JPH08125143A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPH08125143A JPH08125143A JP6263634A JP26363494A JPH08125143A JP H08125143 A JPH08125143 A JP H08125143A JP 6263634 A JP6263634 A JP 6263634A JP 26363494 A JP26363494 A JP 26363494A JP H08125143 A JPH08125143 A JP H08125143A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- memory cell
- cell array
- pad
- power supply
- pin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 84
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 56
- 238000003491 array Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 241000917703 Leia Species 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
- G11C5/025—Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/4826—Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
- H01L2224/48472—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は、従来の半導体記憶装置の長
所を維持しながら、ボンディングワイヤが異電位内部リ
ード上を跨ぐことを不要とする半導体記憶装置を提供す
ることにある。 【構成】 半導体基板の平行な対辺から等しい距離にあ
る中央線を含み当該半導体基板面に垂直な平面を中央面
とし、該基板の平行な対辺の側を外側とし、中央面の側
を内側とするとき、データ入出力パッド群と制御系信号
パッド群は、基板の内側に、かつ、相互に隣接して中央
面に平行に配列され、第1、第2のメモリセルアレイ装
置はデータ入出力パッド群と制御系信号パッド群の配列
の外側に配置され、第3、第4のメモリセルアレイ装置
は、第1、第2のメモリセルアレイ装置に対して中央線
の方向にずれた位置に相互に垂直方向に対向して配列さ
れ、第1、第2のアドレス系信号パッド群は、それぞれ
第3、第4のメモリセルアレイ装置の外側に配置されて
いる。
所を維持しながら、ボンディングワイヤが異電位内部リ
ード上を跨ぐことを不要とする半導体記憶装置を提供す
ることにある。 【構成】 半導体基板の平行な対辺から等しい距離にあ
る中央線を含み当該半導体基板面に垂直な平面を中央面
とし、該基板の平行な対辺の側を外側とし、中央面の側
を内側とするとき、データ入出力パッド群と制御系信号
パッド群は、基板の内側に、かつ、相互に隣接して中央
面に平行に配列され、第1、第2のメモリセルアレイ装
置はデータ入出力パッド群と制御系信号パッド群の配列
の外側に配置され、第3、第4のメモリセルアレイ装置
は、第1、第2のメモリセルアレイ装置に対して中央線
の方向にずれた位置に相互に垂直方向に対向して配列さ
れ、第1、第2のアドレス系信号パッド群は、それぞれ
第3、第4のメモリセルアレイ装置の外側に配置されて
いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特にLOC(リード・オン・チップ)組み立て技術を用
いた半導体記憶装置に関する。
特にLOC(リード・オン・チップ)組み立て技術を用
いた半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体記憶装置の進歩は目覚ましく、そ
の集積度は3年に4倍の割合で向上し続けている。この
集積度の向上とメモリ容量の増大に伴い、大サイズのチ
ツプをパツケージに組み立てるためのLOC(リード・
オン・チップ)組み立て技術が16MビットDRAMの
世代以後、実用化されるようになってきた。これにより
比較的大きな面積を持つ半導体基板をも小さなパッケー
ジに搭載することが可能になった。
の集積度は3年に4倍の割合で向上し続けている。この
集積度の向上とメモリ容量の増大に伴い、大サイズのチ
ツプをパツケージに組み立てるためのLOC(リード・
オン・チップ)組み立て技術が16MビットDRAMの
世代以後、実用化されるようになってきた。これにより
比較的大きな面積を持つ半導体基板をも小さなパッケー
ジに搭載することが可能になった。
【0003】図3は、従来のLOC組み立て技術を用い
た場合のチップレイアウトの一例を示す図である。この
例では主要面が長方形の半導体基板に4つのメモリセル
アレイ装置1a、1b、1c、1d、データ入出力系回路お
よびパッド領域3、制御信号系回路およびパッド領域
4、アドレス系回路およびパッド領域5が搭載されてい
る。以下の記述において、前記長方形主要面の平行な一
対の辺から等距離にある直線を中央線と記し、中央線を
含み基板面に垂直な仮想平面を中央面とし、中央面に垂
直な方向を垂直方向と記す。また、半導体基板面の前記
平行な一対の辺に近い側を外側、中央線に近い側を内側
と記す。図3では、半導体基板の左右の短辺が走る方向
(図の上下の方向)が垂直方向であり、それらの短辺を
垂直2等分して左右に走る直線(不図示)が中央線であ
る。図3の例では、 メモリセルアレイ装置1aおよび1
cは一方の外側に配列され、メモリセルアレイ装置1b、
1dは他方の外側に配列されている。また、データ入出
力系回路およびパッド領域3および制御信号系回路およ
びパッド領域4はメモリセルアレイ装置1a、1bの内側
に、中央線に平行に配列され、アドレス系回路およびパ
ッド領域5はメモリセルアレイ装置1c、1dの内側に配
置されている。データバス2a、2bは、それぞれデータ
入出力系回路およびパッド領域3とメモリセルアレイ装
置1aとの間、およびデータ入出力系回路およびパッド
領域3とメモリセルアレイ装置1bとの間に中央線に平
行に配置されている。各メモリセルアレイ装置に対する
給電は、電源パッド6a、6b、6cおよび接地パッド
7a、7b、7cによって、メタル配線8を経由して行わ
れる。これらの電源パッド、接地パッドは電源パッド対
(6a、7a)、(6b、7b)、(6c、7c)を構成して
設置されている。
た場合のチップレイアウトの一例を示す図である。この
例では主要面が長方形の半導体基板に4つのメモリセル
アレイ装置1a、1b、1c、1d、データ入出力系回路お
よびパッド領域3、制御信号系回路およびパッド領域
4、アドレス系回路およびパッド領域5が搭載されてい
る。以下の記述において、前記長方形主要面の平行な一
対の辺から等距離にある直線を中央線と記し、中央線を
含み基板面に垂直な仮想平面を中央面とし、中央面に垂
直な方向を垂直方向と記す。また、半導体基板面の前記
平行な一対の辺に近い側を外側、中央線に近い側を内側
と記す。図3では、半導体基板の左右の短辺が走る方向
(図の上下の方向)が垂直方向であり、それらの短辺を
垂直2等分して左右に走る直線(不図示)が中央線であ
る。図3の例では、 メモリセルアレイ装置1aおよび1
cは一方の外側に配列され、メモリセルアレイ装置1b、
1dは他方の外側に配列されている。また、データ入出
力系回路およびパッド領域3および制御信号系回路およ
びパッド領域4はメモリセルアレイ装置1a、1bの内側
に、中央線に平行に配列され、アドレス系回路およびパ
ッド領域5はメモリセルアレイ装置1c、1dの内側に配
置されている。データバス2a、2bは、それぞれデータ
入出力系回路およびパッド領域3とメモリセルアレイ装
置1aとの間、およびデータ入出力系回路およびパッド
領域3とメモリセルアレイ装置1bとの間に中央線に平
行に配置されている。各メモリセルアレイ装置に対する
給電は、電源パッド6a、6b、6cおよび接地パッド
7a、7b、7cによって、メタル配線8を経由して行わ
れる。これらの電源パッド、接地パッドは電源パッド対
(6a、7a)、(6b、7b)、(6c、7c)を構成して
設置されている。
【0004】それぞれのメモリセルアレイ装置は複数の
ワード線と複数のビット線の交点に配置されたメモリセ
ルアレイとメモリセルアレイからの微小差電位を増幅す
るためのセンスアンプと増幅された信号をデータバス2
a、2bに取り出すためのセレクターを含んでいる。デー
タ入出力系回路は外部回路との間の信号レベルの整合を
行うレベル変換機能や、外部回路との間の信号の伝送タ
イミングの整合を行う入出力バッファ機能を有するイン
タフェース回路である。アドレス系回路は外部回路から
入力されたアドレス信号をCMOSレベルに変換した後
ラッチし、メモリセルアレイの指定されたアドレスをア
クセスするための内部アドレス信号を生成する。制御信
号系回路は、データ入出力系回路に対して入出力制御
(外部書き込み・読み出し制御)を行い、およびアドレ
ス系回路に対して内部読み出し・書き込み制御(メモリ
セルアレイから内部バス上へのデータの読み出し・書き
込み制御)を行う。
ワード線と複数のビット線の交点に配置されたメモリセ
ルアレイとメモリセルアレイからの微小差電位を増幅す
るためのセンスアンプと増幅された信号をデータバス2
a、2bに取り出すためのセレクターを含んでいる。デー
タ入出力系回路は外部回路との間の信号レベルの整合を
行うレベル変換機能や、外部回路との間の信号の伝送タ
イミングの整合を行う入出力バッファ機能を有するイン
タフェース回路である。アドレス系回路は外部回路から
入力されたアドレス信号をCMOSレベルに変換した後
ラッチし、メモリセルアレイの指定されたアドレスをア
クセスするための内部アドレス信号を生成する。制御信
号系回路は、データ入出力系回路に対して入出力制御
(外部書き込み・読み出し制御)を行い、およびアドレ
ス系回路に対して内部読み出し・書き込み制御(メモリ
セルアレイから内部バス上へのデータの読み出し・書き
込み制御)を行う。
【0005】各々のメモリセルアレイ装置1a〜1dから
読み出されたデータはデータバス2 a、2bを介しデータ
入出力系回路およびパッド領域3に伝達される。データ
入出力系回路は、制御信号系回路およぴパッド領域4で
生成された制御信号によって外部読み出し制御(外部回
路への出力制御)を受け、データ入出力系回路およびパ
ッド領域3内に設けられた出力パッドから外部回路に読
み出される。また、図より明らかなように半導体記憶装
置内部から外部ヘの出力もしくは半導体記憶装置外部か
ら内部ヘの入力を行うためのボンデイングパッドが全て
チツプ中央に配列されている。この従来例に示されてい
るレイアウトによれば、データの、半導体記憶装置外へ
の読み出しおよび半導体記憶装置外からの書き込みを制
御する制御系信号パッド(代表的な制御信号名としてR
ASb、CASb、WEb、OEbがある)と制御信号
系回路がデータ入出力系回路の近傍に配置できるため半
導体記憶装置の動作速度を高速化できると言う利点があ
る。また、データバス2a、2bを半導体基板中央部に集
中配置できるため、メモリセルアレイからのデータ読み
出し(もしくはメモリセルアレイヘのデータ書き込み)
速度をメモリセルアレイの場所依存なく等価にできる。
したがって、語構成が1ビットのメモリ、各メモリセル
アレイを独立したバンクとみなすようなマルチバンクの
シンクロナスDRAMに対しても展開が容易となる利点
がある。
読み出されたデータはデータバス2 a、2bを介しデータ
入出力系回路およびパッド領域3に伝達される。データ
入出力系回路は、制御信号系回路およぴパッド領域4で
生成された制御信号によって外部読み出し制御(外部回
路への出力制御)を受け、データ入出力系回路およびパ
ッド領域3内に設けられた出力パッドから外部回路に読
み出される。また、図より明らかなように半導体記憶装
置内部から外部ヘの出力もしくは半導体記憶装置外部か
ら内部ヘの入力を行うためのボンデイングパッドが全て
チツプ中央に配列されている。この従来例に示されてい
るレイアウトによれば、データの、半導体記憶装置外へ
の読み出しおよび半導体記憶装置外からの書き込みを制
御する制御系信号パッド(代表的な制御信号名としてR
ASb、CASb、WEb、OEbがある)と制御信号
系回路がデータ入出力系回路の近傍に配置できるため半
導体記憶装置の動作速度を高速化できると言う利点があ
る。また、データバス2a、2bを半導体基板中央部に集
中配置できるため、メモリセルアレイからのデータ読み
出し(もしくはメモリセルアレイヘのデータ書き込み)
速度をメモリセルアレイの場所依存なく等価にできる。
したがって、語構成が1ビットのメモリ、各メモリセル
アレイを独立したバンクとみなすようなマルチバンクの
シンクロナスDRAMに対しても展開が容易となる利点
がある。
【0006】図4は図3に示されているレイアウトを持
つメモリデバイスについてLOC組み立て技術を用いて
組み立てを行った場合についての組み立て図一例を示す
図で、半導体基板の中央部に中央線に沿って配列されて
いるボンディングパッド群に、リードフレーム10の各
ピン(電源ピン、接地ピン、データ入出力ピン、制御系
信号ピン、アドレス系信号ピン)がボンディングワイヤ
によって接続されている回路構成をリードフレーム側か
ら見た平面図である。64MDRAM以上の最先端メモ
リにおいては半導体基板面積が大きく(180mm2以
上)動作時の電源ノイズ、接地ノイズを抑制するため、
各メモリセルアレイヘの充分な給電が必要となる。その
ため、電源パッドおよび接地パッドは、図3に示されて
いるように、少なくとも3ヵ所以上に配置する必要があ
り、各パッドは、その近傍のメモリセルアレイ装置にメ
タル配線8を経由して給電を行っている。しかし現在主
流でありJEDECで標準化されている16MDRA
M、64MDRAMx1、x4 のピン配置では、図4
に示されているように、電源ピン、接地ピンが各メモリ
セルアレイ装置の両端に1対づつしか用意されていな
い。従って、半導体基板中央部の電源パッド6b、接地
パッド7bに給電するため、リードフレーム11a、11
bを半導体基板両端に橋渡しさせボンデイングを行って
いた。
つメモリデバイスについてLOC組み立て技術を用いて
組み立てを行った場合についての組み立て図一例を示す
図で、半導体基板の中央部に中央線に沿って配列されて
いるボンディングパッド群に、リードフレーム10の各
ピン(電源ピン、接地ピン、データ入出力ピン、制御系
信号ピン、アドレス系信号ピン)がボンディングワイヤ
によって接続されている回路構成をリードフレーム側か
ら見た平面図である。64MDRAM以上の最先端メモ
リにおいては半導体基板面積が大きく(180mm2以
上)動作時の電源ノイズ、接地ノイズを抑制するため、
各メモリセルアレイヘの充分な給電が必要となる。その
ため、電源パッドおよび接地パッドは、図3に示されて
いるように、少なくとも3ヵ所以上に配置する必要があ
り、各パッドは、その近傍のメモリセルアレイ装置にメ
タル配線8を経由して給電を行っている。しかし現在主
流でありJEDECで標準化されている16MDRA
M、64MDRAMx1、x4 のピン配置では、図4
に示されているように、電源ピン、接地ピンが各メモリ
セルアレイ装置の両端に1対づつしか用意されていな
い。従って、半導体基板中央部の電源パッド6b、接地
パッド7bに給電するため、リードフレーム11a、11
bを半導体基板両端に橋渡しさせボンデイングを行って
いた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置では、電源電位または接地電位のリードフレー
ム上をポンデイングワイヤが跨ぐことになる。図5はL
OC法によって構成された図3の半導体記憶装置の摸式
的な断面図である。図5に図示されていないメモリセル
アレイ装置、データ入出力系回路、制御信号系回路、ア
ドレス系回路等の能動素子はシリコン基板51上に形成
され、これらの能動素子は、外部から侵入してくる水分
から防護するために窒化膜等のカバー膜によって被覆さ
れている。リードフレーム56、57は、LOCの手法
に従って、ポリイミドテープ等の接着テープによって固
定される。前記したように、メモリセルアレイ装置が、
その両端に一対の電源ピン、接地ピンしか備えていない
場合には、電源ピン間、接地ピン間を橋渡しするリード
フレームの部分は、必然的に他のマルチピン(データ入
出力ピン、制御系信号ピン、アドレス系信号ピン)より
も内側(ボンディングパッド52側)に配置されること
になる。図5において、異電位リードフレーム56は電
源電位の内部リードまたは接地電位の内部リードで、リ
ードフレーム57は電源ピン、接地ピン以外のマルチピ
ンを表わす。したがって、ボンディングワイヤ55は異
電位リードフレーム56を跨いでリードフレーム57と
ボンディングパッド52を接続することになる。
記憶装置では、電源電位または接地電位のリードフレー
ム上をポンデイングワイヤが跨ぐことになる。図5はL
OC法によって構成された図3の半導体記憶装置の摸式
的な断面図である。図5に図示されていないメモリセル
アレイ装置、データ入出力系回路、制御信号系回路、ア
ドレス系回路等の能動素子はシリコン基板51上に形成
され、これらの能動素子は、外部から侵入してくる水分
から防護するために窒化膜等のカバー膜によって被覆さ
れている。リードフレーム56、57は、LOCの手法
に従って、ポリイミドテープ等の接着テープによって固
定される。前記したように、メモリセルアレイ装置が、
その両端に一対の電源ピン、接地ピンしか備えていない
場合には、電源ピン間、接地ピン間を橋渡しするリード
フレームの部分は、必然的に他のマルチピン(データ入
出力ピン、制御系信号ピン、アドレス系信号ピン)より
も内側(ボンディングパッド52側)に配置されること
になる。図5において、異電位リードフレーム56は電
源電位の内部リードまたは接地電位の内部リードで、リ
ードフレーム57は電源ピン、接地ピン以外のマルチピ
ンを表わす。したがって、ボンディングワイヤ55は異
電位リードフレーム56を跨いでリードフレーム57と
ボンディングパッド52を接続することになる。
【0008】その結果、データ入出力ピン、制御系信号
ピン、アドレス系信号ピン(以下、入出力信号ピンと記
す)が電源電位または接地電位と短絡することをを防ぐ
ためにポンデイングワイヤ55と異電位リードフレーム
56との間に十分な距離が必要になる。一方、最近の傾
向として高密度実装に適した薄型バッケージが主流とな
ってきており、代表的なパッケージとしてTSOPパッ
ケージ(Thin Single 0utline P
ackage)がある。TSOPの場合には、パッケー
ジ厚が1mm程度であり、シリコン基板厚が350〜4
00ミクロン程度、リードフレーム厚が125ミクロン
程度、パッケージ表面(両面)の樹脂厚が100ミクロ
ン程度であることが必要である。そのため、従来のチツ
プをTSOPパツケージに搭載する場合には非常に厳格
なボンディング精度が要求される。その結果、組み立て
歩留りを低下させてしまうという間題点があった。
ピン、アドレス系信号ピン(以下、入出力信号ピンと記
す)が電源電位または接地電位と短絡することをを防ぐ
ためにポンデイングワイヤ55と異電位リードフレーム
56との間に十分な距離が必要になる。一方、最近の傾
向として高密度実装に適した薄型バッケージが主流とな
ってきており、代表的なパッケージとしてTSOPパッ
ケージ(Thin Single 0utline P
ackage)がある。TSOPの場合には、パッケー
ジ厚が1mm程度であり、シリコン基板厚が350〜4
00ミクロン程度、リードフレーム厚が125ミクロン
程度、パッケージ表面(両面)の樹脂厚が100ミクロ
ン程度であることが必要である。そのため、従来のチツ
プをTSOPパツケージに搭載する場合には非常に厳格
なボンディング精度が要求される。その結果、組み立て
歩留りを低下させてしまうという間題点があった。
【0009】上記間題点を解決するため、図6に示され
ているようなレイアウトが提案されている。このレイア
ウトにおいては、データ入出力系回路およびパッド領域
3a、3b制御系信号パッド領域4a、4bアドレス系回路
およびパッド領域5a、5bが総て半導体基板の両側に配
置され、4つのメモリセルアレイ装置1a、1b、1 c、
1dおよび制御信号系回路4cが中央部に配置されてい
る。また、データバス2a、2bはメモリセルアレイ装置
とデータ入出力系回路およびパッド領域3、制御系信号
パッド領域4a、アドレス系回路およびパッド領域5と
の間に形成されている。図7は、半導体基板の両方の辺
に沿って配列されている入出力信号用ボンディングパッ
ド(データ入出力パッド、制御系信号パッド、アドレス
系信号パッド)に、リードフレーム10の各入出力信号
用ピン(データ入出力ピン、制御系信号ピン、アドレス
系信号ピン)がボンディングワイヤによって接続されて
いる回路構成をリードフレーム側から見た平面図であ
る。このレイアウトによれば、図7から明らかなよう
に、ボンデイングワイヤがリードフレームをまたぐこと
がないため、ボンディングに対するマージンが増加す
る。しかし、図6のレイアウトにおいては、制御系信号
パッド4a,4bが半導体基板の両側に分離配置されるこ
とになるため、制御信号系回路を構成するために必要な
入力信号が分離されることになり(例えば、RASb,
WEb信号とCASb,OEb信号の分断)、必然的
に、図6に示されているように、中央部に制御信号系回
路領域4cが配置されるレイアウトとなる。このため制
御系信号パッドから制御信号系回路までの信号伝達遅
延、制御信号系回路からデータ入出力系回路までの信号
伝達遅延が生じ、アクセス時間の劣化が生じる原因とな
る。また、データバス2a、2bが半導体基板の両側に配
置されるため、メモリセルアレイ装置からのデータ読み
出し(もしくはメモリセルアレイヘのデータ書き込み)
速度がメモリセルアレイ装置の位置に依存するという傾
向が生じる。その結果、語構成が1ビットのメモリ、各
メモリセルアレイ装置を独立したバンクとみなすような
マルチバンクのシンクロナスDRAMに対して展開が困
難となるという問題がある。
ているようなレイアウトが提案されている。このレイア
ウトにおいては、データ入出力系回路およびパッド領域
3a、3b制御系信号パッド領域4a、4bアドレス系回路
およびパッド領域5a、5bが総て半導体基板の両側に配
置され、4つのメモリセルアレイ装置1a、1b、1 c、
1dおよび制御信号系回路4cが中央部に配置されてい
る。また、データバス2a、2bはメモリセルアレイ装置
とデータ入出力系回路およびパッド領域3、制御系信号
パッド領域4a、アドレス系回路およびパッド領域5と
の間に形成されている。図7は、半導体基板の両方の辺
に沿って配列されている入出力信号用ボンディングパッ
ド(データ入出力パッド、制御系信号パッド、アドレス
系信号パッド)に、リードフレーム10の各入出力信号
用ピン(データ入出力ピン、制御系信号ピン、アドレス
系信号ピン)がボンディングワイヤによって接続されて
いる回路構成をリードフレーム側から見た平面図であ
る。このレイアウトによれば、図7から明らかなよう
に、ボンデイングワイヤがリードフレームをまたぐこと
がないため、ボンディングに対するマージンが増加す
る。しかし、図6のレイアウトにおいては、制御系信号
パッド4a,4bが半導体基板の両側に分離配置されるこ
とになるため、制御信号系回路を構成するために必要な
入力信号が分離されることになり(例えば、RASb,
WEb信号とCASb,OEb信号の分断)、必然的
に、図6に示されているように、中央部に制御信号系回
路領域4cが配置されるレイアウトとなる。このため制
御系信号パッドから制御信号系回路までの信号伝達遅
延、制御信号系回路からデータ入出力系回路までの信号
伝達遅延が生じ、アクセス時間の劣化が生じる原因とな
る。また、データバス2a、2bが半導体基板の両側に配
置されるため、メモリセルアレイ装置からのデータ読み
出し(もしくはメモリセルアレイヘのデータ書き込み)
速度がメモリセルアレイ装置の位置に依存するという傾
向が生じる。その結果、語構成が1ビットのメモリ、各
メモリセルアレイ装置を独立したバンクとみなすような
マルチバンクのシンクロナスDRAMに対して展開が困
難となるという問題がある。
【0010】本発明の目的は、従来の半導体記憶装置が
もつ前記の長所を維持しながら、ボンディングワイヤが
異電位内部リード上を跨ぐことを不要とする半導体記憶
装置を提供することにある。
もつ前記の長所を維持しながら、ボンディングワイヤが
異電位内部リード上を跨ぐことを不要とする半導体記憶
装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の半導体記憶装置は、複数のワード線と複
数のビット線との交点にメモリセルが配置されてなるメ
モリセルアレイをそれぞれ備えている少なくとも4つの
メモリセルアレイ装置と、メモリセルアレイに書き込む
データを外部回路から入力し、メモリセルアレイから読
み出されたデータを外部回路へ出力するためのボンディ
ングパッド群であるデータ入出力パッド群と、外部回路
からアドレス信号を入力するためのボンディングパッド
群であるアドレス系信号パッド群と、メモリセルアレイ
のアクセスの制御および前記データの入出力の制御のた
めの信号を外部回路との間で送受信するためのボンディ
ングパッド群である制御系信号パッド群が、少なくとも
1対のほぼ平行な対辺を有する半導体基板面上にリード
オンチップ構成で搭載されている半導体記憶装置であっ
て、平行な対辺から等しい距離にある中央線を含み当該
半導体基板面に垂直な平面を中央面とし、半導体基板
の、前記平行な対辺の側を外側とし、中央面の側を内側
とし、該中央面に垂直な方向を垂直方向とするとき、デ
ータ入出力パッド群と制御系信号パッド群は、半導体基
板の内側に、かつ、相互に隣接して中央面に平行に配列
され、第1、第2のメモリセルアレイ装置はデータ入出
力パッド群と制御系信号パッド群の配列の外側に配置さ
れ、第3、第4のメモリセルアレイ装置は、第1、第2
のメモリセルアレイ装置に対して中央線の方向にずれた
位置に相互に垂直方向に対向して配列され、第1、第2
のアドレス系信号パッド群は、それぞれ第3、第4のメ
モリセルアレイ装置の外側に配置されている。
めに、本発明の半導体記憶装置は、複数のワード線と複
数のビット線との交点にメモリセルが配置されてなるメ
モリセルアレイをそれぞれ備えている少なくとも4つの
メモリセルアレイ装置と、メモリセルアレイに書き込む
データを外部回路から入力し、メモリセルアレイから読
み出されたデータを外部回路へ出力するためのボンディ
ングパッド群であるデータ入出力パッド群と、外部回路
からアドレス信号を入力するためのボンディングパッド
群であるアドレス系信号パッド群と、メモリセルアレイ
のアクセスの制御および前記データの入出力の制御のた
めの信号を外部回路との間で送受信するためのボンディ
ングパッド群である制御系信号パッド群が、少なくとも
1対のほぼ平行な対辺を有する半導体基板面上にリード
オンチップ構成で搭載されている半導体記憶装置であっ
て、平行な対辺から等しい距離にある中央線を含み当該
半導体基板面に垂直な平面を中央面とし、半導体基板
の、前記平行な対辺の側を外側とし、中央面の側を内側
とし、該中央面に垂直な方向を垂直方向とするとき、デ
ータ入出力パッド群と制御系信号パッド群は、半導体基
板の内側に、かつ、相互に隣接して中央面に平行に配列
され、第1、第2のメモリセルアレイ装置はデータ入出
力パッド群と制御系信号パッド群の配列の外側に配置さ
れ、第3、第4のメモリセルアレイ装置は、第1、第2
のメモリセルアレイ装置に対して中央線の方向にずれた
位置に相互に垂直方向に対向して配列され、第1、第2
のアドレス系信号パッド群は、それぞれ第3、第4のメ
モリセルアレイ装置の外側に配置されている。
【0012】前記の半導体記憶装置において、第3、第
4のメモリセルアレイ装置は、第1、第2のメモリセル
アレイ装置に対して、それぞれ垂直方向内側に位置をず
らして配置されていることが望ましい。また、第1のメ
モリセルアレイ装置と第2のメモリセルアレイ装置、第
3のメモリセルアレイ装置と第4のメモリセルアレイ装
置、第1のアドレス系信号パッド群と第2のアドレス系
信号パッド群はそれぞれ同一の形状および寸法を有し、
中央面に関して対称に配置されていることが望ましい。
上記の半導体記憶装置に第1、第2のデータバスを設
け、第1のデータバスを、データ入出力パッド群と制御
系信号パッド群との配列と第1のメモリセルアレイ装置
との間と、第3のメモリセルアレイ装置の内側を通って
形成し、第2のデータバスを、データ入出力パッド群と
制御系信号パッド群との配列と第2のメモリセルアレイ
装置との間と、第4のメモリセルアレイ装置の内側を通
って形成することができる。上記の半導体記憶装置は、
さらに電源パッドと接地パッドでなる電源パッド対を少
なくとも3対備え、第1の電源パッドと第1の接地パッ
ドでなる第1の電源パッド対を、当該半導体基板の中央
線の方向に関して中央の、前記中央面の近傍に位置決め
し、半導体基板の中央線方向の両端を端部と呼称すると
き、第2の電源パッドと第2の接地パッドでなる第2の
電源パッド対を、当該半導体基板の第1、第2のメモリ
セルアレイ装置側端部である第1の端部の前記中央面の
近傍に位置決めし、第3の電源パッドと第3の接地パッ
ドでなる第3の電源パッド対を、当該半導体基板の、第
3、第4のメモリセルアレイ装置側端部である第2の端
部の前記中央面の近傍に位置決することができる。
4のメモリセルアレイ装置は、第1、第2のメモリセル
アレイ装置に対して、それぞれ垂直方向内側に位置をず
らして配置されていることが望ましい。また、第1のメ
モリセルアレイ装置と第2のメモリセルアレイ装置、第
3のメモリセルアレイ装置と第4のメモリセルアレイ装
置、第1のアドレス系信号パッド群と第2のアドレス系
信号パッド群はそれぞれ同一の形状および寸法を有し、
中央面に関して対称に配置されていることが望ましい。
上記の半導体記憶装置に第1、第2のデータバスを設
け、第1のデータバスを、データ入出力パッド群と制御
系信号パッド群との配列と第1のメモリセルアレイ装置
との間と、第3のメモリセルアレイ装置の内側を通って
形成し、第2のデータバスを、データ入出力パッド群と
制御系信号パッド群との配列と第2のメモリセルアレイ
装置との間と、第4のメモリセルアレイ装置の内側を通
って形成することができる。上記の半導体記憶装置は、
さらに電源パッドと接地パッドでなる電源パッド対を少
なくとも3対備え、第1の電源パッドと第1の接地パッ
ドでなる第1の電源パッド対を、当該半導体基板の中央
線の方向に関して中央の、前記中央面の近傍に位置決め
し、半導体基板の中央線方向の両端を端部と呼称すると
き、第2の電源パッドと第2の接地パッドでなる第2の
電源パッド対を、当該半導体基板の第1、第2のメモリ
セルアレイ装置側端部である第1の端部の前記中央面の
近傍に位置決めし、第3の電源パッドと第3の接地パッ
ドでなる第3の電源パッド対を、当該半導体基板の、第
3、第4のメモリセルアレイ装置側端部である第2の端
部の前記中央面の近傍に位置決することができる。
【0013】上記の装置を、電源ピンと接地ピンでなる
電源ピン対を両端に1対ずつ備えたリードフレームに装
着し、該リードフレームのデータ入出力マルチピン、制
御系信号マルチピン、アドレス系信号マルチピンを、半
導体基板の前記外側から、それぞれ対応するデータ入出
力パッド群、制御系信号パッド群、アドレス系信号パッ
ド群にワイヤボンディングし、第1の電源ピンと第1の
接地ピンでなる第1の電源ピン対にそれぞれ接続された
内部電源リードと内部接地リードを、第2の端部の中央
面の近傍から該中央面に平行に導き、それぞれ第1の電
源パッドと第1の接地パッドの近傍で終端させ、内部電
源リードを第1、第3の電源パッドにワイヤボンディン
グし、内部接地リードを第1、第3の接地パッドにワイ
ヤボンディングし、第2の電源ピン対を構成する第2の
電源ピンと第2の接地ピンを、それぞれ第2の電源パッ
ドと第2の接地パッドにワイヤボンディングすることが
できる。
電源ピン対を両端に1対ずつ備えたリードフレームに装
着し、該リードフレームのデータ入出力マルチピン、制
御系信号マルチピン、アドレス系信号マルチピンを、半
導体基板の前記外側から、それぞれ対応するデータ入出
力パッド群、制御系信号パッド群、アドレス系信号パッ
ド群にワイヤボンディングし、第1の電源ピンと第1の
接地ピンでなる第1の電源ピン対にそれぞれ接続された
内部電源リードと内部接地リードを、第2の端部の中央
面の近傍から該中央面に平行に導き、それぞれ第1の電
源パッドと第1の接地パッドの近傍で終端させ、内部電
源リードを第1、第3の電源パッドにワイヤボンディン
グし、内部接地リードを第1、第3の接地パッドにワイ
ヤボンディングし、第2の電源ピン対を構成する第2の
電源ピンと第2の接地ピンを、それぞれ第2の電源パッ
ドと第2の接地パッドにワイヤボンディングすることが
できる。
【0014】
【作用】第1、第2のアドレス系信号パッド群は、それ
ぞれ第3、第4のメモリセルアレイ装置の外側に配置さ
れているので、リードフレームのアドレス系信号マルチ
ピンを外側から半導体基板上に導入した場合には、内側
部分(中央面に近い部分)に設けられた配線を跨ぐこと
なく、そのマルチピンと、第1、第2のアドレス系信号
パッド群とをワイヤボンディングすることができる。し
たがって、電源電位または接地電位の内部リードを、第
2の端部から中央面の近傍を通って中央面に平行に装着
した場合には、その内部リードは、ボンディングワイヤ
に跨がれないで電源電位または接地電位を第2の端部か
ら半導体基板の中央部に伝達することができる。このよ
うにして、第1、第2のメモリセルアレイ装置は、その
内部リードによって半導体基板の中央部に伝達された電
源を駆動電源の1つとして使用することができる。その
結果、第1、第2のメモリセルアレイ装置上に、電源電
位または接地電位の内部リードを橋渡しする必要はな
い。
ぞれ第3、第4のメモリセルアレイ装置の外側に配置さ
れているので、リードフレームのアドレス系信号マルチ
ピンを外側から半導体基板上に導入した場合には、内側
部分(中央面に近い部分)に設けられた配線を跨ぐこと
なく、そのマルチピンと、第1、第2のアドレス系信号
パッド群とをワイヤボンディングすることができる。し
たがって、電源電位または接地電位の内部リードを、第
2の端部から中央面の近傍を通って中央面に平行に装着
した場合には、その内部リードは、ボンディングワイヤ
に跨がれないで電源電位または接地電位を第2の端部か
ら半導体基板の中央部に伝達することができる。このよ
うにして、第1、第2のメモリセルアレイ装置は、その
内部リードによって半導体基板の中央部に伝達された電
源を駆動電源の1つとして使用することができる。その
結果、第1、第2のメモリセルアレイ装置上に、電源電
位または接地電位の内部リードを橋渡しする必要はな
い。
【0015】前掲のように、リードフレームのマルチピ
ンを外側から半導体基板上に導入する場合には、データ
入出力マルチピン、制御系信号マルチピンとデータ入出
力パッド、制御系信号パッドとをそれぞれ接続するボン
ディングワイヤは、半導体基板の外側から第1、第2の
メモリセルアレイ装置上を通って内側へ延びてボンディ
ングされる。しかし、本発明のボンディングパッドの配
置によると、前記したように、電源電位または接地電位
の内部リードが第1、第2のメモリセルアレイ装置上を
橋渡しする必要はないので、ボンディングワイヤが電源
電位または接地電位の内部リードを跨ぐという問題は回
避される。
ンを外側から半導体基板上に導入する場合には、データ
入出力マルチピン、制御系信号マルチピンとデータ入出
力パッド、制御系信号パッドとをそれぞれ接続するボン
ディングワイヤは、半導体基板の外側から第1、第2の
メモリセルアレイ装置上を通って内側へ延びてボンディ
ングされる。しかし、本発明のボンディングパッドの配
置によると、前記したように、電源電位または接地電位
の内部リードが第1、第2のメモリセルアレイ装置上を
橋渡しする必要はないので、ボンディングワイヤが電源
電位または接地電位の内部リードを跨ぐという問題は回
避される。
【0016】本発明のボンディングパッドの配置による
と、データ入出力パッド群と制御系信号パッド群は、隣
接して配列される。その結果、制御信号系回路をデータ
入出力系回路の近傍に配置することができ、それによっ
て、半導体記憶装置の動作速度を高速化することが保証
される。
と、データ入出力パッド群と制御系信号パッド群は、隣
接して配列される。その結果、制御信号系回路をデータ
入出力系回路の近傍に配置することができ、それによっ
て、半導体記憶装置の動作速度を高速化することが保証
される。
【0017】本発明のボンディングパッドの配置による
と、データ入出力パッド群と制御系信号パッド群は、半
導体基板の内側に、中央面に平行に配列される。それに
よって、データバスを半導体基板の内側、すなわち、中
央面の近傍に集中して配置することが可能になる。その
結果、第1、第2のメモリセルアレイ装置とデータ入出
力系回路間の信号パスの長さをほぼ等しくすることがで
きると共に、第3、第4のメモリセルアレイ装置とデー
タ入出力系回路間の信号パスの長さをもほぼ等しくする
ことができる。それによって、メモリセルアレイ装置か
らのデータの読み出し速度、および、メモリセルアレイ
装置へのデータの書き込み速度の、メモリセルアレイ装
置の位置依存性を少なくすることができる。このこと
は、半導体記憶装置が、語構成が1ビットのメモリであ
る場合や各メモリセルアレイを独立したバンクとみなせ
るようなマルチバンクのシンクロナスDRAMの場合に
は特に重要である。
と、データ入出力パッド群と制御系信号パッド群は、半
導体基板の内側に、中央面に平行に配列される。それに
よって、データバスを半導体基板の内側、すなわち、中
央面の近傍に集中して配置することが可能になる。その
結果、第1、第2のメモリセルアレイ装置とデータ入出
力系回路間の信号パスの長さをほぼ等しくすることがで
きると共に、第3、第4のメモリセルアレイ装置とデー
タ入出力系回路間の信号パスの長さをもほぼ等しくする
ことができる。それによって、メモリセルアレイ装置か
らのデータの読み出し速度、および、メモリセルアレイ
装置へのデータの書き込み速度の、メモリセルアレイ装
置の位置依存性を少なくすることができる。このこと
は、半導体記憶装置が、語構成が1ビットのメモリであ
る場合や各メモリセルアレイを独立したバンクとみなせ
るようなマルチバンクのシンクロナスDRAMの場合に
は特に重要である。
【0018】第3、第4のメモリセルアレイ装置を、第
1、第2のメモリセルアレイ装置に対して、それぞれ垂
直方向内側に位置をずらして配置することにより、半導
体基板上への実装密度を向上させることができる。
1、第2のメモリセルアレイ装置に対して、それぞれ垂
直方向内側に位置をずらして配置することにより、半導
体基板上への実装密度を向上させることができる。
【0019】メモリセルアレイ装置およびボンディング
パッド群に関する前掲の配置を、中央面に関して対称に
構成することによって、上記の作用をさらに確実に実現
することができるばかりでなく、装置の設計と製作を容
易にすることができる。
パッド群に関する前掲の配置を、中央面に関して対称に
構成することによって、上記の作用をさらに確実に実現
することができるばかりでなく、装置の設計と製作を容
易にすることができる。
【0020】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。図1は本発明の実施例を示すレイアウト図で
ある。以下の記述において、図3、図4に示されている
構成要素と同一の構成要素には、同一の参照番号を付し
て説明する。このレイアウトの特徴としてデータ入出力
系回路およびパツド領域3、制御信号系回路およびパッ
ド領域4が半導体基板の内側に隣接して配列されている
ことと、アドレス系回路およびパッド領域5a、5bが半
導体基板の両外側部分に配置されていることである。こ
のため、データ入出力系回路およびパッド領域3と制御
信号系回路およびパッド領域4の外側にあるメモリセル
アレイ装置1a、1b、とアドレス系回路およびパッド領
域5a、5bの内側にあるメモリセルアレイ装置1c、1d
とは、図1に示されているように垂直方向(中央面に対
して垂直な方向)にずれて配置されている。データバス
2a、2bは半導体基板の中央の、メモリセルアレイ装置
1a、1bとデータ入出力系回路およびパッド領域3およ
び制御信号系回路およびパッド領域4との間、メモリセ
ルアレイ装置1cとメモリセルアレイ装置1dとの間に集
中配置されている。
説明する。図1は本発明の実施例を示すレイアウト図で
ある。以下の記述において、図3、図4に示されている
構成要素と同一の構成要素には、同一の参照番号を付し
て説明する。このレイアウトの特徴としてデータ入出力
系回路およびパツド領域3、制御信号系回路およびパッ
ド領域4が半導体基板の内側に隣接して配列されている
ことと、アドレス系回路およびパッド領域5a、5bが半
導体基板の両外側部分に配置されていることである。こ
のため、データ入出力系回路およびパッド領域3と制御
信号系回路およびパッド領域4の外側にあるメモリセル
アレイ装置1a、1b、とアドレス系回路およびパッド領
域5a、5bの内側にあるメモリセルアレイ装置1c、1d
とは、図1に示されているように垂直方向(中央面に対
して垂直な方向)にずれて配置されている。データバス
2a、2bは半導体基板の中央の、メモリセルアレイ装置
1a、1bとデータ入出力系回路およびパッド領域3およ
び制御信号系回路およびパッド領域4との間、メモリセ
ルアレイ装置1cとメモリセルアレイ装置1dとの間に集
中配置されている。
【0021】図2は本発明の半導体記憶装置をLOC組
み立て技術を用いて組み立てた場合についてリードフレ
ームおよびボンディングワイヤの配線の一例を示す図で
ある。基板の中央の電源パッド6bおよび接地パッド7b
ヘの電源の供給は、図2に示されているように、メモリ
セルアレイ装置1c、1d側の電源ピン、接地ピンから中
央部へ内部リード9c、9dを導き、そのリードフレーム
の先端と当該電源パッドとの間をワイヤボンディングす
ることによって達成される。この配線においては、リー
ドフレームのデータ入出力ピンおよび制御系信号ピンと
データ入出力系回路およびパッド領域3および制御信号
系回路およびパッド領域4との間に異電位(電源電位、
接地電位)リードフレームが介在しないので、図4の従
来例において問題となった異電位リードフレーム上をボ
ンデイングワイヤが跨ぐ必要がない。また、アドレス系
回路およびパッド領域5a、5bは基板の外側部分にある
ので、異電位リードフレーム上をボンデイングワイヤが
跨ぐことなく、リードフレームのアドレスピンとアドレ
ス系信号パッドとの間のワイヤボンディングを実施する
ことができる。
み立て技術を用いて組み立てた場合についてリードフレ
ームおよびボンディングワイヤの配線の一例を示す図で
ある。基板の中央の電源パッド6bおよび接地パッド7b
ヘの電源の供給は、図2に示されているように、メモリ
セルアレイ装置1c、1d側の電源ピン、接地ピンから中
央部へ内部リード9c、9dを導き、そのリードフレーム
の先端と当該電源パッドとの間をワイヤボンディングす
ることによって達成される。この配線においては、リー
ドフレームのデータ入出力ピンおよび制御系信号ピンと
データ入出力系回路およびパッド領域3および制御信号
系回路およびパッド領域4との間に異電位(電源電位、
接地電位)リードフレームが介在しないので、図4の従
来例において問題となった異電位リードフレーム上をボ
ンデイングワイヤが跨ぐ必要がない。また、アドレス系
回路およびパッド領域5a、5bは基板の外側部分にある
ので、異電位リードフレーム上をボンデイングワイヤが
跨ぐことなく、リードフレームのアドレスピンとアドレ
ス系信号パッドとの間のワイヤボンディングを実施する
ことができる。
【0022】さらに、データ入出力ピン、制御系信号ピ
ンに対応するボンデイングパツドは半導体基板の中央線
に沿って配列されているので、データの読み出しおよび
書き込みを制御する制御系信号パッドと制御信号系回路
をデータ入出力系回路の近傍に配置することができるた
め、半導体記憶装置の動作速度の高速化をも実現するこ
とができる。また、データバス2a、2bをメモリセルア
レイ装置1a、1c、およびメモリセルアレイ装置1b、
1dに沿って基板の中央部に集中配置できるため、メモ
リセルアレイ装置からのデータ読み出し(もしくはメモ
リセルアレイ装置ヘのデータ書き込み)速度をメモリセ
ルアレイ装置の位置に依存することなく等しくすること
ができる。それによって、語構成が1ビットのメモリ
や、各メモリセルアレイを独立したバンクとみなすよう
なマルチバンクのシンクロナスDRAMに対しても展開
が容易となり、図3に示されている従来型レイアウトに
よる利点も損なわれることなく維持される。
ンに対応するボンデイングパツドは半導体基板の中央線
に沿って配列されているので、データの読み出しおよび
書き込みを制御する制御系信号パッドと制御信号系回路
をデータ入出力系回路の近傍に配置することができるた
め、半導体記憶装置の動作速度の高速化をも実現するこ
とができる。また、データバス2a、2bをメモリセルア
レイ装置1a、1c、およびメモリセルアレイ装置1b、
1dに沿って基板の中央部に集中配置できるため、メモ
リセルアレイ装置からのデータ読み出し(もしくはメモ
リセルアレイ装置ヘのデータ書き込み)速度をメモリセ
ルアレイ装置の位置に依存することなく等しくすること
ができる。それによって、語構成が1ビットのメモリ
や、各メモリセルアレイを独立したバンクとみなすよう
なマルチバンクのシンクロナスDRAMに対しても展開
が容易となり、図3に示されている従来型レイアウトに
よる利点も損なわれることなく維持される。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は次の効果
を有する。 1)第1、第2のアドレス系信号パッド群を、それぞれ
第3、第4のメモリセルアレイ装置の外側に配置するこ
とにより、リードフレームのアドレス系信号マルチピン
を外側から半導体基板上に導入する場合には、内側の中
央面に近い部分に設けられた配線を跨ぐことなく、その
マルチピンと、第1、第2のアドレス系信号パッド群と
をワイヤボンディングすることができる。したがって、
電源電位または接地電位の内部リードを、第2の端部か
ら中央面の近傍を通って中央面に平行に装着する場合に
は、その内部リードは、ボンディングワイヤに跨がれな
いで電源電位または接地電位を第2の端部から半導体基
板の中央部に伝達することができる。このようにして、
第1、第2のメモリセルアレイ装置は、その内部リード
によって半導体基板の中央部に伝達された電源を駆動電
源の1つとして使用することができる。その結果、第
1、第2のメモリセルアレイ装置上に、電源電位または
接地電位の内部リードを橋渡しする必要はなくなる。こ
のようにして、ボンディングワイヤ群が電源電位または
接地電位の内部リードを跨ぐという問題は完全に回避さ
れる。
を有する。 1)第1、第2のアドレス系信号パッド群を、それぞれ
第3、第4のメモリセルアレイ装置の外側に配置するこ
とにより、リードフレームのアドレス系信号マルチピン
を外側から半導体基板上に導入する場合には、内側の中
央面に近い部分に設けられた配線を跨ぐことなく、その
マルチピンと、第1、第2のアドレス系信号パッド群と
をワイヤボンディングすることができる。したがって、
電源電位または接地電位の内部リードを、第2の端部か
ら中央面の近傍を通って中央面に平行に装着する場合に
は、その内部リードは、ボンディングワイヤに跨がれな
いで電源電位または接地電位を第2の端部から半導体基
板の中央部に伝達することができる。このようにして、
第1、第2のメモリセルアレイ装置は、その内部リード
によって半導体基板の中央部に伝達された電源を駆動電
源の1つとして使用することができる。その結果、第
1、第2のメモリセルアレイ装置上に、電源電位または
接地電位の内部リードを橋渡しする必要はなくなる。こ
のようにして、ボンディングワイヤ群が電源電位または
接地電位の内部リードを跨ぐという問題は完全に回避さ
れる。
【0024】2)データ入出力パッド群と制御系信号パ
ッド群を隣接して配列することにより、制御信号系回路
をデータ入出力系回路の近傍に配置することができ、そ
れによって、半導体記憶装置の動作速度を高速化するこ
とができる。
ッド群を隣接して配列することにより、制御信号系回路
をデータ入出力系回路の近傍に配置することができ、そ
れによって、半導体記憶装置の動作速度を高速化するこ
とができる。
【0025】3)データ入出力パッド群と制御系信号パ
ッド群を、半導体基板の内側に、中央面に平行に配列す
ることによって、データバスを半導体基板の内側、すな
わち、中央面の近傍に集中して配置することが可能にな
る。その結果、メモリセルアレイ装置からのデータの読
み出し速度、および、メモリセルアレイ装置へのデータ
の書き込み速度の、メモリセルアレイ装置の位置依存性
を少なくすることができる。
ッド群を、半導体基板の内側に、中央面に平行に配列す
ることによって、データバスを半導体基板の内側、すな
わち、中央面の近傍に集中して配置することが可能にな
る。その結果、メモリセルアレイ装置からのデータの読
み出し速度、および、メモリセルアレイ装置へのデータ
の書き込み速度の、メモリセルアレイ装置の位置依存性
を少なくすることができる。
【0026】4)第3、第4のメモリセルアレイ装置
を、第1、第2のメモリセルアレイ装置に対して、それ
ぞれ垂直方向内側に位置をずらして配置することによ
り、半導体基板上への実装密度を向上させることができ
る。
を、第1、第2のメモリセルアレイ装置に対して、それ
ぞれ垂直方向内側に位置をずらして配置することによ
り、半導体基板上への実装密度を向上させることができ
る。
【0027】5)メモリセルアレ装置およびボンディン
グパッド群に関する本発明の配置を、中央面に関して対
称に構成することによって、上記の効果をさらに確実に
実現することができるばかりでなく、装置の設計と製作
を容易にすることができる。
グパッド群に関する本発明の配置を、中央面に関して対
称に構成することによって、上記の効果をさらに確実に
実現することができるばかりでなく、装置の設計と製作
を容易にすることができる。
【0028】6)上記の効果によって、本発明は語構成
が1ビットのメモリや、各メモリセルアレイを独立した
バンクとみなすようなマルチバンクのシンクロナスDR
AMに対しても展開が容易となる。
が1ビットのメモリや、各メモリセルアレイを独立した
バンクとみなすようなマルチバンクのシンクロナスDR
AMに対しても展開が容易となる。
【図1】本発明の実施例を示す半導体記憶装置のレイア
ウト図である。
ウト図である。
【図2】図1に示した実施例をLOC組み立て技術を用
いて組み立てた場合の組み立て図である。
いて組み立てた場合の組み立て図である。
【図3】半導体記憶装置の従来例のレイアウト図であ
る。
る。
【図4】図3に示されている従来例をLOC組み立て技
術を用いて組み立てた場合の組み立て図である。
術を用いて組み立てた場合の組み立て図である。
【図5】LOC組み立て技術を用いて組み立てられた半
導体記憶装置の従来例の摸式的断面図である。
導体記憶装置の従来例の摸式的断面図である。
【図6】半導体記憶装置の他の従来例のレイアウト図で
ある。
ある。
【図7】図6に示した従来例をLOC組み立て技術を用
いて組み立てた場合の組み立て図である。
いて組み立てた場合の組み立て図である。
1a、1b、1c、1d メモリセルアレイ装置 2a、2b データバス 3 データ入出力系回路およびパッ
ド領域 4 制御信号系回路およびパッド領
域 5、5a、5b アドレス系回路およびパッド領
域 6a、6b、6c 電源パッド 7a、7b、7c 接地パッド 8 メタル配線 9c、9d 内部リード 10 リードフレーム
ド領域 4 制御信号系回路およびパッド領
域 5、5a、5b アドレス系回路およびパッド領
域 6a、6b、6c 電源パッド 7a、7b、7c 接地パッド 8 メタル配線 9c、9d 内部リード 10 リードフレーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 7735−4M H01L 27/10 681 C
Claims (6)
- 【請求項1】 複数のワード線と複数のビット線との交
点にメモリセルが配置されてなるメモリセルアレイをそ
れぞれ備えている少なくとも4つのメモリセルアレイ装
置と、メモリセルアレイに書き込むデータを外部回路か
ら入力し、メモリセルアレイから読み出されたデータを
外部回路へ出力するためのボンディングパッド群である
データ入出力パッド群と、外部回路からアドレス信号を
入力するためのボンディングパッド群であるアドレス系
信号パッド群と、メモリセルアレイのアクセスの制御お
よび前記データの入出力の制御のための信号を外部回路
との間で送受信するためのボンディングパッド群である
制御系信号パッド群が、少なくとも1対のほぼ平行な対
辺を有する半導体基板面上にリードオンチップ構成で搭
載されている半導体記憶装置において、前記平行な対辺
から等しい距離にある中央線を含み当該半導体基板面に
垂直な平面を中央面とし、前記半導体基板の、前記平行
な対辺の側を外側とし、前記中央面の側を内側とし、該
中央面に垂直な方向を垂直方向とするとき、 データ入出力パッド群と制御系信号パッド群は、半導体
基板の内側に、かつ、相互に隣接して中央面に平行に配
列され、第1、第2のメモリセルアレイ装置はデータ入
出力パッド群と制御系信号パッド群の配列の外側に配置
され、第3、第4のメモリセルアレイ装置は、第1、第
2のメモリセルアレイ装置に対して中央線の方向にずれ
た位置に相互に垂直方向に対向して配列され、第1、第
2のアドレス系信号パッド群は、それぞれ第3、第4の
メモリセルアレイ装置の外側に配置されていることを特
徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項2】 第3、第4のメモリセルアレイ装置は、
第1、第2のメモリセルアレイ装置に対して、それぞれ
垂直方向内側に位置をずらして配置されていることを特
徴とする請求項1に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項3】 前記第1のメモリセルアレイ装置と第2
のメモリセルアレイ装置、第3のメモリセルアレイ装置
と第4のメモリセルアレイ装置、第1のアドレス系信号
パッド群と第2のアドレス系信号パッド群はそれぞれ同
一の形状および寸法を有し、中央面に関して対称に配置
されていることを特徴とする請求項1または2に記載の
半導体メモリ装置。 - 【請求項4】 第1、第2のデータバスを有し、第1の
データバスは、データ入出力パッド群と制御系信号パッ
ド群との配列と第1のメモリセルアレイ装置との間と、
第3のメモリセルアレイ装置の内側を通って形成され、
第2のデータバスは、データ入出力パッド群と制御系信
号パッド群との配列と第2のメモリセルアレイ装置との
間と、第4のメモリセルアレイ装置の内側を通って形成
されている、請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項5】 電源パッドと接地パッドでなる電源パッ
ド対を少なくとも3対備え、第1の電源パッドと第1の
接地パッドでなる第1の電源パッド対は、当該半導体基
板の中央線の方向に関して中央の、前記中央面の近傍に
位置決めされ、半導体基板の中央線方向の両端を端部と
呼称するとき、第2の電源パッドと第2の接地パッドで
なる第2の電源パッド対は、当該半導体基板の第1、第
2のメモリセルアレイ装置側端部である第1の端部の前
記中央面の近傍に位置決めされ、第3の電源パッドと第
3の接地パッドでなる第3の電源パッド対は、当該半導
体基板の、第3、第4のメモリセルアレイ装置側端部で
ある第2の端部の前記中央面の近傍に位置決めされてい
る、請求項3に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項6】 電源ピンと接地ピンでなる電源ピン対を
両端に1対ずつ備えたリードフレームに装着され、該リ
ードフレームのデータ入出力マルチピン、制御系信号マ
ルチピン、アドレス系信号マルチピンは、半導体基板の
前記外側から、それぞれ対応するデータ入出力パッド
群、制御系信号パッド群、アドレス系信号パッド群にワ
イヤボンディングされ、第1の電源ピンと第1の接地ピ
ンでなる第1の電源ピン対にそれぞれ接続された内部電
源リードと内部接地リードは、第2の端部の中央面の近
傍から該中央面に平行に導かれ、それぞれ第1の電源パ
ッドと第1の接地パッドの近傍で終端し、内部電源リー
ドは第1、第3の電源パッドにワイヤボンディングさ
れ、内部接地リードは第1、第3の接地パッドにワイヤ
ボンディングされ、第2の電源ピン対を構成する第2の
電源ピンと第2の接地ピンは、それぞれ第2の電源パッ
ドと第2の接地パッドにワイヤボンディングされてい
る、請求項5に記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6263634A JP2647023B2 (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 半導体記憶装置 |
US08/548,948 US5627792A (en) | 1994-10-27 | 1995-10-27 | Loc type semiconductor memory device |
KR1019950039260A KR100207765B1 (ko) | 1994-10-27 | 1995-10-27 | Loc형 반도체 메모리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6263634A JP2647023B2 (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08125143A true JPH08125143A (ja) | 1996-05-17 |
JP2647023B2 JP2647023B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=17392229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6263634A Expired - Fee Related JP2647023B2 (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 半導体記憶装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5627792A (ja) |
JP (1) | JP2647023B2 (ja) |
KR (1) | KR100207765B1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6108234A (en) * | 1998-03-31 | 2000-08-22 | Nec Corporation | Semiconductor memory device capable of carrying out a read-out operation at a high speed |
JP2005092969A (ja) * | 2003-09-16 | 2005-04-07 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2010129842A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Renesas Electronics Corp | 半導体記憶装置 |
US9105462B2 (en) | 2013-03-01 | 2015-08-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor apparatus |
US9312236B2 (en) | 2013-03-01 | 2016-04-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device, wireless device, and storage device |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5744870A (en) * | 1996-06-07 | 1998-04-28 | Micron Technology, Inc. | Memory device with multiple input/output connections |
JPH10269765A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-09 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JPH11195766A (ja) * | 1997-10-31 | 1999-07-21 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路装置 |
KR100311035B1 (ko) * | 1997-11-21 | 2002-02-28 | 윤종용 | 효율적으로 배치된 패드들을 갖는 반도체 메모리 장치 |
US5896310A (en) * | 1997-12-24 | 1999-04-20 | Texas Instruments Incorporated | Multiple bank memory with over-the-array conductors programmable for providing either column factor or y-decoder power connectivity |
JPH11306763A (ja) * | 1998-04-23 | 1999-11-05 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
JP3996267B2 (ja) * | 1998-05-12 | 2007-10-24 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体記憶装置 |
GB2348317B (en) * | 1998-06-23 | 2001-03-07 | Samsung Electronics Co Ltd | An arrangement of data input/output circuits for use in a semiconductor memory device |
KR100382739B1 (ko) * | 2001-04-13 | 2003-05-09 | 삼성전자주식회사 | 비대칭 데이터 경로를 갖는 반도체 메모리 장치 |
US7499366B2 (en) | 2006-07-31 | 2009-03-03 | Sandisk 3D Llc | Method for using dual data-dependent busses for coupling read/write circuits to a memory array |
US7463536B2 (en) * | 2006-07-31 | 2008-12-09 | Sandisk 3D Llc | Memory array incorporating two data busses for memory array block selection |
US7570523B2 (en) * | 2006-07-31 | 2009-08-04 | Sandisk 3D Llc | Method for using two data busses for memory array block selection |
US8279704B2 (en) * | 2006-07-31 | 2012-10-02 | Sandisk 3D Llc | Decoder circuitry providing forward and reverse modes of memory array operation and method for biasing same |
KR100849071B1 (ko) * | 2007-05-31 | 2008-07-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치 |
JP2013021528A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Elpida Memory Inc | 半導体装置、及び出力バッファのインピーダンスを調整する方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5208782A (en) * | 1989-02-09 | 1993-05-04 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device having a plurality of memory blocks and a lead on chip (LOC) arrangement |
US5251168A (en) * | 1991-07-31 | 1993-10-05 | Texas Instruments Incorporated | Boundary cells for improving retention time in memory devices |
-
1994
- 1994-10-27 JP JP6263634A patent/JP2647023B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-10-27 US US08/548,948 patent/US5627792A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-27 KR KR1019950039260A patent/KR100207765B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6108234A (en) * | 1998-03-31 | 2000-08-22 | Nec Corporation | Semiconductor memory device capable of carrying out a read-out operation at a high speed |
JP2005092969A (ja) * | 2003-09-16 | 2005-04-07 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
US7782672B2 (en) | 2003-09-16 | 2010-08-24 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor memory device having memory block configuration |
US8000159B2 (en) | 2003-09-16 | 2011-08-16 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor memory device having memory block configuration |
US8208303B2 (en) | 2003-09-16 | 2012-06-26 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor memory device having memory block configuration |
US8446765B2 (en) | 2003-09-16 | 2013-05-21 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor memory device having memory block configuration |
JP2010129842A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Renesas Electronics Corp | 半導体記憶装置 |
US9105462B2 (en) | 2013-03-01 | 2015-08-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor apparatus |
US9312236B2 (en) | 2013-03-01 | 2016-04-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device, wireless device, and storage device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100207765B1 (ko) | 1999-07-15 |
US5627792A (en) | 1997-05-06 |
JP2647023B2 (ja) | 1997-08-27 |
KR960015588A (ko) | 1996-05-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2647023B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US10872844B2 (en) | Semiconductor device with sealed semiconductor chip | |
JP4372022B2 (ja) | 半導体装置 | |
US6617694B2 (en) | Semiconductor chip, semiconductor device, methods of fabricating thereof, circuit board and electronic device | |
JP3299342B2 (ja) | 半導体メモリモジュール | |
US6768660B2 (en) | Multi-chip memory devices and modules including independent control of memory chips | |
US20040145042A1 (en) | Semiconductor device | |
US6724074B2 (en) | Stack semiconductor chip package and lead frame | |
KR100830009B1 (ko) | 반도체 장치 | |
JP2003051545A (ja) | 半導体メモリチップとそれを用いた半導体メモリ装置 | |
US6587892B2 (en) | Method of reducing data communication time | |
US6956783B2 (en) | Semiconductor memory device including fuse element | |
JP4754201B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS6140053A (ja) | 半導体装置 | |
JP2748940B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JP2001044325A (ja) | 半導体装置及び半導体モジュール | |
JP2859360B2 (ja) | 半導体装置、半導体装置の製造方法及び半導体装置の実装構造 | |
JPS58184735A (ja) | 集積回路チツプ | |
JPH0358544B2 (ja) | ||
JPH0669454A (ja) | 半導体記憶装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |