JPH05190643A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
- Publication number
- JPH05190643A JPH05190643A JP34531791A JP34531791A JPH05190643A JP H05190643 A JPH05190643 A JP H05190643A JP 34531791 A JP34531791 A JP 34531791A JP 34531791 A JP34531791 A JP 34531791A JP H05190643 A JPH05190643 A JP H05190643A
- Authority
- JP
- Japan
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- substrate
- holding
- carrier
- transfer device
- holding part
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板処理装置において、処理済基板の汚染を
防止すること。 【構成】 この基板処理装置1は基板移載装置3の基板
保持装置15,16に保持手段20,21を有する。保
持手段20,21はそれぞれ未処理基板用の保持45と
処理済基板用の保持部46とを有する。
防止すること。 【構成】 この基板処理装置1は基板移載装置3の基板
保持装置15,16に保持手段20,21を有する。保
持手段20,21はそれぞれ未処理基板用の保持45と
処理済基板用の保持部46とを有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板処理装置に関す
る。
る。
【0002】
【従来の技術】半導体基板や液晶用ガラス基板等の薄板
状の被処理基板(以下、単に基板と記す)を表面処理す
る場合には、基板を処理槽内に浸漬して処理する浸漬型
の基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置
は、以下のように動作する。
状の被処理基板(以下、単に基板と記す)を表面処理す
る場合には、基板を処理槽内に浸漬して処理する浸漬型
の基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置
は、以下のように動作する。
【0003】まず、基板移載装置が、複数の基板を収納
したキャリアから基板搬送ロボットに基板を引き渡す。
基板搬送ロボットは基板を処理部へ搬送し、基板を処理
部へ引き渡す。処理部では基板に表面処理が施される。
処理が済むと、基板搬送ロボットは処理済基板を処理部
から受け取り、処理済基板を基板移載装置まで搬送す
る。そして基板移載装置は基板搬送ロボットから処理済
基板を受け取る。
したキャリアから基板搬送ロボットに基板を引き渡す。
基板搬送ロボットは基板を処理部へ搬送し、基板を処理
部へ引き渡す。処理部では基板に表面処理が施される。
処理が済むと、基板搬送ロボットは処理済基板を処理部
から受け取り、処理済基板を基板移載装置まで搬送す
る。そして基板移載装置は基板搬送ロボットから処理済
基板を受け取る。
【0004】ところで、この基板移載装置には、基板搬
送ロボットに対して基板を受渡しするときに基板を一時
的に保持するための基板保持装置が設けられている。基
板保持装置は、基板を保持するための基板保持手段と、
基板保持手段を支持する支持手段とを有している。基板
保持手段には複数の円弧状の溝により基板を保持する保
持部が設けられており、同一の保持部によって未処理及
び処理済の両方を保持している。
送ロボットに対して基板を受渡しするときに基板を一時
的に保持するための基板保持装置が設けられている。基
板保持装置は、基板を保持するための基板保持手段と、
基板保持手段を支持する支持手段とを有している。基板
保持手段には複数の円弧状の溝により基板を保持する保
持部が設けられており、同一の保持部によって未処理及
び処理済の両方を保持している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来装置のように、同
一の保持部で未処理及び処理済基板を保持すると、保持
部が未処理基板を保持したとき、未処理基板に付着して
いたパーティクル等の汚染物質(以下、単に汚染物質と
いう)が保持部に付着する。その後、保持部が処理済基
板を保持したときに、保持部に付着した汚染物質が処理
済基板に付着する。その結果、処理済基板が汚染されて
しまうという問題が生じる。
一の保持部で未処理及び処理済基板を保持すると、保持
部が未処理基板を保持したとき、未処理基板に付着して
いたパーティクル等の汚染物質(以下、単に汚染物質と
いう)が保持部に付着する。その後、保持部が処理済基
板を保持したときに、保持部に付着した汚染物質が処理
済基板に付着する。その結果、処理済基板が汚染されて
しまうという問題が生じる。
【0006】本発明の目的は、未処理基板に付着した汚
染物質によって処理済基板が汚染されることを防止する
ことにある。
染物質によって処理済基板が汚染されることを防止する
ことにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係る基板処理装
置は、基板の表面処理を行う処理部と、基板移載装置
と、基板搬送ロボットとを備えている。前記基板移載装
置は、キャリア内に収納された基板をキャリア内からキ
ャリア外へ、あるいはキャリア外からキャリア内へ同一
の基板保持装置により移載する装置である。前記基板搬
送ロボットは、処理部と基板移載装置との間で基板を搬
送するものである。そして、前記基板移載装置の基板保
持装置は、未処理基板用の保持部と処理済基板用の保持
部とを有している。
置は、基板の表面処理を行う処理部と、基板移載装置
と、基板搬送ロボットとを備えている。前記基板移載装
置は、キャリア内に収納された基板をキャリア内からキ
ャリア外へ、あるいはキャリア外からキャリア内へ同一
の基板保持装置により移載する装置である。前記基板搬
送ロボットは、処理部と基板移載装置との間で基板を搬
送するものである。そして、前記基板移載装置の基板保
持装置は、未処理基板用の保持部と処理済基板用の保持
部とを有している。
【0008】
【作用】本発明に係る基板処理装置では、基板移載装置
の基板保持装置に未処理基板用の保持部と処理済基板用
の保持部とが設けられており、未処理基板と処理済基板
とは各々別の保持部で保持される。したがって、処理済
基板を保持する保持部に未処理基板の汚染物質が付着す
ることがなく、処理済基板の汚染物質が付着することが
ない。
の基板保持装置に未処理基板用の保持部と処理済基板用
の保持部とが設けられており、未処理基板と処理済基板
とは各々別の保持部で保持される。したがって、処理済
基板を保持する保持部に未処理基板の汚染物質が付着す
ることがなく、処理済基板の汚染物質が付着することが
ない。
【0009】
【実施例】図1は本発明の一実施例が採用された浸漬型
基板処理装置を示している。図1に示す基板処理装置1
は、基板を収納するためのキャリアCを搬入、搬出する
ための搬入搬出部2と、基板移載装置3と、処理部とし
ての基板処理槽4及び乾燥装置5と、さらに基板搬送ロ
ボット6とを備えている。またこの基板処理装置1は、
複数の薬液貯留容器7a〜7eを有している。
基板処理装置を示している。図1に示す基板処理装置1
は、基板を収納するためのキャリアCを搬入、搬出する
ための搬入搬出部2と、基板移載装置3と、処理部とし
ての基板処理槽4及び乾燥装置5と、さらに基板搬送ロ
ボット6とを備えている。またこの基板処理装置1は、
複数の薬液貯留容器7a〜7eを有している。
【0010】搬入搬出部2には、キャリアCを搬送する
キャリア移載ロボット10が設けられている。キャリア
移載ロボット10は、昇降及び回転が可能であり、また
図1の矢印Aで示す方向に移動可能である。基板移載装
置3、基板処理槽4及び乾燥装置5は、左右方向に並設
されている。基板搬送ロボット6は、基板を把持するた
めの1対のアーム11を有している。また基板搬送ロボ
ット6は、矢印Bで示す方向に移動可能であり、かつ昇
降可能である。この基板搬送ロボット6により、基板を
基板移載装置3から乾燥装置5の間で搬送可能である。
また、基板処理槽4には、処理液内に基板を浸漬するた
めの、昇降可能な基板保持具12が設けられている。
キャリア移載ロボット10が設けられている。キャリア
移載ロボット10は、昇降及び回転が可能であり、また
図1の矢印Aで示す方向に移動可能である。基板移載装
置3、基板処理槽4及び乾燥装置5は、左右方向に並設
されている。基板搬送ロボット6は、基板を把持するた
めの1対のアーム11を有している。また基板搬送ロボ
ット6は、矢印Bで示す方向に移動可能であり、かつ昇
降可能である。この基板搬送ロボット6により、基板を
基板移載装置3から乾燥装置5の間で搬送可能である。
また、基板処理槽4には、処理液内に基板を浸漬するた
めの、昇降可能な基板保持具12が設けられている。
【0011】次に、図1〜図6を用いて基板移載装置3
について詳細に説明する。基板移載装置3は、図2に示
すように、第1及び第2の基板保持装置15,16と、
基板移載装置3の上面17に対して昇降する昇降テーブ
ル18と、昇降テーブル18を昇降させるための昇降駆
動装置19とを有している。第1及び第2の基板保持装
置15,16は、それぞれ基板を保持する保持手段2
0,21と、保持手段20,21を水平面内で回転自在
に支持する支持手段22,23と、支持手段22,23
を相互に接近、離反させるための移動機構24と、保持
手段20,21を水平面内で回転させるためのモータ2
5,26とを有している。
について詳細に説明する。基板移載装置3は、図2に示
すように、第1及び第2の基板保持装置15,16と、
基板移載装置3の上面17に対して昇降する昇降テーブ
ル18と、昇降テーブル18を昇降させるための昇降駆
動装置19とを有している。第1及び第2の基板保持装
置15,16は、それぞれ基板を保持する保持手段2
0,21と、保持手段20,21を水平面内で回転自在
に支持する支持手段22,23と、支持手段22,23
を相互に接近、離反させるための移動機構24と、保持
手段20,21を水平面内で回転させるためのモータ2
5,26とを有している。
【0012】支持手段22,23は、基板処理装置1の
フレーム(図示せず)に固定された固定フレーム30を
有している。この固定フレーム30には、図3に示すよ
うに、支持手段22,23の下端部を構成する移動プレ
ート31,32が支持されている。移動プレート31,
32は、それぞれ固定フレーム30上に配置された1対
のガイドレール29(図4参照)に沿って固定フレーム
30上を移動自在である。移動プレート31,32の下
面には、支持フレーム33,34を介してモータ25,
26が固定されている。また移動プレート31,32の
上面には、支持円筒部材35,36が固定されている。
各支持円筒部材35,36内には、モータ25,26に
連結された回転ロッド37,38が挿通されている。
フレーム(図示せず)に固定された固定フレーム30を
有している。この固定フレーム30には、図3に示すよ
うに、支持手段22,23の下端部を構成する移動プレ
ート31,32が支持されている。移動プレート31,
32は、それぞれ固定フレーム30上に配置された1対
のガイドレール29(図4参照)に沿って固定フレーム
30上を移動自在である。移動プレート31,32の下
面には、支持フレーム33,34を介してモータ25,
26が固定されている。また移動プレート31,32の
上面には、支持円筒部材35,36が固定されている。
各支持円筒部材35,36内には、モータ25,26に
連結された回転ロッド37,38が挿通されている。
【0013】回転ロッド37,38の上端には、図2及
び図5に示すように、保持手段20,21を支持する支
持枠39,40が固定されている。支持枠39,40
は、コ字状に形成されており、その上部及び両側部が開
いている。なお、図2の第1及び第2の基板保持装置は
説明の便宜上異なる方向を向いているが、実際は後述の
ように共に同じ方向を向いている。
び図5に示すように、保持手段20,21を支持する支
持枠39,40が固定されている。支持枠39,40
は、コ字状に形成されており、その上部及び両側部が開
いている。なお、図2の第1及び第2の基板保持装置は
説明の便宜上異なる方向を向いているが、実際は後述の
ように共に同じ方向を向いている。
【0014】以下、図5を用いて第2基板保持装置16
側の保持手段21について説明する。保持手段21は、
基板を保持するための保持部45,46を有している。
各保持部45,46は、上面が凹状に形成された所定の
幅及び長さを有する部材であり、上部に円弧状の複数の
溝45a,46aを有している。この円弧状の溝45
a,46aに基板外周の一部が挿入されて、基板が保持
されるようになっている。各基板保持部45,46は、
それぞれの背面(溝45a,46aが形成された面と逆
側の面)が連結部材47にねじ53により固定されてい
る(図6参照)。連結部材47は、支持部23の支持枠
40に回転自在に支持されている。
側の保持手段21について説明する。保持手段21は、
基板を保持するための保持部45,46を有している。
各保持部45,46は、上面が凹状に形成された所定の
幅及び長さを有する部材であり、上部に円弧状の複数の
溝45a,46aを有している。この円弧状の溝45
a,46aに基板外周の一部が挿入されて、基板が保持
されるようになっている。各基板保持部45,46は、
それぞれの背面(溝45a,46aが形成された面と逆
側の面)が連結部材47にねじ53により固定されてい
る(図6参照)。連結部材47は、支持部23の支持枠
40に回転自在に支持されている。
【0015】一方、支持枠40の下面には、ロータリー
アクチュエータ48が固定されている。ロータリーアク
チュエータ48の駆動軸49には、第1歯車50が固定
されている。第1歯車50は、第2歯車51を介して第
3歯車52と噛み合っている。第3歯車52は、連結部
材47の一端に固定されている。また、第2歯車51
は、支持枠40の側壁に回転自在に支持されている。
アクチュエータ48が固定されている。ロータリーアク
チュエータ48の駆動軸49には、第1歯車50が固定
されている。第1歯車50は、第2歯車51を介して第
3歯車52と噛み合っている。第3歯車52は、連結部
材47の一端に固定されている。また、第2歯車51
は、支持枠40の側壁に回転自在に支持されている。
【0016】移動機構24は、図4に示すように、固定
フレーム30に固定されたエアシリンダ55を有してい
る。エアシリンダ55のプランジャ56は、連結部材5
7を介して移動プレート31に固定されている。一方、
各移動プレート31,32の互いに対向する部分には突
出部31a,32aが設けられており、この突出部31
a,32aのそれぞれには、図3に示すように、下方に
突出してリンクロッド58,59が固定されている。各
リンクロッド58,59の下端には、リンク部材60,
61の一端が固定されている。また、リンク部材60,
61の他端は、回転部材62に連結されている。回転部
材62は、固定フレーム30に対して回転自在に支持さ
れている。
フレーム30に固定されたエアシリンダ55を有してい
る。エアシリンダ55のプランジャ56は、連結部材5
7を介して移動プレート31に固定されている。一方、
各移動プレート31,32の互いに対向する部分には突
出部31a,32aが設けられており、この突出部31
a,32aのそれぞれには、図3に示すように、下方に
突出してリンクロッド58,59が固定されている。各
リンクロッド58,59の下端には、リンク部材60,
61の一端が固定されている。また、リンク部材60,
61の他端は、回転部材62に連結されている。回転部
材62は、固定フレーム30に対して回転自在に支持さ
れている。
【0017】このような構成では、シリンダ55が作動
することにより、移動プレート31,32は、各リンク
部材を介して互いに接近及び離反が可能である。なお、
固定フレーム30の側部には、図4に示すように、移動
プレート31,32の移動を規制するためのストッパー
63,64が固定されている。なお、回転ロッド37,
38の下端部には、回転角度検出用のプレート65,6
6及びフォトインタラプタ(図示せず)が設けられてい
る。
することにより、移動プレート31,32は、各リンク
部材を介して互いに接近及び離反が可能である。なお、
固定フレーム30の側部には、図4に示すように、移動
プレート31,32の移動を規制するためのストッパー
63,64が固定されている。なお、回転ロッド37,
38の下端部には、回転角度検出用のプレート65,6
6及びフォトインタラプタ(図示せず)が設けられてい
る。
【0018】昇降テーブル18には、図2及び図3に示
すように、第1及び第2の基板保持装置15,16の支
持手段22,23が貫通し、かつ横方向に移動できるよ
うに孔18a,18bが形成されている。また、この孔
18a,18bは、保持部45,46が図2左方の第1
基板保持装置15の姿勢では通過可能な大きさとなって
いる。昇降テーブル18の上面には、キャリアCが載置
されたときの位置決めを行うための位置決め部材70,
71が設けられている。位置決め部材70,71の上部
は、キャリアCの挿入を容易にするために面取り70
a,71aが形成されている。
すように、第1及び第2の基板保持装置15,16の支
持手段22,23が貫通し、かつ横方向に移動できるよ
うに孔18a,18bが形成されている。また、この孔
18a,18bは、保持部45,46が図2左方の第1
基板保持装置15の姿勢では通過可能な大きさとなって
いる。昇降テーブル18の上面には、キャリアCが載置
されたときの位置決めを行うための位置決め部材70,
71が設けられている。位置決め部材70,71の上部
は、キャリアCの挿入を容易にするために面取り70
a,71aが形成されている。
【0019】昇降駆動装置19は、基板処理装置1のフ
レームに、上下方向に配置されたガイドレール75を有
している。一方、昇降テーブル18の側壁部18cに
は、このガイドレール75にスライド自在に係合するガ
イド部76が設けられている。また、昇降テーブル18
の側壁部18cには、側方に突出するボールナット77
が設けられている。一方、基板処理装置1の図示しない
フレーム側には、上下方向にボールねじ78が支持され
ており、その下端はモータ79に連結されている。そし
て、昇降テーブル18のボールナット77がボールねじ
78に螺合している。これにより、昇降テーブル18
は、モータ79の駆動によってガイドレール75に沿っ
て昇降が可能である。
レームに、上下方向に配置されたガイドレール75を有
している。一方、昇降テーブル18の側壁部18cに
は、このガイドレール75にスライド自在に係合するガ
イド部76が設けられている。また、昇降テーブル18
の側壁部18cには、側方に突出するボールナット77
が設けられている。一方、基板処理装置1の図示しない
フレーム側には、上下方向にボールねじ78が支持され
ており、その下端はモータ79に連結されている。そし
て、昇降テーブル18のボールナット77がボールねじ
78に螺合している。これにより、昇降テーブル18
は、モータ79の駆動によってガイドレール75に沿っ
て昇降が可能である。
【0020】次に動作について説明する。初期状態にお
いては、昇降テーブル18は、図2の一点鎖線で示すよ
うに、基板移載装置3の上面17と同一平面上に上昇さ
せられている。また基板保持装置15,16は、共に図
2左方の第1基板保持装置15で示す姿勢となってい
る。さらに、各保持手段20,21においては、未処理
基板保持用の保持部部45が上方に位置している。
いては、昇降テーブル18は、図2の一点鎖線で示すよ
うに、基板移載装置3の上面17と同一平面上に上昇さ
せられている。また基板保持装置15,16は、共に図
2左方の第1基板保持装置15で示す姿勢となってい
る。さらに、各保持手段20,21においては、未処理
基板保持用の保持部部45が上方に位置している。
【0021】基板搬入時は、複数の基板が収納されたキ
ャリアCが、無人搬送車により搬入搬出部2に搬入され
る。搬入されたキャリアCは、キャリア移載ロボット1
0によって搬送され、基板移載装置3の昇降テーブル1
8上に載置される。このとき、昇降テーブル18上面に
は位置決め部材70,71が設けられ、しかも位置決め
部材70,71には面取り70a,71aが形成されて
いるので、キャリアCを容易に位置決めできる。
ャリアCが、無人搬送車により搬入搬出部2に搬入され
る。搬入されたキャリアCは、キャリア移載ロボット1
0によって搬送され、基板移載装置3の昇降テーブル1
8上に載置される。このとき、昇降テーブル18上面に
は位置決め部材70,71が設けられ、しかも位置決め
部材70,71には面取り70a,71aが形成されて
いるので、キャリアCを容易に位置決めできる。
【0022】キャリアCが昇降テーブル18上に載置さ
れると、モータ79が回転することにより、ボールねじ
78及びボールナット77によって昇降テーブル18は
下降する。昇降テーブル18が下降すると、キャリアC
内に保持されていた基板の下端部が保持部45に当た
る。この状態でさらに昇降テーブル18が下降すると、
基板の下端部は保持部45の溝45a内に挿入される。
れると、モータ79が回転することにより、ボールねじ
78及びボールナット77によって昇降テーブル18は
下降する。昇降テーブル18が下降すると、キャリアC
内に保持されていた基板の下端部が保持部45に当た
る。この状態でさらに昇降テーブル18が下降すると、
基板の下端部は保持部45の溝45a内に挿入される。
【0023】次にモータ25,26を回転させ、回転ロ
ッド37,38を90°回転させる。これにより、第1
及び第2の基板保持装置15,16の保持手段20,2
1は90°回転し、ともに図2右方に示す姿勢となる。
次に移動機構24のエアシリンダ55を作動させてプラ
ンジャ56を後退させる。これにより、各リンク部材を
介して移動プレート31,32は互いに接近する方向に
移動する。したがって、保持手段20,21は図1に示
すように、基板処理装置1の前後方向に延びて配置され
た状態となり、複数の基板が前後方向に並んだ状態とな
る。
ッド37,38を90°回転させる。これにより、第1
及び第2の基板保持装置15,16の保持手段20,2
1は90°回転し、ともに図2右方に示す姿勢となる。
次に移動機構24のエアシリンダ55を作動させてプラ
ンジャ56を後退させる。これにより、各リンク部材を
介して移動プレート31,32は互いに接近する方向に
移動する。したがって、保持手段20,21は図1に示
すように、基板処理装置1の前後方向に延びて配置され
た状態となり、複数の基板が前後方向に並んだ状態とな
る。
【0024】次に、基板搬送ロボット6を上昇させた状
態で、基板移載装置3上方まで移動させる。そして、基
板ロボット6を下降させて、アーム11により基板の両
側方を把持し、上昇させる。これにより、第1及び第2
の基板保持装置15,16に保持された複数の基板が一
括して基板搬送ロボット6側に引き渡される。基板搬送
ロボット6は、基板処理槽4上方まで移動し、上昇して
いる基板保持具12に複数の基板を引き渡す。
態で、基板移載装置3上方まで移動させる。そして、基
板ロボット6を下降させて、アーム11により基板の両
側方を把持し、上昇させる。これにより、第1及び第2
の基板保持装置15,16に保持された複数の基板が一
括して基板搬送ロボット6側に引き渡される。基板搬送
ロボット6は、基板処理槽4上方まで移動し、上昇して
いる基板保持具12に複数の基板を引き渡す。
【0025】基板保持具12は基板を保持したまま基板
処理槽4内に下降し、この基板処理槽4内で、基板に対
してエッチング、洗浄等の各種の表面処理が行われる。
また、表面処理が施された基板は、乾燥装置5に搬送さ
れ、ここで乾燥が行われる。乾燥の終了した基板は、基
板搬送ロボット6によって再び基板移載装置3上方に搬
送される。
処理槽4内に下降し、この基板処理槽4内で、基板に対
してエッチング、洗浄等の各種の表面処理が行われる。
また、表面処理が施された基板は、乾燥装置5に搬送さ
れ、ここで乾燥が行われる。乾燥の終了した基板は、基
板搬送ロボット6によって再び基板移載装置3上方に搬
送される。
【0026】基板搬出時においては、昇降テーブル18
は、図2に示すように、最下降位置に移動している。ま
た、第1及び第2の基板保持装置15,16の保持手段
20,21は、ともに図2右方に示す姿勢で待機してい
る。さらに保持手段20,21においては、ロータリー
アクチュエータ48が回転することにより、第1〜第3
歯車50〜52を介して連結部材47が回転し、処理済
基板保持用の保持部46が上方に位置している。
は、図2に示すように、最下降位置に移動している。ま
た、第1及び第2の基板保持装置15,16の保持手段
20,21は、ともに図2右方に示す姿勢で待機してい
る。さらに保持手段20,21においては、ロータリー
アクチュエータ48が回転することにより、第1〜第3
歯車50〜52を介して連結部材47が回転し、処理済
基板保持用の保持部46が上方に位置している。
【0027】基板搬送ロボット6から基板保持装置1
5,16の保持手段20,21への基板の引き渡しは、
前述の動作と全く逆の動作で行われる。また、各保持手
段20,21に移された基板は、前述の動作と全く逆の
動作でキャリアCに移される。すなわち、まず移動機構
24におけるエアシリンダ55のプランジャ56を突出
させ、第1及び第2の基板保持装置15,16を互いに
離す。次に、モータ25,26によって回転ロッド3
7,38を90°回転させる。これにより、両基板保持
装置15,16は、ともに図2左方に示す姿勢となり、
また、各支持手段22,23はキャリアCの中心に位置
する。そして次に、モータ79を作動させて昇降テーブ
ル18を上昇させる。すると、処理済基板保持用の保持
部46に保持された複数の基板は、一括してキャリアC
内に収納される。このキャリアCは、キャリア移載ロボ
ット10によって搬入搬出部2に載置され、その後無人
搬送車によって搬出される。
5,16の保持手段20,21への基板の引き渡しは、
前述の動作と全く逆の動作で行われる。また、各保持手
段20,21に移された基板は、前述の動作と全く逆の
動作でキャリアCに移される。すなわち、まず移動機構
24におけるエアシリンダ55のプランジャ56を突出
させ、第1及び第2の基板保持装置15,16を互いに
離す。次に、モータ25,26によって回転ロッド3
7,38を90°回転させる。これにより、両基板保持
装置15,16は、ともに図2左方に示す姿勢となり、
また、各支持手段22,23はキャリアCの中心に位置
する。そして次に、モータ79を作動させて昇降テーブ
ル18を上昇させる。すると、処理済基板保持用の保持
部46に保持された複数の基板は、一括してキャリアC
内に収納される。このキャリアCは、キャリア移載ロボ
ット10によって搬入搬出部2に載置され、その後無人
搬送車によって搬出される。
【0028】基板搬出後は、ロータリーアクチュエータ
48を回転させ、歯車50〜52及び連結部材47を介
して未処理基板保持用の保持部45を上方に位置させ
る。そして、次の基板が搬入されるのを待つ。このよう
に本実施例では、未処理の基板は保持部45で保持し、
処理済の基板は保持部46で保持するので、保持部が媒
介して未処理基板に付着した汚染物質が処理済基板に付
着することがない。よって、未処理基板に付着した汚染
物質によって処理済基板が汚染されることを防止でき
る。
48を回転させ、歯車50〜52及び連結部材47を介
して未処理基板保持用の保持部45を上方に位置させ
る。そして、次の基板が搬入されるのを待つ。このよう
に本実施例では、未処理の基板は保持部45で保持し、
処理済の基板は保持部46で保持するので、保持部が媒
介して未処理基板に付着した汚染物質が処理済基板に付
着することがない。よって、未処理基板に付着した汚染
物質によって処理済基板が汚染されることを防止でき
る。
【0029】〔他の実施例〕 (a) 前記実施例では、基板保持装置15,16の保
持手段20,21に2つの保持部45,46を設けた
が、保持部の個数は前記実施例に限定されない。たとえ
ば、図7に示すように、3つの保持部85,86,87
を三角柱状の連結部材88に固定し、これらを120°
ずつ回転させて使い分けるようにしてもよい。なお、各
保持部85,86,87には、それぞれ基板保持用の円
弧状の溝85a,86a,87aが形成されている。
持手段20,21に2つの保持部45,46を設けた
が、保持部の個数は前記実施例に限定されない。たとえ
ば、図7に示すように、3つの保持部85,86,87
を三角柱状の連結部材88に固定し、これらを120°
ずつ回転させて使い分けるようにしてもよい。なお、各
保持部85,86,87には、それぞれ基板保持用の円
弧状の溝85a,86a,87aが形成されている。
【0030】また、図8に示すように、4つの保持部9
0,91,92,93を四角柱状の連結部材94に固定
し、これらを90°ずつ回転させて使い分けるようにし
てもよい。このような実施例では、汚れやすく頻繁に交
換の必要な未処理基板保持用の保持部として2個以上の
保持部を用いることができ、メンテナンスフリーの期間
を長くすることができる。 (b) 図9に示すように、保持手段20,21の下方
に洗浄水噴出用のノズル95を配置し、各保持部45,
46が下方に位置している際に、下方から洗浄水を噴出
させてシャワー洗浄するようにしてもよい。 (c) 基板保持装置における保持手段の構成は前記実
施例に限定されるものではなく、たとえば図10に示す
ような構成としてもよい。
0,91,92,93を四角柱状の連結部材94に固定
し、これらを90°ずつ回転させて使い分けるようにし
てもよい。このような実施例では、汚れやすく頻繁に交
換の必要な未処理基板保持用の保持部として2個以上の
保持部を用いることができ、メンテナンスフリーの期間
を長くすることができる。 (b) 図9に示すように、保持手段20,21の下方
に洗浄水噴出用のノズル95を配置し、各保持部45,
46が下方に位置している際に、下方から洗浄水を噴出
させてシャワー洗浄するようにしてもよい。 (c) 基板保持装置における保持手段の構成は前記実
施例に限定されるものではなく、たとえば図10に示す
ような構成としてもよい。
【0031】この例では、支持部96に回転部材97が
図の破線矢印で示す方向に回転自在に支持されている。
そして、回転部材97の両端付近には、それぞれ上下に
コ字状フレーム98,99,100,101が固定され
ている。各コ字状フレーム98〜101には、それぞれ
円柱状の保持ローラ102,103,104,105が
装着されている。各ローラ102〜105には、基板外
周部の一部が挿入される基板保持用の複数の溝が形成さ
れている。
図の破線矢印で示す方向に回転自在に支持されている。
そして、回転部材97の両端付近には、それぞれ上下に
コ字状フレーム98,99,100,101が固定され
ている。各コ字状フレーム98〜101には、それぞれ
円柱状の保持ローラ102,103,104,105が
装着されている。各ローラ102〜105には、基板外
周部の一部が挿入される基板保持用の複数の溝が形成さ
れている。
【0032】この例においても、回転部材97の一方の
側のローラ102,103を未処理基板保持用として使
用し、他方の側のローラ104,105を処理済基板保
持用として使用すれば、前記実施例と同様の効果が得ら
れる。 (d) 図11に示す例も、保持手段の他の構成例であ
る。この例では、支持部110に保持フレーム111が
固定されている。保持フレーム111の両端にはコ字状
フレーム112,113が固定されており、各コ字状フ
レーム112,113には円柱状の保持ローラ114,
115が回転自在に支持されている。各保持ローラ11
4,115には、基板外周部の一部が挿入される溝が形
成されている。
側のローラ102,103を未処理基板保持用として使
用し、他方の側のローラ104,105を処理済基板保
持用として使用すれば、前記実施例と同様の効果が得ら
れる。 (d) 図11に示す例も、保持手段の他の構成例であ
る。この例では、支持部110に保持フレーム111が
固定されている。保持フレーム111の両端にはコ字状
フレーム112,113が固定されており、各コ字状フ
レーム112,113には円柱状の保持ローラ114,
115が回転自在に支持されている。各保持ローラ11
4,115には、基板外周部の一部が挿入される溝が形
成されている。
【0033】一方、支持部110には駆動プーリ116
が装着されている。また、各保持ローラ114,115
にはプーリ117,118が固定されており、駆動プー
リ116とプーリ117,118の間にはベルト11
9,120が掛け渡されている。この例では、未処理基
板を各ローラ114,115で保持した後、処理済基板
を保持するとき、駆動プーリ116を回転させる。そし
てベルト119,120及びプーリ117,118によ
って各保持ローラ114,115を所定角度回転させ、
処理済基板を保持すれば、前記実施例と同様の効果が得
られる。 (e) 前記実施例では昇降テーブル18を昇降させた
が、基板保持装置15,16を昇降させてもよい。 (f) 前記実施例では単一の基板処理槽を備えた基板
処理装置に本発明を適用したが、多槽型の基板処理装置
にも本発明を適用することができる。 (g) 前記実施例では、保持部45,46をロータリ
ーアクチュエータによって回転するようにしたが、手動
によって回転させるようにしてもよい。
が装着されている。また、各保持ローラ114,115
にはプーリ117,118が固定されており、駆動プー
リ116とプーリ117,118の間にはベルト11
9,120が掛け渡されている。この例では、未処理基
板を各ローラ114,115で保持した後、処理済基板
を保持するとき、駆動プーリ116を回転させる。そし
てベルト119,120及びプーリ117,118によ
って各保持ローラ114,115を所定角度回転させ、
処理済基板を保持すれば、前記実施例と同様の効果が得
られる。 (e) 前記実施例では昇降テーブル18を昇降させた
が、基板保持装置15,16を昇降させてもよい。 (f) 前記実施例では単一の基板処理槽を備えた基板
処理装置に本発明を適用したが、多槽型の基板処理装置
にも本発明を適用することができる。 (g) 前記実施例では、保持部45,46をロータリ
ーアクチュエータによって回転するようにしたが、手動
によって回転させるようにしてもよい。
【0034】
【発明の効果】以上のように本発明おける基板処理装置
は、基板移載装置の基板保持装置に未処理基板用と処理
済基板用の保持部を有する。このため、同一の基板保持
装置で未処理基板と処理済基板とを保持しても、基板保
持装置の保持部が媒介して未処理基板に付着している汚
染物質が処理済基板に付着することはない。したがっ
て、処理済基板が未処理基板に付着した汚染物質によっ
て汚染されることを防止することができる。
は、基板移載装置の基板保持装置に未処理基板用と処理
済基板用の保持部を有する。このため、同一の基板保持
装置で未処理基板と処理済基板とを保持しても、基板保
持装置の保持部が媒介して未処理基板に付着している汚
染物質が処理済基板に付着することはない。したがっ
て、処理済基板が未処理基板に付着した汚染物質によっ
て汚染されることを防止することができる。
【図1】本発明の一実施例が採用された基板処理装置の
斜視図。
斜視図。
【図2】基板移載装置3の縦断面構成図。
【図3】図2の一部拡大図。
【図4】図2の断面平面図。
【図5】図2の一部拡大図。
【図6】基板保持部の拡大図。
【図7】本発明の他の実施例を示す図。
【図8】本発明の他の実施例を示す図。
【図9】本発明の他の実施例を示す図。
【図10】本発明の他の実施例を示す図。
【図11】本発明の他の実施例を示す図。
1 基板処理装置 15,16 基板保持装置 20,21 保持手段 22,23 支持手段 45,46 保持部
Claims (1)
- 【請求項1】基板の表面処理を行う処理部と、 キャリア内に収納された基板をキャリア内からキャリア
外へ、あるいはキャリア外からキャリア内へ同一の基板
保持装置により移載する基板移載装置と、 前記処理部と基板移載装置との間で基板を搬送する基板
搬送ロボットとを備え、 前記基板移載装置の基板保持装置に未処理基板用の保持
部と処理済基板用の保持部とを設けたことを特徴とする
基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34531791A JPH05190643A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34531791A JPH05190643A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 基板処理装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22496597A Division JPH1070172A (ja) | 1997-08-21 | 1997-08-21 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05190643A true JPH05190643A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=18375780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34531791A Pending JPH05190643A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05190643A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6755603B2 (en) | 1998-02-18 | 2004-06-29 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for and method of transporting substrates to be processed |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62222906A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | ウエ−ハ搬送機構 |
JPH0252449A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-22 | Teru Barian Kk | 基板のロード・アンロード方法 |
JPH0294647A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-05 | Kokusai Electric Co Ltd | ウェーハ処理装置 |
JPH035434A (ja) * | 1989-05-13 | 1991-01-11 | Hoechst Ag | テロマーアルコールの製造方法 |
-
1991
- 1991-12-26 JP JP34531791A patent/JPH05190643A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62222906A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | ウエ−ハ搬送機構 |
JPH0252449A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-22 | Teru Barian Kk | 基板のロード・アンロード方法 |
JPH0294647A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-05 | Kokusai Electric Co Ltd | ウェーハ処理装置 |
JPH035434A (ja) * | 1989-05-13 | 1991-01-11 | Hoechst Ag | テロマーアルコールの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6755603B2 (en) | 1998-02-18 | 2004-06-29 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for and method of transporting substrates to be processed |
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