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JPH06139813A - Paste for outer conductor of low-temperature baked multilayer circuit substrate - Google Patents

Paste for outer conductor of low-temperature baked multilayer circuit substrate

Info

Publication number
JPH06139813A
JPH06139813A JP4287558A JP28755892A JPH06139813A JP H06139813 A JPH06139813 A JP H06139813A JP 4287558 A JP4287558 A JP 4287558A JP 28755892 A JP28755892 A JP 28755892A JP H06139813 A JPH06139813 A JP H06139813A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silver
paste
multilayer circuit
outer conductor
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP4287558A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akinori Yokoyama
明典 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP4287558A priority Critical patent/JPH06139813A/en
Publication of JPH06139813A publication Critical patent/JPH06139813A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To manufacture paste for outer conductors of a low-temperature baked multilayer circuit substrate, which has migration resistance, high adhesiveness, oxidation resistance and besides excellent electric connecting to inner conductors, by specifying the concentration of silver in the surface of each of particles in the paste and the average diameter of the particles respectively. CONSTITUTION:Paste for outer conductors of a low-temperature baked multilayer circuit substrate is represented by a general formula of AgxCu1-x(0.01<=X<=0.4 in atomic ratio), and it has the concentration of silver in the surface of its particle set higher than 2.1 times the average concentration of silver in the whole of each of the particles. This paste is manufactured through the process of mutually compounding 0.1 to 30 pts.wt. of glass frit, in which particles each have an average diameter of 0.1 to 10mum and also not less than 90% of them each have a diameter of not larger than 15mum, against 100 pts.wt. of copper alloy powder in which particles each having a region where the concentration of silver is gradually increased toward the surface of the particle each have an average diameter of 0.1 to 20mum and also not less than 90% of them each have a diameter of not larger than 25mum, the copper alloy powder and an organic vehicle respectively. The paste can thus have excellent adhesiveness to the substrate, solderability, migration resistance and oxidation resistance respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明の低温焼成多層回路基板用
外部導体ペーストは、高密度、信号の高速伝送に優れた
特性を発揮する低温焼成多層回路基板の外部導体として
使用できる。また、ハイブリッドIC回路として利用で
きる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The outer conductor paste for a low temperature fired multilayer circuit board of the present invention can be used as an outer conductor of a low temperature fired multilayer circuit board exhibiting excellent characteristics in high density and high speed signal transmission. It can also be used as a hybrid IC circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子材料分野で高集積化、高密度
化が進む中で、ハイブリッドIC基板としても多層化技
術が進められている。中でも、低温焼成グリーンシート
多層による多層化が進められている。多層化の方法とし
て、予めビアホールあるいはスルーホール用の穴をドリ
ルあるいはパンチングで作製されたグリーンシート(焼
成前の基板)に導体として銀、銀−パラジウム、銀−白
金、金などの貴金属粉末を用いたペースト、さらに必要
に応じて誘電体、抵抗ペーストを印刷し、印刷されたグ
リーンシートを多層化し、酸素含有雰囲気中あるいは空
気中で550〜1060℃低温で同時焼成して多層回路
基板として用いられている。当然、こうして得られた結
果、低温焼成多層回路基板の外部導体(外層導体)とし
て銀、銀−パラジウム、銅、銀−白金、金のペーストが
用いられてきた。また、前記貴金属からなる内部導体が
空気中あるいは含酸素雰囲気中で形成された後、不活性
雰囲気(たとえば、窒素雰囲気中)で外部導体としての
銅ペーストを焼成する方法も公知である。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of electronic materials, with increasing integration and densification, multi-layer technology for hybrid IC substrates has been advanced. Among them, low-temperature firing green sheet multi-layering is being promoted. As a multi-layer method, a noble metal powder such as silver, silver-palladium, silver-platinum, or gold is used as a conductor on a green sheet (substrate before firing) that is prepared by drilling or punching holes for via holes or through holes in advance. Used as a multi-layer circuit board by printing the paste, and if necessary, a dielectric and a resistance paste, making the printed green sheet into a multilayer, and simultaneously firing at a low temperature of 550 to 1060 ° C. in an oxygen-containing atmosphere or in air. ing. Naturally, as a result obtained in this way, a paste of silver, silver-palladium, copper, silver-platinum, or gold has been used as the outer conductor (outer layer conductor) of the low temperature firing multilayer circuit board. A method is also known in which an inner conductor made of the noble metal is formed in air or in an oxygen-containing atmosphere, and then a copper paste as an outer conductor is fired in an inert atmosphere (for example, in a nitrogen atmosphere).

【0003】外部導体を作製した後、必要に応じて、ク
ロスオーバーガラス、オーバーガラス、外部抵抗体など
を印刷焼成を繰り返し行い、低温焼成多層回路基板とし
ての回路を形成していくものである。
After the outer conductor is produced, printing and firing of a crossover glass, an overglass, an external resistor and the like are repeated as needed to form a circuit as a low temperature firing multilayer circuit board.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】これまでに、低温焼成
多層回路基板の外部導体として用いられている、公知な
銀、銀−パラジウム、銀−白金、金、銅には以下の問題
点がある。すなわち、銀の場合、内部導体として用いる
場合には、積層されているため、内部導体間でのマイグ
レーション性はそれほど問題にならないが、外部導体が
銀である場合には、貴金属系の内部導体(すなわち、
銀、銀−パラジウム、銀−白金、金)との焼成時の接合
は内部導体と固溶体をつくり易いため良好であるが、多
層回路基板のような高密度パターン間での外部導体間で
の銀マイグレーションが問題になる。
The known silver, silver-palladium, silver-platinum, gold, and copper used as the outer conductor of a low-temperature fired multilayer circuit board have the following problems. . That is, in the case of silver, when it is used as an internal conductor, since it is laminated, the migration property between the internal conductors does not matter so much, but when the external conductor is silver, the precious metal internal conductor ( That is,
Bonding with silver, silver-palladium, silver-platinum, gold) during firing is good because it is easy to form a solid solution with the inner conductor, but silver between outer conductors between high-density patterns such as multilayer circuit boards Migration is a problem.

【0005】銀−バラジウムの場合には、やはり、貴金
属系を用いた内部導体との焼成時の接合は良いが、ファ
インラインとして用いられる外部導体としては、インピ
ーダンスが高すぎて実用回路に適さない。銀−白金の外
部導体では、貴金属系の内部導体との焼成時の接合は良
好であり、信頼性、ファインライン回路のはんだ付け時
のはんだ食われは良いが、マイグレーション性に問題が
ある。
In the case of silver-varadium, it is still good to bond it with the internal conductor using a noble metal system at the time of firing, but as an external conductor used as a fine line, the impedance is too high and it is not suitable for practical circuits. . The silver-platinum outer conductor has good bonding with the precious metal-based inner conductor during firing, and has good reliability and solder erosion during fine line circuit soldering, but has a problem in migration property.

【0006】金では、同様にして貴金属系内部導体との
焼成時の接合は良好であるが、コストがかかりすぎてし
まう。銅を外部導体として用いる場合には、ファインラ
インでのインピーダンスも低く、電気的特性も優れる
が、前記貴金属系の内部導体を空気中あるいは酸素含有
雰囲気中で焼成し形成した後、不活性雰囲気中で焼成し
て作製されるため、有機ビヒクルを完全に焼成するため
の添加酸素量をかなり厳しくコントロールしなければな
らず10ppm以下の窒素雰囲気中での焼成が一般に用
いられてきている。そのため、有機ビヒクルの焼き飛び
残があり、はんだ付け不良も生じ易い。また、外部導体
が銅の場合、焼成時、前記貴金属系内部導体(ビアホー
ル導体、スルーホール導体を通じて)との接合におい
て、銅粉末の焼成時あるいは保存状態の微量酸化状態で
内部導体との合金化が不十分になり易く接合面での電気
的不良を起こし易い。
[0006] With gold, similarly, bonding with the precious metal internal conductor at the time of firing is good, but it costs too much. When copper is used as the outer conductor, the impedance in the fine line is low and the electrical characteristics are excellent, but after forming the precious metal-based inner conductor by firing in air or an oxygen-containing atmosphere, it is placed in an inert atmosphere. Since it is produced by firing at 100 ° C., the amount of oxygen added for completely firing the organic vehicle must be controlled quite strictly, and firing in a nitrogen atmosphere of 10 ppm or less has been generally used. Therefore, the organic vehicle is left unburned, and defective soldering easily occurs. Further, when the outer conductor is copper, it is alloyed with the inner conductor at the time of firing and bonding with the precious metal-based inner conductor (via-hole conductor and through-hole conductor) at the time of firing of the copper powder or in the minute oxidation state in the preserved state. Is likely to be insufficient, and electrical defects are likely to occur at the joint surface.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は一般式Agx
1-x (ただし、0.01≦x≦0.4、原子比)であ
らわされ、且つ粒子表面の銀濃度が平均の銀濃度の2.
1倍より高く、粒子表面に向かって銀濃度が増加する領
域を有する平均粒子径が0.1〜20μmであり、且つ
20μm以下の粉末が90%以上である銅合金粉末10
0重量部に対して、平均粒子径0.1〜10μmで且つ
10μm以下の粉末が90%以上であるガラスフリット
0.1〜30重量部、及び有機ビヒクルを含有すること
を特徴とする低温焼成多層回路基板外部導体用ペース
ト、および該組成のペーストを、銀、銀−パラジウム、
銀−白金、金より選ばれた1種以上である内層の内部導
体(ビアホール導体、スルーホール導体を含む)を有す
る低温焼成多層回路基板の外層に印刷し焼結してなる一
般式Agx Cu1-x (ただし、0.01≦x≦0.4、
原子比)で表される外部導体からなる低温焼成多層回路
基板に関するものである。
The present invention is directed to the general formula Ag x C
u 1-x (where 0.01 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), and the silver concentration on the surface of the grain is 2.
Copper alloy powder 10 having an average particle size of 0.1 to 20 μm and a ratio of powder having a particle size of 20 μm or less is 90% or more, which has a region higher than 1 time and has a silver concentration increasing toward the particle surface.
Low temperature firing characterized by containing 0.1 to 30 parts by weight of a glass frit having an average particle size of 0.1 to 10 μm and 90% or more of powder having an average particle size of 10 to 10 μm, and an organic vehicle, relative to 0 parts by weight. Multilayer circuit board external conductor paste, and the paste of the composition, silver, silver-palladium,
A general formula Ag x Cu formed by printing and sintering on an outer layer of a low temperature fired multilayer circuit board having an inner layer inner conductor (including a via hole conductor and a through hole conductor) which is at least one selected from silver-platinum and gold. 1-x (where 0.01 ≦ x ≦ 0.4,
The present invention relates to a low temperature fired multilayer circuit board composed of an outer conductor expressed by atomic ratio).

【0008】本発明で使用することのできる銅合金粉末
の作製法はすでに本発明者により出願されているアトマ
イズ法が好ましい(USP5091114号)。開示内
容によれば、不活性ガス雰囲気中で、千数百度の高温度
でかかる組成の銅、銀を融解し、高速の不活性ガスを用
いて融液をアトマイズし、急冷凝固して微粉末を作製す
る方法である。
As a method for producing the copper alloy powder that can be used in the present invention, the atomizing method already applied for by the present inventor is preferable (USP 5091114). According to the disclosure, in an inert gas atmosphere, copper and silver having such a composition at a high temperature of several thousand and several hundred degrees are melted, the melt is atomized using a high-speed inert gas, and rapidly solidified to obtain a fine powder. Is a method of manufacturing.

【0009】銀量xが0.01未満では外部導体として
焼成時、十分な耐酸化性が乏しく、内部導体との接合が
十分とれない。0.4を超える場合には、外部導体間で
の銀のマイグレーションが起こり易くなる。好ましく
は、0.01〜0.35であり、さらに、0.01〜
0.25が好ましい。また、本発明で使用することので
きる銅合金粉末の表面の銀濃度は平均の銀濃度より高
く、粒子表面に向かって銀濃度が増加する領域を有して
いるが、表面の銀濃度は平均の銀濃度の2.1倍以上の
ものである。2.1倍未満の場合には導体の焼成時の耐
酸化性が不十分のみならず、内部導体との接合が十分で
ない。好ましくは、2.1倍以上40倍以下である。さ
らに、3倍以上30倍以下が好ましい。
When the amount of silver x is less than 0.01, sufficient oxidation resistance is poor when firing as an outer conductor, and sufficient bonding with the inner conductor cannot be obtained. If it exceeds 0.4, migration of silver between the outer conductors is likely to occur. It is preferably 0.01 to 0.35, and more preferably 0.01 to 0.35.
0.25 is preferable. Further, the silver concentration on the surface of the copper alloy powder that can be used in the present invention is higher than the average silver concentration and has a region where the silver concentration increases toward the particle surface, but the silver concentration on the surface is average. The silver concentration is 2.1 times or more. If it is less than 2.1 times, not only the oxidation resistance of the conductor during firing is insufficient, but also the bonding with the internal conductor is insufficient. It is preferably 2.1 times or more and 40 times or less. Further, it is preferably 3 times or more and 30 times or less.

【0010】本発明の外部導体用ペーストは内部導体と
の焼成時の合金接合によって充分な電気的導通を得るも
のである。すなわち、銀と前記内部導体の貴金属成分は
全率固溶体をつくり、本発明で使用の銅合金粉末表面に
銀濃度が高いことから、すでに形成されている内部導体
の銀、銀−パラジウム、銀−白金あるいは金を含む貴金
属内部導体とかかる組成の外部導体ペーストが容易に合
金化しやすく、そのため充分な電気的接合が得られるこ
とにある。また、焼結後の外部導体としても、平均の銀
濃度が低く導体間でのマイグレーションの問題もないこ
とも利点の一つである。
The external conductor paste of the present invention is to obtain sufficient electrical conduction by alloy bonding with the internal conductor during firing. That is, silver and the noble metal component of the inner conductor form a solid solution at all rates, and since the silver concentration on the surface of the copper alloy powder used in the present invention is high, silver, silver-palladium, silver-of the already formed inner conductor is formed. The noble metal inner conductor containing platinum or gold and the outer conductor paste having such a composition are easily alloyed, so that sufficient electrical connection can be obtained. Also, as an outer conductor after sintering, one of the advantages is that the average silver concentration is low and there is no problem of migration between conductors.

【0011】銅の外部導体であると、焼成時の銅粒子の
酸化がわずかでもあると、すでに形成されている内部導
体の銀、白金、パラジウム、金成分などからなる内部導
体との合金による接合が十分に行われず接点不良を起こ
す。本発明で用いる銅合金粉末は、平均粒子径が0.1
〜20μmであるが、0.1μm未満であると粒子の含
有する酸素量が高く焼成時の導通不良を起こし易い。2
0μmを超える場合には、ファイライン化時の目詰まり
を起こし易く、好ましくに。好ましく、0.2〜15μ
mの平均粒子径である。さらに、低温焼成多層回路基板
の外部導体のようなファインライン印刷性と内部導体と
の充分な合金化のため25μm以下の粒子の存在が90
%以上が必要である。さらに、好ましくは95%以上で
ある。
In the case of a copper outer conductor, if the copper particles are slightly oxidized during firing, the already formed inner conductor is joined to the inner conductor composed of silver, platinum, palladium, gold components, etc. by an alloy. Is not performed sufficiently, causing contact failure. The copper alloy powder used in the present invention has an average particle size of 0.1.
The particle size is up to 20 μm, but if it is less than 0.1 μm, the amount of oxygen contained in the particles is high and a conduction failure during firing is likely to occur. Two
When it exceeds 0 μm, clogging at the time of fine line formation is likely to occur, which is preferable. Preferably 0.2 to 15 μ
It is the average particle diameter of m. Further, the presence of particles of 25 μm or less is present because of fine line printability such as the outer conductor of the low temperature fired multilayer circuit board and sufficient alloying with the inner conductor.
% Or more is required. Further, it is preferably 95% or more.

【0012】本発明で用いられる平均粒子径とは、体積
積算平均粒子径を表す。測定は、レーザー回折型平均粒
子径測定装置(島津製SALD1100)を用いて、溶
媒をエチレングリコール中に銅合金粒子を完全に分散さ
せて測定した。また、25μm以上の粉末の存在も同様
にしてレーザー回折型平均粒子径測定装置を用いて粒径
分布より求めた。
The average particle diameter used in the present invention means a volume cumulative average particle diameter. The measurement was performed by using a laser diffraction type average particle size measuring device (SALD1100 manufactured by Shimadzu) by completely dispersing the copper alloy particles in ethylene glycol as a solvent. The presence of powder having a particle size of 25 μm or more was similarly determined from the particle size distribution using a laser diffraction type average particle size measuring device.

【0013】また、本発明の低温焼成多層回路基板外部
導体用ペーストは、ガラスフリットを銅合金粉末100
重量部に対して0.1〜30重量部含有しているが、ガ
ラスフリットの役目としては、多層回路基板との強固な
接着力を与えるものである。ガラスフリットの平均粒子
径は0.1〜10μmである。測定は銅合金粉末と同様
にして、レーザー回折型粒子径分布測定装置(島津製S
ALD1100)を用いて体積積算により行った。平均
粒子径が0.1μm未満であるとペースト中の分散が困
難であり、10μmを超える場合には焼結不足を起こし
たり、印刷適性が悪く、沈降分離しやすい。好ましく
は、平均粒子径が0.2〜7μmである。また、15μ
m以下の割合が90%以上であるものが使用できる。9
0%未満であると、内部導体との合金化の阻害をしてし
まう。好ましくは、99%以上である。
The low temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste of the present invention comprises glass frit and copper alloy powder 100.
It is contained in an amount of 0.1 to 30 parts by weight with respect to parts by weight, but the role of the glass frit is to give a strong adhesive force to the multilayer circuit board. The average particle size of the glass frit is 0.1 to 10 μm. The measurement was carried out in the same manner as the copper alloy powder, and a laser diffraction particle size distribution measuring device (S
ALD1100) was used for volume integration. When the average particle size is less than 0.1 μm, it is difficult to disperse in the paste, and when it exceeds 10 μm, insufficient sintering occurs, printability is poor, and sedimentation easily occurs. Preferably, the average particle size is 0.2 to 7 μm. Also, 15μ
Those having a ratio of m or less of 90% or more can be used. 9
If it is less than 0%, alloying with the internal conductor is hindered. It is preferably 99% or more.

【0014】また、ガラスフリットが0.1重量部未満
の場合には、充分な接着力がなく、30重量部を超える
場合には、銅合金粉末の焼結が不十分になる。好ましく
は、0.2〜20重量部である。ガラスフリットの成分
としては、PbO,SiO2 ,B2 3 、ZnO、から
選ばれた1種以上を主成分にするものであり、使用され
るガラスフリットとしては、たとえば、PbO−SiO
2 −B2 3 ,PbO−SiO2 −ZnO,PbO−S
iO2 −Bn2 3 −ZnO,PbO−SiO2 −Ca
O,PbO−SiO2 −BaO,PbO−SiO2 −M
gO,PbO−SiO2 −MnO,PbO−B2 3
PbO−B2 3 −ZnO,PbO−B2 3 −CaO
−ZnO,PbO−B2 3 −SiO2 −CaO,Pb
O−B2 3 −SiO2 −MgO,PbO−SiO2
Al2 3 ,PbO−SiO2 −B2 3 −Al
2 3 ,PbO−B2 3 −Al2 3 ,PbO−Si
2 −Al2 3 −CaO,PbO−SiO2 −Al2
3 −MgO,PbO−B2 3 −Al2 3 −Ca
O,SiO2 −B2 3 系などの非晶性、あるいは結晶
性ガラスフリットを使用するのが好ましい。なかでも、
PbOを含むガラスフリットが好ましい。ガラスフリッ
トの役割としては、低温焼成多層回路基板とかかる組成
の外部導体との接着性を高めるためのものであり、焼成
時、多層回路基板と結合するものが好ましく、ガラスフ
リットの軟化点としては、650℃以下200℃以上の
ものが好ましく、さらに、550℃以下200℃以上の
ものが好ましい。また熱膨張係数差が多層基板と50%
未満であることが好ましい。
If the glass frit is less than 0.1 parts by weight, the adhesive strength is not sufficient, and if it exceeds 30 parts by weight, the sintering of the copper alloy powder is insufficient. Preferably, it is 0.2 to 20 parts by weight. The components of the glass frit, PbO, is intended to SiO 2, B 2 O 3, ZnO, 1 or more kinds selected from principal component, a glass frit is used, for example, PbO-SiO
2 -B 2 O 3, PbO- SiO 2 -ZnO, PbO-S
iO 2 -Bn 2 O 3 -ZnO, PbO-SiO 2 -Ca
O, PbO-SiO 2 -BaO, PbO-SiO 2 -M
gO, PbO-SiO 2 -MnO, PbO-B 2 O 3,
PbO-B 2 O 3 -ZnO, PbO-B 2 O 3 -CaO
-ZnO, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -CaO, Pb
O-B 2 O 3 -SiO 2 -MgO, PbO-SiO 2 -
Al 2 O 3, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 -Al
2 O 3, PbO-B 2 O 3 -Al 2 O 3, PbO-Si
O 2 -Al 2 O 3 -CaO, PbO-SiO 2 -Al 2
O 3 -MgO, PbO-B 2 O 3 -Al 2 O 3 -Ca
It is preferable to use an amorphous or crystalline glass frit such as O, SiO 2 —B 2 O 3 system. Above all,
Glass frits containing PbO are preferred. The role of the glass frit is to enhance the adhesion between the low temperature fired multilayer circuit board and the outer conductor of such composition, and it is preferable that the glass frit is bonded to the multilayer circuit board during firing, and the softening point of the glass frit is It is preferably 650 ° C. or lower and 200 ° C. or higher, and more preferably 550 ° C. or lower and 200 ° C. or higher. Also, the difference in coefficient of thermal expansion is 50% that of a multilayer substrate.
It is preferably less than.

【0015】本発明の低温焼成多層回路基板用外部導体
用ペーストには、接着強度を高めるため、さらに、酸化
第一銅粉末を添加するのが良い。酸化第一銅粉末の平均
粒子径は、0.1〜20μmのものを使用するのが良
い。0.1μm未満の場合には、ペースト中での分散性
が悪い。20μmを超える場合には、銅合金粉末の焼結
を阻害する。好ましくは、0.1〜10μmである。ま
た、酸化第一銅粉末は25μm以下の粉末の割合が90
%以上であることが良い。90%未満であると、スクリ
ーン印刷性のみならず、銅合金粉末の焼結を阻害してし
まうものである。好ましくは、95%以上である。ま
た、酸化第一銅の添加量としては、銅合金粉末100重
量部に対して0.1〜20重量部添加して用いることが
できる。0.1未満の場合には充分な接着強度が得られ
ず、20重量部を超える場合には、銅合金粉末の焼結を
阻害する。好ましくは、0.1〜13重量部、さらに、
0.1〜7重量部がより好ましい。酸化第一銅粉末の場
合にも、平均粒子径及び粒子径分布の測定は、銅合金粉
末の測定法と同様にして体積積算により行った。25μ
m以下の割合は粒子径分布より求めた。
To the external conductor paste for a low temperature fired multilayer circuit board of the present invention, cuprous oxide powder may be further added in order to enhance the adhesive strength. It is preferable to use a cuprous oxide powder having an average particle size of 0.1 to 20 μm. If it is less than 0.1 μm, the dispersibility in the paste is poor. If it exceeds 20 μm, sintering of the copper alloy powder is hindered. It is preferably 0.1 to 10 μm. The cuprous oxide powder has a ratio of powder of 25 μm or less of 90.
% Or more is preferable. If it is less than 90%, not only the screen printability but also the sintering of the copper alloy powder is hindered. It is preferably at least 95%. The amount of cuprous oxide added may be 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper alloy powder. When it is less than 0.1, sufficient adhesive strength cannot be obtained, and when it exceeds 20 parts by weight, sintering of the copper alloy powder is hindered. Preferably, 0.1 to 13 parts by weight,
0.1 to 7 parts by weight is more preferable. Also in the case of cuprous oxide powder, the average particle size and particle size distribution were measured by volume integration in the same manner as in the measurement method of copper alloy powder. 25μ
The ratio of m or less was obtained from the particle size distribution.

【0016】そのほか、さらに、低温焼成多層回路基板
との接着性、はんだ濡れ性を高めるために、酸化第二
銅、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化ほう素、シリカ、酸化カドミウムなどの微粉末
(好ましくは、平均粒子径0.01〜10μm)を銅合
金粉末100重量部に対して、0.1〜20重量部添加
することもできる。
In addition, cupric oxide, bismuth oxide, lead oxide, magnesium oxide, zinc oxide, boron oxide, silica, cadmium oxide, in order to further improve the adhesiveness to the low temperature firing multilayer circuit board and the solder wettability. It is also possible to add 0.1 to 20 parts by weight of fine powder (preferably, an average particle diameter of 0.01 to 10 μm) to 100 parts by weight of the copper alloy powder.

【0017】本発明の低温焼成多層回路基板外部導体用
ペーストは有機ビヒクルを含んでいるが、有機ビヒクル
としては、特に、特定はなく公知の有機ビヒクルを用い
ることができる。有機ビヒクルの役割としては、ペース
トに適度な粘度、チキソ性を与える物であり、たとえ
ば、エチルセルロース、メチルセルロース、アクリル樹
脂、ブチラール樹脂などの公知の有機バインダーであ
り、溶剤を用いて粘度、保存在を与える物である。溶剤
も公知の溶剤を用いることができる。
The low-temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste of the present invention contains an organic vehicle, and the organic vehicle may be any known organic vehicle without particular limitation. The role of the organic vehicle is to provide the paste with an appropriate viscosity and thixotropy, for example, a known organic binder such as ethyl cellulose, methyl cellulose, acrylic resin, butyral resin, etc. It is something to give. As the solvent, a known solvent can be used.

【0018】また、必要に応じて、ガップリング剤(チ
タンカップリング剤、シランカップリング剤)、水添ヒ
マシ油、コロイダルシリカ、酸化ポリエチレンなどのチ
キソ剤や、高級脂肪酸(たとえば、ステアリン酸、リノ
レン酸、リノール酸、パルミチン酸など)及びそれらの
銅塩を添加することもできる。有機ビヒクルの使用量と
しては、銅合金粉末100重量部に対して、1〜300
重量部が好ましい。また、前記添加剤は、銅合金粉末1
00重量部に対して、0.001〜30重量部が好まし
い。
If necessary, a thixotropic agent such as a coupling agent (titanium coupling agent or silane coupling agent), hydrogenated castor oil, colloidal silica or oxidized polyethylene, or a higher fatty acid (eg stearic acid, linolenic acid). , Linoleic acid, palmitic acid, etc.) and their copper salts can also be added. The amount of the organic vehicle used is 1 to 300 with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder.
Parts by weight are preferred. The additive is copper alloy powder 1
0.001 to 30 parts by weight is preferable with respect to 00 parts by weight.

【0019】本発明の外部導体用ペーストを印刷して、
焼成する場合、不活性雰囲気中で焼成するのが好ましい
が、不活性雰囲気としては、窒素、アルゴン、水素、ヘ
リウム雰囲気中が好ましい。特に、経済的な面から窒素
雰囲気中が好ましい。これら、不活性雰囲気中で焼成す
る場合、550〜1050℃程度の低温度で焼成し、焼
結体を形成するのが好ましい。この時、有機ビヒクルを
充分に焼き飛ばすために500〜600℃まで酸素をド
ープするのがさらに好ましい。たとえば、1〜1000
ppmドープするのが好ましい。焼成炉は、抵抗加熱炉
が、近赤外線炉など公知の焼成炉を用いることもできる
が、ベルトコンベア式の炉が好ましい。焼成時間として
は、特に指定はないが、最高焼成温度で3分から120
分が好ましい。
By printing the external conductor paste of the present invention,
When firing, it is preferable to fire in an inert atmosphere, but as the inert atmosphere, nitrogen, argon, hydrogen, or helium atmosphere is preferable. In particular, the nitrogen atmosphere is preferable from the economical viewpoint. When firing in an inert atmosphere, it is preferable to fire at a low temperature of about 550 to 1050 ° C. to form a sintered body. At this time, it is more preferable to dope oxygen to 500 to 600 ° C. in order to sufficiently burn off the organic vehicle. For example, 1-1000
It is preferably doped with ppm. As the firing furnace, a resistance heating furnace or a known firing furnace such as a near infrared furnace may be used, but a belt conveyor type furnace is preferable. The firing time is not particularly specified, but is 3 minutes to 120 at the maximum firing temperature.
Minutes are preferred.

【0020】前記温度で焼成し、焼結体として形成した
本発明の外部導体において、導体表面の銀濃度は平均の
銀濃度より高いものが特に好ましい。外部導体表面の銀
濃度は平均の銀濃度の2倍以上が好ましく、さらに、3
倍以上が好ましい。すなわち、焼結のための温度である
ため、粒子の融解より粒子どうしの接点からシンタリン
グが始まる。この時、得られる外部導体の表面もやはり
銀濃度の高い導体表面を有する。しかし、焼成温度が1
100℃を超えたりすると、外部導体が溶融し、流動化
が起こり導体の形状がくずれるばかりでなく銀濃度の平
均化が起こる。また、酸素ドープ量が過剰に入りすぎた
りすると導体表面の銅濃度がかえって増加したりする。
In the outer conductor of the present invention formed as a sintered body by firing at the above temperature, it is particularly preferable that the silver concentration on the conductor surface is higher than the average silver concentration. The silver concentration on the surface of the outer conductor is preferably at least twice the average silver concentration, and further 3
It is preferably double or more. That is, since the temperature is for sintering, the sintering starts from the contact point between the particles rather than the melting of the particles. At this time, the surface of the obtained outer conductor also has a conductor surface having a high silver concentration. However, the firing temperature is 1
If the temperature exceeds 100 ° C., the outer conductor is melted and fluidized so that the shape of the conductor is broken and the silver concentration is averaged. Further, if the oxygen doping amount enters excessively, the copper concentration on the conductor surface will rather increase.

【0021】本発明の低温焼成多層回路基板外部導体は
表面の銀濃度が高いため、外部抵抗体、ガラスペース
ト、絶縁ペーストをさらに、外部導体上にコートし、加
熱処理する場合にも耐酸化性を有し、電気的、半田濡れ
性の劣化が少ないなどの利点がある。本発明で使用でき
る低温焼成多層基板用グリーンシート(積層して焼成す
る前の段階)としては、公知の材料を用いることができ
るが、特に、アルミナ(Al 2 3 )、フォルステライ
ト(2MgO・SiO2 )、ムライト(3AI2 3
2SiO2 )、コージライト(2MgO・2Al2 3
・5SiO2 )、CaZrO3 を主成分としてB
2 3 ,SiO2 のガラス成分を添加したものや、βー
スポジュメン(Li2 O・Al2 3 ・4SiO2 )系
や、BaO・SnO2、TiO2 、B2 3 からなるB
aSn(BO3 2 系、BaTi(BO3 2系、Al
2 3 、CaO、SiO2 、MgO、B2 3 などから
なる系、BaO、Al2 3 、SiO2 と添加物からな
るガラス系が好ましい。
The low temperature firing multilayer circuit board outer conductor of the present invention is
Due to the high silver concentration on the surface, external resistors and glass pace
Coating the outer conductor with an insulating paste.
Even when heat-treated, it has resistance to oxidation, electrical, solder wetting
There are advantages such as less deterioration of sex. Can be used in the present invention
Green sheet for low temperature firing multi-layer substrate
Known materials can be used for the
In particular, alumina (Al 2O3), Forsterai
(2MgO ・ SiO2), Mullite (3AI2O3
2 SiO2), Cordierite (2MgO.2Al)2O3
・ 5 SiO2), CaZrO3With B as the main component
2O3, SiO2With the addition of the glass component of
Spojumen (Li2O ・ Al2O3・ 4SiO2)system
Or BaO / SnO2, TiO2, B2O3Consisting of B
aSn (BO3)2System, BaTi (BO3)2System, Al
2O3, CaO, SiO2, MgO, B2O3From etc.
System, BaO, Al2O3, SiO2From additives
Glass systems are preferred.

【0022】たとえば、PbO−SiO2 −B2 3
CaO系ガラス+Al2 3 、CaO−Al2 3 −S
iO3 −B2 3 系ガラス+Al2 3 、BaO−Al
2 3 −SiO3 −B2 3 系ガラス、SiO2 −B2
3 系ガラス+Al2 3 +CaZrO3 ,SiO2
2 3 系ガラス+Al2 3 、SiO2 −B2 3
ガラス+Al2 3 +2MgO−SiO2 ,2MgO−
2Al2 3 −5SiO2 系、ZnO−MgO−Al2
3 −SiO2 系、BaSnB2 6 −BaTiB2
3 系、Al2 3 −CaO−SiO2 −MgO−B2
3 系、BaO−SiO2 −Al2 3 −CaO−B2
3 系などがあげられる。グリーンシートの厚さとしては
5μm〜2000μm程度のものが使用することができ
るが特に指定する物ではない。
For example, PbO-SiO2-B2O3
CaO glass + Al2O3, CaO-Al2O3-S
iO3-B2O3System glass + Al2O3, BaO-Al
2O 3-SiO3-B2O3Glass, SiO2-B2
O3System glass + Al2O3+ CaZrO3, SiO2
B2O3System glass + Al2O3, SiO2-B2O3system
Glass + Al2O3+ 2MgO-SiO2, 2MgO-
2 Al2O3-5 SiO2System, ZnO-MgO-Al2
O3-SiO2System, BaSnB2O6-BaTiB2O
3System, Al2O3-CaO-SiO2-MgO-B2O
3System, BaO-SiO2-Al2O3-CaO-B2O
3System, etc. The thickness of the green sheet
5 μm to 2000 μm can be used
However, it is not specified.

【0023】本発明で使用される銅合金粉末の表面の銀
濃度、及び本発明の低温焼成多層回路基板用外部導体ペ
ーストにより得られる外部導体の表面の銀濃度の測定
は、XPS(X線光電子分光分析装置:KRATOS社
製 XSAM800)を用いて行った。 測定条件:試料台にカーボン両面テープを張り付け、銅
合金粉末あるいは外部導体チップ(オーバーコートして
なくむき出しの状態)を全面に覆うように張り付け、真
空脱気を十分に行った後、 アルゴン雰囲気 <10-8 torr MgKα線 試料電流10mA 12kV 取り出し角度 90度 で測定した。 エッチング条件:アルゴンガス 3keV 10-7
orr 5分間 上記条件で測定、エッチングを交互に5回繰り返し行い
最初の2回の測定値の平均値を表面の銀濃度x=Ag/
(Ag+Cu)、銅濃度1−x=Cu/(Ag+Cu)
とした。銅合金粉末、及び外部導体の平均の銀濃度の測
定値は、試料を濃硝酸溶液中で溶解した後、ICP(高
周波誘導結合型プラズマ発光分析計)を用いて試料を濃
硝酸に溶解して測定した。
The silver concentration on the surface of the copper alloy powder used in the present invention and the silver concentration on the surface of the outer conductor obtained by the outer conductor paste for a low temperature firing multilayer circuit board of the present invention are measured by XPS (X-ray photoelectron Spectroscopic analyzer: XSAM800 manufactured by KRATOS) was used. Measurement conditions: Carbon double-sided tape was attached to the sample table, copper alloy powder or external conductor chips (barred without overcoating) were attached to cover the entire surface, and vacuum deaeration was sufficiently performed, followed by argon atmosphere < 10 −8 torr MgKα ray Sample current 10 mA 12 kV Measurement was performed at an extraction angle of 90 degrees. Etching conditions: Argon gas 3 keV 10 −7 t
orr 5 minutes Measurement and etching are alternately repeated 5 times under the above conditions, and the average value of the first 2 measured values is the silver concentration on the surface x = Ag /
(Ag + Cu), copper concentration 1-x = Cu / (Ag + Cu)
And The average silver concentration of the copper alloy powder and the outer conductor was measured by dissolving the sample in concentrated nitric acid solution and then dissolving the sample in concentrated nitric acid using ICP (high frequency inductively coupled plasma emission spectrometer). It was measured.

【0024】また、マイグレーション試験は、外部導体
幅80μm、間隔100μmを作製して60℃、90%
相対湿度中、導体間隔に50DCV印可した時のマイグ
レーション時間を測定した。5時間以上を良好、5時間
未満を不良とした。また、内部導体と外部導体との接続
面における電気的接合は第2層目の導体とビアホールで
接続された外部導体との間のインピーダンス測定より判
断した。
In the migration test, an outer conductor width of 80 μm and an interval of 100 μm were prepared and the temperature was 60 ° C. and 90%.
The migration time was measured when 50 DCV was applied to the conductor spacing in relative humidity. A time of 5 hours or more was evaluated as good and a time of less than 5 hours was evaluated as bad. Further, the electrical connection on the connection surface between the inner conductor and the outer conductor was judged by measuring the impedance between the conductor of the second layer and the outer conductor connected by the via hole.

【0025】外部導体のはんだ濡れ性(はんだ付け性)
は、230℃すず/鉛共晶はんだ浴に10秒dipして
濡れ面積が95%以上を良好とした。それ以下を不良と
した。外部導体のインピーダンスは4端子法を用いて測
定した。以下に実施例を示す。
Solder wettability of outer conductor (solderability)
Was dipped in a 230 ° C. tin / lead eutectic solder bath for 10 seconds to make the wet area 95% or more good. Anything less than that was considered defective. The impedance of the outer conductor was measured using the 4-terminal method. Examples will be shown below.

【0026】[0026]

【実施例】【Example】

【0027】[0027]

【粉末作製例1】銅粒子571.5g、銀粒子108g
を十分に混合し、黒鉛るつぼ中で窒素雰囲気中1700
℃まで加熱溶解した。融液をるつぼ先端より窒素雰囲気
中に噴出し、噴出と同時に50kg/cm2 の窒素ガス
を融液に対して噴出し、アトマイズした。得られた粉末
は平均粒子径12μmであった。銅合金粉末の表面の銀
濃度は、0.5、0.4、0.3、0.2、0.14で
あり、表面の銀濃度は0.45だった。また、平均の銀
濃度xは0.1であり、表面の銀濃度は、平均の銀濃度
の4.5倍であった。
[Powder Preparation Example 1] 571.5 g of copper particles and 108 g of silver particles
Thoroughly mixed in a graphite crucible in a nitrogen atmosphere at 1700
It melted by heating to ℃. The melt was jetted from the tip of the crucible into a nitrogen atmosphere, and simultaneously with the jetting, 50 kg / cm 2 of nitrogen gas was jetted to the melt to atomize. The obtained powder had an average particle size of 12 μm. The silver concentration on the surface of the copper alloy powder was 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, and 0.14, and the silver concentration on the surface was 0.45. The average silver concentration x was 0.1, and the surface silver concentration was 4.5 times the average silver concentration.

【0028】以下に同様にして作製された銅合金粉末の
作製例を示す。
An example of producing a copper alloy powder produced in the same manner is shown below.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】[0030]

【実施例1】粉末作製例1で得られた銅合金粉末の中、
10μm以下の粉末を分級した。得られた粉末は平均粒
子径4.5μmであった。その粉末10gとPbO−B
2 3 −ZnO−SiO2 ガラスフリット(平均粒子径
5μm、10μm以下99%以上)0.2g、エチルセ
ルロース0.05g、アクリル樹脂0.5g、テルペノ
ール1g、ブチルカルビトール2g、ブチルカルビトー
ルアセテ−ト2g、酸化第一銅粉末(平均粒子径2μ
m)0.1g、シリコンオイル0.001g、チタンカ
ップリング剤0.0001gを混合してペーストとし
た。
Example 1 Among the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 1,
A powder having a size of 10 μm or less was classified. The obtained powder is an average particle
The child diameter was 4.5 μm. 10g of the powder and PbO-B
2O 3-ZnO-SiO2Glass frit (average particle size
5 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.2 g, ethyl acetate
Lulose 0.05g, acrylic resin 0.5g, terpeno
1 g, butyl carbitol 2 g, butyl carbitol
Luacetate 2g, cuprous oxide powder (average particle size 2μ
m) 0.1 g, silicone oil 0.001 g, titanium oxide
Mixing 0.0001g of pulling agent to make paste
It was

【0031】また、ムライトにB2 3 、CaO、Mg
Oを添加してなるグリーンシートに銀ペースト、誘電
体、ルテニウム系抵抗ペーストを回路として印刷し、1
0層に積層し、さらに800℃で60分間空気中焼成し
た。得られた多層回路基板上に、外部導体として前記組
成のペーストを印刷した。印刷後、700℃で窒素雰囲
気中で10分間焼成した。この時、500℃まで、酸素
400ppmドープした。
Further, mullite contains B 2 O 3 , CaO and Mg.
The silver paste, the dielectric, and the ruthenium-based resistance paste are printed as a circuit on the green sheet formed by adding O, and 1
It was laminated in 0 layer and further baked in air at 800 ° C. for 60 minutes. A paste having the above composition was printed as an outer conductor on the obtained multilayer circuit board. After printing, it was baked at 700 ° C. in a nitrogen atmosphere for 10 minutes. At this time, oxygen was doped at 400 ppm up to 500 ° C.

【0032】得られた導体の表面の銀濃度を測定したと
ころ、表面より銀濃度は0.6、0.5、0.45、
0.4、0.3であり、表面の銀濃度は0.55であ
り、平均の銀濃度の2.75倍であった。導体の導電性
は表層の外部導体と内部導体との接合が良く、内部と外
部での接合面ではほとんど抵抗値の上昇は見られなかっ
た。
When the silver concentration on the surface of the obtained conductor was measured, the silver concentration was 0.6, 0.5, 0.45 from the surface.
0.4 and 0.3, the surface silver concentration was 0.55, which was 2.75 times the average silver concentration. Regarding the conductivity of the conductor, it was found that the outer conductor and the inner conductor in the surface layer were joined well, and there was almost no increase in the resistance value at the joint surface between the inside and the outside.

【0033】さらに、印刷抵抗体として、ランタンボラ
イド系の抵抗体を導体間に印刷し、900℃で窒素雰囲
気中で焼成した。抵抗値の導体電極による抵抗値上昇は
見られなかった。また、オーバーコートガラスを印刷
し、550℃窒素雰囲気中で処理しても、導体表面の変
色は見られなかった。マイグレーション試験をしたとこ
ろ、良好であった。また、外部導体のインピーダンスも
良好であった。
Further, as a printed resistor, a lanthanum boride type resistor was printed between the conductors and fired at 900 ° C. in a nitrogen atmosphere. No increase in resistance was observed due to the conductor electrode. Further, even when overcoat glass was printed and treated in a nitrogen atmosphere at 550 ° C., discoloration of the conductor surface was not observed. The migration test was successful. The impedance of the outer conductor was also good.

【0034】[0034]

【実施例2】粉末作製例1で得られた銅合金粉末の中5
μm以下の粉末を分級した。得られた粉末は平均粒子径
2μmであった。得られた分級粉末10g、PbO−B
2 3 −ZnOガラスフリット(平均粒子径0.3μ
m、15μm以下99%以上)0.3g、酸化第一銅粉
末(平均粒子径0.2μm)0.1g、エチルセルロー
ス0.02g、アクリル樹脂0.04g、ブチルカルビ
トールアセテート0.6g、酸化第一銅粉末(平均粒子
径0.2μm、10μm以下99%以上)0.1g、沈
降防止剤0.001gを十分に混合してペーストとし
た。
[Example 2] 5 of the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 1
The powder having a particle size of μm or less was classified. The obtained powder has an average particle size.
It was 2 μm. 10 g of the obtained classified powder, PbO-B
2O 3-ZnO glass frit (average particle size 0.3μ
m, 15 μm or less and 99% or more) 0.3 g, cuprous oxide powder
Powder (average particle size 0.2 μm) 0.1 g, ethyl cellulose
Soluble 0.02g, acrylic resin 0.04g, butyl rib
0.6 g tall acetate, cuprous oxide powder (average particles
Diameter 0.2 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.1 g,
0.001g of precipitation inhibitor was mixed thoroughly to form a paste
It was

【0035】別に、フォルステライトにB2 3 、Si
2 を添加してなる、ビアホールを形成したグリーンシ
ートに銀−パラジウム5%のペーストを印刷し、さら
に、ルテニウム系抵抗体を印刷し、さらに、誘電体ガラ
スペーストを印刷し、ビヤホールにも銀−パラジウム導
体ペーストを印刷して、同様にして作製したグリーンシ
ートを6枚積層して700℃で空気中で同時焼成した。
Separately, forsterite is added to B 2 O 3 and Si.
A paste containing 5% of silver-palladium is printed on a green sheet having a via hole formed by adding O 2 , a ruthenium-based resistor is further printed, a dielectric glass paste is further printed, and a silver is also used for a via hole. -Palladium conductor paste was printed, six green sheets prepared in the same manner were laminated, and cofired in air at 700 ° C.

【0036】すでに、外部導体との接続用ビアホールに
銀−パラジウム導体が形成されている多層回路基板の外
部導体として、前記組成のペーストを用いて回路印刷し
た。印刷後、750℃窒素雰囲気中で10分間で焼成し
た。550℃まで、酸素を500ppmドープした。得
られた外部導体の表面の銀濃度は、0.9、0.8、
0.7、0.5、0.4であり、表面の銀濃度は0.8
5であって、平均の銀濃度の3.4倍であった。
Circuit printing was performed using the paste having the above composition as an outer conductor of a multilayer circuit board in which a silver-palladium conductor was already formed in a via hole for connection with the outer conductor. After printing, baking was performed in a nitrogen atmosphere at 750 ° C. for 10 minutes. Up to 550 ° C., 500 ppm of oxygen was doped. The silver concentration on the surface of the obtained outer conductor was 0.9, 0.8,
0.7, 0.5, 0.4 and the surface silver concentration is 0.8
5, which was 3.4 times the average silver concentration.

【0037】こうして得られた外部導体と内部導体との
接合は良好で、導電性は接合面で抵抗値が増加すること
は見られなかった。また、マイグレーション試験の結果
良好であった。さらに、ランタンボライド系抵抗体ペー
スト、誘電体ガラスペーストをコートして、窒素雰囲気
中で焼成した。抵抗体と外部導体との接合での抵抗値変
化は0.1%以下と良好であった。
The outer conductor and the inner conductor thus obtained were joined well, and the conductivity was not found to increase in resistance at the joint surface. Moreover, the result of the migration test was good. Further, a lanthanum boride-based resistor paste and a dielectric glass paste were coated and fired in a nitrogen atmosphere. The change in resistance value at the junction between the resistor and the outer conductor was good at 0.1% or less.

【0038】[0038]

【実施例3】粉末作製例3で得られた銅合金粉末の中2
μm以下の粉末を分級した。得られた分級粉末は平均粒
子径0.8μm(20μm以下99%以上)であった。
分級粉末10g、PbO−SiO2 −MgO−B2 3
−ZnOガラスフリット(平均粒子径1μm、15μm
以下99%以上)0.02g、ブチルセロソルブ0.2
g、ブチルカルビトールアセテート0.1g、シリコン
オイル0.001g、チキソ剤0.0001g、酸化第
一銅粉(平均粒子径0.2μm、25m以下99%以
上)0.8g、酸化カドミウム0.1g、酸化ビスマス
0.1g(平均粒子径0.5μm、25μm以下99%
以上)。パルミチン酸0.1g、ステアリン酸0.1g
を混合してペーストとした。
[Example 3] 2 of the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 3
The powder having a particle size of μm or less was classified. The obtained classified powder had an average particle diameter of 0.8 μm (20 μm or less and 99% or more).
Classifying powder 10g, PbO-SiO 2 -MgO- B 2 O 3
-ZnO glass frit (average particle size 1 μm, 15 μm
Below 99%) 0.02 g, butyl cellosolve 0.2
g, butyl carbitol acetate 0.1 g, silicone oil 0.001 g, thixotropic agent 0.0001 g, cuprous oxide powder (average particle size 0.2 μm, 25% or less 99% or more) 0.8 g, cadmium oxide 0.1 g , Bismuth oxide 0.1 g (average particle size 0.5 μm, 25 μm or less 99%
that's all). Palmitic acid 0.1g, stearic acid 0.1g
Were mixed into a paste.

【0039】別に、アルミナ、コージライトにB2 3
を添加してなる。ビアホール形成されたグリーンシート
に銀−白金ペーストを用いて回路を形成した。さらに、
ルテニウム系抵抗体ペースト、誘電体ペーストを印刷
し、ビアホールにも銀−白金ペーストを印刷した後、同
様にしてグリーンシートを8層積層して、800℃空気
中で同時焼成した。
Separately, B 2 O 3 was added to alumina and cordierite.
Is added. A circuit was formed by using a silver-platinum paste on the green sheet in which the via hole was formed. further,
After printing the ruthenium-based resistor paste and the dielectric paste and the silver-platinum paste in the via holes, eight green sheets were laminated in the same manner and co-fired in the air at 800 ° C.

【0040】得られた多層回路基板に外部導体との接続
用としてのビアホール導体を形成した後、前記組成の外
部導体用ペーストを用いて回路印刷形成した。さらに、
700℃窒素雰囲気中で10分間焼成した。この時、5
00℃まで酸素300ppmドープした。得られた外部
導体の表面の銀濃度を測定したところ、表面より、銀濃
度は0.88、0.8、0.7、0.6、0.5であ
り、表面の銀濃度は0.84であった。平均の銀濃度は
0.25であり、表面の銀濃度は平均の銀濃度の3.3
倍であった。
After forming a via-hole conductor for connection with an external conductor on the obtained multilayer circuit board, circuit printing was performed using the external conductor paste having the above composition. further,
Firing was performed in a nitrogen atmosphere at 700 ° C. for 10 minutes. At this time, 5
300 ppm oxygen was doped up to 00 ° C. When the silver concentration on the surface of the obtained outer conductor was measured, the silver concentration was 0.88, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5 from the surface, and the silver concentration on the surface was 0. It was 84. The average silver concentration is 0.25, and the surface silver concentration is 3.3 of the average silver concentration.
It was double.

【0041】外部導体と内部導体との接合は良好であ
り、接合面での抵抗値の上昇はみられなかった。また、
マイグレーション試験の結果良好であった。外部導体に
さらに、絶縁ガラスペーストを印刷して550℃窒素雰
囲気中で焼成した。この時、500℃まで、酸素を10
0ppmドープした。得られた外部導体回路のガラスコ
ートによる変色などは見られなかった。
The outer conductor and the inner conductor were joined well, and no increase in resistance was observed at the joint surface. Also,
The result of the migration test was good. Further, an insulating glass paste was printed on the outer conductor and fired in a nitrogen atmosphere at 550 ° C. At this time, oxygen up to 500 ℃ 10
Doped with 0 ppm. No discoloration or the like due to the glass coating of the obtained outer conductor circuit was observed.

【0042】[0042]

【実施例4】粉末作製例4で得られた銅合金粉末の中3
μm以下の粉末を分級した。得られた粉末は平均1.2
μmであった。分級粉10g、PbO−SiO2 −Ca
O−ZnO−B2 3 ガラスフリット(平均粒子径0.
5μm、15μm以下99%以上)1g、酸化銅0.1
g、酸化ビスマス0.002g、酸化第一銅(平均粒子
径0.2μm、15μm以下99%以上)0.025
g、エチルセルロース0.2g、アクリル樹脂0.2
g、ブチラール樹脂0.1g、ステアリン酸0.000
1g、チキソ剤0.0002g、ブチルカルビトールア
セテート0.5g、α−テルペノール0.5gを充分に
混合してペーストとした。
[Example 4] 3 of the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 4
The powder having a particle size of μm or less was classified. The obtained powder is 1.2 on average.
was μm. Classified powder 10g, PbO-SiO 2 -Ca
O-ZnO-B 2 O 3 glass frit (average particle diameter 0.
5 μm, 15 μm or less 99% or more) 1 g, copper oxide 0.1
g, bismuth oxide 0.002 g, cuprous oxide (average particle size 0.2 μm, 15 μm or less 99% or more) 0.025
g, ethyl cellulose 0.2 g, acrylic resin 0.2
g, butyral resin 0.1 g, stearic acid 0.000
1 g, a thixotropic agent 0.0002 g, butyl carbitol acetate 0.5 g, and α-terpenol 0.5 g were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0043】別に、β−スポンジュメンとBaO−Al
2 3 −SiO2 ガラスからなるすでにビアホールが形
成されているグリーンシートに導体回路とし金ペースト
を印刷した。さらに、ビアホール印刷、ルテニウム系抵
抗体ペースト印刷したのち、同様にして作製したグリー
ンシート6枚積層し、750℃空気中で同時焼成した。
Separately, β-spongemen and BaO-Al
Gold paste was printed as a conductor circuit on a green sheet of 2 O 3 —SiO 2 glass in which a via hole was already formed. Further, after printing via holes and ruthenium-based resistor paste, six green sheets produced in the same manner were laminated and cofired in air at 750 ° C.

【0044】得られた多層回路基板に外部導体と内部導
体との接合用ビアホール導体形成した後、外部導体とし
て、前記組成のペーストを用いて回路印刷した。さら
に、700℃窒素雰囲気中で10分間焼成した。この
時、550℃まで酸素100ppmドープした。内部導
体と外部導体との接合面における抵抗値増加は見られな
かった。また、マイグレーション試験は良好であった。
After forming a via-hole conductor for joining an outer conductor and an inner conductor on the obtained multilayer circuit board, a circuit printing was performed using the paste having the above composition as the outer conductor. Further, it was baked at 700 ° C. in a nitrogen atmosphere for 10 minutes. At this time, 100 ppm of oxygen was doped up to 550 ° C. No increase in resistance was observed at the joint surface between the inner conductor and the outer conductor. The migration test was good.

【0045】外部導体の表面の銀濃度は、表面より0.
3、0.25、0.24、0.2、0.15であり、表
面の銀濃度は0.275であって、平均の銀濃度の5.
5倍であった。
The silver concentration on the surface of the outer conductor is 0.
3, 0.25, 0.24, 0.2, 0.15, the surface silver concentration was 0.275, and the average silver concentration was 5.
It was 5 times.

【0046】[0046]

【比較例】[Comparative example]

【0047】[0047]

【比較例1】銅粒子63.5g、銀粒子108gを混合
して黒鉛るつぼに入れ、.700℃まで窒素雰囲気中で
加熱溶解した。融液をるつぼ先端より窒素雰囲気中へ噴
出し、噴出と同時に、40kg/cm2 Gの窒素ガスを
融液に対して噴出し、アトマイズした。得られた粉末
は、平均粒子径13μmであった。平均の銀濃度xは
0.5、平均の銅濃度は0.5であった。得られた銅合
金粉末の中、10μm以下の粉末を分級した。分級後の
粉末の平均粒子径は5μmであった。分級後の銅合金粉
末10g、PbO−B2 3 −SiO2 (平均粒子径1
μm)ガラスフリット0.2g、酸化第一銅粉(平均粒
子径0.5μm、10μm以下99%以上)0.01
g、エチルセルロース0.3g、テルペノール0.6
g、ブチルカルビトールアセテート0.3g、沈降防止
剤0.001gを充分に混合してペーストとした。
Comparative Example 1 63.5 g of copper particles and 108 g of silver particles were mixed and put in a graphite crucible ,. It was heated to 700 ° C. and melted in a nitrogen atmosphere. The melt was jetted into the nitrogen atmosphere from the tip of the crucible, and at the same time, 40 kg / cm 2 G of nitrogen gas was jetted to the melt to atomize. The obtained powder had an average particle size of 13 μm. The average silver concentration x was 0.5 and the average copper concentration was 0.5. Of the obtained copper alloy powder, a powder having a particle size of 10 μm or less was classified. The average particle size of the powder after classification was 5 μm. Copper alloy powder 10g after classification, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 ( average particle diameter 1
μm) Glass frit 0.2 g, cuprous oxide powder (average particle size 0.5 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.01
g, ethyl cellulose 0.3 g, terpenol 0.6
g, butyl carbitol acetate 0.3 g, and an anti-settling agent 0.001 g were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0048】銀−白金(3wt%)ペーストをアルミナ
とBaO−B2 3 −SiO2 ガラスからなるすでにビ
アホール形成されたグリーンシート上に印刷した。さら
に、ビアホール内にも印刷した後、公知のルテニウム系
抵抗体を印刷し、さらに、誘電体も印刷した後、同様に
して印刷されたグリーンシートを6枚積層し、ホットプ
レスで熱圧着した後、700℃で空気中で10分間焼成
した。外部導体との接続用ビアホールにも銀−白金ペー
ストが同様にして作製された低温焼成多層回路基板の外
部導体として、前記作製した、銅合金ペーストを回路と
して印刷した。900℃窒素雰囲気中で10分間焼成し
たのち(500℃まで酸素3000ppmドープし
た)、さらに、公知のランタンボライド系の抵抗体を印
刷したのち、900℃10分間焼成した。
A silver-platinum (3 wt%) paste was printed onto an already via-hole formed green sheet of alumina and BaO-B 2 O 3 -SiO 2 glass. Furthermore, after printing in the via hole, a known ruthenium-based resistor was printed, and also a dielectric was printed. Then, six green sheets printed in the same manner were laminated and thermocompression bonded by a hot press. Calcination was performed at 700 ° C. in air for 10 minutes. The copper alloy paste prepared as described above was printed as a circuit as an external conductor of a low-temperature fired multilayer circuit board in which a silver-platinum paste was similarly prepared in a via hole for connection with an external conductor. After firing in a nitrogen atmosphere at 900 ° C. for 10 minutes (3000 ppm of oxygen was doped to 500 ° C.), a known lanthanide-type resistor was printed, and then firing was performed at 900 ° C. for 10 minutes.

【0049】焼成し、作製された外部導体のマイグレー
ション試験をしたところ、マイグレーションが著しかっ
た。また、外部導体の表面の銀濃度は、表面より0.
1、0.2、0.3、0.4、0.5であり、表面の銀
濃度は0.15であって、平均の銀濃度より0.3倍と
低かった。
When a migration test was conducted on the outer conductor produced by firing, the migration was remarkable. Further, the silver concentration on the surface of the outer conductor is 0.
It was 1, 0.2, 0.3, 0.4 and 0.5, and the surface silver concentration was 0.15, which was 0.3 times lower than the average silver concentration.

【0050】[0050]

【比較例2】市販の銅粒子(平均粒子径2μm)10
g、PbO−CaO−SiO2 −B23 (平均粒子径
1μm)1g、アクリル樹脂0.1g、テルペノール
0.1g、ブチルセロソルブ0.3g、ブチルカルビト
ルアセテート0.5g、酸化第二銅0.2g、チタンカ
ップリング剤0.0002gを充分に混合してペースト
とした。
Comparative Example 2 Commercially available copper particles (average particle diameter 2 μm) 10
g, PbO—CaO—SiO 2 —B 2 O 3 (average particle size 1 μm) 1 g, acrylic resin 0.1 g, terpenol 0.1 g, butyl cellosolve 0.3 g, butyl carbitol acetate 0.5 g, cupric oxide 0 0.2 g and 0.0002 g of titanium coupling agent were mixed sufficiently to form a paste.

【0051】比較例1で作製された低温焼成多層回路基
板上に作製したペーストを外部導体として印刷した。印
刷後、600℃窒素雰囲気中で10分間焼成した(50
0℃まで酸素100ppmドープした)。外部導体と内
部導体との接合はあまり良好でなく、抵抗値の増加が見
られた。さらに、ランタンボライド系抵抗体を印刷し、
窒素雰囲気中で900℃で10分間焼成した。抵抗体と
のマッチング性は悪く、ノイズが高かった。また、外部
導電体のはんだ付け性は悪かった。
The paste prepared on the low temperature fired multilayer circuit board prepared in Comparative Example 1 was printed as an external conductor. After printing, baking was performed in a nitrogen atmosphere at 600 ° C. for 10 minutes (50
Oxygen 100 ppm doped to 0 ° C). The connection between the outer conductor and the inner conductor was not so good, and the resistance value increased. Furthermore, lanthanum boride type resistor is printed,
Firing was performed at 900 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere. The matching with the resistor was poor and the noise was high. Also, the solderability of the external conductor was poor.

【0052】[0052]

【比較例3】銅粒子254g、銀粒子108gを混合し
て黒鉛るつぼに入れ、窒素雰囲気中で1700℃まで加
熱溶解した。融液をるつぼ先端より窒素雰囲気中へ噴出
し、噴出と同時に、5kg/cm2 Gの窒素ガスを融液
に対して噴出し、アトマイズした。得られた銅合金粉末
は平均粒子径35μmであった。
Comparative Example 3 254 g of copper particles and 108 g of silver particles were mixed and put into a graphite crucible, which was heated and melted to 1700 ° C. in a nitrogen atmosphere. The melt was jetted from the crucible tip into a nitrogen atmosphere, and at the same time as the jetting, 5 kg / cm 2 G of nitrogen gas was jetted to the melt to atomize. The obtained copper alloy powder had an average particle diameter of 35 μm.

【0053】銅合金粉末の平均の銀組成xは0.2、平
均の銅組成は0.8であった。表面の銀濃度は表面より
0.8、0.76、0.7、0.6、0.5であり、表
面の銀濃度は0.78であった。表面の銀濃度は平均の
銀濃度の3.9倍であった。得られた銅合金粉末10g
(平均粒子径35μm、25μm以下30%)、PbO
−B2 3 −SiO2 (平均粒子径1μm)0.3g、
テルペノール0.2g、ブチルセロソルブ0.2g、酸
化第一銅(平均粒子径1μm、10μm以下99%以
上)0.5g、チタンカップリング剤0.003gを充
分に混合してペーストとした。
The average silver composition x of the copper alloy powder was 0.2, and the average copper composition was 0.8. The silver concentration on the surface was 0.8, 0.76, 0.7, 0.6, 0.5 from the surface, and the silver concentration on the surface was 0.78. The silver concentration on the surface was 3.9 times the average silver concentration. 10 g of the obtained copper alloy powder
(Average particle size 35 μm, 25 μm or less 30%), PbO
-B 2 O 3 -SiO 2 (average particle size 1 μm) 0.3 g,
0.2 g of terpenol, 0.2 g of butyl cellosolve, 0.5 g of cuprous oxide (average particle size 1 μm, 10 μm or less 99% or more), and 0.003 g of titanium coupling agent were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0054】アルミナとBaO−Al2 3 −SiO2
ガラスからなるビアホール形成されたグリーンシートに
金ペーストを印刷し、ビアホール内にも金ペーストを印
刷し、公知ルテニウム系抵抗体も印刷して、同様にして
作製されたグリーンシートを6枚積層して、ホットプレ
スで熱圧着した後、700℃空気中で60分間焼成し
た。外部導体との接続用ビアホール内にも同様にして金
導体を作製した後、得られた低温焼成多層回路基板上
に、前記ペーストを用いて回路印刷した。印刷後、60
0℃10分間窒素雰囲気中で焼成した(500℃まで酸
素300ppmドープ)。
Alumina and BaO--Al 2 O 3 --SiO 2
Gold paste is printed on a green sheet having a via hole formed of glass, the gold paste is also printed on the inside of the via hole, a known ruthenium-based resistor is also printed, and six green sheets produced in the same manner are laminated. After thermocompression bonding with a hot press, it was baked in air at 700 ° C. for 60 minutes. Similarly, a gold conductor was prepared in the via hole for connection with the external conductor, and then the paste was used to perform circuit printing on the obtained low-temperature fired multilayer circuit board. 60 after printing
It was baked in a nitrogen atmosphere at 0 ° C. for 10 minutes (up to 500 ° C., 300 ppm oxygen was doped).

【0055】平均粒子径が大きく、充分な焼結性が得ら
れず、外部導体は抵抗が高かった。また、内部導体との
接合は悪く、抵抗値が著しく増加した。また、はんだ濡
れ性も悪かった。
The average particle diameter was large, sufficient sinterability was not obtained, and the outer conductor had high resistance. Also, the connection with the internal conductor was poor, and the resistance value increased remarkably. Also, the solder wettability was poor.

【0056】[0056]

【比較例4】粉末作製例5で作製した銅合金粉末の中1
0μm以下の粉末(平均銀濃度0.12、平均粒子径
4.5μm、25μm以下99%以上)10g、PbO
−B23 −SiO2 ガラスフリット(平均粒子径10
μm、15μm以下60%)1g、酸化第一銅粉(平均
粒子径0.5μm、25μm以下99%以上)0.00
1g、エチルセルロース0.3g、テルペノール3gを
混合してペーストとした。比較例3と同じ低温焼成多層
回路基板の外部導体として作製したペーストを印刷し
た。さらに、600℃10分間窒素雰囲気中で焼成した
(500℃まで酸素300ppmドープした)。充分な
焼結性が得られず、外部導体の抵抗値は高かった。ま
た、内部導体との接合面における抵抗値は非常に高かっ
た。しかし、マイグレーションは良好であった。また、
はんだ濡れ性は悪かった。
[Comparative Example 4] 1 of the copper alloy powders prepared in Powder Preparation Example 5
Powder of 0 μm or less (average silver concentration 0.12, average particle size 4.5 μm, 25 μm or less 99% or more) 10 g, PbO
-B 2 O 3 -SiO 2 glass frit (average particle size 10
μm, 15 μm or less 60%) 1 g, cuprous oxide powder (average particle size 0.5 μm, 25 μm or less 99% or more) 0.00
1 g, ethyl cellulose 0.3 g, and terpenol 3 g were mixed into a paste. The paste prepared as an outer conductor of the same low temperature fired multilayer circuit board as in Comparative Example 3 was printed. Further, it was baked at 600 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere (300 ppm of oxygen was doped up to 500 ° C.). Sufficient sinterability was not obtained, and the resistance value of the outer conductor was high. Further, the resistance value at the joint surface with the internal conductor was very high. However, the migration was good. Also,
Solder wettability was poor.

【0057】[0057]

【比較例5】粉末作製例1で得られた銅合金粉末を10
μmで分級した。得られた分級後の粉末は平均粒子径
4.5μm(25μm以下99%以上)であった。分級
後の粉末10g、PbO−SiO2 −ZnO(平均粒子
径30μm、15μm以下10%)ガラスフリット0.
3g、エチルセルロース0.5g、テルペノール1gを
充分に混合してペーストとした。
Comparative Example 5 The copper alloy powder obtained in Powder Preparation Example 1
It was classified by μm. The obtained powder after classification had an average particle diameter of 4.5 μm (25 μm or less and 99% or more). 10 g of powder after classification, PbO—SiO 2 —ZnO (average particle size 30 μm, 15% or less 10%) glass frit 0.
3 g, ethyl cellulose 0.5 g, and terpenol 1 g were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0058】フォルステライトとB2 3 からなるビア
ホール形成されたグリーンシート上に銀−パラジウムペ
ーストを印刷した。ビアホールにも銀−パラジウムペー
ストを印刷したのち、同様にして作製したグリーンシー
トを6枚積層して、ホットブレスで熱圧着した。さら
に、800℃60分間加熱焼成した。得られた多層回路
基板の外部導体用ビアホールにも同様にして銀−パラジ
ウム導体を形成した後、前記ペーストを外部導体として
印刷した。印刷後、700℃窒素雰囲気中で10分間焼
成した。(500℃まで酸素900ppmドープ)。得
られた銅合金導体は、ガラスフリットが導体膜中に析出
していて抵抗は高かった。また、外部導体の表面の銀濃
度は0.15、0.18、0.2、0.2、0.2であ
り、表面の銀濃度は0.165で平均の銀濃度より低か
った。
Silver-palladium paste was printed on a green sheet having via holes formed of forsterite and B 2 O 3 . After printing the silver-palladium paste on the via holes as well, six green sheets produced in the same manner were laminated and thermocompression bonded with a hot breath. Further, it was heated and baked at 800 ° C. for 60 minutes. A silver-palladium conductor was similarly formed in the via hole for an external conductor of the obtained multilayer circuit board, and then the paste was printed as an external conductor. After printing, firing was performed in a nitrogen atmosphere at 700 ° C. for 10 minutes. (Oxygen 900ppm dope up to 500 ° C). In the obtained copper alloy conductor, the glass frit was deposited in the conductor film and the resistance was high. The silver concentration on the surface of the outer conductor was 0.15, 0.18, 0.2, 0.2 and 0.2, and the silver concentration on the surface was 0.165, which was lower than the average silver concentration.

【0059】[0059]

【比較例6】粉末作製例1で得られた銅合金粉末を10
μmで分級した。得られた分級粉は平均4.5μmであ
った。分級後の粉末10g、PbO−SiO2 −B2
3 (平均粒子径1μm)ガラスフリット5g、エチルセ
ルロース0.3g、テルペノール1g、チタンカップリ
ング剤0.002gを充分に混合してペーストとした。
Comparative Example 6 The copper alloy powder obtained in Powder Preparation Example 1
It was classified by μm. The obtained classified powder had an average of 4.5 μm. Classification after powder 10g, PbO-SiO 2 -B 2 O
3 (average particle diameter 1 μm) 5 g of glass frit, 0.3 g of ethyl cellulose, 1 g of terpenol, and 0.002 g of titanium coupling agent were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0060】BaO−Al2 3 −SiO2 ガラスから
なる予めビアホールが形成されているグリーンシートに
銀ペーストを回路、ビアホール共に印刷した。さらに、
ルテニウム系抵抗体ペーストを印刷して、同様にして作
製されたグリーンシート6枚を熱圧着して、700℃空
気中で1時間焼成した。さらに、外部導体との接続用ビ
アホール内にも同様にして銀導体を形成した後、前記銅
合金ペーストを印刷した。印刷後、600℃窒素雰囲気
中で10分間加熱焼成した(500℃まで酸素400p
pmドープした)。焼成後の外部導体は、ガラスが表面
に析出して、内部導体との接合面で充分な導電性が得ら
れなかった。
Silver paste was printed on both the circuit and the via hole on a green sheet made of BaO--Al 2 O 3 --SiO 2 glass in which the via hole was previously formed. further,
A ruthenium-based resistor paste was printed, six green sheets prepared in the same manner were thermocompression bonded, and fired in air at 700 ° C. for 1 hour. Further, after similarly forming a silver conductor in a via hole for connection with an external conductor, the copper alloy paste was printed. After printing, it was heated and baked in a nitrogen atmosphere at 600 ° C for 10 minutes (oxygen 400p up to 500 ° C).
pm doped). After firing, glass was deposited on the surface of the outer conductor, and sufficient conductivity was not obtained at the joint surface with the inner conductor.

【0061】[0061]

【比較例7】粉末作製例1で得られた銅合金粉末を10
μmで分級した。得られた分級粉は平均粒子径4.5μ
mであった。分級後の粉末(平均粒子径4.5μm、2
5μm以下99%)10g、エチルセルロース0.3
g、テルペノール0.4g、ブチルカルビトールアセテ
ート0.3gを充分に混合してペーストとした。
[Comparative Example 7] The copper alloy powder obtained in Powder Preparation Example 1 was replaced with 10
It was classified by μm. The obtained classified powder has an average particle diameter of 4.5μ.
It was m. Powder after classification (average particle size 4.5 μm, 2
5 μm or less 99%) 10 g, ethyl cellulose 0.3
g, terpenol 0.4 g, and butyl carbitol acetate 0.3 g were sufficiently mixed to prepare a paste.

【0062】比較例6で作製された多層回路基板の外部
導体としてスクリーン印刷した。印刷後、600℃窒素
雰囲気中で10分間加熱焼成した(500℃まで酸素4
00ppmドープ)。焼成後の銅合金導体は、多層基板
との接着力が不足していて基板より簡単に剥がれた。
Screen printing was performed as an outer conductor of the multilayer circuit board prepared in Comparative Example 6. After printing, it was heated and baked in a nitrogen atmosphere at 600 ° C for 10 minutes (oxygen 4
00 ppm dope). The calcined copper alloy conductor lacked adhesive strength to the multilayer substrate and was easily peeled off from the substrate.

【0063】[0063]

【比較例8】粉末作製例1で得られた銅合金粉末の中1
0μm以下の粉末(平均粒子径4.5μm、25μm以
下の粉末99%以上)10g、PbO−B2 3 −Si
2ガラスフリット(平均粒子径1μm、15μm以下
99%以上)4g、酸化第一銅(平均粒子径18μm、
25μm以下70%)3g、エチルセルロース0.7
g、ブチルカルビトールアセテート2g、沈降防止剤
0.001gを充分に混合してペーストとした。得られ
たペーストを比較例7と同じ多層回路基板の外部導体と
してスクリーン印刷した。印刷後、800℃30分間加
熱焼成した。(500℃まで酸素100ppmドー
プ)。焼成後の銅合金導体は、焼結不足であり、内部導
体との接合面での充分な導電性が得られなかった。
Comparative Example 8 Of the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 1, 1
10 g of powder of 0 μm or less (99% or more of powder having an average particle size of 4.5 μm and 25 μm or less), PbO—B 2 O 3 —Si
O 2 glass frit (average particle size 1 μm, 15 μm or less 99% or more) 4 g, cuprous oxide (average particle size 18 μm,
25 μm or less 70%) 3 g, ethyl cellulose 0.7
g, butyl carbitol acetate 2 g, and an anti-settling agent 0.001 g were sufficiently mixed to obtain a paste. The obtained paste was screen-printed as an outer conductor of the same multilayer circuit board as in Comparative Example 7. After printing, it was baked at 800 ° C. for 30 minutes. (Oxygen 100 ppm doping up to 500 ° C.). The sintered copper alloy conductor was insufficiently sintered, and sufficient conductivity was not obtained at the joint surface with the internal conductor.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明は、一般式Agx Cu1-x (0.
01≦x≦0.4、原子比)で表され、粒子表面の銀濃
度が平均の銀濃度の2.1倍より高く、粒子表面に向か
って銀濃度が増加する領域を有する平均粒子径0.1〜
20μmで且つ20μm以下が90%以上の銅合金粉末
100重量部に対して平均粒子径0.1〜10μmで1
5μm以下が90%以上のガラスフリット0.2〜30
重量部及び有機ビヒクルよりなる低温焼成多層回路基板
の外部導体用ペーストを提供するものであるが、基板と
の優れた接着性、はんだ濡れ性、耐マイグレーション
性、耐酸化性を有するのみならず、銀、銀パラジウム、
金、銀−白金からなる内部導体と焼成時に容易に合金化
するため優れた電気的接合性を有する外部導体及び低温
焼成多層回路基板を提供するものである。
According to the present invention, the general formula Ag x Cu 1-x (0.
01 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), the average particle diameter is 0, which has a region in which the silver concentration on the grain surface is higher than 2.1 times the average silver concentration and the silver concentration increases toward the grain surface. 1 ~
1 with an average particle size of 0.1 to 10 μm with respect to 100 parts by weight of a copper alloy powder of 20 μm and 20 μm or less of 90% or more
Glass frit 0.2 to 30 with 5 μm or less of 90% or more
It is intended to provide a paste for an external conductor of a low-temperature fired multilayer circuit board consisting of parts by weight and an organic vehicle, but not only has excellent adhesion to the board, solder wettability, migration resistance, and oxidation resistance, Silver, silver palladium,
It is intended to provide an internal conductor made of gold, silver-platinum, an external conductor having excellent electrical bonding property because it is easily alloyed during firing, and a low temperature firing multilayer circuit board.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式Agx Cu1-x (ただし、0.0
1≦x≦0.4、原子比)で表され、粒子表面の銀濃度
が平均の銀濃度の2.1倍より高く、且つ粒子表面に向
かって銀濃度が増加する領域を有する、平均粒子径が
0.1〜20μmであり、且つ25μm以下の粉末が9
0%以上であることを特徴とする銅合金粉末100重量
部に対して、平均粒子径0.1〜10μmで且つ15μ
m以下の粉末が90%以上であるガラスフリット0.1
〜30重量部、有機ビヒクルからなることを特徴とする
低温焼成多層回路基板外部導体用ペースト
1. The general formula Ag x Cu 1-x (provided that 0.0
1 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), and the average particle has a silver concentration higher than 2.1 times the average silver concentration and has a region where the silver concentration increases toward the particle surface. 9 powders having a diameter of 0.1 to 20 μm and 25 μm or less
0% or more, with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder, the average particle size is 0.1 to 10 μm and 15 μm.
Glass frit in which 90% or more of m or less powder is 0.1
To 30 parts by weight of organic vehicle, low temperature firing multilayer circuit board outer conductor paste
【請求項2】 請求項1記載のペーストに平均粒子径
0.1〜20μmであり、25μm以下の粉末が90%
以上である酸化第一銅粉末を銅合金粉末100重量部に
対して0.1〜20重量部添加してなる低温焼成多層回
路基板外部導体用ペースト。
2. The paste according to claim 1, which has an average particle size of 0.1 to 20 μm and 90% of powder having a particle size of 25 μm or less.
A low-temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste obtained by adding 0.1 to 20 parts by weight of the above cuprous oxide powder to 100 parts by weight of a copper alloy powder.
【請求項3】 請求項1または2記載のガラスフリット
がPbO,SiO22 3 ,ZnOから選ばれた1種
以上の酸化物成分を主成分にしたガラスフリットからな
ることを特徴とする低温焼成多層回路基板外部導体用ペ
ースト。
3. The glass frit according to claim 1 or 2, wherein the glass frit is composed mainly of at least one oxide component selected from PbO, SiO 2 B 2 O 3 and ZnO. Low temperature firing multilayer circuit board outer conductor paste.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の低温焼
成多層回路基板外部導体用ペーストを、内層の導体回路
あるいはビアホール導体あるいはスルーホール導体が少
なくとも銀、銀−パラジウム、銀−白金、金から選ばれ
た1種以上であることを特徴とする低温焼成多層回路基
板の外層に印刷し、焼結してなる一般式Agx Cu1-x
(ただし、0.01≦x≦0.4、原子比)で表される
外部導体を有する低温焼成多層回路基板。
4. The low-temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste according to claim 1, wherein the inner layer conductor circuit or via-hole conductor or through-hole conductor is at least silver, silver-palladium, silver-platinum, A general formula Ag x Cu 1-x formed by printing on an outer layer of a low temperature firing multilayer circuit board characterized by being one or more selected from gold and sintering.
(However, 0.01 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio) A low temperature fired multilayer circuit board having an outer conductor.
【請求項5】 請求項4記載の外部導体の表面の銀濃度
が平均の銀濃度の2倍より高いことを特徴とする低温焼
成多層回路基板。
5. A low temperature fired multilayer circuit board, wherein the silver concentration on the surface of the outer conductor according to claim 4 is higher than twice the average silver concentration.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7037448B2 (en) 2002-10-17 2006-05-02 Noritake Co., Limited Method of producing a conductor paste

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