JPH0652753B2 - Substrate loading / unloading device - Google Patents
Substrate loading / unloading deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は基板搬出入装置に係るものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a substrate loading / unloading apparatus.
一般にウエハに対して加工または測定を行なう装置には
ウエハを多数収納したキャリアが設置されている。ウエ
ハはキャリアから装置の加工または測定セクションに供
給され、そこで加工または測定を終了した後再びキャリ
アに収納され、キャリアごと次の工程にまわされる。Generally, a carrier that stores a large number of wafers is installed in an apparatus that processes or measures wafers. The wafer is supplied from the carrier to the processing or measurement section of the apparatus, and after the processing or measurement is completed there, the wafer is stored again in the carrier and the carrier is passed to the next step.
キャリアからウエハを搬出またはキャリアに搬入するた
めにベルトコンベア式の搬送装置か、またはハンド式の
搬送装置が使用されている。本発明はハンド式の搬送装
置が使用される基板搬出入装置に係るものである。A belt conveyor type transfer device or a hand type transfer device is used to carry out a wafer from a carrier or carry it into a carrier. The present invention relates to a substrate loading / unloading device in which a hand-type transport device is used.
[従来技術] ハンド式の搬送装置はキャリア内に多数収納されている
ウエハから所望箇所のウエハを取り出すために隣接する
ウエハとウエハとの間にフィンガーを隣接ウエハに接触
させずに挿入しなければならず、そのためウエハの位置
を正確に検知する必要がある。このためウエハハンドラ
はウエハ位置検知機構を組み込んでいる。第3図にウエ
ハハンドラにウエハ位置検出装置を組込んだ従来のハン
ド式の搬送装置を示す。[Prior Art] In order to take out a wafer at a desired position from a large number of wafers stored in a carrier, a hand-type transfer device must be inserted between adjacent wafers without bringing fingers into contact with the adjacent wafers. Therefore, it is necessary to accurately detect the position of the wafer. For this reason, the wafer handler incorporates a wafer position detection mechanism. FIG. 3 shows a conventional hand-type transfer device in which a wafer position detecting device is incorporated in a wafer handler.
図において、1はレーザ光源、2はレーザ光、4はミラ
ー、5はフィンガー、6はキャリア、7はウエハ、8は
ガラスロッド81とホトセンサ82;83とから成るセ
ンサ、10;12はハンドアーム、11;13は軸、15はハンド
アーム伸縮駆動部、16はハンドラ回転機構、17はハンド
ラ昇降機構である。In FIG, 1 is a laser light source, 2 a laser beam, a mirror 4, the finger 5, the carrier 6, 7 wafers, 8 glass rod 81 and the photosensor 82; sensor consisting of 8 3 which, 10; 12 Is a hand arm, 11 and 13 are axes, 15 is a hand arm extension / contraction drive unit, 16 is a handler rotating mechanism, and 17 is a handler lifting mechanism.
カセット6内には多数のウエハ7が収納されている。フ
ィンガー5を搬出すべき所望のウエハと隣接するウエハ
との間に挿入するためには、ウエハの位置を正確に検知
する必要がある。そこでウエハハンドラにウエハ位置検
知機構を組み込んで使用する。ウエハ位置検知機構の基
本的な構成は、レーザ源1と、カセット6の裏側に配置
されたガラスロッド81と、レーザ源1から出たレーザ
2をガラスロッド81に向けて射出するミラー4と、ガ
ラスロッドに入射したレーザを検出するためのホトセン
サ82;83から成っている。A large number of wafers 7 are stored in the cassette 6. In order to insert the finger 5 between the desired wafer to be carried out and the adjacent wafer, it is necessary to accurately detect the position of the wafer. Therefore, a wafer position detection mechanism is incorporated in the wafer handler for use. The basic structure of the wafer position detection mechanism is a laser source 1, a glass rod 8 1 arranged on the back side of the cassette 6, and a mirror 4 for emitting a laser 2 emitted from the laser source 1 toward the glass rod 8 1. And a photo sensor 8 2 ; 8 3 for detecting the laser incident on the glass rod.
この構成でウエハハンドラが仮に上方から下方に移動す
るとすればその移動距離内に、ウエハが存在すればレー
ザ光2はウエハによりさえぎられるのでロッド81に入
射せず、ホトセンサ82;83は光を検出しない。ウエ
ハが存在しなければホトセンサ82;83はロッド81
に入射した光を検出する。従って検知光の最も少い位置
がウエハの中心位置となる。If the wafer handler in this configuration is tentatively moved from top to bottom in its moving distance, the laser beam 2 if the wafer is present not enter the rod 81 so intercepted by the wafer, the photosensor 8 2; 8 3 Does not detect light. If there is no wafer, photo sensor 8 2 ; 8 3 is rod 8 1
The light incident on is detected. Therefore, the position where the detection light is the least is the center position of the wafer.
このように、従来の位置検知機構はウエハとウエハ位置
検知機構との間で上下方向の距離を相対的に変化させて
ウエハの有無を調べていた。しかし、ウエハとウエハ位
置検知機構との相対的移動を精確に行なうための機構は
複雑な構成とならざるを得ない。As described above, the conventional position detection mechanism checks the presence or absence of the wafer by relatively changing the vertical distance between the wafer and the wafer position detection mechanism. However, the mechanism for accurately performing the relative movement between the wafer and the wafer position detection mechanism must have a complicated configuration.
[発明が解決しようとする問題点と解決手段] 本発明の目的は、ハンド式の搬送位置を利用した、簡単
な構成で精確なウエハ等の基板の搬出入を保証する基板
搬出入装置を提供することである。[Problems to be Solved by the Invention and Solving Means] An object of the present invention is to provide a substrate loading / unloading apparatus that uses a hand-type transporting position to ensure accurate loading / unloading of substrates such as wafers with a simple configuration. It is to be.
この目的を達成するため本発明の基板搬出入装置は、基
板をカセット内に収納または前記カセットから取出すた
めのフィンガーと、前記フィンガーを前記カセット内に
侵入または前記カセットから退避させるために利用され
るハンド機構と、前記フィンガーに沿って出射される光
ビームを発生するための光源と、前記カセット内を前記
基板によって遮られることなく通過してきた前記光ビー
ムを検出する光センサを有し、前記光センサの出力を利
用して前記フィンガーを前記ハンド機構によって前記カ
セット内に侵入させる際の前記フィンガーと前記カセッ
トの位置関係を調整する基板搬出入装置において、前記
光ビームを前記フィンガーに対して平行移動するビーム
平行移動機構を設けたことを特徴とする。In order to achieve this object, the substrate loading / unloading apparatus of the present invention is used for accommodating a substrate in a cassette or for ejecting a substrate from the cassette, and for injecting the finger into or out of the cassette. A hand mechanism, a light source for generating a light beam emitted along the fingers, and an optical sensor for detecting the light beam passing through the cassette without being blocked by the substrate, In a substrate loading / unloading apparatus that adjusts the positional relationship between the fingers and the cassette when the fingers are inserted into the cassette by the hand mechanism using the output of a sensor, the light beam is moved in parallel with the fingers. A beam parallel moving mechanism is provided.
前記ビーム平行移動機構としては、前記光ビームの光路
中で回動するように設けられたガラス板を有するもの等
を用いることができる。As the beam parallel moving mechanism, it is possible to use one having a glass plate provided so as to rotate in the optical path of the light beam.
[実施例] 第1図において1は細いビーム径をもち、直進性のすぐ
れたレーザ光を提供するレーザ光源、2は1によって発
せられたレーザ光、3はレーザ光の光路に回動するよう
設置したガラス板、4はこの回動ガラス板3によって平
行移動したレーザ光路をウエハ間へ向け射出するための
反射ミラー、5はウエハ間に挿入し、キャリア6からウ
エハを引き出し、また収納するためのフィンガー、6は
ウエハを収納しているキャリア、7はウエハ、8は反射
ミラー4からウエハ間に射出されたレーザ光をウエハが
通過または阻止することによって光路内のウエハの有無
を検知するため、レーザ光の強弱を電気信号に変換する
光センサ、9はキャリアを支えるキャリア台10〜16はフ
ィンガーを動かすための機構部分(詳細は後述)、17は
フィンガー5に対してキャリア6の相対位置を変化さ
せ、目的位置のウエハとそれに隣接するウエハとの間に
フィンガー5を位置させるためのキャリア上下機構であ
る。10,12はハンドアーム、11,13,14は軸、15はハン
ドアーム伸縮駆動部、16はハンドラ回転機構である。第
2図において、18〜20は第1図におけるガラス板3の三
通りの位置を指示する。21〜23は位置18〜20の位置にあ
るガラス板によって屈折し、平行移動させられたレーザ
光路である。[Embodiment] In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a laser light source having a narrow beam diameter for providing a laser light having excellent straightness, 2 denotes laser light emitted by 1, and 3 denotes so that the laser light rotates in the optical path of the laser light. The glass plate 4 installed is a reflection mirror for emitting the laser light path translated by the rotating glass plate 3 toward the wafers, and the reference numeral 5 is inserted between the wafers to pull out the wafers from the carrier 6 and to store them. Fingers, 6 is a carrier that accommodates the wafer, 7 is the wafer, and 8 is for detecting the presence or absence of the wafer in the optical path by passing or blocking the laser light emitted from the reflection mirror 4 between the wafers. , An optical sensor for converting the intensity of laser light into an electric signal, 9 carrier bases 10 to 16 for supporting carriers, mechanical parts for moving fingers (details will be described later), and 17 fingers. -5 is a carrier up-and-down mechanism for changing the relative position of the carrier 6 to the wafer 5 and positioning the finger 5 between the wafer at the target position and the wafer adjacent thereto. 10 and 12 are hand arms, 11, 13 and 14 are axes, 15 is a hand arm telescopic drive unit, and 16 is a handler rotating mechanism. In FIG. 2, 18 to 20 indicate three positions of the glass plate 3 in FIG. Reference numerals 21 to 23 are laser optical paths which are refracted by the glass plate at the positions 18 to 20 and translated.
第1図の構成において、レーザ光源1から発せられたレ
ーザ光2は回動ガラス板3により屈折し、進路を変えら
れたのち反射ミラー4にてウエハ7、またはフィンガー
5に平行に射出される。レーザ光路上に障害物がある
と、レーザ光は散乱され、光センサ8に入射する光量が
少くなることによつてセンサー出力が低下して光路上に
ウエハがあることを示す。In the configuration shown in FIG. 1, the laser light 2 emitted from the laser light source 1 is refracted by the rotating glass plate 3, and after changing its course, is emitted parallel to the wafer 7 or the finger 5 by the reflection mirror 4. . If there is an obstacle on the laser optical path, the laser light is scattered and the amount of light incident on the optical sensor 8 is reduced, so that the sensor output is reduced and the wafer is on the optical path.
ウエハ間に安全にフィンガーを挿入するためにはフィン
ガーとウエハとの位置関係を知る必要がある。フィンガ
ーの位置を知るためにはフィンガーにウエハをのせてそ
のウエハを検出して位置を知ればよい。回動ガラス板は
任意の位置に回転でき、制御装置はその角度を知ること
ができる。フィンガーを縮めた状態で、キャリア台9を
光センサ8の位置よりも上方へ移動させ、反射ミラー4
と光センサ8の間にはフィンガー5の上に載せたウエハ
7のみが存在するという状態にしてガラス板を回動させ
光センサ出力の下り始めの回転角を記憶し、そしてウエ
ハの厚さ方向の中心を計算し、その値からフィンガーの
位置を計算する。次にフィンガー上のウエハを取り除
き、キャリア台を降下させ所望のウエハがフィンガーの
位置より少し上にくるように、あらかじめ大まかにセッ
トされているウエハの位置データに従ってキャリアを停
止させる。この状態でガラス板を回動させフィンガー上
のウエハの位置を求めた場合と同様の方法で、所望のウ
エハとその下側のウエハの位置を求める。In order to safely insert the fingers between the wafers, it is necessary to know the positional relationship between the fingers and the wafer. In order to know the position of the finger, a wafer may be placed on the finger, the wafer may be detected, and the position may be known. The rotating glass plate can be rotated to any position, and the control device can know the angle. With the fingers contracted, the carrier table 9 is moved upward from the position of the optical sensor 8 and the reflection mirror 4
Between the optical sensor 8 and the optical sensor 8 so that only the wafer 7 placed on the finger 5 exists, the glass plate is rotated to store the rotation angle at which the output of the optical sensor starts to fall, and the wafer thickness direction is measured. The center of is calculated, and the finger position is calculated from that value. Next, the wafer on the finger is removed, the carrier table is lowered, and the carrier is stopped according to the wafer position data roughly set in advance so that the desired wafer is slightly above the finger position. In this state, the position of the desired wafer and the position of the wafer below it are determined by the same method as when the position of the wafer on the fingers is determined by rotating the glass plate.
先に求めたフィンガーの位置と2枚のウエハ位置とを比
較しフィンガーが挿入可能かどうか判断する。挿入でき
ないと判断したならば、目的の位置までのずれ量を計算
し、キャリア台をずれ量分だけ移動させて再度ウエハの
位置検知を行う。これを数回繰り返せばフィンガーとキ
ャリアはフィンガー挿入可能な位置関係に落ちつく。そ
こでフィンガーをキャリア内に挿入しウエハの搬送を実
施する。The position of the finger obtained previously is compared with the positions of the two wafers to determine whether the finger can be inserted. If it is determined that the wafer cannot be inserted, the shift amount to the target position is calculated, the carrier table is moved by the shift amount, and the wafer position is detected again. If this is repeated several times, the fingers and the carrier settle in a positional relationship in which the fingers can be inserted. Therefore, the fingers are inserted into the carrier to carry the wafer.
上述した過程においてレーザ光の遮断長が過渡に長い場
合はウエハが傾いていると判断し搬送を中止する。If the cutoff length of the laser beam is excessively long in the above process, it is determined that the wafer is tilted, and the transfer is stopped.
上記の実施例では光束平行移動手段として回動ガラス板
を使用しているが、これの代りに反射ミラー4を上下動
するようにしてもよいし、または反射ミラー4の位置に
ポリゴンミラーとf−θレンズとの組合せを使用しても
よい。In the above embodiment, the rotating glass plate is used as the light beam parallel moving means, but instead of this, the reflecting mirror 4 may be moved up and down, or the polygon mirror and f may be placed at the position of the reflecting mirror 4. A combination with a -θ lens may be used.
なお、キャリアとフィンガーとレーザ光路の三者の間の
相対距離をレーザ光路の移動範囲内において変化させる
機構をウエハハンドラに設けることによりこれら三者の
調整を自動化できる。さらにキャリア内でウエハが傾い
ていたり、ハンド上でウエハがレーザ光路に対し傾いて
いたりした場合(ウエハの傾いている状態はウエハ搬送
の安全を妨げる)、レーザ光路を平行移動させてウエハ
がレーザ光を遮断している距離を測ることによって傾き
を計算することも可能である。The wafer handler may be provided with a mechanism for changing the relative distance between the carrier, the finger, and the three members of the laser optical path within the moving range of the laser optical path, so that the adjustment of these three members can be automated. Furthermore, if the wafer is tilted in the carrier, or if the wafer is tilted with respect to the laser light path on the hand (the tilted state of the wafer hinders the safety of wafer transfer), the laser light path is moved in parallel to move the laser It is also possible to calculate the slope by measuring the distance that the light is blocked.
第1図の実施例ではキャリア6を可動とし、フィンガー
5と位置検出装置(部材1,2,3,4,8から成る)
は固定であったが、キャリア6を固定して、フィンガー
と位置検出装置とを可動とするか、または三者すべてを
可動としてもよい。In the embodiment shown in FIG. 1, the carrier 6 is movable, and the fingers 5 and the position detecting device (consisting of members 1, 2, 3, 4, 8).
However, the carrier 6 may be fixed and the fingers and the position detecting device may be movable, or all three may be movable.
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、上述のようなビー
ム平行移動機構を設けたため、基板とフィンガーの位置
検出を精確に行ない、精確な基板の搬出入を行なうこと
ができる。EFFECTS OF THE INVENTION As described above, according to the present invention, since the beam parallel moving mechanism as described above is provided, the positions of the substrate and the fingers can be accurately detected, and the substrates can be accurately carried in and out. .
第1図は本発明の第1の実施例の略図である。 第2図は第1図の実施例の光束平行移動手段の説明図で
ある。 第3図は従来のウエハ位置検出装置を組込んだハンドラ
を使用するウエハ搬送装置の略図である。 図中、 1:レーザ光源、2:レーザ光、 3:回動ガラス板、4:反射ミラー、 5:フィンガー、6:キャリア、7:ウエハ、 8:光センサ、9:キャリア台、 10;12:ハンドアーム、11;13;14:軸、 15:ハンドアーム伸縮駆動部、 16:ハンドラ回転機構、17:キャリア上下機構。FIG. 1 is a schematic diagram of a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is an explanatory view of the light beam parallel moving means of the embodiment shown in FIG. FIG. 3 is a schematic view of a wafer transfer device using a handler incorporating a conventional wafer position detection device. In the figure, 1: laser light source, 2: laser light, 3: rotating glass plate, 4: reflection mirror, 5: finger, 6: carrier, 7: wafer, 8: optical sensor, 9: carrier stand, 10; 12 : Hand arm, 11; 13; 14: Axis, 15: Hand arm telescopic drive unit, 16: Handler rotation mechanism, 17: Carrier up / down mechanism.
Claims (2)
トから取出すためのフィンガーと、前記フィンガーを前
記カセット内に侵入または前記カセットから退避させる
ために利用されるハンド機構と、前記フィンガーに沿っ
て出射される光ビームを発生するための光源と、前記カ
セット内を前記基板によって遮られることなく通過して
きた前記光ビームを検出する光センサを有し、前記光セ
ンサの出力を利用して前記フィンガーを前記ハンド機構
によって前記カセット内に侵入させる際の前記フィンガ
ーと前記カセットの位置関係を調整する基板搬出入装置
において、前記光ビームを前記フィンガーに対して平行
移動するビーム平行移動機構を設けたことを特徴とする
基板搬出入装置。1. A finger for accommodating or removing a substrate in a cassette, a hand mechanism used for intruding the finger into or out of the cassette, and ejecting along the finger. A light source for generating a light beam, and an optical sensor that detects the light beam that has passed through the cassette without being blocked by the substrate, and uses the output of the optical sensor to move the finger. In the substrate loading / unloading device for adjusting the positional relationship between the fingers and the cassette when the fingers are moved into the cassette by the hand mechanism, a beam parallel moving mechanism for moving the light beam in parallel with the fingers is provided. Characteristic board loading / unloading device.
光路中で回動するように設けられたガラス板を有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の基板搬出入
装置。2. The substrate loading / unloading apparatus according to claim 1, wherein the beam parallel moving mechanism has a glass plate provided so as to rotate in the optical path of the light beam.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60099507A JPH0652753B2 (en) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | Substrate loading / unloading device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60099507A JPH0652753B2 (en) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | Substrate loading / unloading device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPS61258444A JPS61258444A (en) | 1986-11-15 |
JPH0652753B2 true JPH0652753B2 (en) | 1994-07-06 |
Family
ID=14249173
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60099507A Expired - Lifetime JPH0652753B2 (en) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | Substrate loading / unloading device |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0652753B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07115773B2 (en) * | 1986-01-29 | 1995-12-13 | 株式会社ニコン | Substrate transfer device |
JP3075561B2 (en) * | 1989-01-27 | 2000-08-14 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | Control system for taking out wafers from cassette |
CH680275A5 (en) * | 1990-03-05 | 1992-07-31 | Tet Techno Investment Trust |
Family Cites Families (4)
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---|---|---|---|---|
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JPS5720444A (en) * | 1980-07-11 | 1982-02-02 | Citizen Watch Co Ltd | Feeding device for semiconductor wafer |
JPS58111705A (en) * | 1981-12-25 | 1983-07-02 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | Optical measuring device |
JPS59175740A (en) * | 1983-03-25 | 1984-10-04 | Telmec Co Ltd | Extractor for wafer in measuring device for semiconductor |
-
1985
- 1985-05-13 JP JP60099507A patent/JPH0652753B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS61258444A (en) | 1986-11-15 |
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Legal Events
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