Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JPH055106B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH055106B2
JPH055106B2 JP59066764A JP6676484A JPH055106B2 JP H055106 B2 JPH055106 B2 JP H055106B2 JP 59066764 A JP59066764 A JP 59066764A JP 6676484 A JP6676484 A JP 6676484A JP H055106 B2 JPH055106 B2 JP H055106B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
parts
copolymer
styrene
butadiene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59066764A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60211451A (ja
Inventor
Kunio Shimizu
Katsuhiro Takahashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP6676484A priority Critical patent/JPS60211451A/ja
Publication of JPS60211451A publication Critical patent/JPS60211451A/ja
Publication of JPH055106B2 publication Critical patent/JPH055106B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(技術分野) 本発明はアルカリ水溶液又はアルカリ水−有機
溶媒系のような水系の現像液により現像可能なフ
レキソ印刷版用感光性エラストマー組成物に関す
るものである。 (従来技術とその問題点) 従来、フレキソ印刷用のゴム版は、金属板の腐
食により原版を製造し、プラスチツクス等によつ
て母型版を製造し、さらにこの母型版にゴムを流
し込んで加圧することによつて製造されてきた。
しかし、この方法は、多くの工程からなるため、
経費や時間が多くかかる上に、得られたゴム版自
体の精度が低いため、使用に際しては裏削りを必
要とするなどの欠点を有していた。 そのため、これに代わるものとして近年に至
り、感光性エラストマー組成物を用いる方法が開
発され、実用化されるようになつた。 そして、このような方法としては、25℃以上の
ガラス転移温度をもつ少くとも2個の熱可塑性非
エラストマー状重合体ブロツク及びそれらの非エ
ラストマー状重合体ブロツク間を、10℃以下のガ
ラス転移温度をもつエラストマー状ブロツクで結
合した構造の、溶媒可溶性熱可塑性エラストマー
状ブロツク共重合体とエチレン性不飽和化合物、
光重合開始剤とを主要成分とした感光層を用いて
フレキソ印刷用印刷版を製造する方法(特公昭51
−4337号公報、特公昭56−29260号公報)が知ら
れている。しかし、これらの印刷版は現像液に有
機溶剤を使用しなければならないが、人体に対す
る有害性、大気汚染、使用する溶剤によつては火
災の危険という問題を有しており、これらを克服
する為に、多額の設備投資を必要としたり、近年
ますますきびしさを増す公害規制のためにその実
際使用が難しくなりつつある。 このような問題を解決するために、水系の現像
液で現像可能な感光性エラストマー組成物の研究
が行われており、いくつかの提案がなされてい
る。 例えば、共役ジエン系炭化水素(A)とα,β−エ
チレン性不飽和カルボン酸(B)を必須成分とし、こ
れにモノオレフイン系不飽和化合物(C)とをA:10
〜95mol%、B:5〜90mol%、C:0〜85mol
%の割合で含む共重合体と光重合性不飽和単量
体、光増感剤を含有する感光性樹脂組成物を用い
る方法(特開昭52−134655号公報)や、全組成物
基準で、(a)20000〜75000の数平均分子量、10〜50
重量%のアクリロニトリル含量および1〜15重量
%のカルボキシル含量を有する高分子量ブタジエ
ン/アクリロニトリル共重合体55〜85重量%と、
(b)750〜10000の数平均分子量、0〜50重量%のア
クリロニトリル含量および0〜15重量%のカルボ
キシル含量を有する低分子量ブタジエン重合体5
〜40重量%(ただし重合体(a)と重合体(b)との組合
せで少なくとも2重量%のカルボキシル基を含有
するものとする)と、(c)少くとも1個の末端エチ
レン基を有しそして遊離ラジカル開始された連鎖
生長付加重合により高分子重合体を形成できしか
も前記重合体(a)および(b)と相溶性である非気体状
エチレン性不飽和化合物2〜40重量%と、(d)不飽
和化合物の重合を開始させる活性線照射により活
性化されうる有機照射感受性遊離ラジカル生成系
0.001〜10重量%を含有することを特徴とする、
光感受性弾性体状組成物(特公昭58−33884号公
報)が提案されている。 これらの技術は、骨格ポリマーにカルボキシル
基等の極性基を導入することにより、アルカリ水
溶液又はアルカリ水−有機溶媒系で現像でき、か
つゴム弾性を有する感光性樹脂を用いる点に特徴
を有するものである。 しかし、これらの感光性エラストマー組成物
は、骨格ポリマーにカルボキシル基等の極性基を
導入したため、アルコールベースインクに対し、
溶媒耐性がなく通常のフレキソ印刷に使用できな
いという問題点を有している。 このような事情の下で、本発明者らは種々研究
を重ねた結果、スチレン−ブタジエンゴム、スチ
レン−イソプレンゴム、ニトニル−ブタジエンゴ
ム、ブタジエンゴムなどを骨格ポリマーとする感
光性エラストマー組成物に、所定量の親水性高分
子化合物を含有させることによりフレキソ印刷版
用として優れた性質を示すものが得られることを
見出し、この知見に基づいて本発明をなすに至つ
た。 (本発明の構成) すなわち、本発明は、組成物全重量に基づき、 (イ) 数平均分子量20000〜200000をもつ共役ジエ
ン系炭化水素重合体又は数平均分子量20000〜
200000をもつ共役ジエン系炭化水素とモノオレ
フイン系不飽和化合物との共重合体25〜85重量
%、 (ロ) 親水性高分子化合物10〜70重量%、 (ハ) 非気体状エチレン性不飽和化合物1〜40重量
%及び (ニ) 光重合開始剤 を必須成分として含有してなる感光性エラストマ
ー組成物 を提供するものである。 本発明に用いられる(イ)成分は、共役ジエン系炭
化水素を重合させて得られる数平均分子量20000
〜200000の重合体、または共役ジエン系炭化水素
とモノオレフイン系不飽和化合物を重合させて得
られる数平均分子量20000〜200000の共重合体で
ある。 共役ジエン系炭化水素としては、1,3−ブタ
ジエン、イソプレン、クロロプレン等が使用され
る。共役ジエン系炭化水素は単独で用いてもよい
し、2種類以上混合使用してもよい。これらの共
役ジエン系炭化水素よりなる重合体は、フレキソ
印刷版として具備しなければならない柔軟性すな
わちゴム弾性を付与することができる。 モノオレフイン系不飽和化合物としては、スチ
レン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレ
ン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタク
リルアミド、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル等が使用される。 共役ジエン系炭化水素を重合させて得られる重
合体、又は共役ジエン系炭化水素とモノオレフイ
ン系不飽和化合物を重合されて得られる共重合体
としては、ブタジエン重合体、イソプレン重合
体、クロロプレン重合体、スチレン−ブタジエン
共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチ
レン−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル
−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−イソ
プレン共重合体、アクリロニトリル−クロロプレ
ン共重合体、メタクリル酸メチル−ブタジエン共
重合体、メタクリル酸メチル−イソプレン共重合
体、メタクリル酸メチル−クロロプレン共重合
体、アクリル酸メチル−ブタジエン共重合体、ア
クリル酸メチル−イソプレン共重合体、アクリル
酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリロニト
リル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリロ
ニトリル−イソプレン−スチレン共重合体、アク
リロニトリル−クロロプレン−スチレン共重合体
等があげられる。 本発明で使用する重合体として好ましいもの
は、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−
イソプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジ
エン共重合体等ランダムポリマー及びスチレン−
ブタジエン−スチレンブロツク共重合体、スチレ
ン−イソプレン−スチレンブロツク共重合体、結
晶性1,2−ポリブタジエン等熱可塑性エラスト
マーであるが、フレキソ印刷用感光性エラストマ
ー組成物は通常シートが製造されてから印刷版に
加工されるまでの間比較的長期間貯蔵されるの
で、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体等ランダムポリマー
では、コールドフローを起し、厚み精度の悪化を
起す。このため熱可塑性エラストマー状ブロツク
共重合体や結晶性1,2−ポリブタジエンのよう
な熱可塑性エラストマーを用いるのが好ましい。
熱可塑性エラストマー状ブロツク共重合体は、下
記の一般式で表わされる。 (A−B)o−A (B−A)o+1−B (A−B)o+1 (A−B)nX ただし、Aは25℃以上のガラス転移温度をもつ
熱可塑性非エラストマー状重合体ブロツクで、例
えばポリスチレン、ポリ(α−メチルスチレン)
などを示し、Bは10℃以下のガラス転移温度をも
つエラストマー状ブロツクで、例えばポリブタジ
エン、ポリイソプレンなどを示し、Xはm個の結
合手をもつ多官能性残基で、例えばSiやSnなど
を示す。また、nは1〜10、mは2〜7の数であ
る。エラストマー成分の含量は、水系現像液に対
しての現像性より85重量%以下、またアルコール
ベースインク耐性より25重量%以上必要である。
好ましくは50〜75重量%、最も好ましくは65〜75
重量%の範囲である。 本発明の(ロ)成分として用いる親水性高分子化合
物とは、その物理的性質として水又は水を70%以
上含有する液体に少くとも1重量%以上溶解又は
分散可能な性質を有するもの、例えば−OH、−
COOH、−NH2、−COO−、−SO3−などの親水基
を有しかつ鎖状で、架橋の無い高分子化合物で、
一般的には水溶性高分子又は水分散型樹脂と呼ば
れているものである。 このような親水性化合物の例としては、ポリビ
ニルアルコール(PVA)、カルボキシメチルセル
ロース(CMC)などの汎用樹脂のほかに、無水
マレイン酸等で変性した液状ポリブタジエン、又
はメタクリル酸とジエン化合物を共重合させたジ
エン系ゴム等があげられる。 その具体的な例を示すと、ポリビニルアルコー
ル(PVA)、カルボキシメチルセルロース
(CMC)、ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、
メチルセルロース(MC)、ポリアクリル酸ソー
ダ、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイ
ド、水性ウレタン樹脂、水溶性エポキシ化合物、
水溶性ポリエステル、変性液状ポリブタジエン、
カルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体、カルボキシル基含有スチレン−ブタ
ジエン共重合体、カルボキシル基含有ブタジエン
重合体などがある。 この(ロ)成分としては、また、水又は水を70%以
上含有する液体に20℃で24時間浸せきした時の重
量増加率が500%以上である高分子化合物、いわ
ゆる水膨潤性樹脂を用いることもできる。このも
のは、本来水可溶性の親水性ポリマーを種々の方
法によつて架橋を行い水に不溶化させるか、さら
にそれを金属等でキレート化することにより得ら
れる。 その具体的な例を示すと特公昭56−50886号公
報記載の平均分子量が約1000以上のハードセグメ
ントと、平均分子量が約1000以上であり、かつエ
チレン系不飽和基を含むセグメント(以下、不飽
和セグメントという)の組合せにおいて、分子中
に少くとも1つの(ハードセグメント)―(―不飽和
セグメント)―(―ハードセグメント)の結合形式を
有するブロツクコポリマーやグラフトコポリマー
の不飽和基に、少くとも1個のカルボキシル基、
アミノ基または水酸基を有するチオアルコール基
含有親水性化合物を付加させ、次いで、上記のカ
ルボキシル基、アミノ基又は水酸基をエステル
化、アミド化、アルキル化あるいは硫酸エステル
化した親水性ブロツクコポリマーやグラフトコポ
リマー、ポリエチレングリコール(ポリエチレン
オキシド)を変性して水に不溶化したもの、デン
プン等にアクリロニトリル等をグラフトしてさら
に加水分解した高分子物、架橋型アクリル酸重合
体などがある。 以上の親水性高分子及び水膨潤性樹脂中では、
カルボキシメチルセルロース、変性液状ポリブタ
ジエン、カルボキシル含有NBR、カルボキシル
含有SBR、カルボキシル含有BR、特公昭56−
50886号公報記載の水膨潤性高分子が好ましく、
最も好ましいのは、カルボキシル含有NBR、カ
ルボキシル含有SBR、カルボキシル含有BR、特
公昭56−50886号公報記載の水膨潤性高分子であ
る。 そしてその含量は、水系現像液に対しての現像
性とアルコールベースインク耐性を考慮すれば、
全組成基準で10〜70重量%、好ましくは20〜50重
量%、最も好ましくは親水性高分子で40〜50重量
%、水膨潤性樹脂で20〜30重量%である。 次に本発明で使用される(ハ)成分の非気体状エチ
レン性不飽和化合物としてはアクリル酸、メタク
リル酸、フマル酸、マレイン酸などのエステル
類、アクリルアミドやメタクリルアミドの誘導
体、アリルエステル、スチレン及びその誘導体、
N置換マレイミド化合物などをあげることができ
る。その具体的な例としては、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ブチレング
リコールのジアクリレート及びジメタクリレー
ト、あるいはトリメチロールプロパントリアクリ
レート及びトリメタクリレート、ペンタエリトリ
ツトテトラアクリレート及びテトラメタクリレー
トなどや、N,N′−ヘキサメチレンビスアクリ
ルアミド及びメタクリルアミド、ジアセトンアク
リルアミド及びメタクリルアミド、スチレン、ビ
ニルトルエン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタ
レート、トリアリルシアヌレート、フマル酸ジエ
チルエステル、フマル酸ジブチルエステル、フマ
ル酸ジオクチルエステル、フマル酸ジステアリル
エステル、フマル酸ブチルオクチルエステル、フ
マル酸ジフエニルエステル、フマル酸ジベンジル
エステル、マレイン酸ジブチルエステル、マレイ
ン酸ジオクチルエステル、フマル酸ビス(3−フ
エニルプロピル)エステル、フマル酸ジラウリル
エステル、フマル酸ジベヘニルエステル、N−メ
チルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−プ
ロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−
ペンチルマレイミド、N−n−ヘキシルマレイミ
ド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−n−オ
クチルマレイミド、N−2−エチルヘキシルマレ
イミド、N−n−デシルマレイミド、N−ラウリ
ルマレイミドなどをあげることができるが、これ
らに限定されるものではない。これらは単独で用
いてもよいし2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。 これらのエチレン性不飽和化合物の中で、加熱
成型工程や未露光シートの保存中における安定性
の点でフマレート及びマレートがアクリル酸誘導
体、メタクリル酸誘導体などよりも優れている。
また反応性の点でフマレートの方がマレートより
も優れており、フマレートを用いるのが好まし
い。添加量はその種類や得ようとするフレキソ版
の特性によつて異なるが、1重量%以上にする必
要がある。これより少いと光照射によつても現像
液に対し不溶化が充分に起らないため画像焼付後
の現像液による洗出し工程で、レリーフとなるべ
き個所の一部が洗い取られてしまい、満足な版を
得ることができない。反対に添加量が多くなりす
ぎると、得られる版は硬くもろくなり、ゴム弾性
が少なくなるので、フレキソ印刷に使用すること
ができなくなることがある。好ましい添加量は、
5〜30重量%である。 次に、本発明の(ニ)成分である感光性エラストマ
ー組成物に有効な光重合開始剤としては、ベンゾ
フエノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル、α−メチロールベンゾイ
ン、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、
α−メトキシベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インフエニルエーテル、α−t−ブチルベンゾイ
ン、ベンジル、ビバロイン、アンスラキノン、ベ
ンズアンスラキノン、2−エチルアンスラキノ
ン、2−クロルアンスラキノンなどを例としてあ
げることができる。このような光重合開始剤は重
合有効量すなわち少くとも0.01重量%以上添加さ
れる。一般には0.1〜2重量%の範囲で添加され
るのが好ましい。 本発明の感光性エラストマー組成物には前記し
た必須成分のほかに、0.001〜2重量%の熱重合
防止剤を含ませることができる。この熱重合防止
剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−
p−クレゾール、p−メトキシフエノール、ペン
タエリスリトールテトラキス〔3−(3′,5′−ジ
−t−ブチル−4′−ヒドロキシ)フエニルプロピ
オネート〕、ヒドロキノン、t−ブチルカテコー
ル、t−ブチルヒドロキシアニソール、4,4′−
ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチル)
フエノールなどをあげることができる。 また、本発明の感光性エラストマー組成物は所
望により可塑剤を含むことができる。この可塑剤
は感光性エラストマー組成物の未露光部分の除去
を促進し、また、硬化部分の物性等を改良し、さ
らに、感光性エラストマー組成物層の製造、特に
成型を助成するもので、目標とする特性に応じて
2〜40重量%の範囲が添加される。このようなも
のとしては、ナフテン油やパラフイン油のような
炭化水素油、ポリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコールエステル、数平均分子量5500以下
の液状ゴム類例えば、液状1,2及び1,4ポリ
ブタジエン、液状アクリロニトリルブタジエンコ
ポリマー、液状スチレンブタジエンコポリマー、
ステアリン酸、ポリペンタジエン、ポリウレタ
ン、エチレンプロピレンジエンゴムなどがあげら
れる。 上記可塑剤は、透明性を高める相溶剤としても
用いることができる。そのほかにトリフエニルホ
スヘート、ジオクチルフタレート、ジオクチルア
ジペート、ジエチルフタレート、リン酸、オクチ
ルジフエニルホスヘート、トリブトキシエチルホ
スヘート等の可塑剤が相溶剤となる。 本発明の感光性エラストマー組成物は、その組
成によつては粘着性を生じるので、その上に重ね
られる透明画像担体との接触性を良くするため、
及びその透明画像担体の再使用を可能にするため
に、その表面にポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリエステル、ポリスチレンなどの薄いフイルム
のラミネート層を設けることができる。このフイ
ルムは、この上に重ねておいた透明画像担体を通
しての露光が終了してからはぎとられる。 同様の目的のためにフイルムの代わりに水系現
像液に可溶な薄いたわみ性の層を設けてもよい。
この場合は、透明画像担体を通じての露光が終了
してから未露光部を溶出する際にその層も同時に
溶解等により除去される。 本発明の感光性エラストマー組成物は各成分を
混合することにより製造することができる。 その混合手段としては、ニーダー、ロールミル
等が用いることができ、熱プレス成形、カレンダ
ー処理又は押出成形により所望の厚さの層を製造
することが可能である。 保護フイルムや支持体フイルムはシート成形後
ロールラミネートにより感光層に密着させること
ができる。ラミネート後加熱プレスしていつそう
精度の良い感光層を得ることができる。 薄いたわみ性の層、例えばポリビニルアルコー
ル、アラビアゴム、ポリアクリルアミド、セルロ
ースアセテートフタレート、ヒドロキシプロピル
セルロース等の層を感光層の表面に設けようとす
る場合には、これを適当な溶剤に溶かしてその溶
液を直接感光層表面にコーテイングしても良い
し、一度ポリエステル、ポリプロピレン等のフイ
ルムにコーテイングし、その後これをフイルムご
と感光層にラミネートして転写させてもよい。 本発明の感光性エラストマー組成物を溶剤不溶
化するのに用いられる活性光線源としては、低圧
水銀灯、高圧水銀灯、紫外線用けい光灯、カーボ
ンアーク灯、キセノンランプ、ジルコニウムラン
プ、太陽光などがある。 本発明の感光性エラストマー組成物に透明画像
担体を通して光照射して画像を形成させたあと、
未露光部を溶出するのに用いられる現像液は、未
露光部を除去し、露光されてできた画像部にはほ
とんど影響を与えないものであることが必要であ
る。 現像液の組成は、感光性エラストマー組成物に
含有している親水性高分子の性質及び量に依存す
るが、水または水を70%以上含有する溶剤で、水
酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウ
ム、硅酸ナトリウム等のアルカリ、界面活性剤、
水溶性有機溶剤を含有していてもよい。 現像液の液温は25℃前後でもよいが、現像性を
高めるためには50〜70℃がよい。 また現像時間は必要とするレリーフの深さが得
られる時間に設定する。 本発明の感光性エラストマー組成物はフレキソ
印刷用印刷版として優れた特性を有しているがこ
の他に、フオトレジスト用やスクリーン印刷のス
クリーン用としても用いることができる。 (効果) 本発明の感光性エラストマー組成物は親水性高
分子または水膨潤性樹脂を含有しているという点
で従来技術の感光性エラストマー組成物とは異な
つている。このような組成物は、容易に製造する
ことができ、かつ画像露光後水系現像液で現像さ
れ画像を生成することができる。 また、骨格ポリマーにカルボキシル基等の極性
基を導入した従来技術の感光性エラストマー組成
物は、アルコールベースインクに対し耐性がない
が、本発明感光性エラストマー組成物は驚くべき
ことにアルコールベースインクに対し、溶媒耐性
があるという長所を有している。 (実施例) 次に実施例により本発明を詳細に説明する。各
実施例中の部は重量部である。 実施例 1 スチレン−ブタジエン−スチレンブロツク共重
合体(シエル石油化学社製クラトン1101(商品
名))40部、水膨潤性樹脂(大日精化社製ダイス
ウエル(商品名))20部、液状ポリブタジエン
(日本石油化学社製B−2000(商品名))30部、フ
マル酸ジ−n−オクチル8部、ラウリルマレイミ
ド2部、2,2−ジメトキシ−2−フエニールア
セトフエノン2部、2,6−t−ブチル−p−ク
レゾール0.2部をニーダで混練した。 これを100μポリエステルフイルムではさみ、
3mmの厚さのスペーサーの内側に置き140℃でプ
レスして感光性エラストマー組成物シートを得
た。 次に片側のポリエステルフイルムをはぎとり、
その面に透明画像担体を密着させ、紫外線けい光
灯を用いて2.5mW/cm2の強度の光で30分間露光
した。 透明画像担体を取り除いて水酸化ナトリウム/
2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール/水溶
液(水酸化ナトリウム0.3部、2−(2−ブトキシ
エトキシ)エタノール7部、水93部、液温60〜65
℃)で20分間ブラシを使用して未露光部の溶出を
行つたところ、原画像を忠実に再現したレリーフ
が得られれた。 実施例 2 実施例1に用いたのと同じスチレン−ブタジエ
ン−スチレンブロツク共重合体30部、メタクリル
酸−スチレン−ブタジエン共重合体(数平均分子
量20000、メタクリル酸20重量%、スチレン10重
量%、ブタジエン70重量%)30部、ジステアリル
フマレート15部、フエニルマレイミド2部、2,
2−ジメトキシ−2−フエニールアセトフエノン
2部、2,6−t−ブチル−p−クレゾール0.2
部とをニーダで混練した。 これを実施例1と同様にシート成形し、露光
後、液温60℃の水酸化ナトリウム/2−(2−ブ
トキシエトキシ)エタノール/水溶液(水酸化ナ
トリウム0.3部、2−(2−ブトキシエトキシ)エ
タノール7部、水93部)で20分間ブラシを使用し
て未露光部の溶出を行つたところ、原画像を忠実
に再現したレリーフが得られた。 実施例 3 実施例1に用いたのと同じスチレン−ブタジエ
ン−スチレンブロツク共重合体30部、メタクリル
酸−ブタジエン共重合体(数平均分子量20000、
メタクリル酸20重量%、ブタジエン80重量%)30
部、ジステアリルフマレート10部、ラウリルマレ
イミド4部、ベンゾインイソプロピルエーテル2
部、2,6−t−ブチル−p−クレゾール0.2部
とをニーダで混練した。 これを実施例1と同様にシート成形し、露光
後、現像を行つたところ、原画像を忠実に再現し
たレリーフが得られた。 実施例 4 実施例1に用いたのと同じスチレン−ブタジエ
ン−スチレンブロツク共重合体30部、メタクリル
酸−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(日
本ゼオン社製ニポール1072(商品名))30部、ジブ
チルフマレート10部、ステアリルマレイミド3
部、ベンゾインイソブチルエーテル2部、2,6
−t−ブチル−p−クレゾール0.2部、とをニー
ダで混練した。 これを実施例1と同様にシート成形し、露光
後、現像を行つたところ、原画像を忠実に再現し
たレリーフが得られた。 実施例 5 実施例1に用いたのと同じスチレン−ブタジエ
ン−スチレンブロツク共重合体30部、カルボキシ
メチルセルロース(ダイセル化学社製1150(商品
名))30部、液状ポリブタジエン(日本石油化学
社製B−2000(商品名))30部、ジフエニルフマレ
ート10部、シクロヘキシルマレイミド2部、2,
2−ジメトキシ−2−フエニールアセトフエノン
2部、2,6−t−ブチル−p−クレゾール0.2
部とをニーダで混練した。 これを実施例1と同様にシート成形し、露光
後、現像を行つたところ、原画像を忠実に再現し
たレリーフが得られた。 実施例 6 第1表の感光性エラストマー組成物をニーダで
混練し、プレスにてシート化した。
【表】
【表】 以上の各シートを光源強度2.2〜2.3mW/cm2
紫外線けい光灯で両面40分間(片面20分間)光照
射した後、イソプロピルアルコール/酢酸エチ
ル/n−ヘキサン(75/20/5)中に浸せきし
た。各プレートの4時間後の膨潤率を第2表に示
した。
【表】 第2表より、水系現像液で現像が可能な組成物
(B)、(C)は溶剤現像タイプの組成物(D)、(E)に比べて
膨潤率が高く、耐溶剤性の面で問題がある。しか
し本発明の実施例1の組成物(A)は、溶剤現像タイ
プの組成物と同様の膨潤率であることから、溶剤
現像タイプの組成物と同様の耐溶剤性を有してい
ることが明らかになつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 組成物全重量に基づき、 (イ) 数平均分子量20000〜200000をもつ共役ジエ
    ン系炭化水素重合体又は数平均分子量20000〜
    200000をもつ共役ジエン系炭化水素とモノオレ
    フイン系不飽和化合物との共重合体25〜85重量
    %、 (ロ) 親水性高分子化合物10〜70重量%、 (ハ) 非気体状エチレン性不飽和化合物1〜40重量
    %及び (ニ) 光重合開始剤 を必須成分として含有してなる感光性エラストマ
    ー組成物。
JP6676484A 1984-04-05 1984-04-05 感光性エラストマ−組成物 Granted JPS60211451A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6676484A JPS60211451A (ja) 1984-04-05 1984-04-05 感光性エラストマ−組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6676484A JPS60211451A (ja) 1984-04-05 1984-04-05 感光性エラストマ−組成物

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31174893A Division JPH06214389A (ja) 1993-11-01 1993-12-13 感光性エラストマー組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60211451A JPS60211451A (ja) 1985-10-23
JPH055106B2 true JPH055106B2 (ja) 1993-01-21

Family

ID=13325269

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6676484A Granted JPS60211451A (ja) 1984-04-05 1984-04-05 感光性エラストマ−組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60211451A (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6989226B2 (en) 2000-11-28 2006-01-24 Asahi Kasei Chemicals Corporation Water-developable photosensitive resin for flexography
US8961513B2 (en) 2012-01-25 2015-02-24 Covidien Lp Surgical tissue sealer
US8968317B2 (en) 2011-08-18 2015-03-03 Covidien Lp Surgical forceps
US8968292B2 (en) 2009-02-20 2015-03-03 Covidien Lp Leaky-wave antennas for medical applications
USD726910S1 (en) 2013-08-07 2015-04-14 Covidien Lp Reusable forceps for open vessel sealer with mechanical cutter
USD728786S1 (en) 2013-05-03 2015-05-05 Covidien Lp Vessel sealer with mechanical cutter and pistol-grip-style trigger
US9031668B2 (en) 2009-08-06 2015-05-12 Covidien Lp Vented positioner and spacer and method of use
US9113903B2 (en) 2006-01-24 2015-08-25 Covidien Lp Endoscopic vessel sealer and divider for large tissue structures
US9113905B2 (en) 2008-07-21 2015-08-25 Covidien Lp Variable resistor jaw
US9113898B2 (en) 2008-10-09 2015-08-25 Covidien Lp Apparatus, system, and method for performing an electrosurgical procedure
US9113924B2 (en) 2008-10-17 2015-08-25 Covidien Lp Choked dielectric loaded tip dipole microwave antenna
US9113925B2 (en) 2009-09-09 2015-08-25 Covidien Lp System and method for performing an ablation procedure
US9113940B2 (en) 2011-01-14 2015-08-25 Covidien Lp Trigger lockout and kickback mechanism for surgical instruments
USD738499S1 (en) 2013-08-07 2015-09-08 Covidien Lp Open vessel sealer with mechanical cutter

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3785019T2 (de) * 1986-12-27 1993-10-21 Toyo Boseki Lichtempfindliche Lackzusammensetzung.
JP2893680B2 (ja) * 1987-10-22 1999-05-24 東洋紡績株式会社 感光性樹脂組成物
JP2958954B2 (ja) * 1988-02-29 1999-10-06 東洋紡績株式会社 感光性樹脂組成物
US4894315A (en) * 1988-08-30 1990-01-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for making flexographic printing plates with increased flexibility
CA2016919C (en) * 1989-05-18 2003-07-29 Masaru Nanpei Photosensitive resin compositions
JP2793068B2 (ja) * 1991-04-24 1998-09-03 日本ペイント株式会社 感光性樹脂組成物
JP2792388B2 (ja) * 1993-03-31 1998-09-03 日本ゼオン株式会社 水現像用親水性共重合体の製造方法及び該共重合体を用いた水現像用感光性重合体組成物、感光性フレキソ版
US5780202A (en) * 1994-04-08 1998-07-14 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Antistatic photosensitive multilayered structure and method for producing the same
US5863704A (en) * 1995-04-26 1999-01-26 Nippon Zeon Company, Ltd. Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
JP2656231B2 (ja) * 1996-02-20 1997-09-24 日本ペイント株式会社 感光性フレキソ印刷版用組成物
JP5334996B2 (ja) 2008-12-18 2013-11-06 旭化成イーマテリアルズ株式会社 アブレーション層、感光性樹脂構成体、当該感光性樹脂構成体を用いた凸版印刷版の製造方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5143374A (en) * 1974-10-11 1976-04-14 Showa Oil Kihatsuseino tankasuisoo fukumu gasuno jokahoho
JPS5337764A (en) * 1976-09-20 1978-04-07 Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd Extrusion molding method
JPS53111718A (en) * 1977-03-11 1978-09-29 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Sensitive resin conposite
JPS54110287A (en) * 1978-01-25 1979-08-29 Du Pont Photosensitive elastic composition
JPS5720732A (en) * 1980-05-27 1982-02-03 Du Pont Photopolymerizable composition
EP0104751A2 (en) * 1982-08-31 1984-04-04 W.R. Grace & Co.-Conn. Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates
JPS60173055A (ja) * 1984-02-20 1985-09-06 Dainichi Seika Kogyo Kk 感光性樹脂組成物

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5143374A (en) * 1974-10-11 1976-04-14 Showa Oil Kihatsuseino tankasuisoo fukumu gasuno jokahoho
JPS5337764A (en) * 1976-09-20 1978-04-07 Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd Extrusion molding method
JPS53111718A (en) * 1977-03-11 1978-09-29 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Sensitive resin conposite
JPS54110287A (en) * 1978-01-25 1979-08-29 Du Pont Photosensitive elastic composition
JPS5720732A (en) * 1980-05-27 1982-02-03 Du Pont Photopolymerizable composition
EP0104751A2 (en) * 1982-08-31 1984-04-04 W.R. Grace & Co.-Conn. Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates
JPS5960435A (ja) * 1982-08-31 1984-04-06 ダブリユ.アール.グレイス アンド カンパニー ― コネチカット 均質なエラストマ−状感光性組成物
JPS60173055A (ja) * 1984-02-20 1985-09-06 Dainichi Seika Kogyo Kk 感光性樹脂組成物

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6989226B2 (en) 2000-11-28 2006-01-24 Asahi Kasei Chemicals Corporation Water-developable photosensitive resin for flexography
US9113903B2 (en) 2006-01-24 2015-08-25 Covidien Lp Endoscopic vessel sealer and divider for large tissue structures
US9113905B2 (en) 2008-07-21 2015-08-25 Covidien Lp Variable resistor jaw
US9113898B2 (en) 2008-10-09 2015-08-25 Covidien Lp Apparatus, system, and method for performing an electrosurgical procedure
US9113924B2 (en) 2008-10-17 2015-08-25 Covidien Lp Choked dielectric loaded tip dipole microwave antenna
US8968292B2 (en) 2009-02-20 2015-03-03 Covidien Lp Leaky-wave antennas for medical applications
US9031668B2 (en) 2009-08-06 2015-05-12 Covidien Lp Vented positioner and spacer and method of use
US9113925B2 (en) 2009-09-09 2015-08-25 Covidien Lp System and method for performing an ablation procedure
US9113940B2 (en) 2011-01-14 2015-08-25 Covidien Lp Trigger lockout and kickback mechanism for surgical instruments
US8968317B2 (en) 2011-08-18 2015-03-03 Covidien Lp Surgical forceps
US8961513B2 (en) 2012-01-25 2015-02-24 Covidien Lp Surgical tissue sealer
USD728786S1 (en) 2013-05-03 2015-05-05 Covidien Lp Vessel sealer with mechanical cutter and pistol-grip-style trigger
USD726910S1 (en) 2013-08-07 2015-04-14 Covidien Lp Reusable forceps for open vessel sealer with mechanical cutter
USD738499S1 (en) 2013-08-07 2015-09-08 Covidien Lp Open vessel sealer with mechanical cutter

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60211451A (ja) 1985-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH055106B2 (ja)
US4197130A (en) Photosensitive elastomeric composition and element
EP0017927B1 (en) Process for preparing photopolymerized elastomeric printing plates not displaying surface stickiness
US4266005A (en) Photosensitive elastomeric composition
US5250389A (en) Photosensitive elastomer composition
JPH06107749A (ja) 光硬化性組成物、それから形成した柔軟感光性製品、及びこれらの製品の耐溶剤性ならびに柔軟性の改良法
JPH04342258A (ja) 溶媒耐性が改善された感光性エラストマー部材
EP0183552B2 (en) A photopolymerizable composition
JP2985655B2 (ja) 感光性組成物、感光性ゴム版およびその製法並びにフ レキソ印刷版およびその製法
JP3199812B2 (ja) 水系現像可能な光硬化性組成物、これで製造された層を有する感光製品、並びにそれらの製品の改良方法
US6197479B1 (en) Photosensitive resin composition, method for producing photosensitive resin composition, and printing plate material
GB2179360A (en) Aqueous developable photopolymer compositions
US6150076A (en) Process for treating periphery of unexposed photosensitive resin plate
JP3080192B2 (ja) 感光性樹脂印刷版用粘着防止層組成物
JPH06214389A (ja) 感光性エラストマー組成物
JP3123619B2 (ja) 感光性樹脂印刷版用粘着防止層組成物
JP2890770B2 (ja) フレキソ印刷版用粘着防止層組成物
JP3009010B2 (ja) 感光性樹脂積層体
JP2705214B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2940037B2 (ja) 感光性樹脂印刷原版および印刷版
JP3049863B2 (ja) 感光性エラストマ―組成物の現像方法
JPH10123710A (ja) 感光性樹脂マトリックスおよびその製造方法
JPH0541979B2 (ja)
JPH0513305B2 (ja)
JP3166873B2 (ja) 感光性樹脂印刷版用粘着防止層組成物

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term