライン3.1mmギャップのストライプパターンが得
られるスクリーン版を介し、有機EL素子の電極と位置
合わせしてスクリーン印刷し、風乾して15μm膜厚の
蛍光体層Aのパターンを得た。次に43%(固形分中)
ローダミン含有顔料/ポリ塩化ビニル樹脂(分子量2
0,000)をシクロヘキサノンに溶かしたインキ(粘
度 8,000cp)を用いて、1.4mライン3.1
mmギャップのストライプパターンが得られるスクリー
ン版を介し、蛍光体層Aパターンからストライプの垂直
方向に1.5mmずらしてスクリーン印刷し、風乾して
20μm膜厚の蛍光体層Bパターンを得た。このように
して、図4に示す有機EL多色発光装置(ドットマトリ
ックス型)を作製し、直流8Vの電圧を陽極と陰極に印
加すると、電圧を印加した透明電極(陽極)と電極(陰
極)の交差範囲が発光し、蛍光体層のない部分から見え
る光の発光輝度は、100cd/m2 、CIE色度座標
(JIS Z 8701)はx=0.15、y=0.1
5で青色の発光がでていることを確認した。一方、蛍光
体層Aから見える光の発光輝度は、120cd/m2
CIE色度座標はx=0.28、y=0.62で黄味が
かった緑色(イエロイッシュグリーン)の発光が出てい
ることを確認した。また、蛍光体層Bから見える光の発
光輝度は、30cd/m2 、CIE色度座標はx=0.
60、y=0.31で赤色の発光が出ていることを確認
した。以後二週間、大気下で保存したところ、輝度およ
び色度座標に全く変化がなく、劣化とともに発生する黒
点もなく、均一な発光を維持していた。また、有機エレ
クトロルミネッセンス素子の発光(単色)の漏れを確認
できない範囲の視野角は、±60゜であり、実用上問題
とならないレベルであった。
【0057】[実施例4]実施例1で作製した有機EL
多色発光装置の蛍光体層上に、ポリビニルピロリドン
(分子量 360,000)水溶液のコーティング剤を
スピンコートし、風乾して10μm膜厚の透明な保護膜
を積層した。このように作製した図2に示す有機EL多
色発光装置の発光輝度、色度座標は、実施例1と同一で
あり、以後二週間、大気下で保存したところ、輝度およ
び色度座標に全く変化がなく、劣化とともに発生する黒
点もなく、均一な発光を維持していた。また、保護層を
積層したので、蛍光体層を爪でこすっても、蛍光体層を
傷つけることはなく、装置の持ち運び等の取扱いも容易
となった。
【0058】[実施例5]実施例3と同一の条件で、支
持基板上に、有機EL素子を作製した基板上に接着剤を
塗布した(基板X)。一方、別に、100mm×100
mm×0.70mmのノンアルカリガラス基板(コーニ
ング社製 7059)上に0.03mol/kg(固形
分中)の濃度のクマリン6/ポリ塩化ビニル樹脂(分子
量 20,000)をシクロヘキサノンに溶かしたイン
キ(粘度 8,000cp)を用いて、1.4mライン
3.1mmギャップのストライプパターンが得られるス
クリーン版を介し、有機EL素子の電極の位置に相当す
る位置に合わせてスクリーン印刷し、120℃でベーク
して15μm膜厚の蛍光体層Aのパターンを得た。次に
43%(固形分中)ローダミン含有顔料/ポリ塩化ビニ
ル樹脂(分子量20,000)をシクロヘキサノンに溶
かしたインキ(粘度 8,000cp)を用いて、1.
4mライン3.1mmギャップのストライプパターンが
得られるスクリーン版を介し、蛍光体層Aパターンから
ストライプの垂直方向に1.5mmずらしてスクリーン
印刷し、120℃でベークして20μm膜厚の蛍光体層
Bパターンを得た。この基板上にポリビニルピロリドン
(分子量 360,000)水溶液のをスピンコートコ
ーティング剤をスピンコートし、80℃でベークして1
0μm膜厚の透明な保護層を積層し、次いで透明な2−
シアノアクリレート系接着剤(東亜合成化学社製 アロ
ンアルファ)を前面にキャストして塗布し、100mm
×100mm×0.05mmのノンアルカリガラス基板
を張り合わせた(基板Y)。先の基板X上に基板Yの
0.05mm厚基板側を有機EL素子側に向けて、蛍光
体A,Bと有機EL素子の電極とを位置合わせして張り
合わせ、接着剤を硬化させた。次いで、窒素雰囲気下、
フッ化炭化水素(米国3M社製 フロリナート)を注射
針にて先の硬化した接着剤の隙間から、支持基板(基板
X)と張り合わせたガラス基板(基板Y)の隙間に注入
した。次いで、接着剤の隙間にさらに先の接着剤を充填
し硬化させた。このように作製した図6に示す有機EL
多色発光装置の発光輝度、色度座標は、実施例3と同一
であり、以後二週間、大気下で保存しても輝度および色
度座標に全く変化がなく、劣化とともに発生する黒点も
なく、均一な発光を維持していた。また、有機エレクト
ロルミネッセンス素子の発光(単色)の漏れを確認でき
ない範囲の視野角は、±70゜であり、実用上問題とな
らないレベルであった。また、蛍光体上にガラス基板を
積層したので、蛍光体部分を爪でこすっても、蛍光体を
傷つけることはなく、装置の持ち運び等の取扱いも容易
となった。
【0059】[比較例1]まず、実施例1と同一の条件
で基板Aを作製した。次に、25mm×75mm×1.
1mmノンアルカリガラス基板(コーニング社製 70
59)上に0.03mol/kg(固形分中)の濃度の
クマリン6/ポリ塩化ビニル樹脂(分子量 20,00
0)をシクロヘキサノンに溶かしたインキ(粘度 8,
000cp)を用いて、基板Aの電極と透明電極の交差
範囲(10mm×55mmの範囲)に対応する部分内
に、1mm幅のELの文字をクリーン版を介してスクリ
ーン印刷し、風乾して、ELという文字の蛍光体のパタ
ーンを得た(基板E)。次に、基板A上に基板Eの蛍光
体側を基板Aの有機EL素子側に対向させて、張り合わ
せ、接着剤を硬化させた。次いで、窒素雰囲気下、フッ
化炭化水素(米国3M社製 フロリナート)を注射針に
て先の硬化した接着剤の隙間から、支持基板(基板A)
と張り合わせたガラス基板(基板E)の間隙に注入し
た。次いで、接着剤の隙間にさらに先の接着剤を充填し
硬化させた。このようにして、図7に示す有機EL多色
発光装置(セグメント型)を作製し、直流8Vの電圧を
有機EL素子の透明電極(陽極)と電極(陰極)に印加
すると、電圧を印加した透明電極と電極の交差範囲が発
光し、蛍光体層のない部分または、ELという文字から
見える光の発光輝度は、実施例1とほぼ同一の輝度、色
度座標を得た。ところが、以後二週間大気中で保存した
ところ、同条件で青色発光部分の輝度は5cd/m2
ELの文字パターンからの発光は7cd/m2 に低下
し、劣化とともに発生する黒点が多量に発生し、不均一
な発光となった。実施例1とは逆に、蛍光体を有機EL
素子側に対向させると、多色発光装置の発光寿命に著し
く悪影響を及ぼすことがわかった。
【0060】[比較例2]実施例3と同一の条件で基板
Cを作製した。次いで、この基板C上に100mm×1
00mm×0.30mmノンアルカリガラス基板(コー
ニング社製 7059)(基板F)を張り合わせ、以下
実施例3と同一の条件で図4に示す有機EL多色発光装
置(ドットマトリックス型)を作製した。この多色発光
装置を実施例3と同一条件で発光させ、同一の発光輝
度、色度座標を得た。さらに、以後、二週間、大気下で
保存したところ、輝度および色座標に全く変化がなく、
劣化とともに発生する黒点もなく、均一な発光を維持し
ていた。ところが、有機エレクトロルミネッセンス素子
の発光(単色)の漏れを確認できない範囲の視野角は、
±30゜であり、通常見る範囲に、発光色が異なってみ
える部分(角度)があり、実用上問題となった。これ
は、張り合わせた基板Fの厚さが大きすぎたため、有機
EL素子の発光が漏れて所望の発光色が十分えられず、
視野角を低下させたものである。
【0061】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によって、
優れた発光寿命を有するとともに、優れた視野角特性を
有する有機EL素子を用いた多色装置を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の多色発光装置の一実施例を模式的に示
す概略断面図である。
【図2】本発明の多色発光装置の、蛍光体保護層を用い
た他の実施例を模式的に示す概略断面図である。
【図3】本発明の多色発光装置の、透明基板を用いた例
を模式的に示す概略断面図である。
【図4】本発明の多色発光装置の、分離配置した蛍光体
層を用いた他の実施例を模式的に示す概略断面図であ
る。
【図5】本発明の多色発光装置の、カラーフィルタおよ
びブラックマトリックスを用いた例を模式的に示す概略
断面図である。
【図6】本発明の多色発光装置の、蛍光体保護層および
透明基板を用いた他の実施例を模式的に示す概略断面図
である。
【図7】蛍光体層を透明ガラス基板の有機EL素子と同
じ側に設けた比較例を模式的に示す概略断面図である。
【図8】従来の多色発光装置の例を模式的に示す概略断
面図である。
【符号の説明】
1 有機EL素子 1a 透明電極 1b 有機物層 1c 電極 2 支持基板 3 蛍光体層 4 透明ガラス基板 5 封止手段 6 間隙 7 蛍光体保護層 8 透明基板 9a カラーフィルタ 9b ブラックマトリックス 10 接着層

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持基板と、この支持基板上に配設した
    有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子と、この有
    機EL素子からの発光を吸収して異なった可視光の蛍光
    を発光し得るようにこの有機EL素子の透明電極または
    電極に対応して配設した蛍光体層とを備えた多色発光装
    置において、 前記有機EL素子と蛍光体層との間に、有機EL素子と
    間隙を保持しながら蛍光体層を配置する透明ガラス基板
    を配設し、この透明ガラス基板と前記支持基板との間で
    有機EL素子を封止手段によって封止してなることを特
    徴とする多色発光装置。
  2. 【請求項2】 前記蛍光体層が、前記透明ガラス基板上
    に平面的に分離配置されてなることを特徴とする請求項
    1記載の多色発光装置。
  3. 【請求項3】 前記蛍光体層上に、さらに蛍光体保護層
    および/または透明基板を配設したことを特徴とする請
    求項1または2記載の多色発光装置。
  4. 【請求項4】 前記透明ガラス基板の板厚が、1〜20
    0μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
    1項記載の多色発光装置。
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