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JPH05266708A - 銀導体回路用印刷インキおよび銀導体回路の形成方法 - Google Patents

銀導体回路用印刷インキおよび銀導体回路の形成方法

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Publication number
JPH05266708A
JPH05266708A JP9584292A JP9584292A JPH05266708A JP H05266708 A JPH05266708 A JP H05266708A JP 9584292 A JP9584292 A JP 9584292A JP 9584292 A JP9584292 A JP 9584292A JP H05266708 A JPH05266708 A JP H05266708A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor circuit
resin
silver conductor
silver
polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9584292A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiko Okuda
晃彦 奥田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Original Assignee
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanaka Kikinzoku Kogyo KK filed Critical Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Priority to JP9584292A priority Critical patent/JPH05266708A/ja
Publication of JPH05266708A publication Critical patent/JPH05266708A/ja
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 テルペン重合体、テルペンフェノール共重合
体、α−ピネン重合体、β−ピネン重合体の樹脂および
前記重合体の変性樹脂、水素添加樹脂より選ばれる少な
くとも1種以上の樹脂成分と溶剤成分、金属銀粉末およ
び必要に応じてフラックス成分を含有する銀導体回路用
印刷インキおよびそれを用いた導体回路の形成方法。 【効果】 オフセット印刷により簡便に平滑な所定のパ
ターンが得られ、しかも解像度と位置精度の高い印刷パ
ターンを形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子工業材料として用
いられる各種基材上に銀導体回路を形成させるための印
刷インキと形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、基材上に銀の導体回路を形成させ
るには銀ペーストを用いたスクリーン印刷法が盛んに用
いられてきた。この方法では安価で多量に印刷パターン
が作成できるが、50μmのライン/スペースのファイン
パターンではその形成が困難となるという欠点があっ
た。又、スクリーン印刷は版にスクリーンのメッシュを
用いることから、大きな基材への印刷に対しては位置ず
れを起こすことから位置精度が悪くなるという欠点があ
った。又、アルキッド樹脂やロジン系の樹脂を用いたオ
フセット印刷は、印刷パターンに凹凸を有し、平滑化さ
れないという問題もあった。
【0003】一方、ファインパターンの形成方法とし
て、フォトリソ法が行われている。この方法は微細なフ
ァインパターンの形成ができるが、製造のための設備が
大掛かりになり、工程が複雑で手間を要することから、
生産コストが高くつき、安価に製品を供給できないとい
う欠点があった。
【0004】
【発明が解決しょうとする課題】本発明は上記従来法の
欠点を解消するためになされたもので樹脂成分、溶剤成
分、金属銀粉末および必要に応じてフラックス成分を含
有する銀導体回路用オフセット印刷インキを用いてパタ
ーンを基材上にオフセット印刷し、位置精度の高いかつ
ライン/スペースの解像力の高いファインパターン形成
法を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、テルペン重合
体、テルペンフェノール共重合体、α−ピネン重合体、
β−ピネン重合体の樹脂および前記重合体の変性樹脂、
水素添加樹脂より選ばれる少なくとも1種以上の樹脂成
分、溶剤成分、金属銀粉末および必要に応じてフラック
ス成分を含有する銀導体回路用印刷インキに関するもの
である。
【0006】さらに、本発明は、テルペン重合体、テル
ペンフェノール共重合体、α−ピネン重合体、β−ピネ
ン重合体の樹脂および前記重合体の変性樹脂、水素添加
樹脂より選ばれる少なくとも1種以上の樹脂成分、溶剤
成分、金属銀粉末および必要に応じてフラックス成分を
含有する銀導体回路用印刷インキを用いてパターンを基
材上に印刷する工程、この印刷パターンをそのまま/又
は活性エネルギー線の照射及び/又は加熱によって硬化
および/又は平滑化せしめる工程、硬化および/又は平
滑化せしめた印刷パターンをそのまま/又は同一パター
ンで重ね刷りする工程、乾燥もしくは焼成する工程とか
ら成ることを特徴とする銀導体回路の形成方法に関する
ものである。
【0007】本発明の樹脂はオフセット印刷の印刷適性
に合い、さらに平滑性の出る樹脂を選ぶ必要があり、テ
ルペン重合体、テルペンフェノール共重合体、α−ピネ
ン重合体、β−ピネン重合体の樹脂および前記重合体の
変性樹脂、水素添加樹脂などがよく、単独あるいは混合
したものを用いる。樹脂量は銀の含有量によって異なる
が印刷適性から考慮すると3〜40%であるとよい。又、
前記樹脂はアルキッド樹脂やロジン系の樹脂よりも分解
温度が低いことから、導体の密着力の増強になることも
見い出した。
【0008】本発明で用いる溶剤は固形の樹脂や添加物
を液状に溶解させる目的と粘度を下げるための粘ちょう
剤の役割のためにある。固形の樹脂を溶解させるために
用いられるものとしてテルペン系溶剤(ガムテレピン
油、ジペンテン、リモネン、ターピニョール)、キシレ
ン、トルエン、ブタノール、ミネラルスピリッツ、石油
系溶剤(ソルベッソ、ナフサ)等があり、その他粘度を
下げるために3〜6号ソルベントが用いられる。
【0009】金属銀粉末は粒径0.05〜1.0μmの球状、
好ましくは 0.1〜 0.7μmの粒径で単分散したものがよ
い。フレーク状の粉末は 0.1〜10μm、更に好ましくは
0.5〜5μmのものがよく、球状のものを単独で用いる
か、フレークを銀の割合で10%〜75%、好ましくは20%
〜50%混ぜるとよい。この時の銀粉末の純度は95〜99.9
9%のものを用いる。
【0010】銀の球状粉末の粒径が0.05〜 1.0μmとし
たのは0.05μm以下では粒径が小さすぎ、弾性が出ない
ため印刷適性が不適であることと、サブミクロン以下の
粒径であるためハンドリングの困難さが生じるからであ
る。一方、1μm以上ではインキング時、ローラーに均
一にインキがのらずに安定した印刷ができないという問
題がある。
【0011】球状粉末にフレーク状粉末を混ぜるのはフ
レークがライン上に位置したとき粉末どおしの接触が大
きくとれ、導体の抵抗が下げられるという利点があるか
らである。
【0012】本発明の添加成分はレベリング剤、重合開
始剤、酸化促進剤、皮はり防止剤、増粘剤、金属キレー
ト樹脂、分散剤、フイラーであり、インキの適性に応じ
て添加する。例えば、レベリング剤であればシリコン系
化合物を 0.1〜数%添加するとよい。重合開始剤ではア
クリルオリゴマー、酸化促進剤ではナフテン酸コバル
ト、ナフテン酸マンガン、皮はり防止剤ではメチルエチ
ルケトンオキシム、増粘剤では増粘ワニスやカップリン
グ剤、金属キレート樹脂ではアマニ油脂肪酸塩、ステア
リン酸塩、オレイン酸塩などがある。フィラーはAl2
3、TiO2、BiO2、SnO2等の微粉末を用いれば
よく、0.05μmから10μm以下の粉末を用いればよい。
フィラーは焼成時に銀薄膜内や銀と基材の界面に生ずる
ひずみを取り除く、あるいは低減させる目的で加えるも
のである。又、耐薬品性の向上にもつながる。
【0013】フラックス成分は有機金属化合物および/
又はガラスフリットで加えればよい。金属成分としてP
b、B、Si、Zn、Bi、Sn、Cr、Mn、Ti、
Al、アルカリ、アルカリ土類等が含まれているものを
選ぶ。有機金属化合物としては2−エチルヘキサン酸
塩、ナフテン酸塩、ネオデカン酸塩、金属アルコキシ
ド、アマニ油脂肪酸塩、オレイン酸塩、ステアリン酸塩
などが用いられる。
【0014】フラックス成分は銀の導体薄膜と基材との
密着をよくする目的で加えるものであり、例えば基材が
ガラス基板であればPbO−B2 3−SiO2 、Pb
O−B2 3 −ZnO2 系の軟化点が 350〜 600℃程度
のガラスフリットを用いればよく、アルミナ基板であれ
ばSiO2−Al23−CaO、SiO2−PbO−Ca
O系高軟化点のガラスフリットを用いればよい。
【0015】前記の樹脂、溶剤、添加剤および金属銀粉
末および必要に応じてフラックス成分はプレミックスの
後、三本ロールにて充分均質になるまで溶解、混練す
る。このように調整された銀導体回路用印刷インキを用
いてオフセット印刷することにより、所定パターンが得
られる。
【0016】所定パターンの印刷方法はオフセット印刷
であり、平版、凹版のいずれであってもかまわず、版か
らブランケット、ブランケットから基材へとインキの転
写がおこなわれることにより所定パターンが得られる。
【0017】所定パターンのインキ転写が1回で十分に
行われない場合には重ね刷りを行えばよい。この重ね刷
りを行うことで、インキの転写総量および膜厚を増すこ
とができる。重ね刷りはそのまま続けて行ってよいが、
重ね刷りの際、バックトラッピングにより転写量が増さ
ないようであれば、重ね刷りの前にパターン上のインキ
を硬化させることでバックトラッピングを防止すること
ができる。硬化方法には活性エネルギー線の照射及び/
又は加熱によって硬化することができる。又、この際レ
ベリングされることでパターンの平滑化も促進される。
活性エネルギー線は紫外線、赤外線、電子線を意味し、
これらの活性エネルギー線と加熱を組み合わせることに
より硬化および/又は平滑化が進む。硬化をより促進さ
せるには紫外線硬化樹脂、重合開始剤、酸化促進剤を添
加するとよい。
【0018】オフセット印刷で得られたパターンは乾燥
工程に供される。乾燥温度、時間について特に現定はな
いが、60℃〜 200℃の乾燥温度で印刷面の乾燥は十分に
可能である。
【0019】フラックス成分を含有する銀導体回路用印
刷インキを使用した場合にはオフセット印刷により得ら
れた所定パターンは焼成工程に供される。焼成温度は樹
脂成分、溶剤成分、添加成分等の内に含まれる有機物が
蒸発、昇華あるいは分解しなければならない温度で、 2
00℃以上であることが望まれる。又、銀と基材との密着
をよくするにはフラックス成分が融解し、基材との界面
に反応相を形成させなければならず、その融解に必要な
温度まで上げて焼成しなければならない。
【0020】製造例1 テルペン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:YS
レジンPX300)20gに 0.3μm球状金属銀粉末80g
をプレミックスした後三本ロールにて混練し、銀インキ
を作成した。
【0021】製造例2 テルペンフェノール共重合体樹脂(ヤスハラケミカル
(株)製:YSポリスターT30)14.5gに 0.3μm球状
金属銀粉末85g、5号ソルベント 0.5gを加えてインキ
を作成した。
【0022】製造例3 β−ピネン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:Y
SレジンPXN300N)13gに 0.8μm球状金属銀粉
末85g、5号ソルベント 0.5g、メチルエチルケトンオ
キシム1g、ナフテン酸コバルト 0.5gを混合、混練
し、インキを作成した。
【0023】製造例4 α−ピネン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:Y
SレジンA800)20gに 0.1μm球状金属銀粉末75
g、5号ソルベント 0.5g、メチルエチルケトンオキシ
ム1g、増粘ワニス 3.5gを混練し、インキを作成し
た。
【0024】製造例5 テルペン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:ダイ
マロン)13gにクロロホルム20gと5号ソルベント6g
を加えて、ロジンを溶解した後、クロロホルムを減圧下
で除去する。 0.3μm球状金属銀粉末40gと5μmのフ
レーク状銀粉末40gにメチルエチルケトンオキシム1g
を混合、混練し、インキを作成した。
【0025】製造例6 芳香族変性テルペン重合体樹脂20gとテルペン系水素添
加樹脂20g(ヤスハラケミカル(株):YSレジンTO
115、クロアロンM)に重合開始剤(アクリルオリゴ
マー)1g、メチルエチルケトン4g、0.3μm球状金
属銀粉末45gと8μmのフレーク状銀粉末15gとを混
合、混練し、インキを作成した。
【0026】製造例7 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEL−8001)16gに0.3μm球状金属銀粉末80g、ガ
ラスフリット(旭硝子製:1350)4gをプレミックスし
た後、三本ロールにて混練し、インキを作成した。
【0027】
【従来例1】樹脂成分としてエチルセルロース 7.5gを
メチルイソブチルケトン 7.5gに溶解させ、 0.3μmの
球状金属銀粉末80gとα−ターピニョールを5g加え
て、プレミックスした後、三本ロールにて均質になるま
で十分に混練した。この銀ペーストを用いて50cm×50cm
ガラス基材に1回スクリーン印刷( 325メッシュ)を行
った。
【0028】その結果30μmのライン/スペースのパタ
ーンは全体に隣接する線に接触し、ベタ状に印刷され、
全く解像されていなかった。50μmのライン/スペース
ではいくつかの部分において隣接する線と接触し、ショ
ートしていた。 100μmのライン/スペースでは全てに
おいて解像されていた。ガラス基材上に印刷されたパタ
ーンの位置ずれを測定した結果、50cm×50cmの印刷方向
に対して縦方向では+180μm、横方向では+80μmの
位置ずれがあった。このときの膜圧は20μmでシート抵
抗は40mΩ/□であった。
【0029】
【従来例2】製造例7のインキを用いて4回印刷後、紫
外線を1分照射する。同様に4回印刷と紫外線照射をく
り返し、合計20回印刷した。印刷した結果30μmのライ
ン/スペースは解像されており縦横方向の位置ずれはそ
れぞれ5μm以下であった。しかしながら印刷パターン
の平滑性は得られなかった。
【0030】
【実施例1】製造例1のインキを用いてガラス基板上に
50cm×50cmの所定パターンを4回重ね刷りのオフセット
印刷を行い 150℃、10分で乾燥した結果30μmのライン
/スペースの解像はされていた。縦横方向の位置ずれは
±5μm以下であった。
【0031】
【実施例2】製造例1のインキを用いて4回印刷後、紫
外線を1分照射する。同様に4回印刷と紫外線照射をく
り返し、計20回印刷した。この後、 150℃、10分で乾燥
した結果30μmのライン/スペースは解像されていた。
縦横方向の位置ずれはそれぞれ±5μm以下であった。
【0032】
【実施例3】製造例2のインキを用いて4回印刷後、紫
外線を1分照射した後同様に4回印刷と紫外線照射をく
り返し、計20回印刷した。これによりパターンの平滑化
が進んだ。30μmのライン/スペースは解像されてい
た。縦横方向の位置ずれはそれぞれ5μm以下であっ
た。
【0033】
【実施例4〜7】上記と同様な操作を行った結果を表1
に記した。
【0034】
【表1】
【0035】製造例8 テルペン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:YS
レジンPX300)20g、に 0.3μm球状金属銀粉末80
gをプレミックスした後三本ロールにて混練し、銀イン
キを作製した。
【0036】製造例9 テルペンフェノール共重合体樹脂(ヤスハラケミカル
(株)製:YSポリスターT30)16gに 0.3μm球状
金属銀粉末80g、ガラスフリット(旭硝子製:1350)4
gをプレミックスした後三本ロールにて混練し、銀イン
キを作製した。
【0037】製造例10 β−ピネン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:Y
SレジンPXN300N)10g、 0.3μm球状金属銀末
85g、ガラスフリット(旭硝子製:1370) 4.5g、5号
ソルベント 0.5gを混合、混練しインキを作製した。
【0038】製造例11 α−ピネン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:Y
SレジンA800)10gに 0.5μm球状金属銀粉末85
g、5号ソルベント 0.5g、メチルエチルケトンキシム
1g、ナフテン酸コバルト 0.5g、ガラスフリット(旭
硝子製:1307)3.5gを混合、混練し、インキを作製し
た。
【0039】製造例12 テルペン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:ダイ
マロン)15gに 0.1μm球状金属銀粉75g、5号ソルベ
ント 0.5g、オイゲノール1g、増粘ワニス3.5g、オ
クチル酸ビスマス 2.5g、オクチル酸鉛2.5g混合、混
練し、インキを作製した。
【0040】製造例13 芳香族変性テルペン重合体樹脂(ヤスハラケミカル
(株)製:YSレジンTO115)15gに 0.3μm球状
金属銀粉末80g、ガラスフリット(旭硝子製:1350)3
g、オクチル酸ビスマス 1.5g、フィラーとして 0.5g
を混合、混練し、インキを作製した。
【0041】製造例14 5号ソルベント6gにとかしたテルペン系水素添加樹脂
(ヤスハラケミカル(株)製:フロアロンM)これに
0.3μm球状金属銀粉末40g、5μmのフレーク状銀粉
末40g、メチルエチルケトンオキシム1g、ガラスフリ
ット(旭硝子製:1350)3gを混合、混練しインキを作
製した。
【0042】製造例15 α−ピネン重合体樹脂(ヤスハラケミカル(株)製:Y
SレジンA800)15gに 0.3μm球状金属粉末80g、
ガラスフリット(旭硝子製:1581)3g、ナフテン酸ビ
スマス 1.5g、アルミナフィラー 0.5gを混合、混練
し、インキを作成した。
【0043】製造例16 アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製:ベッコゾー
ルEL−8001)16gに0.3μm球状金属銀粉末80g、ガ
ラスフリット(旭硝子製:1350)4gをプレミックスし
た後三本ロールにて混練し、インキを作成した。
【0044】
【従来例3】樹脂成分としてエチルセルロース 7.5gを
メチルイソブチルケトン 7.5gに溶解させ、 0.3μmの
球状金属銀粉末75gとα−ターピニョールを5g、Pb
O−B2 3 −SiO2 系の1μmのガラスフリット5
gを加えて、プレミックスした後、三本ロールにて均質
になるまで十分に混練した。この銀ペーストを用いて、
50cm×50cmのガラス基板に1回スクリーン印刷(325 メ
ッシュ)を行った。この所定パターンを印刷したガラス
基板を電気炉にて焼成した。この時の焼成プロファイル
は 550℃を30分で昇温、10分間保持した後1時間で冷却
した。ガラス基材上に印刷されたパターンの位置ずれを
測定した結果、縦方向では+180μm、横方向では+80
μmの位置ずれがあった。このときの膜圧は10μmでシ
ート抵抗は2μmΩ/□であった。
【0045】その結果、30μmのライン1スペースのパ
ターンは全体に隣接する線に接触し、ベタ状に印刷さ
れ、全く解像されていなかった。
【0046】
【比較例1】製造例8のインキを用いてガラス基板上に
50cm×50cmの所定のパターンを4回重ね刷りのオフセッ
ト印刷を行った結果30μmのライン/スペースは解像さ
れていた。縦横方向の位置ずれは5μm以下であっ
た。このガラス基板を従来例と同様に550 ℃で焼成し
た。その結果、30μmのライン/スペースの解像および
位置ずれは同様であった。しかし、密着力はテープピー
ルテストではがれる程弱かった。又、シート抵抗は25m
Ω/□であった。
【0047】
【比較例2】製造例16のインキを用いて4回印刷後、紫
外線を1分間照射した。同様に4回印刷と紫外線照射を
繰り返し合計20回印刷した。 550℃で10分間焼成した結
果30μmのライン/スペースは解像されており、縦横方
向の位置ずれはそれぞれ5μm以下であった。
【0048】
【実施例8】製造例9のインキを用いて比較例1と同様
の操作を行った。焼成後の結果30μmライン/スペース
の解像はされており、位置ずれは5μm以下であった。
密着力はテープピールテストでははがれなかった。
【0049】
【実施例9】製造例9のインキを用いて4回印刷後、紫
外線を1分照射する。同様に4回印刷と紫外線照射をく
り返し、合計20回印刷した。 550℃、10分で焼成した結
果、30μmのライン/スペースは解像されており、縦横
方向の位置ずれはそれぞれ5μm以下であった。
【0050】
【実施例10】製造例10のインキを用いて4回印刷後、紫
外線を1分照射した後、同様に4回印刷と紫外線照射を
くり返し、計20回印刷した。30μmのライン/スペース
は解像されていた。縦横方向はそれぞれ5μm以下であ
った。このガラス基板を 550℃、10分で焼成した結果、
解像は30μmのライン/スペースまでされており、位置
精度は焼成前と同様20μm以下であった。シート抵抗は
12μmで、密着力も良かった。
【0051】
【実施例11−14】上記と同様な操作を行った結果を表2
に記した。
【0052】
【実施例15】製造例15のインキを用いて50×50μmのア
ルミナ基板に4回印刷後、紫外線を2分照射した後、く
り返し計20回印刷した。この印刷されたアルミナ基板を
650℃で焼成した。30μmのライン/スペースは解像さ
れていた。縦横方向の位置ずれはそれぞれ5μm以下で
あった。結果を表2に記した。
【0053】
【表2】
【0054】
【発明の効果】本発明の方法によればオフセット印刷に
より簡便に平滑な所定のパターンが得られ、しかも解像
度、密着力および位置精度の高い印刷パターンを作成さ
せることができる。

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 テルペン重合体、テルペンフェノール共
    重合体、α−ピネン重合体、β−ピネン重合体の樹脂お
    よび前記重合体の変性樹脂、水素添加樹脂より選ばれる
    少なくとも1種以上の樹脂成分、溶剤成分および金属銀
    粉末を含有することを特徴とする銀導体回路用印刷イン
    キ。
  2. 【請求項2】 さらに、フラックス成分を含有する請求
    項1記載の銀導体回路用印刷インキ。
  3. 【請求項3】 さらに、レベリング剤、重合開始剤、酸
    化促進剤、皮はり防止剤、増粘剤、金属キレート樹脂お
    よび分散剤の内の1種または2種以上を含有する請求項
    1または請求項2に記載の銀導体回路用印刷インキ。
  4. 【請求項4】 金属銀粉末が粒径0.05〜 1.0μmの球状
    粉末及び/又は 0.5〜5μmのフレーク状粉末であるこ
    とを特徴とする請求項1、請求項2または請求項3に記
    載の銀導体回路用印刷インキ。
  5. 【請求項5】 テルペン重合体、テルペンフェノール共
    重合体、α−ピネン重合体、β−ピネン重合体の樹脂お
    よび前記重合体の変性樹脂、水素添加樹脂より選ばれる
    少なくとも1種以上の樹脂成分、溶剤成分および金属銀
    粉末を含有する銀導体回路用印刷インキを用いてパター
    ンを基材上に印刷する工程、この印刷パターンをそのま
    ま/又は活性エネルギー線の照射及び/又は加熱によっ
    て硬化および/又は平滑化せしめる工程、硬化および/
    又は平滑化せしめた印刷パターンをそのまま/又は同一
    パターンで重ね刷りする工程、乾燥する工程とから成る
    ことを特徴とする銀導体回路の形成方法。
  6. 【請求項6】 金属銀粉末が粒径0.05〜 1.0μmの球状
    粉末及び/又は 0.5〜5μmのフレーク状粉末であるこ
    とを特徴とする請求項5に記載の銀導体回路の形成方
    法。
  7. 【請求項7】 フラックス成分が有機金属化合物および
    /又はガラスフリットである請求項2、請求項3または
    請求項4に記載の銀導体回路用印刷インキ。
  8. 【請求項8】 活性エネルギー線が紫外線、赤外線、電
    子線の1種以上である請求項5または請求項6に記載の
    銀導体回路の形成方法。
  9. 【請求項9】 銀導体回路用印刷インキがレベリング
    剤、重合開始剤、酸化促進剤、皮はり防止剤、増粘剤、
    金属キレート樹脂および分散剤の内の1種または2種以
    上を含有する請求項5、請求項6または請求項8に記載
    の銀導体回路の形成方法。
  10. 【請求項10】 テルペン重合体、テルペンフェノール
    共重合体、α−ピネン重合体、β−ピネン重合体の樹脂
    および前記重合体の変性樹脂、水素添加樹脂より選ばれ
    る少なくとも1種以上の樹脂成分、溶剤成分、金属銀粉
    末およびフラックス成分とを含有する銀導体回路用印刷
    インキを用いてパターンを基材上に印刷する工程、この
    印刷パターンをそのまま/又は活性エネルギー線の照射
    及び/又は加熱によって硬化せしめる工程、硬化せしめ
    た印刷パターンをそのまま/又は同一パターンで重ね刷
    りする工程、焼成する工程とから成ることを特徴とする
    銀導体回路の形成方法。
  11. 【請求項11】 焼成温度が 200℃以上であることを特
    徴とする請求項10に記載の銀導体回路の形成方法。
  12. 【請求項12】 金属銀粉末が粒径0.05〜 1.0μmの球
    状粉及び/又は 0.5〜5μmのフレーク状粉末である請
    求項10または請求項11に記載の銀導体回路の形成方
    法。
  13. 【請求項13】 活性エネルギー線が紫外線、赤外線、
    電子線の1種以上である請求項10、請求項11または
    請求項12に記載の銀導体回路の形成方法。
  14. 【請求項14】 銀導体回路用印刷インキがさらにレベ
    リング剤、重合開始剤、酸化促進剤、皮はり防止剤、増
    粘剤、金属キレート樹脂、分散剤およびフィラーの内の
    1種または2種以上を含有する請求項10、請求項1
    1、請求項12または請求項13に記載の銀導体回路の
    形成方法。
  15. 【請求項15】 フラックス成分が有機金属化合物及び
    /又はガラスフリットである請求項10、請求項11、
    請求項12、請求項13または請求項14に記載の銀導
    体回路の形成方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006143819A (ja) * 2004-11-17 2006-06-08 Sumitomo Rubber Ind Ltd 結晶化ガラスの表面印刷用インキ
JP2008201815A (ja) * 2007-02-16 2008-09-04 Mitsubishi Materials Corp 印刷用インキ組成物及びその製造方法並びに該組成物を用いたプラズマディスプレイパネル用電極の形成方法及びその電極
JP2009026896A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Taiyo Ink Mfg Ltd 透光性導電フィルム
WO2017195491A1 (ja) * 2016-05-10 2017-11-16 バンドー化学株式会社 導電性インク

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006143819A (ja) * 2004-11-17 2006-06-08 Sumitomo Rubber Ind Ltd 結晶化ガラスの表面印刷用インキ
JP2008201815A (ja) * 2007-02-16 2008-09-04 Mitsubishi Materials Corp 印刷用インキ組成物及びその製造方法並びに該組成物を用いたプラズマディスプレイパネル用電極の形成方法及びその電極
JP2009026896A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Taiyo Ink Mfg Ltd 透光性導電フィルム
WO2017195491A1 (ja) * 2016-05-10 2017-11-16 バンドー化学株式会社 導電性インク
JP6262404B1 (ja) * 2016-05-10 2018-01-17 バンドー化学株式会社 導電性インク

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