JPH07169989A - Semiconductor radioactive rays detector and its manufacture - Google Patents
Semiconductor radioactive rays detector and its manufactureInfo
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- JPH07169989A JPH07169989A JP6058282A JP5828294A JPH07169989A JP H07169989 A JPH07169989 A JP H07169989A JP 6058282 A JP6058282 A JP 6058282A JP 5828294 A JP5828294 A JP 5828294A JP H07169989 A JPH07169989 A JP H07169989A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体放射線検出器の
電極取り出し構造およびその接続方法に関するものであ
り、特に個々の検出部分となる半導体部分を多数個配列
したアレイ型検出器に適用される。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode lead-out structure of a semiconductor radiation detector and a connecting method thereof, and is particularly applied to an array type detector in which a large number of semiconductor portions which are individual detecting portions are arranged. .
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体放射線検出器は、放射線に起因し
て半導体内に生じる光電流をその表面に設けた電極を介
して測定するものである。CdTe、HgI2などの化
合物半導体を用いた場合、バンドギャップが広いため室
温での動作が可能であり、また構成元素の原子番号が大
きいためX線、γ線の吸収係数が大きく、高い感度が得
られる。このような検出器は、放射線使用施設のモニタ
ー、スペクトルサーベイメータなどに用いられる。ま
た、検出器の小型化、アレイ化が可能であり、医用診断
機器、産業用の非破壊検査装置などにアレイ化した検出
器が応用され始めている。2. Description of the Related Art A semiconductor radiation detector measures a photocurrent generated in a semiconductor due to radiation through an electrode provided on its surface. When a compound semiconductor such as CdTe or HgI 2 is used, it can operate at room temperature because of its wide bandgap, and has a large absorption coefficient for X-rays and γ-rays due to the large atomic number of the constituent elements, resulting in high sensitivity. can get. Such detectors are used for monitors of radiation facilities, spectrum survey meters, and the like. Further, the detectors can be downsized and arrayed, and the arrayed detectors are beginning to be applied to medical diagnostic equipment, industrial nondestructive inspection devices, and the like.
【0003】従来、半導体部分とその表面に設けられた
電極とからなる検出素子を1つのみ用いる検出器では、
柔軟な配線用金属細線により比較的軽量な半導体部分を
他の支持なく空中に保持することができる。また、絶縁
性基板、キャンパッケージなどの基体部に半導体部分を
固定することも可能である。この際の電極からの配線の
取り出しは、熱圧着などのワイヤボンディング、また
は、導電性接着剤(例えば、金属粉などの導電性粒子を
有機高分子材料からなる絶縁性の接着剤中に分散したも
の)により金属細線を電極に接続することで行ってい
た。特に、多数個の検出素子を配列したアレイ型検出器
においては、各素子の空間的な位置精度が要求されるた
め、基体部にそれぞれの半導体部分を固定し、同様の方
法で配線を取り出していた。Conventionally, in a detector using only one detecting element consisting of a semiconductor portion and an electrode provided on the surface thereof,
The flexible metal wire for wiring allows the relatively lightweight semiconductor portion to be held in the air without any other support. Further, it is also possible to fix the semiconductor portion to a base portion such as an insulating substrate or a can package. At this time, the wiring is taken out from the electrode by wire bonding such as thermocompression bonding or a conductive adhesive (for example, conductive particles such as metal powder are dispersed in an insulating adhesive made of an organic polymer material). It was done by connecting a thin metal wire to the electrode. In particular, in an array-type detector in which a large number of detection elements are arranged, the spatial positional accuracy of each element is required, so each semiconductor portion is fixed to the base portion and the wiring is taken out in the same manner. It was
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな電極からの配線の取り出しは、検出素子の特性を悪
化させる、もしくは製造工程が煩雑で信頼性が乏しいも
のであった。すなわち、ワイヤボンディングにより金属
細線を電極に接続すると、電極の接続部分を加圧するた
め検出素子の特性が悪化してしまう。もしくは、十分に
機械的加圧を行わないこのような接続は機械的振動に弱
く信頼性に乏しいものであった。また、機械的に加圧す
ることなく導電性接着剤にて金属細線を接続すること
は、熟練を要し自動化が難しい。However, such extraction of the wiring from the electrode deteriorates the characteristics of the detection element or complicates the manufacturing process, resulting in poor reliability. That is, when the metal thin wire is connected to the electrode by wire bonding, the connection portion of the electrode is pressed, so that the characteristics of the detection element deteriorate. Alternatively, such a connection, which does not apply sufficient mechanical pressure, is vulnerable to mechanical vibration and is unreliable. Further, connecting metal thin wires with a conductive adhesive without applying mechanical pressure requires skill and is difficult to automate.
【0005】本発明の目的は、半導体放射線検出素子の
電極への接続に関し、検出器の特性を劣化させることな
く、簡便なプロセスにて接続できる信頼性の高い接続構
造およびその接続方法を提供するものである。An object of the present invention is to provide a highly reliable connection structure and a connection method for connection to an electrode of a semiconductor radiation detection element, which can be connected by a simple process without deteriorating the characteristics of the detector. It is a thing.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明による半導体放射
線検出器の構造は、(a)放射線が入射される化合物半導
体と、(b)前記化合物半導体の対向する2面にそれぞれ
設けられた一対の電極と、(c)少なくとも前記一方の電
極の縁部に隣接して設けられ、実質的に剛体である電極
取り出し部と、(d)前記化合物半導体および前記電極取
り出し部が固定されている基体部と、(e)前記一方の電
極と前記電極取り出し部の間を直接に接続する導電性接
着剤とを含むものである。加えて、(f)前記一対の電極
間の前記化合物半導体の表面と前記電極取り出し部の間
を満たしている絶縁体を含むことが望ましい。さらに、
前記化合物半導体がCdTeを主成分とする結晶からな
ること、前記電極が設けられた面のほぼ全面を該電極が
覆っていること、および/または上述の半導体放射線検
出器を複数個隣接して配置することが望ましい。The structure of a semiconductor radiation detector according to the present invention comprises: (a) a compound semiconductor to which radiation is incident; and (b) a pair of compound semiconductors provided on two opposing surfaces of the compound semiconductor. An electrode, (c) an electrode lead-out portion that is provided adjacent to the edge of at least one of the electrodes, and is a substantially rigid body; and (d) a base portion to which the compound semiconductor and the electrode lead-out portion are fixed. And (e) a conductive adhesive that directly connects the one electrode and the electrode lead-out portion. In addition, it is preferable that (f) an insulator is filled between the electrode lead-out portion and the surface of the compound semiconductor between the pair of electrodes. further,
The compound semiconductor is made of a crystal containing CdTe as a main component, the electrode covers almost the entire surface on which the electrode is provided, and / or a plurality of the semiconductor radiation detectors are arranged adjacent to each other. It is desirable to do.
【0007】また、本発明による半導体放射線検出器の
製造方法は、(イ)放射線が入射される化合物半導体の対
向する2面に一対の電極をそれぞれ形成する第1工程
と、(ロ)実質的に剛体である電極取り出し部に一方の前
記電極の縁部が隣接するように前記化合物半導体を配置
する第2工程と、(ハ)前記一方の電極と前記電極取り出
し部の間を導電性接着剤で接続する第3工程とを含むも
のである。前記電極間の前記化合物半導体の表面と前記
電極取り出し部の間に絶縁体を満たすこと、特に、前記
絶縁体が絶縁性接着剤からなることが望ましい。The method for manufacturing a semiconductor radiation detector according to the present invention comprises: (a) a first step of forming a pair of electrodes on two opposing surfaces of a compound semiconductor to which radiation is incident; and (b) a substantial step. A second step of arranging the compound semiconductor so that the edge of one of the electrodes is adjacent to the electrode lead-out portion that is a rigid body; and (c) a conductive adhesive between the one electrode and the electrode lead-out portion. And a third step of connecting with. It is desirable that an insulator is filled between the surface of the compound semiconductor between the electrodes and the electrode lead-out portion, and in particular, the insulator is made of an insulating adhesive.
【0008】[0008]
【作用及び効果】本発明は、放射線が入射される化合物
半導体の表面に設けられた電極の縁部が、実質的に剛体
である電極取り出し部に隣接して設けられており、電極
と電極取り出し部との間を導電性接着剤により直接に接
続するものであり、化合物半導体の表面や電極を機械的
に加圧することなく電気的に接続することができ、ま
た、電極取りだし部が柔軟な構造でないため、機械的な
安定性も高い。加えて、導電性接着剤を塗布するのみと
いう単純なプロセスで接続することが可能となる。した
がって、エネルギー分解能などの放射線検出器の特性を
劣化させることなく、自動化に適した簡便な製造プロセ
スにて再現性よく半導体放射線検出器を作製することが
可能となる。According to the present invention, the edge portion of the electrode provided on the surface of the compound semiconductor on which radiation is incident is provided adjacent to the electrode lead-out portion which is a substantially rigid body. The structure is such that the surface of the compound semiconductor and the electrodes can be electrically connected to each other without mechanical pressure, and the electrode lead-out part has a flexible structure. It is not mechanically stable. In addition, it is possible to connect by a simple process of only applying a conductive adhesive. Therefore, it is possible to manufacture the semiconductor radiation detector with good reproducibility by a simple manufacturing process suitable for automation without degrading the characteristics of the radiation detector such as energy resolution.
【0009】特に、電極間の化合物半導体の表面と電極
取り出し部の間を絶縁体で満たしていることにより、導
電性接着剤が電極間を流れ、その間を短絡することを防
ぐことができるので、高密度に実装できるとともに、さ
らに簡便な製造プロセスが可能となる。化合物半導体と
してCdTeを主成分とする結晶を用いる場合、高い検
出感度が得られるが、機械的な圧力による劣化を受けや
すく、本発明による効果が顕著となる。また、通常、高
い感度を得るために、電極が設けられた面のほぼ全面に
その電極が設けられている。そして、このような半導体
放射線検出器を複数個隣接して配置することにより、位
置精度の高いアレイ型検出器が量産に適する製造プロセ
スで作製できる。In particular, by filling the surface of the compound semiconductor between the electrodes and the space between the electrode lead-out portions with an insulator, it is possible to prevent the conductive adhesive from flowing between the electrodes and short-circuiting between the electrodes. It enables high-density mounting and enables a simpler manufacturing process. When a crystal containing CdTe as a main component is used as the compound semiconductor, high detection sensitivity can be obtained, but it is susceptible to deterioration due to mechanical pressure, and the effect of the present invention becomes remarkable. Further, in order to obtain high sensitivity, the electrode is usually provided on almost the entire surface on which the electrode is provided. By arranging a plurality of such semiconductor radiation detectors adjacent to each other, an array type detector having high positional accuracy can be manufactured by a manufacturing process suitable for mass production.
【0010】[0010]
【実施例】本発明の一実施例であるCdTe放射線検出
器の製造工程を図1を用いて以下に説明する。EXAMPLE A manufacturing process of a CdTe radiation detector which is an example of the present invention will be described below with reference to FIG.
【0011】基板1(厚さ:2mm、幅:2mm、長さ:2
0mmの直方体)は、塩素ドープ高抵抗CdTe半導体単
結晶からなる。基板1の対向する両主面を研磨・エッチ
ングした後にアノード電極2、カソード電極3を形成す
る。このカソード電極2は、無電解めっきにより形成し
たPt(白金)電極であり、電子に対する障壁の高さ
(0.9eV)がホールに対する障壁の高さ(0.6e
V)よりも高い。また、このアノード電極3は、真空蒸
着により形成されたIn(インジウム)電極であり、電
子に対する障壁の高さ(0.1eV)がホールに対する
障壁の高さ(1.4eV)よりも低い。なお、両電極を
同一の材質で構成することもできるが、このように電
子、ホールに対する障壁の高さの大小関係が異なる2種
類の電極をそれぞれ用いることで暗電流を低減でき、検
出精度が向上する。また、CdTe半導体単結晶の替わ
りにGaAsなどの他の化合物半導体を用いることもで
きるが、放射線の吸収係数が高いなどの点からCdT
e、CdZnTeなどのCdTeを主成分とする結晶を
用いることが望ましい。また、その形状は外部バイアス
印加時に電極間の電界が均一となるように平板状とし、
その放射線入射方向における深さは、入射した放射線が
十分に吸収される厚みであればよい。Substrate 1 (thickness: 2 mm, width: 2 mm, length: 2
The 0 mm rectangular parallelepiped) is made of chlorine-doped high-resistance CdTe semiconductor single crystal. After the opposite main surfaces of the substrate 1 are polished and etched, the anode electrode 2 and the cathode electrode 3 are formed. The cathode electrode 2 is a Pt (platinum) electrode formed by electroless plating, and the barrier height for electrons (0.9 eV) is the barrier height for holes (0.6 e).
Higher than V). The anode electrode 3 is an In (indium) electrode formed by vacuum evaporation, and the height of the barrier against electrons (0.1 eV) is lower than the height of the barrier against holes (1.4 eV). Although both electrodes can be made of the same material, dark current can be reduced and detection accuracy can be improved by using two types of electrodes having different height relationships of barriers for electrons and holes. improves. Further, other compound semiconductors such as GaAs can be used instead of the CdTe semiconductor single crystal, but CdT has a high absorption coefficient of radiation.
It is desirable to use a crystal containing CdTe as a main component such as e or CdZnTe. In addition, its shape is flat so that the electric field between the electrodes is uniform when an external bias is applied,
The depth in the radiation incident direction may be a thickness that allows the incident radiation to be sufficiently absorbed.
【0012】次に、基板1を絶縁性の基体部であるアル
ミナ基板4(厚さ:0.5mm、幅:3mm、長さ:50m
m)に接着して固定する。アルミナ基板4の表面側には
第1の電極引き出しパターン5がスクリーン印刷による
AgPd層により形成されており、カソード電極2と第
1の電極引き出しパターン5とが対向して導電性接着剤
(Agエポキシ、すなわち、エポキシ樹脂系接着剤中に
導電性の銀粒子を分散させたもの)6により電気的に接
続されると同時に機械的に直接固定されている。Next, the substrate 1 is an alumina substrate 4 (thickness: 0.5 mm, width: 3 mm, length: 50 m) which is an insulating base portion.
Adhere to m) and fix. A first electrode lead-out pattern 5 is formed by a screen-printed AgPd layer on the surface side of the alumina substrate 4, and the cathode electrode 2 and the first electrode lead-out pattern 5 face each other and a conductive adhesive (Ag epoxy) is used. That is, electrically conductive silver particles are dispersed in an epoxy resin adhesive) 6 to be electrically connected and simultaneously mechanically directly fixed.
【0013】アルミナ基板4の表面側の端部に基板1と
ほぼ同じ幅の凸部7が設けられている。基板1は凸部7
に充分に近接するように固定されており、凸部7の高さ
は基板1の厚さとほぼ同じである。そして、凸部7の上
面には電極取り出し部の一部となる第2の電極引き出し
パターン8がスクリーン印刷によるAgPd層により形
成されている。第2の電極引き出しパターン8はアノー
ド電極3の近傍まで延びており、両者の間を導電性接着
剤(Agエポキシ)による接続部9により電気的に直接
接続する。第2の電極引き出しパターン8の幅はアノー
ド電極3の幅とほとんど同じであり、そのほぼ全幅を導
電性接着剤により接続しているので接続が確実である。
また、電極引き出しパターンとそれに接続される電極の
表面が近接しているので導電性接着剤により容易に接続
できる。電極と電極取り出し部の上面の高さは、導電性
接着剤による接続を容易にするためにほぼ同じ高さとし
ており、電極取り出し部が電極上に突き出ていると組立
が困難となり、望ましくない。なお、電極取り出し部
は、凸部7と第2の電極引き出しパターン8により構成
され、十分な機械的な安定性は剛体である凸部7によ
り、電気的導電性は第2の電極引き出しパターン8によ
り達成されている。A convex portion 7 having substantially the same width as that of the substrate 1 is provided on the end portion on the front surface side of the alumina substrate 4. Substrate 1 is convex 7
The height of the convex portion 7 is almost the same as the thickness of the substrate 1. Then, on the upper surface of the convex portion 7, a second electrode lead-out pattern 8 which becomes a part of the electrode lead-out portion is formed by an AgPd layer by screen printing. The second electrode lead-out pattern 8 extends to the vicinity of the anode electrode 3 and electrically connects them directly by a connecting portion 9 made of a conductive adhesive (Ag epoxy). The width of the second electrode lead-out pattern 8 is almost the same as the width of the anode electrode 3, and almost the entire width is connected by a conductive adhesive, so that the connection is reliable.
Further, since the electrode lead-out pattern and the surface of the electrode connected thereto are close to each other, it is possible to easily connect with the conductive adhesive. The heights of the upper surfaces of the electrode and the electrode lead-out portion are substantially the same for facilitating the connection by the conductive adhesive, and if the electrode lead-out portion projects above the electrode, the assembly becomes difficult, which is not desirable. The electrode lead-out portion is composed of the convex portion 7 and the second electrode lead-out pattern 8. The mechanical protrusion 7 is a rigid body for sufficient mechanical stability, and the second electrode lead-out pattern 8 is electrically conductive. Has been achieved by
【0014】そして、第1の電極引き出しパターン5お
よび第2の電極引き出しパターン8に外部リード10が
半田づけまたは超音波ワイヤボンドにより電気的に接続
される。この外部リード10にはバイアス電源11およ
び電流計12が接続されている。これらの接続によりカ
ソード電極2およびアノード電極3にバイアス電圧を印
加することができ、放射線強度に比例する信号出力を測
定することができる。なお、カソード電極2およびアノ
ード電極3は上下面逆に配置してもよく、通常用いられ
るようにパルス高分析器などを接続してもよい。Then, the external leads 10 are electrically connected to the first electrode lead-out pattern 5 and the second electrode lead-out pattern 8 by soldering or ultrasonic wire bonding. A bias power supply 11 and an ammeter 12 are connected to the external lead 10. By these connections, a bias voltage can be applied to the cathode electrode 2 and the anode electrode 3, and the signal output proportional to the radiation intensity can be measured. The cathode electrode 2 and the anode electrode 3 may be arranged upside down, and a pulse height analyzer or the like may be connected as usual.
【0015】さらに、基板1をアルミナ基板4に固定す
る際に、基板1と凸部7の側面との間を絶縁性接着剤2
0により固定する。この絶縁性接着剤20としては、エ
ポキシ樹脂系接着剤、シリコーン樹脂系接着剤などの有
機高分子樹脂接着剤が用いられる。この固定により、導
電性接着剤による接続部9を形成する際に導電性接着剤
が基板1の側面を伝わって流れ、カソード電極2にまで
達してしまうことを確実に防ぐことができる。絶縁性接
着剤20の替わりにシリコーン樹脂などの絶縁シートを
挟むことでも導電性接着剤による短絡を防ぐことができ
る。しかし、絶縁性接着剤20を用いることにより、基
板1とアルミナ基板4の間を強固に固定することができ
るため、機械的振動などによっても接続が外れることが
なく、信頼性がさらに向上することから望ましい。Further, when fixing the substrate 1 to the alumina substrate 4, the insulating adhesive 2 is provided between the substrate 1 and the side surface of the convex portion 7.
Fixed by 0. As the insulating adhesive 20, an organic polymer resin adhesive such as an epoxy resin adhesive or a silicone resin adhesive is used. By this fixing, it is possible to reliably prevent the conductive adhesive from flowing along the side surface of the substrate 1 and reaching the cathode electrode 2 when the connecting portion 9 is formed by the conductive adhesive. A short circuit due to the conductive adhesive can also be prevented by sandwiching an insulating sheet such as a silicone resin in place of the insulating adhesive 20. However, by using the insulating adhesive 20, the substrate 1 and the alumina substrate 4 can be firmly fixed, so that the connection is not disconnected even by mechanical vibration and the reliability is further improved. From desirable.
【0016】以上のCdTe放射線検出器を多数個配列して
アレイ型検出器を構成できる。この場合、アルミナ基板
4の側面を密着して配列することにより検出部分である
基板1の間隔を高い精度で設定できる。この精度を決定
する基体部をアルミナ基板4などの精密加工が可能な材
料を用いることにより、加工の難しい基板1の精度に因
らず、アレイ型検出器としての位置精度を向上できる。
また、1つの基体部に多数の半導体を配置してアレイ化
する場合にも本発明による接続方法が利用できる。この
場合、接続が簡便であるために各素子間の検出感度の均
一性の向上、高密度のアレイ化が可能となる。An array type detector can be constructed by arranging a large number of the above CdTe radiation detectors. In this case, by arranging the side surfaces of the alumina substrate 4 so as to be in close contact with each other, it is possible to set the interval of the substrate 1 which is the detection portion with high accuracy. By using a material such as an alumina substrate 4 that can be precision processed for the base portion that determines the precision, the position precision as an array type detector can be improved regardless of the precision of the substrate 1 which is difficult to process.
Further, the connection method according to the present invention can be used when a large number of semiconductors are arranged on one substrate to form an array. In this case, since the connection is simple, it is possible to improve the uniformity of the detection sensitivity among the respective elements and form a high-density array.
【0017】なお、本発明は上述の本実施例に限定され
るものではなく、以下のような種々の変形が可能であ
る。基板1の固定にともなう電極特性の劣化を防ぐため
には、CdTe基板表面の電極を設けていない面を介し
て基体に固定することが望ましい。この場合、固定手段
として非導電性の通常の接着剤を用いることもでき、両
方の電極2、3からの取り出しを基板1の両側に設けた
2つの電極取り出し部を介して導電性接着剤により直接
に接続しても良い。The present invention is not limited to this embodiment described above, but various modifications such as the following are possible. In order to prevent the deterioration of the electrode characteristics due to the fixing of the substrate 1, it is desirable to fix the substrate to the substrate via the surface of the CdTe substrate surface on which no electrode is provided. In this case, an ordinary non-conductive adhesive may be used as the fixing means, and the two electrodes 2 and 3 may be taken out by a conductive adhesive through two electrode take-out portions provided on both sides of the substrate 1. You may connect directly.
【0018】また、本実施例では、電極取り出し部は、
基体の一部分上に形成されているが、例えば、金属製の
凸部のように基体から独立して固定されていても良い。
また、その形状は、電極に隣接して接続に必要な面積が
得られる形状であれば良い。さらに、CdTe基板上の
電極と電極取り出し部との間隔は、接続に用いられる導
電性接着剤の粘度などにより適切な値が決められるが、
1.0mmを超えると適切な導電性接着剤の粘度が高く
なるり、作業性が著しく悪化するため、通常は1.0m
m以下とされる。Further, in this embodiment, the electrode lead-out portion is
Although it is formed on a part of the base body, it may be fixed independently of the base body such as a metal projection.
Further, the shape may be a shape that is adjacent to the electrode and can obtain an area necessary for connection. Further, the gap between the electrode on the CdTe substrate and the electrode lead-out portion is determined as an appropriate value depending on the viscosity of the conductive adhesive used for connection.
If it exceeds 1.0 mm, the viscosity of a suitable conductive adhesive becomes high and the workability is significantly deteriorated.
m or less.
【図1】本発明のよるCdTe放射線検出器を説明する
ための断面図である。FIG. 1 is a sectional view for explaining a CdTe radiation detector according to the present invention.
1 基板(化合物半導体) 2 カソード電極 3 アノード電極 4 アルミナ基板(基体部) 5 第1の電極引き出しパターン 6 導電性接着剤 7 凸部 8 第2の電極引き出しパターン(電極取り出し部) 9 導電性接着剤による接続部 10 外部リード 11 バイアス電源 12 電流計 20 絶縁性接着剤 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate (compound semiconductor) 2 Cathode electrode 3 Anode electrode 4 Alumina substrate (base part) 5 First electrode extraction pattern 6 Conductive adhesive 7 Convex portion 8 Second electrode extraction pattern (electrode extraction part) 9 Conductive adhesion Connection part with adhesive 10 External lead 11 Bias power supply 12 Ammeter 20 Insulating adhesive
Claims (8)
れた一対の電極と、 (c)少なくとも前記一方の電極の縁部に隣接して設けら
れ、実質的に剛体である電極取り出し部と、 (d)前記化合物半導体および前記電極取り出し部が固定
されている基体部と、 (e)前記一方の電極と前記電極取り出し部の間を直接に
接続する導電性接着剤と を含むことを特徴とする半導体放射線検出器。1. A compound semiconductor on which radiation is incident, (b) a pair of electrodes respectively provided on two opposing surfaces of the compound semiconductor, and (c) at least an edge portion of the one electrode. An electrode lead-out portion which is provided adjacently and is substantially rigid, (d) a base portion to which the compound semiconductor and the electrode lead-out portion are fixed, (e) one of the one electrode and the electrode lead-out portion A semiconductor radiation detector, comprising: a conductive adhesive that directly connects the two.
面と前記電極取り出し部の間を満たしている絶縁体を含
むことを特徴とする請求項1記載の半導体放射線検出
器。2. The semiconductor radiation detector according to claim 1, further comprising an insulator filling a space between the surface of the compound semiconductor between the pair of electrodes and the electrode lead-out portion.
する結晶からなることを特徴とする請求項1ないし2記
載の半導体放射線検出器。3. The semiconductor radiation detector according to claim 1, wherein the compound semiconductor is a crystal containing CdTe as a main component.
面を該一方の電極が覆っていることを特徴とする請求項
1ないし3記載の半導体放射線検出器。4. The semiconductor radiation detector according to claim 1, wherein the one electrode covers substantially the entire surface on which the one electrode is provided.
出器を複数個隣接して配置したことを特徴とする半導体
放射線検出器。5. A semiconductor radiation detector comprising a plurality of semiconductor radiation detectors according to claim 1 arranged adjacent to each other.
対向する2面に一対の電極をそれぞれ形成する第1工程
と、 (ロ)実質的に剛体である電極取り出し部に一方の前記電
極の縁部が隣接するように前記化合物半導体を配置する
第2工程と、 (ハ)前記一方の電極と前記電極取り出し部の間を導電性
接着剤で接続する第3工程とを含むことを特徴とする半
導体放射線検出器の製造方法。6. (a) A first step of forming a pair of electrodes on two opposing surfaces of a compound semiconductor to which radiation is incident, and (b) one of the electrodes at a substantially rigid electrode extraction portion. A second step of arranging the compound semiconductor so that the edge portions of the electrode are adjacent to each other, and (c) a third step of connecting the one electrode and the electrode lead-out portion with a conductive adhesive. Manufacturing method of semiconductor radiation detector.
前記電極取り出し部の間に絶縁体を満たすことを特徴と
する請求項6記載の半導体放射線検出器の製造方法。7. The method for manufacturing a semiconductor radiation detector according to claim 6, wherein an insulator is filled between the surface of the compound semiconductor between the electrodes and the electrode lead-out portion.
を特徴とする請求項6ないし7記載の半導体放射線検出
器の製造方法。8. The method of manufacturing a semiconductor radiation detector according to claim 6, wherein the insulator is made of an insulating adhesive.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6058282A JPH07169989A (en) | 1993-10-20 | 1994-03-04 | Semiconductor radioactive rays detector and its manufacture |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28418993 | 1993-10-20 | ||
JP5-284189 | 1993-10-20 | ||
JP6058282A JPH07169989A (en) | 1993-10-20 | 1994-03-04 | Semiconductor radioactive rays detector and its manufacture |
Publications (1)
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JPH07169989A true JPH07169989A (en) | 1995-07-04 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004273747A (en) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Nippon Kessho Kogaku Kk | Photodetector and radiation detecting device |
JP2007205935A (en) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Hamamatsu Photonics Kk | Radiation detector |
US7301214B2 (en) | 2001-04-11 | 2007-11-27 | Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. | Component of a radiation detector comprising a substrate with positioning structure for a photoelectric element array |
JP2011501149A (en) * | 2007-11-01 | 2011-01-06 | オイ アジャト, リミテッド | CdTe / CdZnTe radiation imaging detector and high / bias voltage means |
JP2012021905A (en) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Hitachi Consumer Electronics Co Ltd | Radiation detector and radiation detector manufacturing method |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0352273A (en) * | 1989-07-19 | 1991-03-06 | Shimadzu Corp | Mounting structure of radioactive ray detector array |
JPH05175524A (en) * | 1991-12-26 | 1993-07-13 | Nec Corp | Waveguide light receiving module |
-
1994
- 1994-03-04 JP JP6058282A patent/JPH07169989A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0352273A (en) * | 1989-07-19 | 1991-03-06 | Shimadzu Corp | Mounting structure of radioactive ray detector array |
JPH05175524A (en) * | 1991-12-26 | 1993-07-13 | Nec Corp | Waveguide light receiving module |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7301214B2 (en) | 2001-04-11 | 2007-11-27 | Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. | Component of a radiation detector comprising a substrate with positioning structure for a photoelectric element array |
JP2004273747A (en) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Nippon Kessho Kogaku Kk | Photodetector and radiation detecting device |
JP2007205935A (en) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Hamamatsu Photonics Kk | Radiation detector |
JP2011501149A (en) * | 2007-11-01 | 2011-01-06 | オイ アジャト, リミテッド | CdTe / CdZnTe radiation imaging detector and high / bias voltage means |
JP2012021905A (en) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Hitachi Consumer Electronics Co Ltd | Radiation detector and radiation detector manufacturing method |
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