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JPH0576555B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0576555B2
JPH0576555B2 JP28900385A JP28900385A JPH0576555B2 JP H0576555 B2 JPH0576555 B2 JP H0576555B2 JP 28900385 A JP28900385 A JP 28900385A JP 28900385 A JP28900385 A JP 28900385A JP H0576555 B2 JPH0576555 B2 JP H0576555B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tin
plating
surface treatment
metal
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP28900385A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6263692A (ja
Inventor
Hiroki Uchida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Uemera Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Uemera Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Uemera Kogyo Co Ltd filed Critical Uemera Kogyo Co Ltd
Publication of JPS6263692A publication Critical patent/JPS6263692A/ja
Publication of JPH0576555B2 publication Critical patent/JPH0576555B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/30Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/60Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、2価の錫イオン(Sn2+)を主成分
とする錫めつき液やはんだめつき液等の錫合金め
つき液、プラスチツクめつきのセンシタイジング
液、アルミニウムの電解着色液などのSn2+を主
成分とする表面処理液中に生じた4価の錫イオン
(Sn4+)をSn2+に還元して除去する方法に関す
る。
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 従来より、錫めつき或いははんだめつき等の錫
合金めつきが種々の用途に使用されている。これ
ら錫めつきや錫合金めつきは、めつき液中の
Sn2+を金属錫に還元、析出することをめつき原
理とするもので、Sn2+をめつき金属源とするも
のである。しかし、錫めつき液或いは錫合金めつ
き液中のSn2+は空気酸化、電解酸化等により
Sn4+に酸化され、めつき液中にSn4+が生じ、こ
のSn4+は酸性溶液中にあつても過によつて除
去し難い白色コロイド状の水酸化物となつて蓄積
し、めつき液を白濁させる。この場合、上記のよ
うにSn4+は水酸化物となつて白色コロイド状沈
澱を生成するので、金属イオンに不純物としての
問題は少ないが、めつき液に沈澱物が共存するこ
とは好ましくなく、このためSn4+或いはその水
酸化物を除去することが要求される。
従来、このような水酸化物(水酸化第2錫)の
除去方法としては、上述したようにこの水酸化物
がコロイド状で、そのままでは過により除去し
難いので、凝集剤を添加して水酸化物を凝集沈降
させ、過する方法が採用されているが、この方
法は完全に水酸化物を除去し難く、また操作も比
較的面倒であり、更に溶液の種類によつては凝集
剤を添加するのが好ましくない場合がある上、水
酸化物を除去してもまた直ちにSn2+のSn4+への
酸化、水酸化物の生成が生じる問題があつた。
また、アルミニウムの電解着色液中のSn4+
除去方法としては、イオン交換膜を用いて対極と
アルミニウム材を隔離して電解する方法も提案さ
れている(特開昭57−92199号)が、この方法は
装置が大がかりになる等の問題がある。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
Sn2+を主成分とする表面処理液中に不純物とし
て含まれるSn4+或いはその水酸化物を過等の
分離手段によるものではなく、Sn4+をSn2+に還
元することによりSn4+を除去し、更にはその水
酸化物沈殿を再溶解し、Sn2+に還元することに
より除去することができ、しかも設備費用も安価
であり、かつ操作も簡単な表面処理液中の4価の
錫イオンの除去方法を提供することを目的とす
る。
課題を解決するための手段及び作用 即ち、本発明は、上記目的を達成するため、2
価の錫イオンを主成分とする表面処理液中に不純
物として含まれる4価の錫イオンを除去する方法
であつて、この4価の錫イオンを含む表面処理液
中に錫金属又は錫合金もしくは合金化される金属
からなる可溶性金属と不活性金属とをそれぞれ浸
漬すると共に、上記可溶性金属と不活性電極とを
直接又は導体により接続して可溶性金属を負極、
不活性電極を正極とする電池を形成し、前記可溶
性金属を酸化溶解させると共に、上記表面処理液
中の4価の錫イオンを2価の錫イオンに還元する
ことを特徴とする表面処理液中の4価の錫イオン
の除去方法を提供する。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る表面処理液中のSn4+の除去方法
は、Sn2+を主成分とする表面処理液中に含まれ
るSn4+不純物をSn2+に還元することによつて除
去するもので、このSn4+のSn2+への還元方法は、
第1〜3図に示したように、還元槽1内のSn4+
含有表面処理液2中に負極として錫金属又は錫合
金もしくは錫と合金化される金属からなる可溶性
金属3を浸漬し、正極として不活性電極4を浸漬
し、これらを導体5で接続して電池を形成したり
(第1図)、この場合絶縁被覆した導体5′をSn4+
含有表面処理液2中に浸漬した状態で用いて可溶
性金属3と不活性電極4とを接続し、電池を形成
したり(第2図)、或いは可溶性金属3と不活性
電極4とを直接接触して電池を形成するものであ
る(第3図)。
これにより下式のように負極の可溶性金属が金
属イオンに酸化され、Sn4+含有表面処理液中に
溶解すると共に、正極(不活性電極)において
Sn4+がSn2+に還元されるものである。
負極:M−ne→Mn+ ……(1) 正極:Sn4++2e→Sn2+ ……(2) 全体:2M+nSn4+→2Mn++nSn2+ ……(3) (式中Mは可溶性金属を示す。) この場合、可溶性金属Mを錫とすると、下式の
ようにSn0(可溶性金属)がSn2+に酸化されると
共に、Sn4+がSn2+に還元される。
負極:Sn0−2e→Sn2+ ……(1′) 正極:Sn4++2e→Sn2+ ……(2′) 全体:Sn0+Sn4+→2Sn2+ ……(3′) また、沈殿している4価の錫は、(4)式のような
平衡にあるので、Sn4+のSn2+への還元につれて
徐々に再溶解し、上記(3)式に従つてSn2+に還元
する。
Sn (OH)4 沈澱↓Sn (OH)4 溶解Sn4++4OH-溶解 ……(4) ここで、本発明方法が適用される表面処理液と
しては、Sn2+を主成分とする錫メめつき液、は
んだめつき液等の錫合金めつき液、プラスチツク
めつきのセンシタイジング液、アルミニウムの電
解着色液などが挙げられる。
また、可溶性金属及び不活性電極は全体として
表面処理液内でSn4+をSn2+に還元できる組合せ
になるようにする((3)式の反応が進むような組合
せにする)もので、負極として用いられる可溶性
金属の材質としては上述した通りであり、特に錫
めつき液の場合は錫金属、錫合金めつき液の場合
であれば錫金属や錫と合金化される金属、その金
属が好ましい。また、正極として用いられる不活
性電極としては、単に電子を渡すだけの電極とし
て作用するものが好ましく、特に限定されない
が、金、白金、鉛、チタン、ニオブ、タンタル、
ジルコニウム、ステンレススチール、炭素、黒
鉛、カーボンペースト、グラツシーカーボン、炭
素繊維などを有効に使用することができる。
この場合、負極と正極との表面積比は適宜選択
されるが、負極を1とした時に正極を1以上、特
に5以上の表面積比とすることが好ましい。
本発明方法は、以上のように表面処理液中に可
溶性金属及び不活性電極を浸漬し、電池を形成す
ればよく、その実施態様は特に制限されない。例
えば、錫めつき液や錫合金めつき液中のSn4+
純物をSn2+に還元する場合は、めつき槽中で直
接電池を形成するようにしてもよいが、第4,5
図に示したようにめつき槽6とは別個に還元槽1
を配設し、これら両槽1,6間をめつき液送出管
7及びめつき液返送管8により接続し、返送管8
にポンプ9を介装して、めつき液(Sn4+含有液)
2をポプ9により両糟1,6間に循環させながら
Sn4+をSn2+に還元させつつめつきを行うように
することもできる。なお、図示していないが、め
つき糟中には陽極板等の必要なめつき設備が設置
される。
次に実施例を示し、本発明を具体的に説明する
が、本発明は下記の実施例に制限されるものでは
ない。
実施例 1 建浴してから3週間経過した酸性錫めつき液を
第4図に示す如き装置のめつき糟に入れ、このめ
つき糟と還元糟との間を循環させた。この場合、
還元糟の負極の可溶性金属としては錫を使用し、
正極の不活性電極としては多孔性カーボン板を使
用し、これら両極を接続する導体(導線)に電流
計を介装して電流計のふれをチエツクした。
前記酸性錫めつき液の外観は全体に少し濁つて
おり、めつき糟底部に若干沈殿がある状態であつ
たが、上記の状態で一晩放置したところ、めつき
液は完全に透明な状態となつた。また、可溶性金
属(錫)と不活性電極(カーボン板)との電池形
成による初期電流値は約0.025A/であつたが、
一晩放置後は0.005A/であつた。
実施例 2 2週間の使用でかなり濁つた状態になつていた
硫酸第1錫を含むアルミニウムの電解着色液を使
用し、不活性電極としてチタン製ラス上に溶融白
金を付けたものを用いた以外は実施例1と同様な
実験を行つた。
その結果、一晩の放置により着色液はかなり透
明になつたが、若干の濁りがあつた。このため、
更に一晩放置したところ完全に透明になつた。ま
た、電池の初期電値は約0.02A/、二晩放置後
は0.005A/であつた。
実施例 3 実施例1と同様の建浴をしてから3週間経過し
た酸性錫めつき液を第5図に示す如き装置のめつ
き糟に入れ、このめつき糟と還元糟との間を循環
させた。この場合、還元糟の正極の不活性電極と
しては多孔性カーボン板にドリルで貫通孔を設け
たものを使用し、負極の可溶性金属として錫板に
ドリルで貫通孔を設けたものに塩化ビニル製のボ
ルトとナツトを使用して錫板とカーボン板が直接
に接触するようにそれぞれの貫通孔にボルトを挿
入し、ナツトで締めることで電池を形成した。
前記、酸性錫めつき液の外観は全体に少し濁つ
ており、めつき糟底部に若干沈殿があつたが、上
記の状態で一晩放置したところ、めつき液は完全
に透明な状態になつた。
従つて、以上の結果から、本発明法により表面
処理液中のSn4+による沈殿をSn4+をSn2+に還元
することで再溶解することができ、また常に
Sn4+をSn2+に還元することにより、Sn4+の蓄積
を防ぎ、沈殿の生成を防止できることが認められ
た。
発明の効果 以上説明したように、本発明によれば単に可溶
性金属と不活性電極とを表面処理液に浸漬し、電
池を形成するだけで不純物のSn4+が除去できる
ので設備費用が安価であり、非常に簡便に実施で
きるものである。しかも、本発明によれば過等
の分離手段を用いることなく、Sn4+による沈殿
を減少し、或いは除去し得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第5図はそれぞれ本発明の実施に用
いる装置の一例を示す概略図である。 1……還元槽、2……Sn4+含有表面処理液、
3……可溶性金属、4……不活性電極、5,5′
……導体。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 2価の錫イオンを主成分とする表面処理液中
    に不純物として含まれる4価の錫イオンを除去す
    る方法であつて、この4価の錫イオンを含む表面
    処理液中に錫金属又は錫合金もしくは錫と合金化
    される金属からなる可溶性金属と不活性電極とを
    それぞれ浸漬すると共に、上記可溶性金属と不活
    性電極とを直接又は導体により接続して可溶性金
    属を負極、不活性電極を正極とする電池を形成
    し、前記可溶性金属を酸化溶解させると共に、上
    記表面処理液中の4価の錫イオンを2価の錫イオ
    ンに還元することを特徴とする表面処理液中の4
    価の錫イオンの除去方法。
JP28900385A 1985-05-10 1985-12-20 表面処理液中の4価の錫イオンの除去方法 Granted JPS6263692A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9937485 1985-05-10
JP60-99374 1985-05-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6263692A JPS6263692A (ja) 1987-03-20
JPH0576555B2 true JPH0576555B2 (ja) 1993-10-22

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JP28900385A Granted JPS6263692A (ja) 1985-05-10 1985-12-20 表面処理液中の4価の錫イオンの除去方法

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4580085B2 (ja) * 2000-10-26 2010-11-10 メック株式会社 金属スズまたはスズ合金をエッチングする方法ならびに金属スズまたはスズ合金のエッチング液
JP4143385B2 (ja) * 2002-03-05 2008-09-03 株式会社大和化成研究所 無電解めっきの触媒付与のための前処理液、該液を使用する前処理方法、該方法を使用して製造した無電解めっき皮膜及び(又は)めっき被覆体
CN119384526A (zh) * 2022-11-28 2025-01-28 株式会社村田制作所 镀覆组合物的再生方法和再生装置
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JPS6263692A (ja) 1987-03-20

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