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JPH07179394A - オキサジアゾール化合物およびその製造法 - Google Patents

オキサジアゾール化合物およびその製造法

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JPH07179394A
JPH07179394A JP34538393A JP34538393A JPH07179394A JP H07179394 A JPH07179394 A JP H07179394A JP 34538393 A JP34538393 A JP 34538393A JP 34538393 A JP34538393 A JP 34538393A JP H07179394 A JPH07179394 A JP H07179394A
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chemical
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一清 永井
Chihaya Adachi
千波矢 安達
Hirota Sakon
洋太 左近
Nozomi Tamoto
望 田元
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 有機電界発光素子用材料、殊に発光材料、電
子輸送材料等として有用であり、安定した製膜性を有
し、長期保存性に優れた新規オキサジアゾール化合物を
提供する。 【構成】 一般式(I)で表されるオキサジアゾール化
合物、その製造法ならびに該製造法で使用される合成中
間体及びその製造法。 (式中、A1〜A4は各々置換もしくは無置換の芳香族炭化
水素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表し、
それぞれ同じでも異なっていてもよい。又、Xは水素原
子あるいはフッ素原子を表す。又、R1、R2は水素原子、
ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アル
コキシ基を表す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、有機電界発光素子用材
料として有用な、新規なオキサジアゾール化合物、その
合成中間体である新規な酸クロライド化合物、及びそれ
らの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】有機電界発光素子用の材料として種々の
オキサジアゾール化合物が知られている。例えば、日本
化学会誌、1991、(11)、p.1540−154
8には発光材料及び電子輸送材料としてオキサジアゾー
ル化合物を使用した例が記載されている。しかしなが
ら、未だに薄膜の安定性に問題を残しており、高輝度、
高信頼性の有機電界発光素子は得られていない。その原
因として、有機材料の結晶化が挙げられている。特にこ
れまでのオキサジアゾール化合物は非晶質膜が得られな
いか、得られても長期保存により結晶化してしまい、膜
の安定性に大きな欠点を有していた。従って、より製膜
性が良好で結晶化しにくい材料が求められていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機電界発
光素子用材料として、安定した製膜性を有し、発光材
料、電子輸送材料等として有用であり、特に長期保存に
よっても結晶化しにくい新規オキサジアゾール化合物、
その合成中間体である新規酸クロライド、およびそれら
の製造法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば下記一般
式(I)(化1)
【化1】 (式中、A1〜A4は各々置換もしくは無置換の芳香族炭
化水素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表
し、それぞれ同じでも異なっていてもよい。又、Xは水
素原子あるいはフッ素原子を表す。又、R1、R2は水素
原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル
基、アルコキシ基を表す。)で表されるオキサジアゾー
ル化合物が提供され、第2に、下記一般式(II)(化
2)
【化2】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
酸クロライド化合物と、下記一般式(III)(化3)
あるいは一般式(IV)(化4)
【化3】
【化4】 (式中、Aは各々置換もしくは無置換の芳香族炭化水素
基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表し、下記
一般式(I)中のA1、A2に対応する。)で表されるテ
トラゾール化合物とを反応させて下記一般式(I)(化
1)
【化1】 (式中、A1〜A4は各々置換もしくは無置換の芳香族炭
化水素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表
し、それぞれ同じでも異なっていてもよい。又、Xは水
素原子あるいはフッ素原子を表す。又、R1、R2は水素
原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル
基、アルコキシ基を表す。)で表されるオキサジアゾー
ル化合物を製造することを特徴とするオキサジアゾール
化合物の製造法が提供され、又第3に下記一般式(I
I)(化2)
【化2】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
酸クロライド化合物が提供され、さらに第4に下記一般
式(V)(化5)
【化5】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
酸無水物化合物を、ハロゲン化剤で処理することを特徴
とする、下記一般式(II)(化2)
【化2】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
酸クロライド化合物の製造法が提供される。
【0005】本発明者らは、上記課題を解決するため鋭
意検討した結果、ある特定な構造を有するオキサジアゾ
ール化合物が有効であることを見いだし、本発明を完成
するに至った。前記一般式(I)において、A1〜A4
適用される芳香族炭化水素基、あるいは芳香族複素環基
としては、スチリル、フェニル、ビフェニル、ターフェ
ニル、ナフチル、アントリル、アセナフテニル、フルオ
レニル、フェナントリル、インデニル、ピレニル、ピリ
ジル、ピリミジル、フラニル、ピロニル、チオフェニ
ル、キノリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、
インドリル、カルバゾリル、ベンゾオキサゾリル、キノ
キサリル、ベンゾイミダゾリル、ピラゾリル、ジベンゾ
フラニル、ジベンゾチオフェニル、オキサゾリル、オキ
サジアゾリル基等が挙げられる。
【0006】これらの芳香族炭化水素基、あるいは芳香
族複素環基は更に一つ以上のハロゲン原子、水酸基、シ
アノ基、ニトロ基、アミノ基、トリフルオロメチル基、
炭素数1から12、好ましくは1から6のアルキル基、
炭素数1から12、好ましくは1から6のアルコキシ
基、アリールオキシ基、フェニル基、スチリル基、ナフ
チル基、チオフェニル基、アラルキル基、ビフェニル
基、ビチオフェニル基、フラニル基、ビフラニル基、ピ
ロニル基、ビピロニル基、等の置換基を有していてもよ
い。
【0007】一般式(I)で表される本発明のオキサジ
アゾール化合物は、下記の方法によって製造することが
できる。すなわち、式(II)(化2)
【化2】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
酸クロライド化合物と下記一般式(III)(化3)あ
るいは一般式(IV)(化4)
【化3】
【化4】 (式中、Aは各々置換もしくは無置換の芳香族炭化水素
基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表し、前記
一般式(I)中のA1、A2に対応する。)で表わされる
テトラゾール化合物とを反応させることにより得られ
る。
【0008】ここで使用される一般式(III)(化
3)及び一般式(IV)(化4)で表わされるテトラゾ
ール化合物は従来公知の方法で製造される。例えば、S
ynthesis71(1973)に記載の方法で合成
できる。また、一般式(II)(化2)と一般式(II
I)(化3)あるいは一般式(IV)(化4)との反応
は、R.D.Huisgenらのオキサジアゾール合成
法に準じて行われる。例えば、Angew.Che
m.,72,366(1960)、Chem.Be
r.,93,2106(1960)、Tetrahed
ron,11,241(1960)、Chem.Be
r.,98,2966(1965)に記載の方法を適用
することができる。
【0009】又、一般式(II)(化2)で表される酸
クロライド化合物は新規であり、前記したように一般式
(1)(化1)で表されるオキサジアゾール化合物の合
成中間体として有用である。その合成は、下記一般式
(V)(化5)
【化5】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表される酸
無水物化合物をハロゲン化剤で処理することにより達成
される。本発明で用いられるハロゲン化剤としては、五
塩化リン、ホスゲン等が用いられる。
【0010】本発明の一般式(I)で示されるオキサジ
アゾール化合物は、有機電界発光素子の構成成分として
特に優れており、例えば、真空蒸着法、溶液塗布法等に
より薄膜化し、陽極及び陰極で直接または間接的に挟持
することにより素子を得ることができる。
【0011】本発明に係わる一般式(I)で示されるオ
キサジアゾール化合物の具体例を表1に示す。
【表1】
【0012】
【実施例】
実施例1 4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタ
ル酸クロライド{下記式(VI)(化6)}の合成
【化6】 4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタ
ル酸無水物10g、五塩化リン10.5g、オキシ塩化
リン6mlを反応フラスコ中に入れ、25時間加熱還流
を行なうと溶液状態に変化した。その後、反応により生
成したオキシ塩化リン及び未反応の五塩化リンを蒸留に
より除き、ジクロロメタン30mlを加えた後、不溶物
を濾過により除いてから溶媒を除去し目的物の粗収物1
1gをオイル状態で得た。その後シクロヘキサン30m
lに加熱溶解させ、n−ヘキサン50mlを加えて静置
した後、オイル状沈殿物をデカンテーションにより取り
出し、さらにn−ヘキサンで洗浄した後、乾燥させて目
的物6.8g(収率55%)を得た。このものは無色の
オイル状であり、赤外線吸収スペクトルを食塩板に塗り
付けて測定したところ1790cm-1、1745cm-1
に酸クロライドによるCO伸縮振動のピークを有してい
た。
【0013】実施例2 化合物No.1の合成 実施例1で得られた4,4’−(ヘキサフルオロイソプ
ロピリデン)ジフタル酸クロライド4.23g、5−フ
ェニル−1Hテトラゾール7.31g、溶媒として乾燥
ピリジン45mlを用い、反応フラスコ中で45時間加
熱還流した。放冷後、水160mlを加え、沈殿物を濾
過、水洗して粗収物3.7gを得た。さらに展開溶媒と
してクロロホルム/THF=19/1(vol)を用
い、カラムクロマトグラフィーにより精製し、さらに展
開溶媒としてクロロホルム/THF=33/1(vo
l)を用い2回カラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的物2.5g(収率34%)を得た。このものは
無色であり、シクロヘキサン/トルエン=1/1(vo
l)から再結晶させた物の融点は133℃であった。赤
外線吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図1に示す。
【表2】 以上のことにより、化合物No.1が得られたことが確
認された。
【0014】実施例3(化合物No.4の合成) 実施例1で得られた4,4’−(ヘキサフルオロイソプ
ロピリデン)ジフタル酸クロライド1.32g、5−
(ビフェニル−4−イル)−1Hテトラゾール3.18
g、溶媒として乾燥ピリジン30mlを用い、反応フラ
スコ中で45時間加熱還流した。放冷後、メタノール7
0mlを加え、沈殿物を濾過、メタノール洗浄して粗収
物0.59gを得た。さらに展開溶媒としてクロロホル
ム/THF=19/1(vol)を用い、2回カラムク
ロマトグラフィーにより精製し、さらに展開溶媒として
クロロホルム/THF=33/1(vol)を用い、カ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物0.51
g(収率18%)を得た。このものは無色であり、シク
ロヘキサン/トルエン=1/1(vol)から再結晶さ
せた物は明暸な融点を示さなかった。赤外線吸収スペク
トル(KBr錠剤法)を図2に示す。
【表3】 以上のことにより、化合物No.4が得られたことが確
認された。
【0015】実施例4(化合物No.8の合成) 実施例1で得られた4,4’−(ヘキサフルオロイソプ
ロピリデン)ジフタル酸クロライド1.29g、5−
(ナフチル−2−イル)−1Hテトラゾール2.28
g、溶媒として乾燥ピリジン30mlを用い、反応フラ
スコ中で73時間加熱還流した。放冷後、蒸発乾固によ
り粗収物3.77gを得た。これを展開溶媒クロロホル
ム/THF=19/1(vol)を用い、カラムクロマ
トグラフィーにより精製した。さらに展開溶媒としてク
ロロホルム/THF=33/1(vol)を用い2回カ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物0.67
g(収率27%)を得た。このものは無色であり、シク
ロヘキサン/トルエン=1/1(vol)から再結晶さ
せた物は明暸な融点を示さなかった。赤外線吸収スペク
トル(KBr錠剤法)を図3に示す。
【表4】 以上のことにより、化合物No.8が得られたことが確
認された。
【0016】(蒸着膜の安定性評価)前記実施例で得ら
れた化合物No.1、No.4、No.8及び比較化合
物として下記式(VII)〜(X)(化7)〜(化1
0)で示されるオキサジアゾール化合物をそれぞれガラ
ス基板の上に真空蒸着法によって500Åの膜を作製し
た。この膜を作製直後と室温で6ケ月間保存した後と目
視あるいは電子顕微鏡により観察した。
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】 その結果、一般式(VII)、一般式(VIII)で表
される化合物を用いたものは蒸着直後より結晶化膜であ
り、保存後は激しく白濁化した。一般式(IX)、一般
式(X)で表される化合物を用いたものは蒸着直後は均
一な非晶質膜を形成しているが、保存後は結晶化して白
濁した。それに対して本発明による化合物No.1、N
O.4、No.8はいずれも非晶質膜を形成し、保存後
でも透明な膜であり、電子顕微鏡による観察でも均一な
非晶質膜であることが確認された。
【0017】応用例 ガラス基板上に大きさ2mm×2mm、15Ω/□の酸
化錫インジウム(ITO)による陽極を形成し、その上
に下記式(XI)(化11)で示されるジアミン誘導体
からなるホール輸送層400Å、下記式(XII)(化
12)で示されるジアミン誘導体からなるホール発光層
150Å、前記化合物No.1からなる電子輸送層40
0Å、10:1原子比のMgAg電極を2000Å、の
各々を真空蒸着により形成し、電界発光素子を作製し
た。蒸着時の真空度は1×10-6Torrであり、基板
温度は室温である。このようにして作製した素子の陽極
及び陰極にリード線を介して直流電源を接続したとこ
ろ、電流密度30mA/cm2において印加電圧が9V
であり、青白色の明瞭な発光が長時間にわたって確認さ
れた。なお、この素子は3カ月保存後においても明瞭な
発光が確認された。
【化11】
【化12】
【0014】
【発明の効果】本発明のオキサジアゾール化合物は蒸着
あるいは溶剤塗工によって容易に安定な非晶質膜を形成
することができ、結晶化が起こりにくく、その保存安定
性が極めて良く、信頼性の高い有機電界発光素子用の材
料として有用である。また、本発明によれ、該オキサジ
アゾール化合物の合成中間体である新規酸クロライド化
合物、及びこれらオキサジアゾール化合物、酸クロライ
ド化合物の有利な製造法を提供することができる。
【0015】
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例2で得られた表1中、化合物NO.1の
本発明のオキサジアゾール化合物の赤外線吸収スペクト
ル図である(KBr錠剤法)。
【図2】実施例3で得られた表1中、化合物NO.4の
本発明のオキサジアゾール化合物の赤外線吸収スペクト
ル図である(KBr錠剤法)。
【図3】実施例4で得られた表1中、化合物NO.8の
本発明のオキサジアゾール化合物の赤外線吸収スペクト
ル図である(KBr錠剤法)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 413/04 213 // C09K 11/06 Z 9159−4H (72)発明者 田元 望 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I)(化1) 【化1】 (式中、A1〜A4は各々置換もしくは無置換の芳香族炭
    化水素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表
    し、それぞれ同じでも異なっていてもよい。又、Xは水
    素原子あるいはフッ素原子を表す。又、R1、R2は水素
    原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル
    基、アルコキシ基を表す。)で表されるオキサジアゾー
    ル化合物。
  2. 【請求項2】 下記一般式(II)(化2) 【化2】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
    1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
    換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
    酸クロライド化合物と、下記一般式(III)(化3)
    あるいは一般式(IV)(化4) 【化3】 【化4】 (式中、Aは各々置換もしくは無置換の芳香族炭化水素
    基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表し、下記
    一般式(I)中のA1、A2に対応する。)で表されるテ
    トラゾール化合物とを反応させて下記一般式(I)(化
    1) 【化1】 (式中、A1〜A4は各々置換もしくは無置換の芳香族炭
    化水素基、置換もしくは無置換の芳香族複素環基を表
    し、それぞれ同じでも異なっていてもよい。又、Xは水
    素原子あるいはフッ素原子を表す。又、R1、R2は水素
    原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル
    基、アルコキシ基を表す。)で表されるオキサジアゾー
    ル化合物を製造することを特徴とするオキサジアゾール
    化合物の製造法。
  3. 【請求項3】 下記一般式(II)(化2) 【化2】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
    1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
    換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
    酸クロライド化合物。
  4. 【請求項4】 下記一般式(V)(化5) 【化5】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
    1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
    換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
    酸無水物化合物を、ハロゲン化剤で処理することを特徴
    とする、下記一般式(II)(化2) 【化2】 (式中、Xは水素原子あるいはフッ素原子を表す。又、
    1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置
    換のアルキル基、アルコキシ基を表す。)で表わされる
    酸クロライド化合物の製造法。
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